DE3709084C2 - Verfahren zum Verringern des Wassergehaltes gasförmiger Chlorwasserstoffsäure - Google Patents
Verfahren zum Verringern des Wassergehaltes gasförmiger ChlorwasserstoffsäureInfo
- Publication number
- DE3709084C2 DE3709084C2 DE3709084A DE3709084A DE3709084C2 DE 3709084 C2 DE3709084 C2 DE 3709084C2 DE 3709084 A DE3709084 A DE 3709084A DE 3709084 A DE3709084 A DE 3709084A DE 3709084 C2 DE3709084 C2 DE 3709084C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- hcl
- sicl4
- water
- gas
- chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/26—Drying gases or vapours
- B01D53/28—Selection of materials for use as drying agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/01—Chlorine; Hydrogen chloride
- C01B7/07—Purification ; Separation
- C01B7/0706—Purification ; Separation of hydrogen chloride
- C01B7/0718—Purification ; Separation of hydrogen chloride by adsorption
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Drying Of Gases (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
Diese Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Entfernen
von Wasserspuren aus gasförmiger Chlorwasserstoffsäure. Die
Erfindung bezieht sich insbesondere auf die Verwendung be
stimmter Chloride als Trocknungsmittel, um den Wassergehalt
von HCl-Gasströmen auf weniger als ein ppm (Teil pro Million)
zu verringern.
Ein Verfahren zum Trocknen von Chlorwasserstoff ist bereits
in der DD 1 50 736 offenbart. Hier wird feuchtes
Chlorwasserstoffgas durch ein Gemisch schnell
hydrolysierender Chlorsilane und konzentrierter Schwefelsäure
geleitet. Dabei verbleiben Spuren von Chlorsilanen im
getrockneten Chlorwasserstoff.
Das erfindungsgemäße Verfahren zum Verringern des Wassergehal
tes von HCl-Gasströmen auf weniger als einen Teil pro Million
(1 ppm) umfaßt das In-Kontakt-Bringen des HCl-Gasstromes mit
einem Chlorid des Siliziums oder eines Metalles mit einer Wer
tigkeit von mindestens vier. Das Chlorid ist dabei auf
einem festen Träger immobilisiert.
Es ist gewöhnlich schwierig, Wasserspuren aus HCl zu entfer
nen, da HCl reaktiver als Wasser und hygroskopisch ist. Sili
cium und bestimmte Metalle mit hoher Wertigkeit reagieren
jedoch leichter mit Oxidliganden als mit Chloridliganden. Sol
che Metalle schließen beispielsweise Ti, Zr und W ein. Typi
sche Reaktionen umfassen die folgenden:
WCl₆ + 3 H₂O → WO₃ + 6 HCl (1)
SiCl₄ + 2 H₂O → SiO₂ + 4 HCl (2)
Andere geeignete Chloride umfassen, ohne darauf beschränkt zu
sein, TiCl₄ und ZrCl₄.
Für manche Anwendungen wird es vorteilhaft sein, die erfin
dungsgemäßen Trocknungsmittel bei einer niedrigen Temperatur
einzusetzen, die oberhalb des Siedepunktes von HCl liegt. Die
Gleichgewichtskonstanten werden für die Entfernung von Wasser
größer sein, wenn die Temperatur niedrig ist. Dieser Effekt
ist für Trocknungsmittel wichtig, die bei Raumtemperatur eine
niedrige Gleichgewichtskonstante besitzen, z. B. WCl₆. Ein an
derer Effekt der niedrigen Temperatur ist die Senkung des
Dampfdrucks von flüssigen Trocknungsmitteln wie SiCl₄ und
TiCl₄, die bei Raumtemperatur einen hohen Dampfdruck
besitzen. Der hohe Dampfdruck kann dazu führen, daß Metall-
oder Siliciumverbindungen in den gereinigten HCl-Strom
emittiert werden.
Feste Trocknungsmittel wie WCl₆ und ZrCl₄ können an einem
festen Träger wie z. B. einem makrovernetzten Styroldivinyl
benzolpolymeren adsorbiert sein, um die Oberfläche des
Trocknungsmittels zu vergrößern.
Der Dampfdruck der flüssigen Chlorid-Trocknungsmittel kann ge
senkt werden, ohne daß die Temperatur auf weniger als Raumtem
peratur erniedrigt wird, indem das Chlorid auf einem festen
Träger mit freien -OH-Gruppen oder -OM′-Gruppen auf seiner
Oberfläche immobilisiert wird, wobei M′ ein Alkali- oder Erd
alkalimetall ist. Solche Träger umfassen anorganische Träger
mit großer Oberfläche wie Aluminiumoxid und Siliciumdioxid.
Auch Polymere mit einer funktionellen Gruppe, die mit dem
Chlorid reagieren kann, z. B. Polyvinylalkohol, können als
Träger eingesetzt werden. Die Immobilisierung findet entspre
chend der folgenden Gleichung statt, in der SiCl₄ als Bei
spiel verwendet wird:
SiCl₄ + HOMO₃ → Cl₃SiO MO₃ + HCl (3)
worin HOMO₃ eine Metalloxid- oder eine -hydroxidoberfläche
darstellt. Auf Aluminiumoxid immobilisiertes SiCl₄ ist das
bevorzugte Trocknungsmittel. Die flüssigen Chlorid-Trock
nungsmittel können direkt mit dem festen Träger umgesetzt
werden, oder sie können erwärmt werden, um sie vor dem
Kontakt mit dem Träger zu verdampfen. Wenn der Träger mit
einem gasförmigen Chlorid umgesetzt wurde, sollte der mit dem
immobilisierten Chlorid auf seiner Oberfläche beladene Träger
anschließend mit heißem HCl-Gas behandelt werden, um alles
nur schwach gebundene Chlorid auszutreiben.
Für Anwendungen, bei denen die Emission von Metall- oder Sili
ciumverbindungen in den gereinigten Gasstrom nachteilig wäre,
empfiehlt es sich, vor dem Kontakt mit dem HCl-Strom das Alu
miniumoxid mit dem immobilisierten Chlorid auf seiner Oberflä
che 17 Stunden lang unter Stickstoff auf eine Temperatur von
etwa 190°C zu erhitzen. Diese Hitzebehandlung wird jegliche
schwach gebundenen Metall- oder Siliciumchloride austreiben.
Die Kapazität des Aluminiumoxid-Trocknungsmittels beträgt
typischerweise etwa 2 Liter Wasserdampf pro Liter Trocken
bett. Der gereinigte Gasstrom kann anschließend durch eine
nachgeschaltete Falle geleitet werden, die aktiviertes Alumi
niumoxid enthält, um jegliche verbliebenen Spuren von
Silicium- oder Metallverbindungen zu entfernen. So beträgt
beispielsweise die Silicium-Menge in dem gereinigten
HCl-Strom nach Durchleiten durch ein hitzebehandeltes
SiCl₄/Al₂O₃-Trocknungsmittel und durch eine nachgeschaltete
Falle mit aktiviertem Aluminiumoxid typischerweise weniger
als 0,05 ppm (gemessen mittels Atomabsorption nach Durch
leiten des HCl-Strömen durch 100 ml Wasser). Das in der nach
geschalteten Falle eingesetzte Aluminiumoxid wird vorzugs
weise vor der Verwendung in einem Stickstoffstrom 17 Stunden
lang auf etwa 190°C erhitzt und dann abgekühlt.
Der Wassergehalt des gereinigten Gasstromes beträgt weniger
als ein ppm und vorzugsweise weniger als 0,5 ppm.
Die Entfernung von Feuchtigkeit aus einem HCl-Gasstrom zur
Reduzierung von Oxidationsreaktionen auf ein Minimum ist in
der Halbleiterindustrie von Bedeutung. Beispielsweise wird
von Feuchtigkeit freies HCl zur Reinigung von Öfen benötigt,
die bei der Herstellung von Halbleiterplatten verwendet
werden, um eine nachfolgende Kontamination der Platten zu ver
hindern, und es wird bei der Ätzung von Siliciumplatten be
nötigt, um die Bildung von Oxiden auf der Plattenoberfläche
zu verhindern. Wasserfreies, gasförmiges HCl wird für die
Umwandlung von Ferrosilicium (FeSi) in HSiCl₃ verwendet, wel
ches wiederum für die Herstellung von Siliciumplatten einge
setzt wird. Das Verhindern der Korrosion von Rohrleitungen,
die für den Transport von HCl verwendet werden, ist ebenfalls
eine wichtige Erwägung.
Saures Al₂O₃ (Woelm® A, Akt. 1, hergestellt von Woelm Pharma
GmbH & Co.) wird in einen 150 ml Probe fassenden Zylinder aus
rostfreiem Stahl gepackt. Das Aluminiumoxid wird unter einem
N₂-Strom bei 200°C 10 Stunden lang getrocknet.
Ein mit Siliciumtetrachlorid funktionalisiertes Aluminium
oxid-Trocknungsmittel wird wie folgt hergestellt. Durch das
Bett aus getrocknetem Al₂O₃ wird eine Lösung von 30 Vol.-%
SiCl₄ in Hexan geleitet, und man beläßt das SiCl₄ mindestens
eine Stunde in Kontakt mit dem Trockenbett. Dann wird das
Bett mit dem vierfachen Bettvolumen an getrocknetem Hexan gewaschen.
Die Probe wird bei 65°C unter einem N₂-Strom getrocknet, um
das Hexan auszutreiben. Das funktionalisierte Aluminiumoxid
wird anschließend 17 Stunden lang bei 190°C gehalten, um
flüchtige Bestandteile auszutreiben.
Ein Teil des hitzebehandelten Trocknungsmittels wird in ein
Polymerrohr gegeben. Durch die Probe wird N₂ geleitet.
Man findet mit Drei-Farben-pH-Papier keine Acidität. Dann
läßt man N₂ durch Wasser in einem 4′′-Polymerrohr perlen und
leitet das mit Wasser beladene Gas durch das
Trocknungsmittel. Das entweichende Gas wird sauer, was an
zeigt, daß das SiCl₄ in der Lage ist, der Gleichung (2) ent
sprechend Feuchtigkeit aus dem Gasstrom zu entfernen.
Ein mit Siliciumtetrachlorid funktionalisiertes Al₂O₃-Trock
nungsmittel wird hergestellt und untersucht wie in Beispiel
1, mit der Ausnahme, daß man durch das getrocknete Aluminium
oxid unverdünntes SiCl₄ anstelle einer Lösung von SiCl₄ in
Hexan leitet. Man läßt die Reaktionsmischung mindestens eine
Stunde lang stehen, bevor man sie erhitzt, um flüchtige
Bestandteile auszutreiben.
Saures Aluminiumoxid wird in ein 3,79 l fassendes
Reaktionsgefäß aus rostfreiem Stahl gepackt. Das Aluminium
oxid wird bei 190°C unter einem N₂-Strom über Nacht
getrocknet.
Ein mit Siliciumtetrachlorid funktionalisiertes Aluminium
oxid-Trocknungsmittel wird folgendermaßen hergestellt: Sili
ciumtetrachlorid (250 ml) wird über eine Kanüle in eine auf
eine Temperatur von 57°C erwärmte Gaswaschflasche überführt.
Durch das erwärmte SiCl₄ wird solange Stickstoff geleitet,
bis alles SiCl₄ verdampft und durch das Aluminiumoxid im
Reaktionsgefäß geströmt ist. HCl-Gas, das mittels Durchleiten
durch eine Vorheizschlange erwärmt wurde, wird anschließend
fünf Stunden lang durch das mit SiCl₄ funktionalisierte
Aluminiumoxid geleitet, um alles schwach gebundene SiCl₄
auszutreiben. Das Trocknungsmittel wird dann bei einer
Temperatur von 190°C mindestens acht Stunden lang unter einem
Stickstoffstrom belassen, um überschüssiges HCl zu entfernen.
Die Kapazität von mit SiCl₄ funktionalisiertem Aluminium
oxid-Trocknungsmittel zur Entfernung von Wasser aus einem
Gasstrom wird mit Hilfe des folgenden Verfahrens bestimmt.
Man läßt N₂ durch auf 24°C gehaltenes Wasser perlen. Der
Dampfdruck von Wasser dieser Temperatur beträgt 24 mm Hg. Das
feuchte N₂ wird mit einer Geschwindigkeit von 200 ml pro
Minute durch eine 30 ml-Probe des Trocknungsmittels in einem
Polymerrohr geleitet. Das Gas, das aus dem das Trocknungs
mittel enthaltenden Rohr entweicht, wird durch 200 ml Wasser
geleitet. Das Gas wird durch ein Teflonrohr zugeführt, da
eine Leitung aus rostfreiem Stahl Erdungsprobleme an der
pH-Elektrode hervorruft. Die H⁺-Konzentration des Wassers
wird mit einem pH-Meter als Funktion der Zeit gemessen. Die
Durchflußgeschwindigkeit des feuchten N₂ beträgt 0,302
Norm-Liter pro Minute. Kennt man das Volumen der Wasserfalle,
das Volumen des Trockenbettes und die Endkonzentration der
Protonen in der Wasserfalle, kann man die Kapazität des
Trockenbettes ausrechnen. Die Kapazitäten der verschiedenen
Ausführungsformen der SiCl₄/Al₂O₃-Trocknungsmittel sind wie
folgt:
Trocknungsmittel | |
Kapazität (Liter H₂O-Dampf/Liter Trockenbett) | |
SiCl₄ in Hexan | |
1,95 | |
SiCl₄ in Hexan, hitzebehandelt | 2,6 |
Unverdünntes SiCl₄ | 5,5 |
Unverdünntes SiCl₄, hitzebehandelt | 2 |
Ein Strom von trockenem HCl-Gas wird so mit Stickstoff, der
eine bekannte Menge Feuchtigkeit enthält, gemischt, daß der
HCl-Gasstrom 5 ppm Wasser enthält. Der HCl-Gasstrom wird dann
unter einer Atmosphäre Druck durch eine 500 ml fassende Säule
mit dem hitzebehandelten SiCl₄/Al₂O₃-Trocknungsmittel gelei
tet, das wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt wurde. Die
Durchflußgeschwindigkeit des HCl-Gases durch die Säule
beträgt das 160-fache an Gasvolumen, bezogen auf das Trocken
bettvolumen, pro Stunde, und das Verfahren wird bei Raumtem
peratur durchgeführt. Der Feuchtigkeitsgehalt des entweichen
den Gases wird für einen Zeitraum von zwei Stunden in halb
stündigen Abständen gemessen. Dieses Verfahren wird unter Ver
wendung von HCl-Gasströmen mit 13 und 37 ppm Wasser wieder
holt. Das Verfahren wird nochmals wiederholt, wobei ein Gas
strom mit 20 ppm Wasser eingesetzt wird, wobei jedoch die
Durchflußgeschwindigkeit auf das 760-fache an HCl-Volumen,
bezogen auf das Trockenbettvolumen, pro Stunde gesteigert
wird. In jedem Fall ist der Feuchtigkeitsgehalt des HCl-Gas
stromes am Ende des zweistündigen Zeitraumes geringer als 0,1
ppm. Der Feuchtigkeitsgehalt des HCl-Gasstromes wurde wie in
Flatherty et al, Anal. Chem. (1986), 58, 1903-1904, beschrieben,
gemessen.
Makrovernetztes Styrol/Divinylbenzol-Polymeres (PSDVB-Polyme
res) (Amberlite XAD4, hergestellt von Rohm und Haas) wird mit
Wasser gewaschen und die Schwebepartikel werden durch Dekan
tieren entfernt. Das Polymere wird nacheinander mit dem drei
fachen Bettvolumen Wasser, Methanol, Isopropylalkohol und
Hexan gewaschen. Luft wird etwa zwei Stunden lang durch das
Bett geblasen, um die Hauptmenge der Solventien zu entfernen.
Das luftgetrocknete Harz wird in ein Reaktionsgefäß aus rost
freiem Stahl gepackt und unter einem Stickstoffstrom bei
110°C 10 bis 12 Stunden lang getrocknet.
Ein Trocknungsmittel mit WCl₆ auf einem Träger wird wie folgt
hergestellt: Das getrocknete PSDVB (25 g) wird mit WCl₆ (2,52 g)
in 50 ml getrocknetem Toluol vermischt. Ein Stickstoffstrom wird
bei 110°C über Nacht durch die Mischung geleitet, um das
Toluol zu entfernen.
PSDVB mit auf seiner Oberfläche adsorbiertem WCl₆ wird für
die Untersuchung in eine Bürette überführt. Trockener Stick
stoff wird durch das PSDVB-WCl₆-Trocknungsmittel geleitet.
Mit Drei-Farben-pH-Papier wird keine Acidität gefunden. Dann
läßt man N₂ durch Wasser in einem Polymerrohr perlen, und
das mit Wasser beladene Gas wird durch das Trocknungsmittel
geleitet. Das entweichende Gas wird sauer, was anzeigt, daß
das WCl₆ in der Lage ist, gemäß Gleichung (1) Feuchtigkeit
aus dem Gasstrom zu entfernen.
Claims (2)
1. Verfahren zum Verringern des Wassergehaltes eines
HCl-Gasstromes auf weniger als 1 ppm, welches das In-Kontakt-
Bringen des Gasstromes mit einem Chlorid des Siliciums oder
eines Metalles mit einer Wertigkeit von mindestens vier
umfaßt, das auf einem festen Träger immobilisiert ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, worin das Chlorid SiCl₄
und der feste Träger Aiuminiumoxid ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US84144086A | 1986-03-19 | 1986-03-19 | |
US868387A | 1987-01-29 | 1987-01-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3709084A1 DE3709084A1 (de) | 1987-09-24 |
DE3709084C2 true DE3709084C2 (de) | 1995-09-21 |
Family
ID=26678469
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3709084A Expired - Fee Related DE3709084C2 (de) | 1986-03-19 | 1987-03-19 | Verfahren zum Verringern des Wassergehaltes gasförmiger Chlorwasserstoffsäure |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0753221B2 (de) |
KR (1) | KR950006513B1 (de) |
CA (1) | CA1291860C (de) |
DE (1) | DE3709084C2 (de) |
FR (1) | FR2595958B1 (de) |
GB (1) | GB2188043B (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4853148A (en) * | 1987-03-24 | 1989-08-01 | Advanced Technology Materials, Inc. | Process and composition for drying of gaseous hydrogen halides |
JPH11139805A (ja) | 1997-07-29 | 1999-05-25 | Millipore Corp | ハロゲン化水素から水分を除去するための組成物とその方法 |
US5958356A (en) * | 1997-11-05 | 1999-09-28 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method for removal of moisture from gaseous HCl |
WO2001012541A1 (en) * | 1999-08-17 | 2001-02-22 | The Dow Chemical Company | Production of anhydrous hydrogen chloride from byproduct or waste chlorinated materials |
US6221132B1 (en) | 1999-10-14 | 2001-04-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Vacuum preparation of hydrogen halide drier |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD150736A1 (de) * | 1980-04-14 | 1981-09-16 | Gerhard Appel | Verfahren zum trocknen von chlorwasserstoff und chlor |
JPS57104995A (en) * | 1980-12-22 | 1982-06-30 | Casio Computer Co Ltd | Keyboard circuit for adding touch response |
-
1987
- 1987-03-18 GB GB8706444A patent/GB2188043B/en not_active Expired
- 1987-03-18 CA CA000532331A patent/CA1291860C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-19 JP JP62065518A patent/JPH0753221B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-19 FR FR878703824A patent/FR2595958B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1987-03-19 KR KR1019870002469A patent/KR950006513B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-03-19 DE DE3709084A patent/DE3709084C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1291860C (en) | 1991-11-12 |
GB2188043A (en) | 1987-09-23 |
KR870008782A (ko) | 1987-10-20 |
KR950006513B1 (ko) | 1995-06-16 |
FR2595958B1 (fr) | 1991-06-14 |
JPH0753221B2 (ja) | 1995-06-07 |
GB8706444D0 (en) | 1987-04-23 |
GB2188043B (en) | 1989-11-15 |
FR2595958A1 (fr) | 1987-09-25 |
DE3709084A1 (de) | 1987-09-24 |
JPS62254822A (ja) | 1987-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE68902707T2 (de) | Reiniger von inerten gasen, besonders geeignet fuer die produktion von grossen mengen stickstoff ohne benutzung von wasserstoff oder sonstigen reduzierenden gasen. | |
Davini | Adsorption and desorption of SO2 on active carbon: The effect of surface basic groups | |
US2283172A (en) | Zeolites and their treatment | |
DE2622536C3 (de) | Verfahren zur selektiven Adsorption von Stickstoffoxiden aus einem Gasstrom | |
Beyrouty et al. | Evidence supporting specific adsorption of boron on synthetic aluminum hydroxides | |
DE69007989T2 (de) | Verwendung von Sorbentmittel für die Polyolefinreinigung. | |
DE3709084C2 (de) | Verfahren zum Verringern des Wassergehaltes gasförmiger Chlorwasserstoffsäure | |
DE2732580C2 (de) | Verfahren zum Reinigen eines SO↓2↓ und HCl enthaltenden Abgases | |
DE3203743C2 (de) | ||
Lobnig et al. | Atmospheric corrosion of aluminum in the presence of ammonium sulfate particles | |
EP0278096A2 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Überwachung von Emissionen und Immissionen auf Quecksilber | |
DE4429644A1 (de) | Iodadsorptionsmittel | |
Reschetilowski et al. | Study of the ammonia–zeolite interaction in modified ZSM-5 by temperature-programmed desorption of ammonia | |
DE69927015T2 (de) | Reaktive matrix zur entfernung von feuchtigkeit aus einem fluor enthaltenten gas und verfahren | |
Vance et al. | Aerosol formation resulting from the reaction of ammonia and sulfur dioxide | |
DE2947498A1 (de) | Verfahren zur herstellung von cyanwasserstoff | |
Unger et al. | The sorption of Zn (NH3) 4++ and Zn (en) 3++ on silica gels of various specific surfaces The determination of specific surface area of silica gel by sorption of Zn (en) 3++ | |
DE4311061A1 (de) | Zersetzung von NF¶3¶ in Abgasen | |
DE3412705C2 (de) | Verfahren zur Disproportionierung von Trichlorsilan | |
DE2427655B2 (de) | Verfahren zur quantitativen Bestimmung von Sauerstoff in organischen Verbindungen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE2932268C2 (de) | Verfahren zur analytischen Bestimmung von Cyanwasserstoff in Gasen | |
SU384932A1 (ru) | В | |
DE1072976B (de) | Verfahren zur Herstellung von Aluminiumoxyd | |
DE60207377T2 (de) | Verfahren zur konzentrationsmessung von verunreinigungen in helium durch ionenmobilitäts-spektrometrie | |
DE1667582A1 (de) | Verfahren zur Entfernung von Schwefeldioxid aus Bortrifluorid |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: MATHESON GAS PRODUCTS, INC., SECAUCUS, N.J., US |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |