DE3627232A1 - Fotometer - Google Patents
FotometerInfo
- Publication number
- DE3627232A1 DE3627232A1 DE19863627232 DE3627232A DE3627232A1 DE 3627232 A1 DE3627232 A1 DE 3627232A1 DE 19863627232 DE19863627232 DE 19863627232 DE 3627232 A DE3627232 A DE 3627232A DE 3627232 A1 DE3627232 A1 DE 3627232A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photometer according
- chopper
- detector
- light
- phase
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 24
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 17
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
- G01J1/16—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void using electric radiation detectors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
- G01J1/20—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle
- G01J1/34—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker
- G01J1/36—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker using electric radiation detectors
- G01J2001/363—Chopper stabilisation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J2001/4242—Modulated light, e.g. for synchronizing source and detector circuit
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/44—Electric circuits
- G01J2001/4413—Type
- G01J2001/4426—Type with intensity to frequency or voltage to frequency conversion [IFC or VFC]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/42—Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N2021/1738—Optionally different kinds of measurements; Method being valid for different kinds of measurement
- G01N2021/1742—Optionally different kinds of measurements; Method being valid for different kinds of measurement either absorption or reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
- G01N2021/8427—Coatings
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/08—Optical fibres; light guides
- G01N2201/082—Fibres for a reference path
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/08—Optical fibres; light guides
- G01N2201/084—Fibres for remote transmission
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/12—Circuits of general importance; Signal processing
- G01N2201/127—Calibration; base line adjustment; drift compensation
- G01N2201/12746—Calibration values determination
- G01N2201/12753—Calibration values determination and storage
Description
Die Erfindung betrifft ein Fotometer nach dem Oberbegriff des Patent
anspruchs 1.
Fotometer werden vielfach für die Messung von Transmissionen oder Re
flexionen verwendet. Eine bekannte Anwendung von Fotometern ist die
Messung der Dicke von aufgedampften Schichten auf Glasscheiben oder
dergleichen. Diese Schichten sind sehr dünn und liegen in der Größenord
nung von Lichtwellenlängen, was ihre Messung erschwert.
Um derart dünne Schichtdicken zu messen, ist es bekannt, Fotometer
nach dem 2-Phasen-Zerhacker-Prinzip zu verwenden, bei dem eine Dun
kelphase und eine Meßphase unterschieden wird. Während der Meßphase
werden hierbei ein Meßdetektor und über einen Strahlerteiler ein Re
ferenzdetektor beleuchtet. Der Referenzdetektor mißt "weißes Licht",
während der Meßdetektor über ein dispersives Element monochromatisches
Licht mißt. Nachteilig ist hierbei, daß die Signale von zwei unterschied
lichen Detektoren aufgenommen werden, deren Driften ungehindert auf
das Meßsignal einwirken. Außerdem detektiert die Referenzzelle ohne ein
vorheriges dispersives Element "weißes Licht", während das Meßsignal
durch ein dispersives Element monochromatisch gemessen wird. Änderun
gen der Farbtemperatur der Lampe werden somit nur mangelhaft berück
sichtigt, was zu Langzeitdriften von 5%-15% führen kann.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, die vorstehend genann
ten Nachteile zu beseitigen.
Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst.
Der mit der Erfindung erzielte Vorteil besteht insbesondere darin, daß es
möglich ist, fotometrische Messungen in einer Vakuumbeschichtungsan
lage mit hoher Langzeitstabiltät durchzuführen. Durch den Einsatz von
Lichtleitern in Verbindung mit dem Dreiphasen-Zerhacker kann ein Zwei
strahlprinzip in einer Anlage realisiert werden. Bei der herkömmlichen
Zweistrahltechnik werden Umlenkspiegel benötigt, die bei einer Vakuum
beschichtungsanlage nicht eingesetzt werden können.
Da die Messung von Meß- und Referenzlicht mit demselben Detektor er
folgt, werden die Lichtquellen- und die Detektordrift kompensiert.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und
werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine Prinzipdarstellung des erfindungsgemäßen Fotometers;
Fig. 2 eine Zerhacker-Anordnung in einer ersten Position;
Fig. 3 die Zerhacker-Anordnung gemäß Fig. 2 in einer zweiten Position;
Fig. 4 die Zerhacker-Anordnung gemäß Fig. 2 in einer dritten Position;
Fig. 5 eine perspektivische Ansicht der in den Fig. 2-4 dargestellten
Zerhacker-Anordnung;
Fig. 6 eine zweiarmige Leitleitervorrichtung, deren einer Arm das Signal
vom Meßobjekt aufnimmt und dessen anderer Arm ein Referenz
signal enthält;
Fig. 7 einen ummantelten Lichtleiter, dessen eines Ende zur Beleuchtung
des Meßobjekts dient und dessen anderes Ende ein zerhacktes
Lichtsignal empfängt;
Fig. 8 ein erstes Ende eines Lichtleiters mit kreisrundem Faserbündel,
welches das auf ein Meßobjekt gegebene und vom Meßobjekt
kommende Licht aufnimmt bzw. abgibt;
Fig. 9 ein zweites Ende des Lichtleiters gemäß Fig. 8 mit einem recht
eckigen Lichtleitfaserbündel;
Fig. 10 eine Kombination von Lichtleiterfaserbündeln in einem recht
eckigen Querschnitt, wobei das mittlere Lichtleitfaserbündel Licht
abgibt;
Fig. 11 die in der Fig. 10 gezeigte Kombination der Lichtleitfaserbündel,
wobei die beiden äußeren Bündel Licht abgeben;
Fig. 12 zwei in Einzelbündel aufgeteilte Lichtleitfaserbündel, deren Einzel
bündel ineinandergeschachtelt sind; wobei die Einzelbündel des
einen Lichtleitfaserbündels Licht abgeben;
Fig. 13 die beiden Lichtleitfaserbündel gemäß Fig. 12, wobei die Einzel
bündel des anderen Lichtleitfaserbündels Licht abgeben;
Fig. 14 den Lichtintensitätsverlauf über der Zeit;
Fig. 15 ein Blockschaltbild eines Meßverstärkers;
Fig. 16 ein Blockschaltbild einer digitalen, phasensynchronen Gleichrich
terschaltung;
Fig. 17 ein Übersichtsblockschaltbild eines Mikroprozessors mit verschie
denen Anschaltungen;
Fig. 18 Zeitdiagramme einer digitalen, phasensynchronen Gleichrichter
schaltung für drei Phasen.
In der Fig. 1 ist eine Prinzipanordnung eines erfindungsgemäßen Foto
meters 1 dargestellt. Dieses Fotometer 1 ist mit einer Meßkammer 2 ver
bunden und weist einen Meßwandler 4 und eine Signalverarbeitung 4 auf.
In der Meßkammer 2, die beispielsweise die Vakuumkammer einer Be
schichtungsanlage ist, befindet sich eine Verdampferquelle 5, die Metall
oder Metalloxid-Dämpfe aussendet, welche sich auf einem Testglas 6
oder ein sonstiges Substrat niederschlagen. Dieses Testglas 6 befindet
sich zwischen zwei Öffnungen 7, 8 in der Meßkammer 2, wobei diese Öff
nungen durch jeweils eine optische Linse 9 bzw. 10 abgeschlossen sind.
Außerhalb der Meßkammer 2 und in geringem Abstand von den Linsen 9,
10 sind die Enden von Lichtleiterbündeln 11, 12 angeordnet, die durch
flexible Metallrohre 13, 14 ummantelt sind. Das im Metallrohr 13 befind
liche Lichtleiterbündel ist einer Zerhacker-Einrichtung 15 zugeführt. Die
se Zerhacker-Einrichtung besteht aus einer Zerhacker-Kammer 16 mit
zwei Wänden 17, 18, wobei in die eine Wand 17 das zweite Ende des im
Metallrohr 13 befindlichen Lichtleiterbündels eingeführt ist. Dagegen ist
in die andere Wand 18 ein Referenz-Lichtleiterbündel 19 eingefügt, das
zu einem Bündelkoppler 20 führt, der mit dem Lichtleiterbündel im Me
tallrohr 14 verbunden ist. Dieser Bündelkoppler 20 ist mit einem Mono
chromator 22 verbunden, an den ein Detektor 23 angekoppelt ist. Zum
Antrieb von Strichgittern oder Interferenzfiltern im Monochromator 22 ist
ein Schrittmotor 24 vorgesehen, der von einem Leistungsteil 25 in der Si
gnalverarbeitung 4 gesteuert wird. Dieser Leistungsteil 25 wird seiner
seits von einer Verarbeitungseinrichtung 26 gesteuert, der u. a. die Si
gnale des Detektors 23 über einen Wandler 27 zugeführt werden. Diese
Verarbeitungseinrichtung 26 wird auch über eine Leitung 28 mit Infor
mationen einer Gabellicht-Schranke 42 beaufschlagt, welche den Ist-Wert
der Umdrehung einer Zerhacker-Scheibe 29 anzeigt. Diese Zerhacker-
Scheibe 29 ist auf einer Welle 30 angeordnet, auf der sich noch eine
zweite Zerhacker-Scheibe 31 befindet. Beide Zerhacker-Scheiben 29, 31
sind durch Distanzstücke 32, 33 voneinander getrennt und starr mit der
Welle 30 verbunden. Die Enden der Welle 30 sind in Lagern 34, 35 ge
lagert, wobei an dem einen Ende 36 ein Antriebsriemen 37 angreift, der
von einer Motorwelle 38 angetrieben wird. Diese Motorwelle 38 ist mit
einem Motor 39 verbunden, der von einer Motorsteuereinheit 40 angetrie
ben wird. Zwischen den beiden Zerhacker-Scheiben 29, 31 ist eine Lampe
41 angeordnet, welche Licht auf die Referenzstrecke und zeitversetzt
auf die Meßstrecke gibt.
Mit Hilfe der in der Fig. 1 dargestellten Anordnung kann die absolute
Reflexion oder Transmission der auf das Testglas 6 aufgedampften
Schicht mit hoher Langzeitstabilität gemessen werden. Dies geschieht da
durch, daß mit Hilfe der Zerhacker-Scheiben 29, 31 eine Meßphase, eine
Referenzphase und eine Dunkelphase erzeugt werden. Da hier Meß- und
Referenzphase zeitlich versetzt erfolgen, können beide Phasen mit dem
selben Detektor 23 und bei der gleichen Wellenlänge des Monochromators
22 gemessen werden. Die Meßphase wird durch das Lichtleiterbündel im
Metallrohr 13 sowie durch die Zerhacker-Scheibe 31 bestimmt, während
die Referenzphase durch das Lichtleiterbündel im Metallrohr 19 und durch
die Zerhacker-Scheibe 29 bestimmt wird.
Während der Meßphase wird ein Teil des Lichts der Lampe 41 über das
Lichtleiterbündel im Metallrohr 13 der Linse 9 zugeführt. Von dieser
gelangt es auf das Testglas 6 und über die Linse 10 in das Lichtbündel
12 im Metallrohr 14 sowie zum Bündelkoppler 20 und von dort in den
Monochromator 22. Im Monochromator 22 wird ein bestimmter Wellen
längenbereich des ankommenden Lichts ausgefiltert und dem Detektor 23
zugeführt. Dieser wandelt das optische Signal in ein elektrisches Signal
um und führt es einem Wandler 27 zu, der es nach entsprechender An
passung an die Verarbeitungseinrichtung 26 weitergibt.
Während der Referenzphase wird das Licht der Lampe 41 durch die Zer
hacker-Scheibe 29 auf das Lichtleitbündel im Metallrohr 19 freigegeben.
Es gelangt hierauf ebenfalls über den Bündelkoppler 20 auf den Mono
chromator 22 und wird von dort in derselben Weise wie das Licht in der
Meßphase über den Detektor 23 und den Wandler 27 dem Prozessor 26
zugeführt.
Auf diese Weise wird in einer ersten Phase das Licht der Lampe 41 in
einer durch die auf die Glasplatte 6 aufgedampften Schicht geschwächten
Form dem Detektor 23 zugeführt, während in einer zweiten Phase das un
geschwächte Licht der Lampe 41 dem Detektor 23 zugeführt wird. Für
bestimmte Anwendungsfälle kann auf den Monochromator 22 verzichtet
werden. Wenn es jedoch derart ankommt, die Wellenlängenabhängigkeit
der Transmission oder Reflexion zu erfassen, kann auf den Monochroma
tor oder ein anderes dispersives Element verzichtet werden.
Da in beiden Phasen dieselbe Lampe 41 und derselbe Detektor 23 ver
wendet werden, wirken sich Alterserscheinungen und Temperaturdriften
von Lampe 41 und/oder Detektor 23 in gleicher Weise auf beide Phasen
aus, d. h. die Fehler kompensieren sich.
Die Dunkelphase dient zur Kompensation von Fehlern, die durch Fremd
lichteinflüsse und/oder durch Driften: von elektronischen Verstärkern ent
stehen. Es werden also stets die Differenzen zwischen Meß- und Dunkel
phase bzw. von Referenz- und Dunkelphase ausgewertet. Das Verhältnis
zwischen den so ermittelten Meß- und Referenzwerten ist somit ein unver
fälschtes Maß für die Reflexion bzw. Transmission der auf die Glasplatte
6 aufgedampften Schicht.
Der Einsatz des Monochromators 22 ist insbesondere dann unerläßlich,
wenn die aufwachsende optische Schichtdicke gemessen wird, d. h. wenn
die optische Intensität bei einer bestimmten Wellenlänge nach einer be
stimmten Funktion verläuft.
In der Fig. 2 ist eine erste Konstellation zwischen den Zerhacker-Schei
ben 29, 31 dargestellt. Man erkennt hierbei, daß die Zerhacker-Scheibe 29
einen Ausschnitt aufweist, der etwa 120° innerhalb eines äußeren Kreis
rings ausmacht. Das Ende 44 des im Metallrohr 13 befindlichen Glasfa
serbündels ist hinter der Zerhacker-Scheibe 29 gestrichelt dargestellt.
Der Zerhacker-Scheibe 31 weist ebenfalls einen Ausschnitt von etwa 120°
in einem äußeren Kreisring auf. Dieser Ausschnitt befindet sich an der
mit 45 bezeichneten Stelle. Bei dieser Konstellation wird das Referenz
licht gesperrt und das Meßlicht freigegeben.
Die Fig. 3 zeigt eine zweite Konstellation zwischen den Zerhacker-Schei
ben 29, 31. Der Ausschnitt in der Zerhacker-Scheibe 29 befindet sich
hierbei an der mit 46 bezeichneten Stelle, während sich der Ausschnitt
in der Zerhacker-Scheibe 31 an der mit 47 bezeichneten Stelle befindet.
In dieser Stellung wird der Meßwert gesperrt und der Referenzwert frei
gegeben.
In der Fig. 4 ist eine dritte Konstellation zwischen den Zerhacker-Schei
ben 29, 31 gezeigt, wobei sich der Ausschnitt in der Zerhacker-Scheibe
29 an der Stelle 48 befindet. Dagegen befindet sich der Ausschnitt in der
Zerhacker-Scheibe 31 an der Stelle 49.
Hierbei werden sowohl der Meßwert als auch der Referenzwert gesperrt;
d. h. es herrscht Dunkelphase.
In der Fig. 5 ist die in den Fig. 2, 3, 4 gezeigte Zerhacker-Vorrichtung
noch einmal in perspektivischer Ansicht dargestellt. Man erkennt hierbei
die Enden der Metallrohre 13, 19, die Lampe 41 sowie die Zerhacker-
Scheiben 29, 31. Da die beiden Zerhacker-Scheiben 29, 31 jeweils eine Aus
sparung von 120° aufweisen, die relativ zueinander so angeordnet sind,
daß sie sich nicht überlappen, kann eine Phase erreicht werden, in der
das Licht der Lampe 41 sowohl zum Ende 44 als auch zum Bündel des
Rohrs 19 abgeriegelt wird.
Die Fig. 6 zeigt eine Variante des Bündelkopplers 20 mit den beiden
flexiblen Metallrohren 19, 14, in denen sich die lichtleitenden Glasfaser
bündel befinden.
Die Enden dieser Metallrohre 14, 19 sind an zylindrische Verbindungsbuch
sen 50, 51 angeschlossen.
Die Fig. 7 zeigt ein Metallrohr 13, das an seinen beiden Enden mit
zylindrischen Verbindungsbuchsen 52, 53 versehen ist.
In der Fig. 8 ist eine Verbindungsbuchse gezeigt, die den Verbindungs
buchsen 51, 52 in den Fig. 6 bzw. 7 entspricht. In dieser Verbindungs
buchse 51, 52 ist das Ende des kreisrunden Glasfaserbündels 11, 12 zu er
kennen.
Die Fig. 9 zeigt eine Verbindungsbuchse, die den Verbindungsbuchsen 50,
53 in den Fig. 6 bzw. 7 entspricht. Die in den Fig. 6 bzw. 7 dar
gestellten Verbindungsbuchsen 50, 53 müssen nicht identisch sein; sie sind
in der Regel jedoch ähnlich, so daß sie beide durch die eine Darstellung
der Fig. 9 repräsentiert werden. Das Glasfaserbündel 44 hat hier eine
rechteckige Form, die für die Einkopplung der Lichtleistung von Lampe
und Lichtleiter oft vorteilhaft ist. Bei Verwendung einer Halogenlampe
wird dadurch der Lichtleiterbündelquerschnitt dem Querschnitt des
Lampenwendels angepaßt.
In der Fig. 10 ist der Bündelkoppler 20 dargestellt, der einen recht
eckigen Schlitz 57 aufweist, in dem das Ende des Lichtleitfaserbündels 58
angeordnet ist, das sich im Metallrohr 19 befindet. Auf beiden Seiten
des Bündels 58 befindet sich je eine Hälfte 59, 60 des Bündels, welches
aus der Verbindungsbuchse 51 (Fig. 6) kommt. Durch die Darstellung
der Fig. 10 soll angedeutet werden, daß nur das Bündel 58 Licht ab
strahlt, während die Bündelhälften 59, 60 kein Licht abstrahlen.
Die Darstellung der Fig. 11 unterscheidet sich von der Darstellung der
Fig. 10 dadurch, daß jetzt die Bündelhälften 59, 60 Licht abgeben, wäh
rend das Bündel 58 inaktiv ist. Die Fig. 10 zeigt also die Referenzphase,
während die Fig. 11 die Meßphase zeigt.
In den Fig. 12 und 13 sind zwei Lichtleitbündel dargestellt, die in jeweils
vier Teillichtbündel 61, 62, 63, 64 bzw. 65, 66, 67, 68 aufgeteilt und ineinander
geschachtelt sind. In der Fig. 12 geben die Teillichtbündel 61-64 Licht
ab, während die Teillichtbündel 65-68 inaktiv sind. Bei der Darstellung
der Fig. 13 sind die Verhältnisse gerade umgekehrt. Beide Lichtbündel
zusammen füllen den Schlitz 57 aus.
In der Fig. 14 ist die Lichtintensität I in Abhängigkeit von der Zeit dargestellt.
Es handelt sich hierbei um die vom Detektor 23 erfaßte Lichtintensität.
Zwischen t₀ und t₁ wird das Referenzsignal I REF erfaßt,
das in diesem Beispiel die höchste Amplitude hat. Hieran anschließend,
d. h. zwischen t₁ und t₂, wird das Meßsignal I MEß erfaßt, das beispielsweise
durch die Aufdampfung eines Materials auf der Scheibe 6 geschwächt
ist. Während der Zeit t₂ bis t₃ liegt eine Dunkelphase vor, so
daß nur noch die Restlichtstärke I REST detektiert wird. Bei dieser Restlichtstärke
kann es sich um Streulicht, beispielsweise von der Verdampferquelle
5 handeln.
Das vom Detektor 23, bei dem es sich um ein Siliziumelement handeln
kann, abgegebene Spannungssignal wird digitalisiert, um es anschließend
mit numerisch im voraus berechneten I/t-Kurven vergleichen und um automatisch
die optimale Verstärkung von I REF , I MEß und I REST einstellen
zu können. Durch die Verwendung eines Spannungs-Frequenz-Umsetzers
bei der Digitalisierung kann eine hohe Auflösung erreicht werden.
In der Fig. 15 ist ein Blockschaltbild eines Meßverstärkers 27 für das
Ausgangssignal des Detektors 23 gezeigt, mit dem die Spannung in eine
entsprechende Frequenz umgewandelt wird. Der Ausgang des Detektors
23 ist mit einem ersten Vorverstärker 100 verbunden, dessen Ausgang an
dem Eingang eines zweiten Vorverstärkers 101 liegt. Der Ausgang dieses
zweiten Vorverstärkers 101 ist auf einen Spannungs-Frequenz-Wandler
102 gegeben, der die Amplitude der Ausgangsspannung des Vorverstärkers
101 in eine proportionale Frequenz umwandelt. Am Ausgang des Span
nungs-Frequenz-Wandlers 102 steht somit ein Signal an, dessen Frequenz
der Meßgröße entspricht.
An dem Verbindungspunkt 103 zwischen den Verstärkern 100 und 101
wird ein Signal abgegriffen, das einem Spannungs-Frequenz-Wandler 104
zugeführt und in ein frequenzproportionales Signal umgewandelt wird. Die
Verstärkungen der Verstärker 100 bzw. 101 können von der Verarbeitungs
einrichtung 26 über die Leitungen 105 bzw. 106 eingestellt werden.
Bei dem Block 71 handelt es sich um eine Schaltungsanordnung, welche
ein Signal gegenschaltet, daß z. B. zur Kompensation von Pegelüberschrei
tungen dient.
Die Fig. 16 zeigt das Blockschaltbild eines Lock-in-Verstärkers für drei
Phasen. Dieser Lock-in-Verstärker kann Teil der Verarbeitungseinrichtung
26 sein. Es weist eine PLL-Schaltung 107 auf, die über die Leitung 28
mit einem Triggersignal von der Lichtschranke 42 des Zerhackers beauf
schlagt wird. Diese PLL-Schaltung 107 weist vier Ausgänge 109, 110, 111,
112 auf, von denen der Ausgang 109 die Referenzphase, der Ausgang 110
die Meßphase und der Ausgang 111 die Dunkelphase bezeichnet. Der Aus
gang 112 gibt das Ende der Zerhackerphase an. Die Ausgänge der PLL-
Schaltung 107 sind mit Zählerschaltungen 113, 114, 115 verbunden, und zwar
in der Weise, daß die Ausgänge 110, 111 mit dem Zähler 113, die Aus
gänge 109, 110 mit dem Zähler 114 und der Ausgang 112 mit dem Zähler
115 verbunden sind. Der Zähler 113 zählt in der Meßphase hoch und in
der Dunkelphase herunter. Dagegen zählt der Zähler 114 in der Referenz
phase hoch und in der Dunkelphase herunter. Der Zähler 115 zählt die
Zerhackerumdrehungen.
Dem CL-Eingang 116 des Zählers 113 wird das Ausgangssignal des
Spannungs-Frequenz-Wandlers 102 zugeführt. Der Read-Eingang des
Zählers 113 ist dagegen mit einer Schnittstelle zum Mikroprozessor 118
verbunden. Zwischen diesem Mikroprozessor und dem Zähler 113 findet
über den Kanal 119 ein Informationsaustausch während der Meß- und
Dunkelphase statt.
Dem CL-Eingang des Zählers 114 wird über eine Leitung 120 ein Inten
sitätssignal zugeführt, das dem Referenzsignal-Dunkelstrom entspricht,
d.h. dem Ausgangssignal am Spannungs-Frequenz-Wandler 104. Auf den
Read-Eingang dieses Zählers 114 wird über die Leitung 121 ein Signal
aus dem Prozessor 118 zugeführt. Außerdem ist der Zähler 114 über einen
Kanal 122 mit dem Kanal 119 verbunden. Eine Verbindung zu den Kanä
len 122, 119 wird durch einen Kanal 123 auch zu dem Zähler 115 herge
stellt. Über den Kanal 123 wird die Anzahl der zu messenden Zerhacker
perioden programmiert. Der Schreib-Eingang 124 des Zählers 115 ist mit
dem Prozessor 118 verbunden. Von dem Ausgang 125 des Zählers 115
werden die Reset-Eingänge 126, 127 der Zähler 113, 114 beaufschlagt. Eine
Average-Leitung 128 verbindet einen Ausgang des Zählers 115 mit dem
Prozessor 118 und zeigt an, wenn ein vorprogrammiertes Interball beendet
ist.
Die Fig. 17 ist eine übergeordnete Darstellung und zeigt das Blockschalt
bild einer Fotometerplatine, die einen Mikroprozessor 118 mit einem
RAM/EPROM-Speicher aufweist, der beispielsweise über einen Kanal 130
mit einem nicht dargestellten Rechnerkreis verbunden ist. Mit 131 ist ein
Dreiphasen-Lock-in-Verstärker bezeichnet, der im wesentlichen der Anord
nung gemäß Fig. 16 entspricht und der drei Eingänge 116, 126, 25 und einen
Ausgang 105, 106 besitzt. Dieser Ausgang 105, 106 beinhaltet ein Signal für
einen Verstärkungsfaktor.
Eine Schrittmotor-Steuerung 136 weist einen Eingang 137 und zwei Aus
gänge 138, 139 auf, die auf das Leistungsteil 25 führen. Auf dem Eingang
137 erscheint ein Signal von einer Lichtschranke im Monochromator 22.
Dieses Lichtschrankensignal ermöglicht eine automatische Kalibrierung der
Wellenlänge des Monochromators 22. Das Signal für die Motorfrequenz
wird von der Steuerung 136 auf die Leitung 138 gegeben. Die Drehrich
tung dieses Motors wird jedoch über die Leitung 139 festgelegt. Mit 140
ist eine Einrichtung bezeichnet, in die über einen Kanal 141 Informatio
nen parallel eingegeben werden können, um eine Frontplattentastatur ein
zusetzen. Für die serielle Eingabe von Informationen über einen Kanal 143
ist eine entsprechende Einrichtung vorgesehen. Schließlich ist mit 144 ein
Schreiberausgang bezeichnet, der über die Leitung 145 mit einem Schrei
ber verbunden ist. Alle Einrichtungen 131, 136, 140, 142, 144 sind über Ka
näle mit dem Mikroprozessor 118 verbunden.
Die Fig. 18 zeigt ein Zeitdiagramm eines Dreiphasen-Lock-in-Verstärkers.
Das Diagramm bei A stellt den Trigger der Lichtschranke (28, 42 in Fig. 1)
dar, während das Diagramm bei B die Impulse der Referenzphase dar
stellt (109 in Fig. 16). Die Meßphase wird durch die Impulse bei C ange
deutet (111 in Fig. 16), und die Impulse der Dunkelphase sind bei D (110
in Fig. 16) angegeben. Das Zerhacker-Phasenende ist durch die Impulse bei
E gezeigt (112 in Fig. 16), während F den Zählerstand des Referenzsignals
anzeigt. Der Zählerstand des Meßsignals ist bei G dargestellt, und das
Ende des Meßzyklus ist durch die Impulse bei Ha angegeben. Die Zähler-
Reset-Impulse sind bei I dargestellt.
Claims (18)
1. Fotometer, bei dem mittels eines Zerhackers eine Meßphase, eine
Referenzphase und eine Dunkelphase erzeugt werden, wobei diese ver
schiedenen Phasen zeitlich versetzt sind, so daß für alle Phasen ein ein
ziger Detektor vorgesehen sein kann, dadurch gekennzeichnet, daß eine
erste und eine zweite Lichtleitvorrichtung (13, 14) vorgesehen sind, zwi
schen deren jeweils einem Ende (11, 12) das zu messende Objekt (6) vor
gesehen ist, daß das andere Ende der zweiten Lichtleitvorrichtung (14)
dem Detektor (23) gegenüberliegt, daß eine dritte Lichtleitvorrichtung
(19) vorgesehen ist, die mit ihrem einen Ende dem Detektor (23) gegen
überliegt und die mit ihrem anderen Ende mit einem Zerhacker (17, 18, 29,
31, 41) verbunden ist, der auch mit dem anderen Ende der ersten Licht
leitvorrichtung (13) in Verbindung steht.
2. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Zerhak
ker (17, 18, 29, 31, 41) eine Lichtquelle (41) aufweist, die sich zwischen
einer ersten Zerhacker-Scheibe (29) und einer zweiten Zerhacker-Scheibe
(31) befindet.
3. Fotometer nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zerhak
ker-Scheiben (29, 31) jeweils Aussparungen von 120° aufweisen.
4. Fotometer nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß sich
die Aussparungen der Zerhacker-Scheiben (29, 31) nicht überlappen.
5. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Meßsi
gnal und ein Referenzsignal über ein dispersives Element (22) zwecks Be
stimmung der Meßwellenlänge dem Detektor (23) zugeführt sind.
6. Fotometer nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Antrieb
(24) vorgesehen ist, der das dispersive Element (22) bewegt.
7. Fotometer nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zerhak
ker-Scheiben (29, 31) von einem Motor (39) angetrieben werden, der von
einer Steuereinrichtung (40) gesteuert wird.
8. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausgangs
signale des Detektors (23) mit Hilfe eines Prozessors (26) ausgewertet
werden.
9. Fotometer nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Antrieb
(24) in Abhängigkeit von der gewünschten Meßwellenlänge gesteuert wird.
10. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Lichtleit
vorrichtungen (13, 14, 19) Bündel von Lichtleitfasern vorgesehen sind.
11. Fotometer nach den Ansprüchen 1 und 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die Enden zweier Lichtleitfasern (14, 19) räumlich derart zusammen
gefaßt sind, daß die Gesamtfläche einem Monochromator-Eintrittsspalt an
gepaßt ist.
12. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Messung
des Transmissions-Grads des Objekts (6) dieses Objekt (6) auf der direk
ten Verbindungslinie zwischen den Enden (11, 12) der Lichtleitvorrichtun
gen (13, 14) angeordnet ist.
13. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Messung
des Reflexionsgrads des Objekts (6) das Ende (12) der Lichtleitvorrich
tung (14) an derjenigen Stelle angeordnet ist, wohin das Licht vom Ob
jekt (6) reflektiert wird.
14. Fotometer nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß sich das
eine Ende (58) eines Lichtleitfaserbündels zwischen dem in zwei Hälften
(59, 60) aufgespaltenen einen Ende eines anderen Lichtleitfaserbündels be
findet.
15. Fotometer nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das eine
Ende eines Lichtleitfaserbündels in mehrere Teilbündel (61, 62; 63, 64) auf
gespalten ist, die sich zwischen den Teilbündeln (65, 66, 67, 68) eines an
deren Lichtleitfaserbündels befinden.
16. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das analoge
Ausgangssignal des Detektors (23) digitalisiert wird.
17. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Meß
phase, die Referenzphase und die Dunkelphase mit Hilfe von Zählern
(113, 114, 115) erfaßt werden.
18. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vom
Detektor (23) abgegebenen Meßwerte mit Meßwerten verglichen werden,
die in einem Speicher abgelegt sind.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3627232A DE3627232C2 (de) | 1986-08-11 | 1986-08-11 | Fotometer |
EP87109028A EP0257229B1 (de) | 1986-08-11 | 1987-06-23 | Fotometer |
DE3751765T DE3751765D1 (de) | 1986-08-11 | 1987-06-23 | Fotometer |
US07/080,428 US4832490A (en) | 1986-08-11 | 1987-07-31 | Photometer |
JP62199659A JP2609616B2 (ja) | 1986-08-11 | 1987-08-10 | フォトメータおよび光測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3627232A DE3627232C2 (de) | 1986-08-11 | 1986-08-11 | Fotometer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3627232A1 true DE3627232A1 (de) | 1988-02-18 |
DE3627232C2 DE3627232C2 (de) | 1995-11-16 |
Family
ID=6307173
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3627232A Expired - Lifetime DE3627232C2 (de) | 1986-08-11 | 1986-08-11 | Fotometer |
DE3751765T Expired - Fee Related DE3751765D1 (de) | 1986-08-11 | 1987-06-23 | Fotometer |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3751765T Expired - Fee Related DE3751765D1 (de) | 1986-08-11 | 1987-06-23 | Fotometer |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4832490A (de) |
EP (1) | EP0257229B1 (de) |
JP (1) | JP2609616B2 (de) |
DE (2) | DE3627232C2 (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4105493A1 (de) * | 1991-02-21 | 1992-08-27 | Helmut Windaus Laborbedarf Und | Vorrichtung und verfahren zur photoelektrischen messung photometrischer groessen |
DE4123589A1 (de) * | 1991-07-17 | 1993-01-21 | Leybold Ag | Vorrichtung zum messen der lichtstrahlung eines plasmas |
DE19928171B4 (de) * | 1999-06-19 | 2011-01-05 | Leybold Optics Gmbh | Verfahren zur kontinuierlichen Bestimmung der optischen Schichtdicke von Beschichtungen |
DE10348898B4 (de) * | 2002-10-15 | 2012-12-06 | Raytheon Co. | Optische Messvorrichtung mit einer Laserlichtquelle |
DE102005008889B4 (de) * | 2005-02-26 | 2016-07-07 | Leybold Optics Gmbh | Optisches Monitoringsystem für Beschichtungsprozesse |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2677120B1 (fr) * | 1991-05-30 | 1994-07-01 | Bussotti Jean | Dispositif de mesures photometriques a base de fibres optiques, et appareils equipes d'un tel dispositif. |
FR2686691B1 (fr) * | 1992-09-10 | 1997-07-25 | Jean Franck Bussotti | Dispositif de couplage de fibres optiques sur un photometre, et appareils equipes d'un tel dispositif. |
DE4404550C2 (de) * | 1994-02-12 | 2003-10-30 | Applied Films Gmbh & Co Kg | Anordnung zur Regelung der Verdampferrate von Tiegeln |
WO1996034257A1 (de) * | 1995-04-24 | 1996-10-31 | Qualico Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Für Chemische Qualitätskontrolle Mbh | Spektroskopieverfahren und hierfür geeignetes spektrometer |
DE19522188C2 (de) * | 1995-06-19 | 1999-12-02 | Optisense Ges Fuer Optische Pr | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dicke und/oder des komplexen Brechungsindexes dünner Schichten und Verwendung zur Steuerung von Beschichtungsverfahren |
US7321428B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-01-22 | Bayer Materialscience Llc | Process photometer |
GB2424696A (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-04 | Spectrum Medical Llp | Spectrometer fault detection using optical reference source |
JP4602215B2 (ja) * | 2005-10-12 | 2010-12-22 | アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 | 光量測定装置及び光量測定方法 |
US8436296B2 (en) * | 2009-11-06 | 2013-05-07 | Precision Energy Services, Inc. | Filter wheel assembly for downhole spectroscopy |
US8735803B2 (en) * | 2009-11-06 | 2014-05-27 | Precision Energy Services, Inc | Multi-channel detector assembly for downhole spectroscopy |
US8164050B2 (en) * | 2009-11-06 | 2012-04-24 | Precision Energy Services, Inc. | Multi-channel source assembly for downhole spectroscopy |
US8411262B2 (en) | 2010-09-30 | 2013-04-02 | Precision Energy Services, Inc. | Downhole gas breakout sensor |
US8542353B2 (en) | 2010-09-30 | 2013-09-24 | Precision Energy Services, Inc. | Refractive index sensor for fluid analysis |
DE102012222997A1 (de) * | 2012-12-13 | 2014-07-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Nichtdispersiver Infrarot-Gasanalysator |
KR102455343B1 (ko) | 2016-07-13 | 2022-10-17 | 에바텍 아크티엔게젤샤프트 | 광대역 광학 모니터링 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE718434C (de) * | 1939-12-08 | 1942-03-12 | Siemens Ag | Gegentaktphotometer |
SU384003A1 (ru) * | 1971-06-29 | 1973-05-23 | Ленинградский ордена Ленина электротехнический институт имени В. И. Уль нова Ленина | Прибор для автоматического выявления дефектов на движущейся поверхности |
DE2630645A1 (de) * | 1975-07-09 | 1977-01-20 | Commissariat Energie Atomique | Photometrische analyseeinrichtung |
DE2303040B2 (de) * | 1973-01-23 | 1977-08-04 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Optisches messgeraet, insbesondere zur rauchdichte- oder sichtweitemessung |
DE2631770A1 (de) * | 1976-07-15 | 1978-01-19 | Sterndent Corp | Kolorimeter und verfahren zum verwenden desselben zur herstellung von kuenstlichen zaehnen oder dergleichen |
DE2114107B2 (de) * | 1970-05-15 | 1981-02-26 | Ollituote Oy | Photometer |
US4305663A (en) * | 1979-03-02 | 1981-12-15 | Pye (Electronic Products) Limited | Spectrophotometer |
DD216323A1 (de) * | 1983-05-18 | 1984-12-05 | Magdeburg Medizinische Akad | Elektromechanischer licht-chopper fuer vier verschiedene wellenlaengen |
DE3403372C1 (de) * | 1984-02-01 | 1985-07-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München | Mehrkanal-Prozeß-Spektrometer |
DE3406645A1 (de) * | 1984-02-24 | 1985-08-29 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Spektralfotometeranordnung |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE216323C (de) * | ||||
DE671864C (de) * | 1933-12-07 | 1939-02-17 | Julius Pintsch Kom Ges | Verfahren zur Messung, zum Vergleich und zur Fernanzeige von Zustandsgroessen |
GB689856A (en) * | 1950-10-25 | 1953-04-08 | Nat Res Dev | Improvements in or relating to densitometers |
US3089382A (en) * | 1957-07-01 | 1963-05-14 | Shell Oil Co | Method and apparatus for analyzing fluids |
FR1356426A (fr) * | 1963-02-14 | 1964-03-27 | Compteurs Comp D | Perfectionnements aux dispositifs de comparaison de flux lumineux |
FR1358547A (fr) * | 1963-03-05 | 1964-04-17 | Compteurs Comp D | Dispositif de contrôle de la vitesse de déplacement d'un échantillon à explorer, notamment pour microdensitomètre enregistreur |
FR1389955A (fr) * | 1964-04-09 | 1965-02-19 | Hartmann & Braun Ag | Photomètre à diffusion |
GB1054767A (de) * | 1963-10-11 | 1900-01-01 | ||
US3885879A (en) * | 1973-06-25 | 1975-05-27 | Fisher Scientific Co | Dual beam spectrophotometer utilizing a spectral wedge and bifurcated fiber optic bundle |
DE2655272A1 (de) * | 1976-12-07 | 1978-06-08 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Spektralfotometeranordnung |
FI56902C (fi) * | 1978-09-01 | 1980-04-10 | Instrumentarium Oy | Gasanalysator |
JPS58219435A (ja) * | 1982-06-16 | 1983-12-20 | Toshiba Corp | 複光束分光光度計 |
JPS5912322A (ja) * | 1982-07-14 | 1984-01-23 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 多波長分析方法 |
FI843409A0 (fi) * | 1984-08-29 | 1984-08-29 | Labsystems Oy | Fluorometer. |
-
1986
- 1986-08-11 DE DE3627232A patent/DE3627232C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-06-23 EP EP87109028A patent/EP0257229B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-23 DE DE3751765T patent/DE3751765D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-31 US US07/080,428 patent/US4832490A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-10 JP JP62199659A patent/JP2609616B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE718434C (de) * | 1939-12-08 | 1942-03-12 | Siemens Ag | Gegentaktphotometer |
DE2114107B2 (de) * | 1970-05-15 | 1981-02-26 | Ollituote Oy | Photometer |
SU384003A1 (ru) * | 1971-06-29 | 1973-05-23 | Ленинградский ордена Ленина электротехнический институт имени В. И. Уль нова Ленина | Прибор для автоматического выявления дефектов на движущейся поверхности |
DE2303040B2 (de) * | 1973-01-23 | 1977-08-04 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Optisches messgeraet, insbesondere zur rauchdichte- oder sichtweitemessung |
DE2630645A1 (de) * | 1975-07-09 | 1977-01-20 | Commissariat Energie Atomique | Photometrische analyseeinrichtung |
DE2631770A1 (de) * | 1976-07-15 | 1978-01-19 | Sterndent Corp | Kolorimeter und verfahren zum verwenden desselben zur herstellung von kuenstlichen zaehnen oder dergleichen |
US4305663A (en) * | 1979-03-02 | 1981-12-15 | Pye (Electronic Products) Limited | Spectrophotometer |
DD216323A1 (de) * | 1983-05-18 | 1984-12-05 | Magdeburg Medizinische Akad | Elektromechanischer licht-chopper fuer vier verschiedene wellenlaengen |
DE3403372C1 (de) * | 1984-02-01 | 1985-07-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München | Mehrkanal-Prozeß-Spektrometer |
DE3406645A1 (de) * | 1984-02-24 | 1985-08-29 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Spektralfotometeranordnung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
HERRMANN, R., ZÖLLER, A.: In: Proceedings of Spie, J. R. Jacobsson ed., Vol. 401, Genf, Schweiz 1983, S. 83-92 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4105493A1 (de) * | 1991-02-21 | 1992-08-27 | Helmut Windaus Laborbedarf Und | Vorrichtung und verfahren zur photoelektrischen messung photometrischer groessen |
DE4123589A1 (de) * | 1991-07-17 | 1993-01-21 | Leybold Ag | Vorrichtung zum messen der lichtstrahlung eines plasmas |
DE4123589C2 (de) * | 1991-07-17 | 2001-03-29 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Messen der Lichtstrahlung eines Plasmas |
DE19928171B4 (de) * | 1999-06-19 | 2011-01-05 | Leybold Optics Gmbh | Verfahren zur kontinuierlichen Bestimmung der optischen Schichtdicke von Beschichtungen |
DE10348898B4 (de) * | 2002-10-15 | 2012-12-06 | Raytheon Co. | Optische Messvorrichtung mit einer Laserlichtquelle |
DE102005008889B4 (de) * | 2005-02-26 | 2016-07-07 | Leybold Optics Gmbh | Optisches Monitoringsystem für Beschichtungsprozesse |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63113347A (ja) | 1988-05-18 |
EP0257229B1 (de) | 1996-04-03 |
EP0257229A2 (de) | 1988-03-02 |
EP0257229A3 (en) | 1989-12-06 |
DE3751765D1 (de) | 1996-05-09 |
US4832490A (en) | 1989-05-23 |
DE3627232C2 (de) | 1995-11-16 |
JP2609616B2 (ja) | 1997-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3627232A1 (de) | Fotometer | |
DE2739585C2 (de) | Spektrophotometer | |
EP0362562B1 (de) | Spektrometer zur gleichzeitigen Intensitätsmessung in verschiedenen Spektralbereichen | |
DE2642170C2 (de) | Spektrophotometer | |
EP0006530A1 (de) | Faseroptisches Temperaturmessgerät | |
DE2638398A1 (de) | Verfahren zum eichen von spektralphotometern | |
DE3409207A1 (de) | Optischer sensor | |
DE3613209A1 (de) | Optische oberflaechenprofil-messeinrichtung | |
DE4223840C2 (de) | Refraktometer | |
DE1959612A1 (de) | Vorrichtung zur fotometrischen Messung | |
EP0174496A2 (de) | Verfahren zur Bestimmung der Strahlungswellenlänge und der wellenlängenkorrigierten Strahlungsleistung monochromatischer Lichtquellen, sowie Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE1930111B2 (de) | Optische Vorrichtung zum Messen der Bewegung von gegeneinander bewegten Teilen | |
EP0145877A2 (de) | Fotometer zur kontinuierlichen Analyse eines Mediums (Gas oder Flüssigkeit) | |
DE3502059A1 (de) | Laserspektralfluorometer | |
DE2758141C2 (de) | Spektrophotometer | |
DE2113477A1 (de) | Optischer Abtaster und Messanordnungen mit solchen optischen Abtastern | |
DE2948590C2 (de) | Vorrichtung zur Absorptionsmessung von Gasgemischen | |
DE3710041A1 (de) | Vorrichtung zur beruehrungslosen elektro-optischen abstandsmessung | |
DE3942375A1 (de) | Vorrichtung zur gleichzeitigen erfassung mehrerer wellenlaengenbereiche | |
EP0360346B1 (de) | Verfahren zur spannungsoptischen Kraftmessung und Messanordnung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE3625703C2 (de) | ||
DE3338583C2 (de) | ||
EP1106979A1 (de) | Anordnung zur gleichzeitigen Analyse mehrerer optischer Leitungen | |
DE4224299C2 (de) | Spektrometer | |
DE3523920C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: LEYBOLD AG, 6450 HANAU, DE |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450 |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: UNAXIS DEUTSCHLAND HOLDING GMBH, 63450 HANAU, DE |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: LEYBOLD OPTICS GMBH, 63755 ALZENAU, DE |