DE3627232A1 - Fotometer - Google Patents

Fotometer

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DE3627232A1 DE19863627232 DE3627232A DE3627232A1 DE 3627232 A1 DE3627232 A1 DE 3627232A1 DE 19863627232 DE19863627232 DE 19863627232 DE 3627232 A DE3627232 A DE 3627232A DE 3627232 A1 DE3627232 A1 DE 3627232A1
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Description

Die Erfindung betrifft ein Fotometer nach dem Oberbegriff des Patent­ anspruchs 1.
Fotometer werden vielfach für die Messung von Transmissionen oder Re­ flexionen verwendet. Eine bekannte Anwendung von Fotometern ist die Messung der Dicke von aufgedampften Schichten auf Glasscheiben oder dergleichen. Diese Schichten sind sehr dünn und liegen in der Größenord­ nung von Lichtwellenlängen, was ihre Messung erschwert.
Um derart dünne Schichtdicken zu messen, ist es bekannt, Fotometer nach dem 2-Phasen-Zerhacker-Prinzip zu verwenden, bei dem eine Dun­ kelphase und eine Meßphase unterschieden wird. Während der Meßphase werden hierbei ein Meßdetektor und über einen Strahlerteiler ein Re­ ferenzdetektor beleuchtet. Der Referenzdetektor mißt "weißes Licht", während der Meßdetektor über ein dispersives Element monochromatisches Licht mißt. Nachteilig ist hierbei, daß die Signale von zwei unterschied­ lichen Detektoren aufgenommen werden, deren Driften ungehindert auf das Meßsignal einwirken. Außerdem detektiert die Referenzzelle ohne ein vorheriges dispersives Element "weißes Licht", während das Meßsignal durch ein dispersives Element monochromatisch gemessen wird. Änderun­ gen der Farbtemperatur der Lampe werden somit nur mangelhaft berück­ sichtigt, was zu Langzeitdriften von 5%-15% führen kann.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, die vorstehend genann­ ten Nachteile zu beseitigen.
Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst.
Der mit der Erfindung erzielte Vorteil besteht insbesondere darin, daß es möglich ist, fotometrische Messungen in einer Vakuumbeschichtungsan­ lage mit hoher Langzeitstabiltät durchzuführen. Durch den Einsatz von Lichtleitern in Verbindung mit dem Dreiphasen-Zerhacker kann ein Zwei­ strahlprinzip in einer Anlage realisiert werden. Bei der herkömmlichen Zweistrahltechnik werden Umlenkspiegel benötigt, die bei einer Vakuum­ beschichtungsanlage nicht eingesetzt werden können.
Da die Messung von Meß- und Referenzlicht mit demselben Detektor er­ folgt, werden die Lichtquellen- und die Detektordrift kompensiert.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine Prinzipdarstellung des erfindungsgemäßen Fotometers;
Fig. 2 eine Zerhacker-Anordnung in einer ersten Position;
Fig. 3 die Zerhacker-Anordnung gemäß Fig. 2 in einer zweiten Position;
Fig. 4 die Zerhacker-Anordnung gemäß Fig. 2 in einer dritten Position;
Fig. 5 eine perspektivische Ansicht der in den Fig. 2-4 dargestellten Zerhacker-Anordnung;
Fig. 6 eine zweiarmige Leitleitervorrichtung, deren einer Arm das Signal vom Meßobjekt aufnimmt und dessen anderer Arm ein Referenz­ signal enthält;
Fig. 7 einen ummantelten Lichtleiter, dessen eines Ende zur Beleuchtung des Meßobjekts dient und dessen anderes Ende ein zerhacktes Lichtsignal empfängt;
Fig. 8 ein erstes Ende eines Lichtleiters mit kreisrundem Faserbündel, welches das auf ein Meßobjekt gegebene und vom Meßobjekt kommende Licht aufnimmt bzw. abgibt;
Fig. 9 ein zweites Ende des Lichtleiters gemäß Fig. 8 mit einem recht­ eckigen Lichtleitfaserbündel;
Fig. 10 eine Kombination von Lichtleiterfaserbündeln in einem recht­ eckigen Querschnitt, wobei das mittlere Lichtleitfaserbündel Licht abgibt;
Fig. 11 die in der Fig. 10 gezeigte Kombination der Lichtleitfaserbündel, wobei die beiden äußeren Bündel Licht abgeben;
Fig. 12 zwei in Einzelbündel aufgeteilte Lichtleitfaserbündel, deren Einzel­ bündel ineinandergeschachtelt sind; wobei die Einzelbündel des einen Lichtleitfaserbündels Licht abgeben;
Fig. 13 die beiden Lichtleitfaserbündel gemäß Fig. 12, wobei die Einzel­ bündel des anderen Lichtleitfaserbündels Licht abgeben;
Fig. 14 den Lichtintensitätsverlauf über der Zeit;
Fig. 15 ein Blockschaltbild eines Meßverstärkers;
Fig. 16 ein Blockschaltbild einer digitalen, phasensynchronen Gleichrich­ terschaltung;
Fig. 17 ein Übersichtsblockschaltbild eines Mikroprozessors mit verschie­ denen Anschaltungen;
Fig. 18 Zeitdiagramme einer digitalen, phasensynchronen Gleichrichter­ schaltung für drei Phasen.
In der Fig. 1 ist eine Prinzipanordnung eines erfindungsgemäßen Foto­ meters 1 dargestellt. Dieses Fotometer 1 ist mit einer Meßkammer 2 ver­ bunden und weist einen Meßwandler 4 und eine Signalverarbeitung 4 auf. In der Meßkammer 2, die beispielsweise die Vakuumkammer einer Be­ schichtungsanlage ist, befindet sich eine Verdampferquelle 5, die Metall­ oder Metalloxid-Dämpfe aussendet, welche sich auf einem Testglas 6 oder ein sonstiges Substrat niederschlagen. Dieses Testglas 6 befindet sich zwischen zwei Öffnungen 7, 8 in der Meßkammer 2, wobei diese Öff­ nungen durch jeweils eine optische Linse 9 bzw. 10 abgeschlossen sind. Außerhalb der Meßkammer 2 und in geringem Abstand von den Linsen 9, 10 sind die Enden von Lichtleiterbündeln 11, 12 angeordnet, die durch flexible Metallrohre 13, 14 ummantelt sind. Das im Metallrohr 13 befind­ liche Lichtleiterbündel ist einer Zerhacker-Einrichtung 15 zugeführt. Die­ se Zerhacker-Einrichtung besteht aus einer Zerhacker-Kammer 16 mit zwei Wänden 17, 18, wobei in die eine Wand 17 das zweite Ende des im Metallrohr 13 befindlichen Lichtleiterbündels eingeführt ist. Dagegen ist in die andere Wand 18 ein Referenz-Lichtleiterbündel 19 eingefügt, das zu einem Bündelkoppler 20 führt, der mit dem Lichtleiterbündel im Me­ tallrohr 14 verbunden ist. Dieser Bündelkoppler 20 ist mit einem Mono­ chromator 22 verbunden, an den ein Detektor 23 angekoppelt ist. Zum Antrieb von Strichgittern oder Interferenzfiltern im Monochromator 22 ist ein Schrittmotor 24 vorgesehen, der von einem Leistungsteil 25 in der Si­ gnalverarbeitung 4 gesteuert wird. Dieser Leistungsteil 25 wird seiner­ seits von einer Verarbeitungseinrichtung 26 gesteuert, der u. a. die Si­ gnale des Detektors 23 über einen Wandler 27 zugeführt werden. Diese Verarbeitungseinrichtung 26 wird auch über eine Leitung 28 mit Infor­ mationen einer Gabellicht-Schranke 42 beaufschlagt, welche den Ist-Wert der Umdrehung einer Zerhacker-Scheibe 29 anzeigt. Diese Zerhacker- Scheibe 29 ist auf einer Welle 30 angeordnet, auf der sich noch eine zweite Zerhacker-Scheibe 31 befindet. Beide Zerhacker-Scheiben 29, 31 sind durch Distanzstücke 32, 33 voneinander getrennt und starr mit der Welle 30 verbunden. Die Enden der Welle 30 sind in Lagern 34, 35 ge­ lagert, wobei an dem einen Ende 36 ein Antriebsriemen 37 angreift, der von einer Motorwelle 38 angetrieben wird. Diese Motorwelle 38 ist mit einem Motor 39 verbunden, der von einer Motorsteuereinheit 40 angetrie­ ben wird. Zwischen den beiden Zerhacker-Scheiben 29, 31 ist eine Lampe 41 angeordnet, welche Licht auf die Referenzstrecke und zeitversetzt auf die Meßstrecke gibt.
Mit Hilfe der in der Fig. 1 dargestellten Anordnung kann die absolute Reflexion oder Transmission der auf das Testglas 6 aufgedampften Schicht mit hoher Langzeitstabilität gemessen werden. Dies geschieht da­ durch, daß mit Hilfe der Zerhacker-Scheiben 29, 31 eine Meßphase, eine Referenzphase und eine Dunkelphase erzeugt werden. Da hier Meß- und Referenzphase zeitlich versetzt erfolgen, können beide Phasen mit dem­ selben Detektor 23 und bei der gleichen Wellenlänge des Monochromators 22 gemessen werden. Die Meßphase wird durch das Lichtleiterbündel im Metallrohr 13 sowie durch die Zerhacker-Scheibe 31 bestimmt, während die Referenzphase durch das Lichtleiterbündel im Metallrohr 19 und durch die Zerhacker-Scheibe 29 bestimmt wird.
Während der Meßphase wird ein Teil des Lichts der Lampe 41 über das Lichtleiterbündel im Metallrohr 13 der Linse 9 zugeführt. Von dieser gelangt es auf das Testglas 6 und über die Linse 10 in das Lichtbündel 12 im Metallrohr 14 sowie zum Bündelkoppler 20 und von dort in den Monochromator 22. Im Monochromator 22 wird ein bestimmter Wellen­ längenbereich des ankommenden Lichts ausgefiltert und dem Detektor 23 zugeführt. Dieser wandelt das optische Signal in ein elektrisches Signal um und führt es einem Wandler 27 zu, der es nach entsprechender An­ passung an die Verarbeitungseinrichtung 26 weitergibt.
Während der Referenzphase wird das Licht der Lampe 41 durch die Zer­ hacker-Scheibe 29 auf das Lichtleitbündel im Metallrohr 19 freigegeben. Es gelangt hierauf ebenfalls über den Bündelkoppler 20 auf den Mono­ chromator 22 und wird von dort in derselben Weise wie das Licht in der Meßphase über den Detektor 23 und den Wandler 27 dem Prozessor 26 zugeführt.
Auf diese Weise wird in einer ersten Phase das Licht der Lampe 41 in einer durch die auf die Glasplatte 6 aufgedampften Schicht geschwächten Form dem Detektor 23 zugeführt, während in einer zweiten Phase das un­ geschwächte Licht der Lampe 41 dem Detektor 23 zugeführt wird. Für bestimmte Anwendungsfälle kann auf den Monochromator 22 verzichtet werden. Wenn es jedoch derart ankommt, die Wellenlängenabhängigkeit der Transmission oder Reflexion zu erfassen, kann auf den Monochroma­ tor oder ein anderes dispersives Element verzichtet werden.
Da in beiden Phasen dieselbe Lampe 41 und derselbe Detektor 23 ver­ wendet werden, wirken sich Alterserscheinungen und Temperaturdriften von Lampe 41 und/oder Detektor 23 in gleicher Weise auf beide Phasen aus, d. h. die Fehler kompensieren sich.
Die Dunkelphase dient zur Kompensation von Fehlern, die durch Fremd­ lichteinflüsse und/oder durch Driften: von elektronischen Verstärkern ent­ stehen. Es werden also stets die Differenzen zwischen Meß- und Dunkel­ phase bzw. von Referenz- und Dunkelphase ausgewertet. Das Verhältnis zwischen den so ermittelten Meß- und Referenzwerten ist somit ein unver­ fälschtes Maß für die Reflexion bzw. Transmission der auf die Glasplatte 6 aufgedampften Schicht.
Der Einsatz des Monochromators 22 ist insbesondere dann unerläßlich, wenn die aufwachsende optische Schichtdicke gemessen wird, d. h. wenn die optische Intensität bei einer bestimmten Wellenlänge nach einer be­ stimmten Funktion verläuft.
In der Fig. 2 ist eine erste Konstellation zwischen den Zerhacker-Schei­ ben 29, 31 dargestellt. Man erkennt hierbei, daß die Zerhacker-Scheibe 29 einen Ausschnitt aufweist, der etwa 120° innerhalb eines äußeren Kreis­ rings ausmacht. Das Ende 44 des im Metallrohr 13 befindlichen Glasfa­ serbündels ist hinter der Zerhacker-Scheibe 29 gestrichelt dargestellt. Der Zerhacker-Scheibe 31 weist ebenfalls einen Ausschnitt von etwa 120° in einem äußeren Kreisring auf. Dieser Ausschnitt befindet sich an der mit 45 bezeichneten Stelle. Bei dieser Konstellation wird das Referenz­ licht gesperrt und das Meßlicht freigegeben.
Die Fig. 3 zeigt eine zweite Konstellation zwischen den Zerhacker-Schei­ ben 29, 31. Der Ausschnitt in der Zerhacker-Scheibe 29 befindet sich hierbei an der mit 46 bezeichneten Stelle, während sich der Ausschnitt in der Zerhacker-Scheibe 31 an der mit 47 bezeichneten Stelle befindet. In dieser Stellung wird der Meßwert gesperrt und der Referenzwert frei­ gegeben.
In der Fig. 4 ist eine dritte Konstellation zwischen den Zerhacker-Schei­ ben 29, 31 gezeigt, wobei sich der Ausschnitt in der Zerhacker-Scheibe 29 an der Stelle 48 befindet. Dagegen befindet sich der Ausschnitt in der Zerhacker-Scheibe 31 an der Stelle 49.
Hierbei werden sowohl der Meßwert als auch der Referenzwert gesperrt; d. h. es herrscht Dunkelphase.
In der Fig. 5 ist die in den Fig. 2, 3, 4 gezeigte Zerhacker-Vorrichtung noch einmal in perspektivischer Ansicht dargestellt. Man erkennt hierbei die Enden der Metallrohre 13, 19, die Lampe 41 sowie die Zerhacker- Scheiben 29, 31. Da die beiden Zerhacker-Scheiben 29, 31 jeweils eine Aus­ sparung von 120° aufweisen, die relativ zueinander so angeordnet sind, daß sie sich nicht überlappen, kann eine Phase erreicht werden, in der das Licht der Lampe 41 sowohl zum Ende 44 als auch zum Bündel des Rohrs 19 abgeriegelt wird.
Die Fig. 6 zeigt eine Variante des Bündelkopplers 20 mit den beiden flexiblen Metallrohren 19, 14, in denen sich die lichtleitenden Glasfaser­ bündel befinden.
Die Enden dieser Metallrohre 14, 19 sind an zylindrische Verbindungsbuch­ sen 50, 51 angeschlossen.
Die Fig. 7 zeigt ein Metallrohr 13, das an seinen beiden Enden mit zylindrischen Verbindungsbuchsen 52, 53 versehen ist.
In der Fig. 8 ist eine Verbindungsbuchse gezeigt, die den Verbindungs­ buchsen 51, 52 in den Fig. 6 bzw. 7 entspricht. In dieser Verbindungs­ buchse 51, 52 ist das Ende des kreisrunden Glasfaserbündels 11, 12 zu er­ kennen.
Die Fig. 9 zeigt eine Verbindungsbuchse, die den Verbindungsbuchsen 50, 53 in den Fig. 6 bzw. 7 entspricht. Die in den Fig. 6 bzw. 7 dar­ gestellten Verbindungsbuchsen 50, 53 müssen nicht identisch sein; sie sind in der Regel jedoch ähnlich, so daß sie beide durch die eine Darstellung der Fig. 9 repräsentiert werden. Das Glasfaserbündel 44 hat hier eine rechteckige Form, die für die Einkopplung der Lichtleistung von Lampe und Lichtleiter oft vorteilhaft ist. Bei Verwendung einer Halogenlampe wird dadurch der Lichtleiterbündelquerschnitt dem Querschnitt des Lampenwendels angepaßt.
In der Fig. 10 ist der Bündelkoppler 20 dargestellt, der einen recht­ eckigen Schlitz 57 aufweist, in dem das Ende des Lichtleitfaserbündels 58 angeordnet ist, das sich im Metallrohr 19 befindet. Auf beiden Seiten des Bündels 58 befindet sich je eine Hälfte 59, 60 des Bündels, welches aus der Verbindungsbuchse 51 (Fig. 6) kommt. Durch die Darstellung der Fig. 10 soll angedeutet werden, daß nur das Bündel 58 Licht ab­ strahlt, während die Bündelhälften 59, 60 kein Licht abstrahlen.
Die Darstellung der Fig. 11 unterscheidet sich von der Darstellung der Fig. 10 dadurch, daß jetzt die Bündelhälften 59, 60 Licht abgeben, wäh­ rend das Bündel 58 inaktiv ist. Die Fig. 10 zeigt also die Referenzphase, während die Fig. 11 die Meßphase zeigt.
In den Fig. 12 und 13 sind zwei Lichtleitbündel dargestellt, die in jeweils vier Teillichtbündel 61, 62, 63, 64 bzw. 65, 66, 67, 68 aufgeteilt und ineinander­ geschachtelt sind. In der Fig. 12 geben die Teillichtbündel 61-64 Licht ab, während die Teillichtbündel 65-68 inaktiv sind. Bei der Darstellung der Fig. 13 sind die Verhältnisse gerade umgekehrt. Beide Lichtbündel zusammen füllen den Schlitz 57 aus.
In der Fig. 14 ist die Lichtintensität I in Abhängigkeit von der Zeit dargestellt. Es handelt sich hierbei um die vom Detektor 23 erfaßte Lichtintensität. Zwischen t₀ und t₁ wird das Referenzsignal I REF erfaßt, das in diesem Beispiel die höchste Amplitude hat. Hieran anschließend, d. h. zwischen t₁ und t₂, wird das Meßsignal I MEß erfaßt, das beispielsweise durch die Aufdampfung eines Materials auf der Scheibe 6 geschwächt ist. Während der Zeit t₂ bis t₃ liegt eine Dunkelphase vor, so daß nur noch die Restlichtstärke I REST detektiert wird. Bei dieser Restlichtstärke kann es sich um Streulicht, beispielsweise von der Verdampferquelle 5 handeln.
Das vom Detektor 23, bei dem es sich um ein Siliziumelement handeln kann, abgegebene Spannungssignal wird digitalisiert, um es anschließend mit numerisch im voraus berechneten I/t-Kurven vergleichen und um automatisch die optimale Verstärkung von I REF , I MEß und I REST einstellen zu können. Durch die Verwendung eines Spannungs-Frequenz-Umsetzers bei der Digitalisierung kann eine hohe Auflösung erreicht werden.
In der Fig. 15 ist ein Blockschaltbild eines Meßverstärkers 27 für das Ausgangssignal des Detektors 23 gezeigt, mit dem die Spannung in eine entsprechende Frequenz umgewandelt wird. Der Ausgang des Detektors 23 ist mit einem ersten Vorverstärker 100 verbunden, dessen Ausgang an dem Eingang eines zweiten Vorverstärkers 101 liegt. Der Ausgang dieses zweiten Vorverstärkers 101 ist auf einen Spannungs-Frequenz-Wandler 102 gegeben, der die Amplitude der Ausgangsspannung des Vorverstärkers 101 in eine proportionale Frequenz umwandelt. Am Ausgang des Span­ nungs-Frequenz-Wandlers 102 steht somit ein Signal an, dessen Frequenz der Meßgröße entspricht.
An dem Verbindungspunkt 103 zwischen den Verstärkern 100 und 101 wird ein Signal abgegriffen, das einem Spannungs-Frequenz-Wandler 104 zugeführt und in ein frequenzproportionales Signal umgewandelt wird. Die Verstärkungen der Verstärker 100 bzw. 101 können von der Verarbeitungs­ einrichtung 26 über die Leitungen 105 bzw. 106 eingestellt werden.
Bei dem Block 71 handelt es sich um eine Schaltungsanordnung, welche ein Signal gegenschaltet, daß z. B. zur Kompensation von Pegelüberschrei­ tungen dient.
Die Fig. 16 zeigt das Blockschaltbild eines Lock-in-Verstärkers für drei Phasen. Dieser Lock-in-Verstärker kann Teil der Verarbeitungseinrichtung 26 sein. Es weist eine PLL-Schaltung 107 auf, die über die Leitung 28 mit einem Triggersignal von der Lichtschranke 42 des Zerhackers beauf­ schlagt wird. Diese PLL-Schaltung 107 weist vier Ausgänge 109, 110, 111, 112 auf, von denen der Ausgang 109 die Referenzphase, der Ausgang 110 die Meßphase und der Ausgang 111 die Dunkelphase bezeichnet. Der Aus­ gang 112 gibt das Ende der Zerhackerphase an. Die Ausgänge der PLL- Schaltung 107 sind mit Zählerschaltungen 113, 114, 115 verbunden, und zwar in der Weise, daß die Ausgänge 110, 111 mit dem Zähler 113, die Aus­ gänge 109, 110 mit dem Zähler 114 und der Ausgang 112 mit dem Zähler 115 verbunden sind. Der Zähler 113 zählt in der Meßphase hoch und in der Dunkelphase herunter. Dagegen zählt der Zähler 114 in der Referenz­ phase hoch und in der Dunkelphase herunter. Der Zähler 115 zählt die Zerhackerumdrehungen.
Dem CL-Eingang 116 des Zählers 113 wird das Ausgangssignal des Spannungs-Frequenz-Wandlers 102 zugeführt. Der Read-Eingang des Zählers 113 ist dagegen mit einer Schnittstelle zum Mikroprozessor 118 verbunden. Zwischen diesem Mikroprozessor und dem Zähler 113 findet über den Kanal 119 ein Informationsaustausch während der Meß- und Dunkelphase statt.
Dem CL-Eingang des Zählers 114 wird über eine Leitung 120 ein Inten­ sitätssignal zugeführt, das dem Referenzsignal-Dunkelstrom entspricht, d.h. dem Ausgangssignal am Spannungs-Frequenz-Wandler 104. Auf den Read-Eingang dieses Zählers 114 wird über die Leitung 121 ein Signal aus dem Prozessor 118 zugeführt. Außerdem ist der Zähler 114 über einen Kanal 122 mit dem Kanal 119 verbunden. Eine Verbindung zu den Kanä­ len 122, 119 wird durch einen Kanal 123 auch zu dem Zähler 115 herge­ stellt. Über den Kanal 123 wird die Anzahl der zu messenden Zerhacker­ perioden programmiert. Der Schreib-Eingang 124 des Zählers 115 ist mit dem Prozessor 118 verbunden. Von dem Ausgang 125 des Zählers 115 werden die Reset-Eingänge 126, 127 der Zähler 113, 114 beaufschlagt. Eine Average-Leitung 128 verbindet einen Ausgang des Zählers 115 mit dem Prozessor 118 und zeigt an, wenn ein vorprogrammiertes Interball beendet ist.
Die Fig. 17 ist eine übergeordnete Darstellung und zeigt das Blockschalt­ bild einer Fotometerplatine, die einen Mikroprozessor 118 mit einem RAM/EPROM-Speicher aufweist, der beispielsweise über einen Kanal 130 mit einem nicht dargestellten Rechnerkreis verbunden ist. Mit 131 ist ein Dreiphasen-Lock-in-Verstärker bezeichnet, der im wesentlichen der Anord­ nung gemäß Fig. 16 entspricht und der drei Eingänge 116, 126, 25 und einen Ausgang 105, 106 besitzt. Dieser Ausgang 105, 106 beinhaltet ein Signal für einen Verstärkungsfaktor.
Eine Schrittmotor-Steuerung 136 weist einen Eingang 137 und zwei Aus­ gänge 138, 139 auf, die auf das Leistungsteil 25 führen. Auf dem Eingang 137 erscheint ein Signal von einer Lichtschranke im Monochromator 22. Dieses Lichtschrankensignal ermöglicht eine automatische Kalibrierung der Wellenlänge des Monochromators 22. Das Signal für die Motorfrequenz wird von der Steuerung 136 auf die Leitung 138 gegeben. Die Drehrich­ tung dieses Motors wird jedoch über die Leitung 139 festgelegt. Mit 140 ist eine Einrichtung bezeichnet, in die über einen Kanal 141 Informatio­ nen parallel eingegeben werden können, um eine Frontplattentastatur ein­ zusetzen. Für die serielle Eingabe von Informationen über einen Kanal 143 ist eine entsprechende Einrichtung vorgesehen. Schließlich ist mit 144 ein Schreiberausgang bezeichnet, der über die Leitung 145 mit einem Schrei­ ber verbunden ist. Alle Einrichtungen 131, 136, 140, 142, 144 sind über Ka­ näle mit dem Mikroprozessor 118 verbunden.
Die Fig. 18 zeigt ein Zeitdiagramm eines Dreiphasen-Lock-in-Verstärkers. Das Diagramm bei A stellt den Trigger der Lichtschranke (28, 42 in Fig. 1) dar, während das Diagramm bei B die Impulse der Referenzphase dar­ stellt (109 in Fig. 16). Die Meßphase wird durch die Impulse bei C ange­ deutet (111 in Fig. 16), und die Impulse der Dunkelphase sind bei D (110 in Fig. 16) angegeben. Das Zerhacker-Phasenende ist durch die Impulse bei E gezeigt (112 in Fig. 16), während F den Zählerstand des Referenzsignals anzeigt. Der Zählerstand des Meßsignals ist bei G dargestellt, und das Ende des Meßzyklus ist durch die Impulse bei Ha angegeben. Die Zähler- Reset-Impulse sind bei I dargestellt.

Claims (18)

1. Fotometer, bei dem mittels eines Zerhackers eine Meßphase, eine Referenzphase und eine Dunkelphase erzeugt werden, wobei diese ver­ schiedenen Phasen zeitlich versetzt sind, so daß für alle Phasen ein ein­ ziger Detektor vorgesehen sein kann, dadurch gekennzeichnet, daß eine erste und eine zweite Lichtleitvorrichtung (13, 14) vorgesehen sind, zwi­ schen deren jeweils einem Ende (11, 12) das zu messende Objekt (6) vor­ gesehen ist, daß das andere Ende der zweiten Lichtleitvorrichtung (14) dem Detektor (23) gegenüberliegt, daß eine dritte Lichtleitvorrichtung (19) vorgesehen ist, die mit ihrem einen Ende dem Detektor (23) gegen­ überliegt und die mit ihrem anderen Ende mit einem Zerhacker (17, 18, 29, 31, 41) verbunden ist, der auch mit dem anderen Ende der ersten Licht­ leitvorrichtung (13) in Verbindung steht.
2. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Zerhak­ ker (17, 18, 29, 31, 41) eine Lichtquelle (41) aufweist, die sich zwischen einer ersten Zerhacker-Scheibe (29) und einer zweiten Zerhacker-Scheibe (31) befindet.
3. Fotometer nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zerhak­ ker-Scheiben (29, 31) jeweils Aussparungen von 120° aufweisen.
4. Fotometer nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Aussparungen der Zerhacker-Scheiben (29, 31) nicht überlappen.
5. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Meßsi­ gnal und ein Referenzsignal über ein dispersives Element (22) zwecks Be­ stimmung der Meßwellenlänge dem Detektor (23) zugeführt sind.
6. Fotometer nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Antrieb (24) vorgesehen ist, der das dispersive Element (22) bewegt.
7. Fotometer nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zerhak­ ker-Scheiben (29, 31) von einem Motor (39) angetrieben werden, der von einer Steuereinrichtung (40) gesteuert wird.
8. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausgangs­ signale des Detektors (23) mit Hilfe eines Prozessors (26) ausgewertet werden.
9. Fotometer nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Antrieb (24) in Abhängigkeit von der gewünschten Meßwellenlänge gesteuert wird.
10. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Lichtleit­ vorrichtungen (13, 14, 19) Bündel von Lichtleitfasern vorgesehen sind.
11. Fotometer nach den Ansprüchen 1 und 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Enden zweier Lichtleitfasern (14, 19) räumlich derart zusammen­ gefaßt sind, daß die Gesamtfläche einem Monochromator-Eintrittsspalt an­ gepaßt ist.
12. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Messung des Transmissions-Grads des Objekts (6) dieses Objekt (6) auf der direk­ ten Verbindungslinie zwischen den Enden (11, 12) der Lichtleitvorrichtun­ gen (13, 14) angeordnet ist.
13. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Messung des Reflexionsgrads des Objekts (6) das Ende (12) der Lichtleitvorrich­ tung (14) an derjenigen Stelle angeordnet ist, wohin das Licht vom Ob­ jekt (6) reflektiert wird.
14. Fotometer nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß sich das eine Ende (58) eines Lichtleitfaserbündels zwischen dem in zwei Hälften (59, 60) aufgespaltenen einen Ende eines anderen Lichtleitfaserbündels be­ findet.
15. Fotometer nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das eine Ende eines Lichtleitfaserbündels in mehrere Teilbündel (61, 62; 63, 64) auf­ gespalten ist, die sich zwischen den Teilbündeln (65, 66, 67, 68) eines an­ deren Lichtleitfaserbündels befinden.
16. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das analoge Ausgangssignal des Detektors (23) digitalisiert wird.
17. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Meß­ phase, die Referenzphase und die Dunkelphase mit Hilfe von Zählern (113, 114, 115) erfaßt werden.
18. Fotometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Detektor (23) abgegebenen Meßwerte mit Meßwerten verglichen werden, die in einem Speicher abgelegt sind.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4105493A1 (de) * 1991-02-21 1992-08-27 Helmut Windaus Laborbedarf Und Vorrichtung und verfahren zur photoelektrischen messung photometrischer groessen
DE4123589A1 (de) * 1991-07-17 1993-01-21 Leybold Ag Vorrichtung zum messen der lichtstrahlung eines plasmas
DE19928171B4 (de) * 1999-06-19 2011-01-05 Leybold Optics Gmbh Verfahren zur kontinuierlichen Bestimmung der optischen Schichtdicke von Beschichtungen
DE10348898B4 (de) * 2002-10-15 2012-12-06 Raytheon Co. Optische Messvorrichtung mit einer Laserlichtquelle
DE102005008889B4 (de) * 2005-02-26 2016-07-07 Leybold Optics Gmbh Optisches Monitoringsystem für Beschichtungsprozesse

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2677120B1 (fr) * 1991-05-30 1994-07-01 Bussotti Jean Dispositif de mesures photometriques a base de fibres optiques, et appareils equipes d'un tel dispositif.
FR2686691B1 (fr) * 1992-09-10 1997-07-25 Jean Franck Bussotti Dispositif de couplage de fibres optiques sur un photometre, et appareils equipes d'un tel dispositif.
DE4404550C2 (de) * 1994-02-12 2003-10-30 Applied Films Gmbh & Co Kg Anordnung zur Regelung der Verdampferrate von Tiegeln
WO1996034257A1 (de) * 1995-04-24 1996-10-31 Qualico Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Für Chemische Qualitätskontrolle Mbh Spektroskopieverfahren und hierfür geeignetes spektrometer
DE19522188C2 (de) * 1995-06-19 1999-12-02 Optisense Ges Fuer Optische Pr Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dicke und/oder des komplexen Brechungsindexes dünner Schichten und Verwendung zur Steuerung von Beschichtungsverfahren
US7321428B2 (en) * 2004-12-22 2008-01-22 Bayer Materialscience Llc Process photometer
GB2424696A (en) * 2005-03-29 2006-10-04 Spectrum Medical Llp Spectrometer fault detection using optical reference source
JP4602215B2 (ja) * 2005-10-12 2010-12-22 アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 光量測定装置及び光量測定方法
US8436296B2 (en) * 2009-11-06 2013-05-07 Precision Energy Services, Inc. Filter wheel assembly for downhole spectroscopy
US8735803B2 (en) * 2009-11-06 2014-05-27 Precision Energy Services, Inc Multi-channel detector assembly for downhole spectroscopy
US8164050B2 (en) * 2009-11-06 2012-04-24 Precision Energy Services, Inc. Multi-channel source assembly for downhole spectroscopy
US8411262B2 (en) 2010-09-30 2013-04-02 Precision Energy Services, Inc. Downhole gas breakout sensor
US8542353B2 (en) 2010-09-30 2013-09-24 Precision Energy Services, Inc. Refractive index sensor for fluid analysis
DE102012222997A1 (de) * 2012-12-13 2014-07-03 Siemens Aktiengesellschaft Nichtdispersiver Infrarot-Gasanalysator
KR102455343B1 (ko) 2016-07-13 2022-10-17 에바텍 아크티엔게젤샤프트 광대역 광학 모니터링

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE718434C (de) * 1939-12-08 1942-03-12 Siemens Ag Gegentaktphotometer
SU384003A1 (ru) * 1971-06-29 1973-05-23 Ленинградский ордена Ленина электротехнический институт имени В. И. Уль нова Ленина Прибор для автоматического выявления дефектов на движущейся поверхности
DE2630645A1 (de) * 1975-07-09 1977-01-20 Commissariat Energie Atomique Photometrische analyseeinrichtung
DE2303040B2 (de) * 1973-01-23 1977-08-04 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optisches messgeraet, insbesondere zur rauchdichte- oder sichtweitemessung
DE2631770A1 (de) * 1976-07-15 1978-01-19 Sterndent Corp Kolorimeter und verfahren zum verwenden desselben zur herstellung von kuenstlichen zaehnen oder dergleichen
DE2114107B2 (de) * 1970-05-15 1981-02-26 Ollituote Oy Photometer
US4305663A (en) * 1979-03-02 1981-12-15 Pye (Electronic Products) Limited Spectrophotometer
DD216323A1 (de) * 1983-05-18 1984-12-05 Magdeburg Medizinische Akad Elektromechanischer licht-chopper fuer vier verschiedene wellenlaengen
DE3403372C1 (de) * 1984-02-01 1985-07-25 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München Mehrkanal-Prozeß-Spektrometer
DE3406645A1 (de) * 1984-02-24 1985-08-29 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Spektralfotometeranordnung

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE216323C (de) *
DE671864C (de) * 1933-12-07 1939-02-17 Julius Pintsch Kom Ges Verfahren zur Messung, zum Vergleich und zur Fernanzeige von Zustandsgroessen
GB689856A (en) * 1950-10-25 1953-04-08 Nat Res Dev Improvements in or relating to densitometers
US3089382A (en) * 1957-07-01 1963-05-14 Shell Oil Co Method and apparatus for analyzing fluids
FR1356426A (fr) * 1963-02-14 1964-03-27 Compteurs Comp D Perfectionnements aux dispositifs de comparaison de flux lumineux
FR1358547A (fr) * 1963-03-05 1964-04-17 Compteurs Comp D Dispositif de contrôle de la vitesse de déplacement d'un échantillon à explorer, notamment pour microdensitomètre enregistreur
FR1389955A (fr) * 1964-04-09 1965-02-19 Hartmann & Braun Ag Photomètre à diffusion
GB1054767A (de) * 1963-10-11 1900-01-01
US3885879A (en) * 1973-06-25 1975-05-27 Fisher Scientific Co Dual beam spectrophotometer utilizing a spectral wedge and bifurcated fiber optic bundle
DE2655272A1 (de) * 1976-12-07 1978-06-08 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Spektralfotometeranordnung
FI56902C (fi) * 1978-09-01 1980-04-10 Instrumentarium Oy Gasanalysator
JPS58219435A (ja) * 1982-06-16 1983-12-20 Toshiba Corp 複光束分光光度計
JPS5912322A (ja) * 1982-07-14 1984-01-23 Asahi Chem Ind Co Ltd 多波長分析方法
FI843409A0 (fi) * 1984-08-29 1984-08-29 Labsystems Oy Fluorometer.

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE718434C (de) * 1939-12-08 1942-03-12 Siemens Ag Gegentaktphotometer
DE2114107B2 (de) * 1970-05-15 1981-02-26 Ollituote Oy Photometer
SU384003A1 (ru) * 1971-06-29 1973-05-23 Ленинградский ордена Ленина электротехнический институт имени В. И. Уль нова Ленина Прибор для автоматического выявления дефектов на движущейся поверхности
DE2303040B2 (de) * 1973-01-23 1977-08-04 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optisches messgeraet, insbesondere zur rauchdichte- oder sichtweitemessung
DE2630645A1 (de) * 1975-07-09 1977-01-20 Commissariat Energie Atomique Photometrische analyseeinrichtung
DE2631770A1 (de) * 1976-07-15 1978-01-19 Sterndent Corp Kolorimeter und verfahren zum verwenden desselben zur herstellung von kuenstlichen zaehnen oder dergleichen
US4305663A (en) * 1979-03-02 1981-12-15 Pye (Electronic Products) Limited Spectrophotometer
DD216323A1 (de) * 1983-05-18 1984-12-05 Magdeburg Medizinische Akad Elektromechanischer licht-chopper fuer vier verschiedene wellenlaengen
DE3403372C1 (de) * 1984-02-01 1985-07-25 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München Mehrkanal-Prozeß-Spektrometer
DE3406645A1 (de) * 1984-02-24 1985-08-29 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Spektralfotometeranordnung

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HERRMANN, R., ZÖLLER, A.: In: Proceedings of Spie, J. R. Jacobsson ed., Vol. 401, Genf, Schweiz 1983, S. 83-92 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4105493A1 (de) * 1991-02-21 1992-08-27 Helmut Windaus Laborbedarf Und Vorrichtung und verfahren zur photoelektrischen messung photometrischer groessen
DE4123589A1 (de) * 1991-07-17 1993-01-21 Leybold Ag Vorrichtung zum messen der lichtstrahlung eines plasmas
DE4123589C2 (de) * 1991-07-17 2001-03-29 Leybold Ag Vorrichtung zum Messen der Lichtstrahlung eines Plasmas
DE19928171B4 (de) * 1999-06-19 2011-01-05 Leybold Optics Gmbh Verfahren zur kontinuierlichen Bestimmung der optischen Schichtdicke von Beschichtungen
DE10348898B4 (de) * 2002-10-15 2012-12-06 Raytheon Co. Optische Messvorrichtung mit einer Laserlichtquelle
DE102005008889B4 (de) * 2005-02-26 2016-07-07 Leybold Optics Gmbh Optisches Monitoringsystem für Beschichtungsprozesse

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Publication number Publication date
JPS63113347A (ja) 1988-05-18
EP0257229B1 (de) 1996-04-03
EP0257229A2 (de) 1988-03-02
EP0257229A3 (en) 1989-12-06
DE3751765D1 (de) 1996-05-09
US4832490A (en) 1989-05-23
DE3627232C2 (de) 1995-11-16
JP2609616B2 (ja) 1997-05-14

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