DE3709084A1 - Verfahren zum verringern des wassergehaltes gasfoermiger chlorwasserstoffsaeure - Google Patents
Verfahren zum verringern des wassergehaltes gasfoermiger chlorwasserstoffsaeureInfo
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Description
Diese Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Entfernen
von Wasserspuren aus gasförmiger Chlorwasserstoffsäure. Die
Erfindung bezieht sich insbesondere auf die Verwendung bestimmter
Chloride als Trocknungsmittel, um den Wassergehalt
von HCl-Gasströmen auf weniger als ein ppm (Teil pro Million)
zu verringern.
Das erfindungsgemäße Verfahren zum Verringern des Wassergehaltes
von HCl-Gasströmen auf weniger als einen Teil pro Million
(1 ppm) umfaßt das In-Kontakt-Bringen des HCl-Gasstromes mit
einem Chlorid des Siliciums oder eines Metalles mit einer Wertigkeit
von mindestens vier. Das Chlorid ist vorzugsweise auf
einem festen Träger immobilisiert.
Es ist gewöhnlich schwierig, Wasserspuren aus HCl zu entfernen,
da HCl reaktiver als Wasser und hygroskopisch ist. Silicium
und bestimmte Metalle mit hoher Wertigkeit reagieren
jedoch leichter mit Oxidliganden als mit Chlorliganden. Solche
Metalle schließen beispielsweise Ti, Zr und W ein. Typische
Reaktionen umfassen die folgenden:
WCl₆ + 3 H₂O → WO₃ + 6 HCl (1)
SiCl₄ + 2 H₂O → SiO₂ + 4 HCl (2)
SiCl₄ + 2 H₂O → SiO₂ + 4 HCl (2)
Andere geeignete Chloride umfassen, ohne darauf beschränkt zu
sein, TiCl₄ und ZrCl₄.
Für manche Anwendungen wird es vorteilhaft sein, die erfindungsgemäßen
Trocknungsmittel bei einer niedrigen Temperatur
einzusetzen, die oberhalb des Siedepunktes von HCl liegt. Die
Gleichgewichtskonstanten werden für die Entfernung von Wasser
größer sein, wenn die Temperatur niedrig ist. Dieser Effekt
ist für Trocknungsmittel wichtig, die bei Raumtemperatur eine
niedrige Gleichgewichtskonstante besitzen, z. B. WCL₆. Ein anderer
Effekt der niedrigen Temperatur ist die Senkung des
Dampfdrucks von flüssigen Trocknungsmitteln wie SiCl₄ und
TiCl₄, die bei Raumtemperatur einen hohen Dampfdruck
besitzen. Der hohe Dampfdruck kann dazu führen, daß Metall-
oder Siliciumverbindungen in den gereinigten HCl-Strom
emittiert werden.
Feste Trocknungsmittel wie WCl₆ und ZrCl₄ können an einem
festen Träger wie z. B. einem makrovernetzten Styroldivinylbenzolpolymeren
adsorbiert sein, um die Oberfläche des
Trocknungsmittels zu vergrößern.
Der Dampfdruck der flüssigen Chlorid-Trocknungsmittel kann gesenkt
werden, ohne daß die Temperatur auf weniger als Raumtemperatur
erniedrigt wird, indem das Chlorid auf einem festen
Träger mit freien -OH-Gruppen oder -OM′-Gruppen auf seiner
Oberfläche immobilisiert wird, wobei M′ ein Alkali- oder Erdalkalimetall
ist. Solche Träger umfassen anorganische Träger
mit großer Oberfläche wie Aluminiumoxid und Siliciumdioxid.
Auch Polymere mit einer funktionellen Gruppe, die mit dem
Chlorid reagieren kann, z. B. Polyvinylalkohol, können als
Träger eingesetzt werden. Die Immobilisierung findet entsprechend
der folgenden Gleichung statt, in der SiCl₄ als Beispiel
verwendet wird:
SiCl₄ + HOMO₃ → Cl₃SiOMO₃ + HCl (3)
worin HOMO₃ eine Metalloxid- oder eine -hydroxidoberfläche
darstellt. Auf Aluminiumoxid immobilisiertes SiCl₄ ist das
bevorzugte Trocknungsmittel. Die flüssigen Chlorid-Trocknungsmittel
können direkt mit dem festen Träger umgesetzt
werden, oder sie können erwärmt werden, um sie vor dem
Kontakt mit dem Träger zu verdampfen. Wenn der Träger mit
einem gasförmigen Chlorid umgesetzt wurde, sollte der mit dem
immobilisierten Chlorid auf seiner Oberfläche beladene Träger
anschließend mit heißem HCl-Gas behandelt werden, um alles
nur schwach gebundene Chlorid auszutreiben.
Für Anwendungen, bei denen die Emission von Metall- oder Siliciumverbindungen
in den gereinigten Gasstrom nachteilig wäre,
empfiehlt es sich, vor dem Kontakt mit dem HCl-Strom das Aluminiumoxid
mit dem immobilisierten Chlorid auf seiner Oberfläche
17 Stunden lang unter Stickstoff auf eine Temperatur von
etwa 190°C zu erhitzen. Diese Hitzebehandlung wird jegliche
schwach gebundenen Metall- oder Siliciumchloride austreiben.
Die Kapazität des Aluminiumoxid-Trocknungsmittels beträgt
typischerweise etwa 2 Liter Wasserdampf pro Liter Trockenbett.
Der gereinigte Gasstrom kann anschließend durch eine
nachgeschaltete Falle gleitet werden, die aktiviertes Aluminiumoxid
enthält, um jegliche verbliebenen Spuren von
Silicium- oder Metallverbindungen zu entfernen. So beträgt
beispielsweise die Silicium-Menge in dem gereinigten
HCl-Strom nach Durchleiten durch ein hitzebehandeltes
SiCl₄/Al₂O₃-Trocknungsmittel und durch eine nachgeschaltete
Falle mit aktiviertem Aluminiumoxid typischerweise weniger
als 0,05 ppm (gemessen mittels Atomabsorption nach Durchleiten
des HCl-Stromes durch 100 ml Wasser). Das in der nachgeschalteten
Falle eingesetzte Aluminiumoxid wird vorzugsweise
vor der Verwendung in einem Stickstoffstrom 17 Stunden
lang auf etwa 190°C erhitzt und dann abgekühlt.
Der Wassergehalt des gereinigten Gasstromes beträgt weniger
als ein ppm und vorzugsweise weniger als 0,5 ppm.
Die Entfernung von Feuchtigkeit aus einem HCl-Gasstrom zur
Reduzierung von Oxidationsreaktionen auf ein Minimum ist in
der Halbleiterindustrie von Bedeutung. Beispielsweise wird
von Feuchtigkeit freies HCl zur Reinigung von Öfen benötigt,
die bei der Herstellung von Halbleiterplatten verwendet
werden, um eine nachfolgende Kontamination der Platten zu verhindern,
und es wird bei der Ätzung von Siliciumplatten benötigt,
um die Bildung von Oxiden auf der Plattenoberfläche
zu verhindern. Wasserfreies, gasförmiges HCl wird für die
Umwandlung von Ferrosilicium (FeSi) in HSiCl₃ verwendet, welches
wiederum für die Herstellung von Siliciumplatten eingesetzt
wird. Das Verhindern der Korrosion von Rohrleitungen,
die für den Transport von HCl verwendet werden, ist ebenfalls
eine wichtige Erwägung.
Saures Al₂O₃ (Woelm® A, Akt. 1, hergestellt von Woelm Pharma
GmbH & Co.) wird in einen 150 ml Probe fassenden Zylinder aus
rostfreiem Stahl gepackt. Das Aluminiumoxid wird unter einem
N₂-Strom bei 200°C 10 Stunden lang getrocknet.
Ein mit Siliciumtetrachlorid funktionalisiertes Aluminiumoxid-
Trocknungsmittel wird wie folgt hergestellt. Durch das
Bett aus getrocknetem Al₂O₃ wird eine Lösung von 30 Vol.-%
SiCl₄ in Hexan geleitet, und man beläßt das SiCl₄ mindestens
eine Stunde in Kontakt mit dem Trockenbett. Dann wird das
Bett mit dem vierfachen Bettvolumen an getrocknetem Hexan gewaschen.
Die Probe wird bei 65°C unter einem N₂-Strom getrocknet, um
das Hexan auszutreiben. Das funktionalisierte Aluminiumoxid
wird anschließend 17 Stunden lang bei 190°C gehalten, um
flüchtige Bestandteile auszutreiben.
Ein Teil des hitzebehandelten Trocknungsmittels wird in ein
4″-Polymerrohr gegeben. Durch die Probe wird N₂ geleitet.
Man findet mit Drei-Farben-pH-Papier keine Acidität. Dann
läßt man N₂ durch Wasser in einem 4″-Polymerrohr perlen und
leitet das mit Wasser beladene Gas durch das
Trocknungsmittel. Das entweichende Gas wird sauer, was anzeigt,
daß das SiCl₄ in der Lage ist, der Gleichung (2) entsprechend
Feuchtigkeit aus dem Gasstrom zu entfernen.
Ein mit Siliciumtetrachlorid funktionalisiertes Al₂O₃-Trocknungsmittel
wird hergestellt und untersucht wie in Beispiel
1, mit der Ausnahme, daß man durch das getrocknete Aluminiumoxid
unverdünntes SiCl₄ anstelle einer Lösung von SiCl₄ in
Hexan leitet. Man läßt die Reaktionsmischung mindestens eine
Stunde lang stehen, bevor man sie erhitzt, um flüchtige
Bestandteile auszutreiben.
Saures Aluminiumoxid wird in ein 3,79 l (1 Gallone) fassendes
Reaktionsgefäß aus rostfreiem Stahl gepackt. Das Aluminiumoxid
wird bei 190°C unter einem N₂-Strom über Nacht
getrocknet.
Ein mit Siliciumtetrachlorid funktionlisiertes Aluminiumoxid-
Trocknungsmittel wird folgendermaßen hergestellt: Siliciumtetrachlorid
(250 ml) wird über eine Kanüle in eine auf
eine Temperatur von 57°C erwärmte Gaswaschflasche überführt.
Durch das erwärmte SiCl₄ wird solange Stickstoff geleitet,
bis alles SiCl₄ verdampft und durch das Aluminiumoxid im
Reaktionsgefäß geströmt ist. HCl-Gas, das mittels Durchleiten
durch eine Vorheizschlange erwärmt wurde, wird anschließend
fünf Stunden lang durch das mit SiCl₄ funktionalisierte
Aluminiumoxid geleitet, um alles schwach gebundene SiCl₄
auszutreiben. Das Trocknungsmittel wird dann bei einer
Temperatur von 190°C mindestens acht Stunden lang unter einem
Stickstoffstrom belassen, um überschüssiges HCl zu entfernen.
Die Kapazität von mit SiCl₄ funktionalisiertem Aluminiumoxid-
Trocknungsmittel zur Entfernung von Wasser aus einem
Gasstrom wird mit Hilfe des folgenden Verfahrens bestimmt.
Man läßt N₂ durch auf 24°C gehaltenes Wasser perlen. Der
Dampfdruck von Wasser dieser Temperatur beträgt 24 mm Hg. Das
feuchte N₂ wird mit einer Geschwindigkeit von 200 ml pro
Minute durch eine 30 ml-Probe des Trocknungmittels in einem
Polymerrohr geleitet. Das Gas, das aus dem das Trocknungsmittel
enthaltenden Rohr entweicht, wird durch 200 ml Wasser
geleitet. Das Gas wird durch ein Teflonrohr zugeführt, da
eine Leitung aus rostfreiem Stahl Erdungsprobleme an der
pH-Elektrode hervorruft. Die H⁺-Konzentration des Wassers
wird mit einem pH-Meter als Funktion der Zeit gemessen. Die
Durchflußgeschwindigkeit des feuchten N₂ beträgt 0,302
Norm-Liter pro Minute. Kennt man das Volumen der Wasserfalle,
das Volumen des Trockenbettes und die Endkonzentration der
Protonen in der Wasserfalle, kann man die Kapazität des
Trockenbettes ausrechnen. Die Kapazitäten der verschiedenen
Ausführungsformen der SiCl₄/Al₂O₃-Trocknungsmittel sind wie
folgt:
TrocknungsmittelKapazität
(Liter H₂O-Dampf/Liter
Trockenbett)
(Liter H₂O-Dampf/Liter
Trockenbett)
SiCl₄ in Hexan1,95
SiCl₄ in Hexan,
hitzebehandelt2,6 Unverdünntes SiCl₄5,5 Unverdünntes SiCl₄,
hitzebehandelt2
hitzebehandelt2,6 Unverdünntes SiCl₄5,5 Unverdünntes SiCl₄,
hitzebehandelt2
Ein Strom von trockenem HCl-Gas wird so mit Stickstoff, der
eine bekannte Menge Feuchtigkeit enthält, gemischt, daß der
HCl-Gasstrom 5 ppm Wasser enthält. Der HCl-Gasstrom wird dann
unter einer Atmosphäre Druck durch eine 500 ml fassende Säule
mit dem hitzebehandelten SiCl₄/Al₂O₃-Trocknungsmittel geleitet,
das wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt wurde. Die
Durchflußgeschwindigkeit des HCl-Gases durch die Säule
beträgt das 160-fache an Gasvolumen, bezogen auf das Trockenbettvolumen,
pro Stunde, und das Verfahren wird bei Raumtemperatur
durchgeführt. Der Feuchtigkeitsgehalt des entweichenden
Gases wird für einen Zeitraum von zwei Stunden in halbstündigen
Abständen gemessen. Dieses Verfahren wird unter Verwendung
von HCl-Gasströmen mit 13 und 37 ppm Wasser wiederholt.
Das Verfahren wird nochmals wiederholt, wobei ein Gasstrom
mit 20 ppm Wasser eingesetzt wird, wobei jedoch die
Durchflußgeschwindigkeit auf das 760-fache an HCl-Volumen,
bezogen auf das Trockenbettvolumen, pro Stunde gesteigert
wird. In jedem Fall ist der Feuchtigkeitsgehalt des HCl-Gasstromes
am Ende des zweistündigen Zeitraumes geringer als 0,1
ppm. Der Feuchtigkeitsgehalt des HCl-Gasstromes wurde wie in
Flatherty et al., Anal. Chem. (1986), 58, 1903-1904, beschrieben,
gemessen.
Makrovernetztes Styrol/Divinylbenzol-Polymeres (PSDVB-Polymeres)
(Amberlite XAD4, hergestellt von Rohm und Haas) wird mit
Wasser gewaschen und die Schwebepartikel werden durch Dekantieren
entfernt. Das Polymere wird nacheinander mit dem dreifachen
Bettvolumen Wasser, Methanol, Isopropylalkohol und
Hexan gewaschen. Luft wird etwa zwei Stunden lang durch das
Bett geblasen, um die Hauptmenge der Solventien zu entfernen.
Das luftgetrocknete Harz wird in ein Reaktionsgefäß aus rostfreiem
Stahl gepackt und unter einem Stickstoffstrom bei
110°C 10 bis 12 Stunden lang getrocknet.
Ein Trocknungsmittel mit WCl₆ auf einem Träger wird wie folgt
hergestellt: Das getrocknete PSDVB (25 g) wird mit WCl₆ (2,52 g)
in 50 ml getrocknetem Toluol vermischt. Ein Stickstoffstrom wird
bei 110°C über Nacht durch die Mischung geleitet, um das
Toluol zu entfernen.
PSDVB mit auf seiner Oberfläche adsorbiertem WCl₆ wird für
die Untersuchung in eine Bürette überführt. Trockener Stickstoff
wird durch das PSDVB-WCl₆-Trocknungsmittel geleitet.
Mit Drei-Farben-pH-Papier wird keine Acidität gefunden. Dann
läßt man N₂ durch Wasser in einem 4″-Polymerrohr perlen, und
das mit Wasser beladene Gas wird durch das Trocknungsmittel
geleitet. Das entweichende Gas wird sauer, was anzeigt, daß
das WCl₆ in der Lage ist, gemäß Gleichung (1) Feuchtigkeit
aus dem Gasstrom zu entfernen.
Claims (4)
1. Verfahren zum Verringern des Wassergehaltes eines
HCl-Gasstromes auf weniger als 1 ppm, welches das In-Kontakt-
Bringen des Gasstromes mit einem Chlorid des Siliciums oder
eines Metalles mit einer Wertigkeit von mindestens vier
umfaßt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, worin das Chlorid SiCl₄
ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, worin das SiCl₄ durch
Reaktion mit einem festen Träger immobilisiert ist.
4. Verfahren nach Anspruch 3, worin gasförmiges SiCl-₄
mit einem Aluminiumoxidträger umgesetzt ist.
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