DE3750038T2 - Farbanzeigeanordnung. - Google Patents

Farbanzeigeanordnung.

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Description

  • Diese Erfindung betrifft ein Dünnschicht-Elektrolumineszenz-(EL-)Element.
  • Auf dem Gebiet der Farbanzeigevorrichtungen gibt es einen ansteigenden Trend, daß solche, die klein und dünn sind und wenig Leistung verbrauchen, verlangt werden, und Flüssigkristalle als Verschluß verwendende Fernsehgeräte von Taschengröße wurden öffentlich zugänglich.
  • Wie in Fig. 18 dargestellt, enthält eine bei einem herkömmlichen Fernsehgerät von Taschengröße verwendete, dünne Vollfarbanzeigevorrichtung eine Verschlußeinrichtung 100 in Form einer Matrix aus Flüssigkristallzellen 6, eine hinter der Verschlußeinrichtung angeordnete Lichtquelle 101 und eine Filtereinrichtung 102, die vor der Verschlußeinrichtung angeordnet ist und eine sich wiederholende Folge bestehend aus einem roten transparenten Filter R, einem grünen transparenten Filter G und einem blauen transparenten Filter B enthält, die in einer den Flüssigkristallzellen entsprechenden Reihenfolge angeordnet sind. Durch Steuern der an die jeweiligen Flüssigkristallzellen angelegten Spannung in Übereinstimmung mit der Bildinformation werden von der Lichtquelle ausgehende und die Flüssigkristallzellen durchlaufende Lichtmengen eingestellt, um dadurch die Luminanz und die Chromatizität der jeweiligen Bildpunkte einzustellen.
  • Bei derartigen Vollfarbanzeigevorrichtungen gibt es jedoch das Problem, daß der Kontrast aufgrund der Eigenschaften der Flüssigkristallzellen selbst nicht herausragend ist und der Gesichtsfeldwinkel sehr eng ist. Bei einer derartigen Vorrichtung wird eine Lichtquelle als rückwärtige Lichtquelle benötigt, so daß es das Problem gibt, daß die gesamte Vorrichtung dick würde, obwohl der Flüssigkristallabschnitt selbst dünn ist.
  • Die Dünnschicht-EL-Elemente enthalten jeweils eine dünne, transparente Leuchtlage, die keine Körnigkeit aufweist. Daher wird von außen einfallendes Licht und innerhalb der Leuchtlagen ausgesandtes Licht nicht gestreut, so daß es keine Lichthofbildung bzw. kein Verschwimmen hervorruft, die Anzeige klar ist und einen hohen Kontrast liefert. Daher werden sie herausgestellt für die Verwendung als Anzeige- oder Beleuchtungseinheit.
  • Der Grundaufbau eines Dünnschicht-EL-Elements enthält einen doppelten, dielektrischen Aufbau, der aufeinanderfolgend enthält: auf einem transparenten Träger eine transparente Elektrodenlage aus Zinnoxid (SnO&sub2;) usw., eine erste dielektrische Lage aus Tantalpentaoxid usw., eine dünne Leuchtlage aus Zinksulfid (ZnS) usw., und enthaltend Mangan (Mn) usw., eine zweite dielektrische Lage aus Tantalpentaoxid usw.
  • und eine rückwärtige Elektrodenlage aus Aluminium (Al) usw., die in dieser Reihenfolge laminiert sind.
  • Der Lumineszenzvorgang ist wie folgt: Wenn eine Spannung über die transparente Elektrode und die rückwärtige Elektrode angelegt wird, werden die am Grenzflächenniveau eingefangenen Elektronen herausgezogen und von dem innerhalb der Leuchtlage induzierten elektrischen Feld beschleunigt, so daß sie genügend Energie erhalten, um Orbitalelektronen im Mangan (die Leuchtzentren) zur Anregung derselben herauszuschlagen.
  • Wenn ein angeregtes Leuchtzentrum in seinen Grundzustand zurückfällt, sendet es Licht aus.
  • Forschungen, bei denen unter Verwendung von Dünnschicht- EL-Elementen eine Mehrfarbanzeigetafel hergestellt wird, werden neuerdings beliebt, und verschiedene Forschungen wurden auf dem Gebiet der Vollfarbtafeln durchgeführt.
  • Ein weißes Licht aussendendes Dünnschicht-EL-Element verwendet eine Leuchtlage aus Praseodymfluorid (PrF&sub3;) enthaltendem Zinksulfid, wie offenbart von Yoshihiro Hamakawa et al., The Institute of Electronics and Communication Engineers of Japan Technical Research Report, CPM 82-10, 1982.
  • Wie in Fig. 19 dargestellt, weist ein eine Leuchtlage aus Praseodymfluorid enthaltendem Zinksulfid verwendendes Dünnschicht-EL-Element im Emissionsspektrum Spitzen bei etwa 500 und 650 nm auf. Die Lichtstrahlen bei 500 und 650 nm stehen in Komplementärfarbbeziehung zueinander und sehen so aus, als wären sie weißes Licht. Das Licht enthält jedoch nicht drei Primärfarben, so daß es nicht für eine Vollfarbanzeige verwendet werden kann.
  • Ein Dünnschicht-EL-Element mit einem derartigen Aufbau ist insgesamt transparent bis auf seine rückwärtige Elektrode. Daher wird von außen einfallendes Licht von der rückwärtigen Elektrode reflektiert, und die Reflektion interferiert mit dem Licht von der Leuchtlage, so daß es kein zufriedenstellendes Kontrastverhältnis liefert, und daher würden lediglich Anzeigevorrichtungen mit einer schlechten Anzeigequalität geliefert.
  • Als Stand der Technik kann auch die JP-A-59-56391 erwähnt werden, die eine Vorrichtung offenbart, in der der Lichtabsorptionskoeffizient einer Lichtabsorptionslage von einer Leuchtlagenseite hin zu einer Seite an der rückwärtigen Elektrode ansteigt.
  • Erfindungsgemäß wird geliefert ein Dünnschicht-EL-Element, umfassend eine Leuchtlage, eine rückwärtige Elektrode und eine dielektrische Lage dazwischen, bei dem die Leuchtlage durch ein daran angelegtes elektrisches Feld zum Aussenden von Licht veranlaßt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die dielektrische Lage eine isolierende Schicht eines isolierenden Oxids oder Nitrids enthält, dessen Zusammensetzungsverhältnis in Richtung auf die rückwärtige Elektrode fortlaufend von Schwarz bis Durchsichtig abgestuft ist.
  • Die isolierende Schicht kann ein Tantaloxid (TaOx mit x < 2,5), ein Yttriumoxid (YOx mit x < 3/2), ein Siliziumoxid (SiOx mit x < 2) oder ein Siliziumnitrid (SiNx mit x < 4/3) sein.
  • Das Dünnschicht-EL-Element kann auf einer Bodenplatte eine transparente Elektrode, eine weitere dielektrische Lage, die Leuchtlage, die dielektrische Lage, die eine isolierende Schicht aus einem Oxid oder Nitrid enthält, und die rückwärtige Elektrode umfassen, die in dieser Reihenfolge laminiert sind.
  • Die an die Leuchtlage angelegte Spannung kann mittels der Nachweisausgabe eines im Bereich der Leuchtlage angeordneten Photosensors geregelt sein.
  • Wenn die eine isolierende Schicht aus einem Oxid oder Nitrid enthaltende dielektrische Lage beispielsweise mittels Sputtern in einer Reaktionskammer gebildet wird, wobei Tantalpentaoxid (Ta&sub2;O&sub5;) als Target verwendet wird und ein Mischgas aus Argon (Ar) + Sauerstoff (O&sub2;) zugeführt wird, wird sie durch allmähliches Erhöhen des Sauerstoffpartialdruckes allmählich von einer schwarzen Tantaloxid- (TaOx mit x < 2,5-)Schicht zu einer transparenten Tantaloxid- (Ta&sub2;O&sub5;-) Schicht geändert.
  • Weil sich das stöchiometrische Verhältnis kontinuierlich ändert, tritt im wesentlichen kein Durchschlag an der Grenzfläche auf, und es tritt im wesentlichen keine Kontrastverminderung aufgrund einer Reflexion an der Grenzfläche auf, so daß ein Dünnschicht-EL-Element mit einem hohen Kontrast und einer hohen dielektrischen Stärke geliefert wird.
  • Die vorliegende Erfindung wird nun beispielhaft unter Bezugnahme auf die begleitende Zeichnung beschrieben. In der Zeichnung zeigt:
  • Fig. 1 (a) und (b) eine Schnittansicht bzw. eine Draufsicht einer erfindungsgemäße Dünnschichtelemente enthaltenden Farbanzeigevorrichtung;
  • Fig. 2 (a) und (b) veranschaulichen das Prinzip einer Lumineszenz an der Leuchtlage der Vorrichtung nach den Fig. 1 (a) und 1 (b) bzw. ein von der Leuchtlage erhaltenes Spektrum;
  • Fig. 3 ein ein Kontrastverhältnis in der Vorrichtung darstellendes Diagramm;
  • Fig. 4 ein den Gesichtsfeldwinkelvergleich zwischen der Vorrichtung nach den Fig. 1 (a) und 1 (b) und einer herkömmlichen Vorrichtung darstellendes Diagramm;
  • Fig. 5 veranschaulicht das Lichtemissionsspektrum von einer Leuchtlage eines weiteren Beispiels einer erfindungsgemäße Dünnschichtelemente enthaltenden Vorrichtung;
  • Fig. 6 veranschaulicht den Aufbau eines Dünnschicht-EL- Elements, das nicht erfindungsgemäß gestaltet ist;
  • Fig. 7 ist ein das Emissionsspektrum eines Dünnschicht- EL-Elementes nach Fig. 6 darstellendes Diagramm;
  • Fig. 8 veranschaulicht ein weiteres Dünnschicht-EL-Element, das nicht erfindungsgemäß gestaltet ist;
  • Fig. 9 veranschaulicht die Durchlässigkeit einer zweiten, in dem EL-Element nach Fig. 8 verwendeten dielektrischen Lage;
  • Fig. 10 ist ein einen Kontrastverhältnisvergleich zwischen einem Dünnschicht-EL-Element nach Fig. 8 unter Verwendung einer herkömmlichen Isolierschicht darstellendes Diagramm;
  • Fig. 11 veranschaulicht ein weiteres Dünnschicht-EL-Element, das nicht erfindungsgemäß gestaltet ist;
  • Fig. 12 ist ein die Beziehung zwischen dem Sauerstoffpartialdruck und der Durchlässigkeit bei der Bildung einer Isolierlage des Elementes nach Fig. 11 darstellendes Diagramm;
  • Fig. 13 veranschaulicht ein Dünnschicht-EL-Element gemäß einem Beispiel dieser Erfindung;
  • Fig. 14 (a) und (b) veranschaulichen die Beziehung zwischen der Sauerstoffmenge und der Durchlässigkeit und die Beziehung zwischen der Sauerstoffmenge und dem Widerstand bei der Bildung einer Tantaloxidschicht darstellende Kurven;
  • Fig. 15 ist ein einen Vergleich der Spannung-Luminanz- Eigenschaften zwischen dem Dünnschicht-EL-Element nach Fig. 13 und einem herkömmlichen Dünnschicht-EL-Element darstellendes Diagramm;
  • Fig. 16 veranschaulicht eine Variante des Elementes nach Fig. 13;
  • Fig. 17 zeigt die Regelung der Luminanz ansprechend auf die Umgebungsbeleuchtung zur Beibehaltung des Kontrasts des in Fig. 16 gezeigten Dünnschicht-EL-Elements innerhalb eines festgelegten Bereichs betreffende Kurven;
  • Fig. 18 zeigt eine herkömmliche Farbanzeigevorrichtung; und
  • Fig. 19 veranschaulicht das Emissionsspektrum eines herkömmlichen, weißes Licht aussendenden Dünnschicht-EL-Elements.
  • Die Fig. 1 (a) und (b) zeigen eine Dünnschicht-Farbanzeigevorrichtung, wobei Fig. 1 (a) eine entlang der Linie A-A in Fig. 1 (b) genommene Schnittansicht ist.
  • Die Vorrichtung enthält einen EL-Element-Abschnitt 1, der aufeinanderfolgend enthält eine Mehrzahl von in einer Bildpunkten entsprechenden Matrix angeordneten Dünnschicht- EL-Elementen oder Zellen und einen Farbfilterabschnitt 2, der einstückig auf einer Oberfläche des EL-Element-Abschnitts so angeordnet ist, daß die Lichtstrahlen von den jeweiligen Zellen durch den Farbfilterabschnitt ausgegeben werden.
  • Der EL-Element-Abschnitt 1 enthält auf einer Bodenplatte 3 aus Glas eine transparente Elektrode 4 aus Indium-Zinn-Oxid (ITO), die so angeordnet ist, daß eine geeignete Anzahl von ersten, streifenförmigen Zeilen l&sub1; . . . . . . ln in festgelegten Intervallen gebildet werden, eine erste dielektrische Lage 5 aus Tantalpentaoxid (Ta&sub2;O&sub5;), eine Leuchtlage 6 mit einem aus einer Lage bestehenden Aufbau, umfassend eine Cer (Ce) und Europium (Eu) als Aktivator und Kalium (K) als Koaktivator enthaltende Strontiumsulfid- (SrS-) Lage, eine zweite dielektrische Lage 7 aus Tantalpentaoxid und eine rückwärtige Elektrode 8 in Form einer Aluminium-(Al-)Lage, die eine Mehrzahl von zweiten, streifenförmigen Zeilen V&sub1;, . . , Vn umfaßt, die senkrecht zu den ersten streifenförmigen Zeilen l&sub1;, . . . , ln angeordnet sind, so daß durch Anlegen einer Information entsprechenden Spannung über eine spezielle Zeile der streifenförmigen Zeilen der transparenten Elektrode 4 und eine spezielle Zeile der streifenförmigen Zeilen der rückwärtigen Elektrode 8 der am Schnittpunkt dieser speziellen streifenförmigen Zeilen angeordnete Leuchtlagenbereich zum Aussenden von Licht veranlaßt wird. Das Prinzip der Lumineszenz ist so wie in Fig. 2 (a) dargestellt, und daher werden Lichtstrahlen mit einzelnen Wellenlängen emittiert. Fig. 2 (b) zeigt das Emissionsspektrum der von dieser Leuchtlage ausgesandten Lichtstrahlen. Hier bildet einer der Schnittpunkte eine Zelle.
  • Der Farbfilterabschnitt 2 ist auf der Seite der Bodenplatte aus Glas des EL-Element-Abschnitts angeordnet und enthält eine sich wiederholende Folge bestehend aus einem roten transparenten Filter R, einem grünen transparenten Filter G und einem blauen transparenten Filter B, die in einer Reihenfolge angeordnet sind, wobei jedes Filter eine färbbare Polymerlage enthält und einer jeweiligen Zelle entspricht, wie in der Draufsicht nach Fig. 1 (b) dargestellt.
  • Die Kontrasteigenschaften dieser Farbanzeigevorrichtung sind so, wie in Fig. 3 dargestellt. Wie aus Fig. 3 deutlich wird, beträgt das Kontrastverhältnis bei weniger als 1000 lx etwa 1 : 100, so daß die Eigenschaften äußerst zufriedenstellend und im hohen Maße verbessert sind, verglichen mit der herkömmlichen Vorrichtung mit einem Verhältnis von 1 : 10.
  • Fig. 4 zeigt eine gesichtsfeldwinkelabhängige Luminanzcharakteristik. Die Charakteristik einer Farbanzeigevorrichtung nach den Fig. 1 (a) und 1 (b) wird von der durchgezogenen Linie dargestellt, die zeigt, daß die Luminanz bis zu mehr als 60 Grad nicht deutlich abfällt. Es wird verständlich, daß die Vorrichtung einen großen Gesichtsfeldwinkel aufweist, verglichen mit der herkömmlichen Vorrichtung, deren Charakteristik von einer strichlierten Linie dargestellt wird.
  • Diese Anzeigevorrichtung benötigt kein rückwärtiges Licht und ist sehr dünn, d. h. höchstens 1 mm dick, selbst inklusive der Bodenplatte aus Glas.
  • Während in dem speziellen Beispiel die jeweiligen Zellen einstückig gebildet sind, können die Leuchtlage und auch die jeweiligen Lagen für jede Zelle getrennt geschaffen werden. Das gilt auch für die Elektroden.
  • Die Leuchtlage ist nicht auf eine Cer (Ce), Europium (Eu) und Kalium (K) enthaltende Strontiumsulfid-(SrS-)Lage eingeschränkt. Die Verwendung einer einfachen Leuchtlage aus Stickstoff (N) enthaltendem Zinksulfid; Cer (Ce), Europium (Eu) und Kalium (K) enthaltendem CaSrS; BaSe; ZnS; ZnCdS; ZnF&sub2;; SrTiO&sub3;; oder BaTiO&sub3; würde das Aussenden von weißem Licht zum Ergebnis haben. Fig. 5 zeigt das Emissionsspektrum von Ce, Eu und K enthaltendem SrS. Der Gehalt an Verunreinigungen, welche die Leuchtzentren einer jeweiligen Leuchtlage in dem Beispiel bilden, kann den Anforderungen entsprechend geändert werden. Die Art der verwendeten Verunreinigungen kann den Anforderungen entsprechend geändert werden.
  • Für den Farbfilterabschnitt kann eine direkt auf die Bodenplatte aus Glas aufgeschichtete, färbbare Polymerlage verwendet werden, wie in dem speziellen Beispiel. Alternativ können getrennt gebildete Farbfilter angebracht werden, nämlich ein unterschiedlicher Farbfilteraufbau kann den Anforderungen entsprechend verwendet werden.
  • Eine Schutzschicht oder dgl. kann den Anforderungen entsprechend vorgesehen sein.
  • Nachstehend wird ein weiteres Beispiel eines Dünnschicht-EL-Elements zur Verwendung in einer Farbanzeigevorrichtung beschrieben.
  • Das Dünnschicht-EL-Element enthält eine einzige Leuchtlage, die weißes Licht aussenden kann. Wie in Fig. 6 dargestellt, ist eine Leuchtlage 11 aus Dünnschicht-EL-Elementen mit einem doppelten dielektrischen Aufbau zusammengesetzt aus einer 5000 Å dicken Dünnschichtlage aus Stickstoff enthaltendem Zinksulfid.
  • Sie ist gebildet, indem auf eine transparente Bodenplatte 12 aus Glas aufeinanderfolgend laminiert wird eine transparente Elektrode 13 in Form einer Zinnoxid-(SnO&sub2;-)Lage usw., eine erste dielektrische Lage 14, eine Leuchtlage 11 aus Stickstoff enthaltendem Zinksulfid, wie oben erwähnt, eine zweite dielektrische Lage 15 und eine rückwärtige Elektrode 16 in Form einer dünnen Aluminium-(Al-)Schicht.
  • Für die Bildung der Leuchtlage wird ein Vorgang verwendet, bei dem eine Zinksulfidlage mittels Sputtern gebildet wird, und Stickstoff wird dann mittels Ionenimplantation in die Zinksulfidlage implantiert.
  • Das Emissionsspektrum der durch Anlegen eines elektrischen Wechselfelds über das Dünnschicht-EL-Element erhaltenen Lumineszenz weist einen weiten Bereich von Lumineszenzwellenlängen auf, der die drei Primärfarben abdeckt, wie in Fig. 7 dargestellt.
  • Wie gerade oben beschrieben, wird mit dem Dünnschicht- EL-Element echtes weißes Licht geliefert, und eine Vollfarbanzeigetafel kann hergestellt werden.
  • Während für die Bildung der Leuchtlage der das Implantieren von Stickstoffionen nach Bildung der Zinksulfidschicht einschließende Vorgang verwendet wurde, ist dieses nicht wesentlich. Ein Vorgang zum Bilden der Leuchtlage mittels Sputtern oder CVD in einer Stickstoffatmosphäre kann benutzt werden. Er wird nämlich den Anforderungen entsprechend ausgewählt.
  • Ein weiteres Beispiel eines Dünnschicht-EL-Elements zur Verwendung in einer Farbanzeigevorrichtung wird nachstehend beschrieben.
  • Wie in Fig. 8 dargestellt, weist das Dünnschicht-EL-Element einen Aufbau mit einer doppelten dielektrischen Lage auf, der enthält auf einer transparenten Bodenplatte 21 aus Glas eine transparente Elektrode 22 in Form einer Zinnoxidlage (SnO&sub2;) usw., eine erste dielektrische Lage 23, eine Leuchtlage 24 aus ZnS: Mn, eine zweite, schwarze dielektrische Lage 25 aus Tantaloxid (TaOx mit x < 2,5) und eine rückwärtige Elektrode 26 in Form einer dünnen Aluminium- (Al-)Schicht, die in dieser Reihenfolge laminiert sind.
  • Die zweite dielektrische Lage weist eine Beziehung zwischen Wellenlänge und Durchlässigkeit auf, wie in Fig. 9 dargestellt, welche zeigt, daß die Durchlässigkeit im Bereich sichtbaren Lichtes weniger als 10% beträgt.
  • Eine Kurve a in Fig. 10 zeigt die Beziehung zwischen der Luminanz und dem Kontrastverhältnis des Dünnschichtelementes (cd/m²).
  • Für Vergleichszwecke zeigt die Kurve b in Fig. 10 die Beziehung zwischen der Luminanz (cd/m²) und dem Kontrastverhältnis eines herkömmlichen, Tantalpentaoxid-(Ta&sub2;O&sub5;) als ein die zweite dielektrische Lage bildendes Material verwendenden Dünnschicht-EL-Elements.
  • Aus dem Vergleich wird deutlich, daß das herkömmliche Dünnschicht-EL-Element zum Erhalt eines Kontrastverhältnisses von 1 : 10 (bei einer Beleuchtungsstärke von 1000 lx) eine Luminanz von 200 cd/m² benötigt, während das Element nach Fig. 8 lediglich 20 cd/m² benötigt, was veranschaulicht, daß der Kontrast im hohen Maße verbessert ist.
  • Die schwarze Tantaloxidschicht kann auf einfache Weise erhalten werden, indem lediglich Teilbedingungen eines herkömmlicherweise zum Bilden einer transparenten Tantalpentaoxidlage verwendeten Vorgangs geändert werden, beispielsweise indem lediglich der Sauerstoffpartialdruck unter den gleichen Bedingungen wie denjenigen beim Sputtervorgang verringert wird. Daher wird die Herstellungsarbeit effizient ausgeführt.
  • Während in dem speziellen Beispiel eine schwarze Tantaloxidschicht anstelle der herkömmlichen transparenten Tantalpentaoxidschicht verwendet wird, kann eine zusammengesetzte Schicht 25' aus einer schwarzen Tantaloxidlage 25a und einer unterschiedlichen dielektrischen Lage als zweite dielektrische Lage gebildet werden, wie in Fig. 11 dargestellt. Das kann für andere Oxide und Nitride, wie etwa Yttriumoxide, Siliziumoxide, Siliziumnitride usw., angewendet werden, wie in einem Dünnschichttransistor.
  • Die die Leuchtlage, die transparente Elektrode und die rückwärtige Elektrode bildenden Materialien sind nicht auf diejenigen des speziellen Beispiels beschränkt, und selbstverständlich sind andere Materialien wirksam.
  • Die Tantaloxidschicht kann den Anforderungen entsprechend ausgewählt werden unter solchen mit einer Durchlässigkeit von 30% oder weniger im sichtbaren Bereich. Wenn eine Schicht mit einer Durchlässigkeit von mehr als 30% verwendet wird, würde das das Kontrastverhältnis verringern.
  • Die Beziehung zwischen Sauerstoffpartialdruck und Durchlässigkeit wird auch mit solchen Experimenten nachgeprüft wie denjenigen, die nachstehend dargestellt sind.
  • Eine TaOx-Schicht wurde auf einer Bodenplatte aus Glas gebildet unter Verwendung von Ta&sub2;O&sub5; als Target und Ändern des Sauerstoffpartialdrucks in einem Hochfrequenz-(RF-)Sputtervorgang.
  • Fig. 12 zeigt die Ergebnisse einer Messung der Beziehung zwischen dem Sauerstoffpartialdruck bei der Schichtbildung und der Durchlässigkeit der gebildeten TaOx-Schicht, wenn der Argon-(Ar-)Partialdruck 5 · 10&supmin;³ (Torr) betrug. (In Fig. 12 stellt die Abszissenachse den Sauerstoffpartialdruck · 10&supmin;&sup5; (Torr) dar, und die Ordinatenachse stellt die Durchlässigkeit (%) dar.)
  • Aus Fig. 12 wird deutlich, daß durch Verringern des Sauerstoffpartialdrucks und des Anteils an Sauerstoffin der Zusammensetzung die Durchlässigkeit verringert wird. Die Durchlässigkeit der bei einem Sauerstoffpartialdruck = 0 gebildeten TaOx-Schicht betrug etwa 2%.
  • Gemäß dem vorhergehenden wird der Sauerstoff- oder Stickstoffanteil in einer Zusammensetzung in isolierenden Oxiden oder Nitriden stöchiometrisch verringert, so daß der Herstellungsvorgang nicht wesentlich geändert wird, und eine schwarze, isolierende Schicht kann sehr einfach geliefert werden.
  • Unter Bezugnahme auf Fig. 13 wird nachstehend ein Beispiel eines erfindungsgemäßen Dünnschicht-EL-Elements zur Verwendung in einer Farbanzeigevorrichtung beschrieben.
  • Das EL-Element enthält auf einer transparenten Bodenplatte 31 aus Glas eine transparente Elektrode 32 in Form einer Zinnoxid-(SnO&sub2;-)Lage usw., eine erste dielektrische Lage 33 aus Yttriumoxid (Y&sub2;O&sub3;), eine Leuchtlage 34 aus Zinksulfid (ZnS): Mangan (Mn), eine zweite dielektrische Lage 35, deren Zusammensetzungsverhältnis fortlaufend von Schwarz bis Durchsichtig abgestuft ist, und eine rückwärtige Elektrode 36 in Form einer Aluminiumlage, die in dieser Reihenfolge laminiert sind.
  • Die zweite dielektrische Lage besitzt ein sich fortlaufend in Richtung auf die rückwärtige Elektrode änderndes Zusammensetzungsverhältnis von einer schwarzen, 3000 Ä dicken Tantaloxidschicht (TaOx mit < 2,5) zu einer durchsichtigen Tantalpentaoxid-(Ta&sub2;O&sub5;-)Schicht und weist insgesamt eine Dicke von 5000 Å auf.
  • Die zweite dielektrische Lage wird mittels RF-Sputtern gebildet. Tantalpentaoxid wird als Target verwendet. Anfänglich wird eine 3000 Å dicke Tantaloxid-(TaOx mit x < 2,5-)Schicht unter einem verminderten Sauerstoffpartialdruck abgeschieden, und der Sauerstoffpartialdruck wird dann allmählich erhöht, um dadurch fortlaufend eine 2000 Å dicken Tantaloxid-(TaOx' mit x'= x - 2,5-)Schicht abzuscheiden.
  • Fig. 14 (a) und Fig. 14 (b) zeigen die Beziehung zwischen dem Sauerstoffgehalt einer Tantaloxidschicht und deren Durchlässigkeit (%) für Licht mit einer Wellenlänge &lambda; = 600 nm bzw. die Beziehung zwischen dem Sauerstoffgehalt und dem Widerstand (&Omega; cm), wenn die Tantaloxidschicht durch RF-Sputtern unter Verwendung von Tantalpentaoxid als Target gebildet wird und wenn der Sauerstoffgehalt geändert wird. Aus diesen Figuren wird deutlich, daß die Durchlässigkeit und der Widerstand vermindert wird, wenn der Sauerstoffgehalt sinkt, während, wenn der Sauerstoffgehalt ansteigt, der Widerstand ebenfalls ansteigt.
  • Eine Kurve a in Fig. 15 zeigt die Luminanz-Spannung-Charakteristik des so gebildeten Dünnschicht-EL-Elements. Für Vergleichszwecke zeigen die Kurven b und c in Fig. 15 die Luminanz -Spannung-Charakteristiken eines Dünnschicht-EL-Elements mit dem gleichen Aufbau wie das vorliegende Beispiel, mit Ausnahme der zweiten dielektrischen Lage, die aus einer einfachen (schwarzen), 5000 Å dicken Tantaloxid-(TaOx mit x < 2,5-)Schicht besteht, und eines weiteren Dünnschicht-EL- Elements mit dem gleichen Aufbau wie das vorliegende Beispiel, mit Ausnahme der zweiten dielektrischen Lage mit einem zweilagigen Aufbau, der aus einer 4000 Å dicken, schwarzen Tantaloxid-(TaOx mit x < 2,5-)Schicht und einer 1000 Å dicken, durchsichtigen Tantalpentaoxidschicht (Ta&sub2;O&sub5;) besteht. Die Kurven a und b sind hinsichtlich des Kontrasts im wesentlichen gleich, und die Kurve c liegt etwas niedriger. (In Fig. 15 stellt die Ordinatenachse die Luminanz dar, und die Abszissenachse stellt die angelegte Spannung dar). Es ist zu verstehen, daß die Spannungen, denen die Elemente über eine lange Zeit standhalten können (dielektrische Stärke), 165 V für a, 125 V für b und 150 V für c betragen und daß das Dünnschicht-EL-Element des erfindungsgemäßen Beispiels, bei dem die zweite dielektrische Lage fortlaufend geändert wird, eine im hohen Maße verbesserte dielektrische Stärke aufweist.
  • Wie gerade oben beschrieben, zeigt das Dünnschicht-EL- Element gemäß dem erfinderischen Beispiel einen hohen Kontrast und eine hohe Fehlerspannung.
  • Die vorstehend beschriebenen Dünnschicht-EL-Elemente können verwendet werden als Lichtquellen zum Schreiben von Signalen auf, zum Lesen von Signalen von und zum Löschen von Signalen in Aufzeichnungsmedien und für Beleuchtungszwecke zusätzlich zu den Anwendungen in Anzeigevorrichtungen.
  • Bei den in einer Anzeigevorrichtung unter Umgebungsbedingungen, bei denen sich die Umgebungshelligkeit ändert, verwendeten Dünnschicht-EL-Elementen gibt es das Problem, daß der Kontrast verringert wird und das Sehen der Anzeige schwierig wird, wenn die Helligkeit der Umgebungsbeleuchtung ansteigt, während die Anzeige übermäßig hell wird, wenn die Luminanz konstant ist und die Beleuchtung extrem gering ist. Um mit diesem Problem fertig zu werden, kann, wie beispielsweise in Fig. 16 dargestellt, ein Photosensor 37 vorgesehen sein. Die an das Dünnschicht-EL-Element angelegte Spannung wird in Übereinstimmung mit einem Signal von dem Photosensor geregelt, um die Luminanz zu ändern, um dadurch den Kontrast beizubehalten und die Anzeigeleistung zu verbessern.
  • Wie in Fig. 17 dargestellt, ist die Regelung der angelegten Spannung einfach, wenn sie zum schrittweisen Ändern der angelegten Spannung ausgelegt ist, um dadurch den Kontrast innerhalb eines festgelegten Bereichs (a-b) bei zubehalten, wenn das Signal von dem Photosensor einen festgelegten Wert überschreitet.
  • Beispielsweise wird angenommen, daß das Dünnschicht-EL- Element Licht mit einer bestimmten Luminanz A aussendet. Die Luminanz wird schrittweise geändert, wie durch A, B, C, D dargestellt. Wenn die Beleuchtung von der Umgebung oder die Nachweisausgabe von dem Photosensor 37 1000 lx annimmt, wird die angelegte Spannung so erhöht, daß die Luminanz zu B wird; wenn die Helligkeit weiter auf etwa 5000 lx ansteigt, ändert sich die Luminanz auf C usf. Auf diese Weise kann der Kontrast innerhalb eines im wesentlichen konstanten Bereichs beibehalten werden, ohne von der Umgebungsbeleuchtung beeinflußt zu werden.
  • Die angelegte Spannung kann kontinuierlich gemäß der Nachweisausgabe von dem Photosensor geändert werden.

Claims (7)

1. Dünnschicht-EL-Element umfassend eine Leuchtlage, (34) eine rückwärtige Elektrode (36) und eine dielektrische Lage (35) dazwischen, bei dem die Leuchtlage durch ein daran angelegtes elektrisches Feld zum Aussenden von Licht veranlaßt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die dielektrische Lage eine isolierende Schicht eines isolierenden Oxids oder Nitrids enthält, dessen Zusammensetzungsverhältnis in Richtung auf die rückwärtige Elektrode fortlaufend von schwarz bis durchsichtig abgestuft ist.
2. Dünnschicht-EL-Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die isolierende Schicht ein Tantaloxid (TaOx mit x < 2,5) ist.
3. Dünnschicht-EL-Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Isolierschicht ein Yttriumoxid (YOx mit x < 3/2) ist.
4. Dünnschicht-EL-Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Isolierschicht ein Siliciumoxid (SiOx mit x < 2) ist.
5. Dünnschicht-EL-Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Isolierschicht ein Siliciumnitrid (SiNx mit x < 4/3) ist.
6. Dünnschicht-EL-Element nach einem der vorhergehenden Ansprüche umfassend eine Bodenplatte (31), eine transparente Elektrode (32), eine weitere dielektrische Lage (33), wobei die Leuchtlage (34), die dielektrische Lage (35), die eine isolierende Schicht aus einem Oxid oder Nitrid enthält, und die rückwärtige Elektrode (36) in dieser Reihenfolge laminiert sind.
7. Dünnschicht-EL-Element nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die an die Leuchtlage (34) angelegte Spannung mittels der Nachweisausgabe eines im Bereich der Leuchtlage angeordneten Fotosensors (37) geregelt wird.
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