DE3609309A1 - Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen - Google Patents

Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen

Info

Publication number
DE3609309A1
DE3609309A1 DE19863609309 DE3609309A DE3609309A1 DE 3609309 A1 DE3609309 A1 DE 3609309A1 DE 19863609309 DE19863609309 DE 19863609309 DE 3609309 A DE3609309 A DE 3609309A DE 3609309 A1 DE3609309 A1 DE 3609309A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
palladium
silver
bath
bath according
succinimide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19863609309
Other languages
English (en)
Other versions
DE3609309C2 (de
Inventor
Hermann Dipl Chem Dr Grossmann
Alfons Dipl Ing Hollaender
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Doduco Solutions GmbH
Original Assignee
Doduco GmbH and Co KG Dr Eugen Duerrwaechter
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Doduco GmbH and Co KG Dr Eugen Duerrwaechter filed Critical Doduco GmbH and Co KG Dr Eugen Duerrwaechter
Priority to DE19863609309 priority Critical patent/DE3609309A1/de
Priority to DE8787103932T priority patent/DE3764685D1/de
Priority to EP87103932A priority patent/EP0239876B1/de
Publication of DE3609309A1 publication Critical patent/DE3609309A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3609309C2 publication Critical patent/DE3609309C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/64Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of silver

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung handelt von einem wässrigen, schwach alkalischen, cyanid- und ammoniakfreien Bad zum elektrolytischen Abscheiden von Silber-Palladium- Legierungen aus löslichen Verbindungen des Silbers und des Palladiums.
Ein Bad mit diesen Merkmalen ist bekannt aus einer Ver­ öffentlichung von B. Sturzenegger und J.Cl. Puippe in Platinum Metals Review 1984, 28, (3), 117-124. Aus dieser Veröffentlichung ist ein wässriges Bad bekannt, welches sowohl das Palladium als auch das Silber in Gestalt einer Amminkomplexverbindung enthält, nämlich das Palladium als Pd(NH3)4(NO3)2 und das Silber als Ag(NH3)2(NO3), wobei durch Einleiten von gasförmigem Ammoniak im Bad ein pH-Wert von 11,5 eingestellt wird. Bei einem solchen ammoniakalischen Bad ist nachteilig, dass laufend Ammoniak aus dem Bad entweicht, vor allem, wenn zur Verbesserung der Abscheidebedingungen das Bad bei erhöhter Temperatur betrieben wird. Das hat zur Folge, dass man dem Bad laufend Ammoniak in dosierter Menge zuführen muss, um den gewünschten pH-Wert beizubehalten. Das aus dem Bad entweichende Ammoniak belastet obendrein die Umwelt und erfordert besondere Maßnahmen zur Rein­ haltung der Luft am Arbeitsplatz. Ausserdem sind die entweichenden Ammoniakdämpfe korrosiv und können Gegen­ stände, die sich in ihrem Einwirkungsbereich befinden, angreifen, beispielsweise Bänder, die in dem Bad mit einer Silber-Palladium-Legierung beschichtet werden sollen und deshalb auf einem Teil ihres Wegs durch den Einwirkungsbereich der Ammoniakdämpfe geführt werden müssen. Ein weiterer Nachteil ammoniakalischer Bäder besteht darin, dass Azide gebildet werden können, welche wegen ihrer Explosionsgefahr gefürchtet sind.
Um die Nachteile ammoniakalischer Bäder zu vermeiden, kann man Silber-Palladium-Legierungen aus stark sauren Bädern abscheiden (EP 01 12 561 A1). Solche stark sauren Bäder haben jedoch den Nachteil, unedle Werkstoffe anzu­ greifen, sodass sie nicht unmittelbar elektrolytisch mit einer Silber-Palladium-Legierung beschichtet werden können, sondern zunächst mit einem porenfreien Edel­ metallüberzug, z.B. mit Gold, vorbeschichtet werden müssen. Dann aber läßt sich das Ziel, einen preis­ werten Ersatz für Beschichtungen aus Gold oder Palladium zu erhalten, nicht erreichen, vor allem nicht bei den heute angestrebten minimalen Schichtdicken.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein wässriges, cyanidfreies, im alkalischen Bereich arbeitendes Bad zum Abscheiden von Silber-Palladium-Legierungen anzu­ geben, welches kein Ammoniak und keine Ammonium- Verbindungen enthält.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Bad mit der im Patentanspruch 1 angegebenen Zusammensetzung.
Wegen seines Gehalts an Diphosphat und/oder Polyphosphat reagiert dieses Bad bereits schwach basisch. Zur Ein­ stellung des gewünschten pH-Wertes kann ergänzend in an sich bekannter Weise Kaliumhydroxid oder Natriumhydroxid zugesetzt werden. Brauchbare Abscheidebedingungen er­ reicht man mit einem pH-Wert zwischen 7 und 12; optimal ist ein pH-Wert zwischen 8 und 10. Zum Stabilisieren des pH-Wertes kann man in an sich bekannter Weise eine Puffersubstanz zugeben; geeignet sind Standardpuffer, beispielsweise Borate und Phosphate; z.B. läßt sich durch einen Borsäure-Natronlauge-Puffer der pH-Wert auf Werte zwischen 8 und 10 stabilisieren.
Das erfindungsgemäße Bad enthält das Silber in Form einer Komplexverbindung mit Succinimid. Ausser Succinimid können im Prinzip auch dessen Derivate (z.B. 2-Methyl­ succinimid, 2-Äthylsuccinimid oder Maleimid) zur Bildung von Silberkomplexverbindungen herangezogen werden, soweit sie in schwach alkalischer, wässriger Lösung leicht lösbar sind. Die Verwendung solcher Silberkomplexver­ bindungen in Bädern zum Abscheiden von reinem Silber ist an sich bekannt (DE-OS 26 10 507), nicht jedoch die Verwendung in Bädern zum gemeinsamen Abscheiden von Silber und Palladium beliebiger Zusammensetzung. Das erfindungsgemäße Bad kann zwischen 0,5 und 15 g/l Silber enthalten und zwischen 1 und 25 g/l Palladium. Damit lassen sich Silber-Palladium-Legierungen abscheiden, in denen das Gewichtsverhältnis von Silber zu Palladium zwischen 20/80 und 80/20 einstellbar ist; die Einstellung erfolgt durch entsprechendes Einstellen der Silberkonzentration und Palladiumkonzentration im Bad sowie durch Wahl der Badtemperatur.
Das Palladium ist in dem erfindungsgemäßen Bad in Form von Palladiumdiphosphat und/oder Palladiumpolyphosphat enthalten. Diese Verbindungen können dem Bad unmittelbar zugegeben werden; es ist auch möglich, dem Bad eine Palladiumnitritkomplexverbindung zuzusetzen und diese mit Diphosphorsäure oder Polyphosphorsäure oder deren Salzen, beispielsweise mit Kaliumdiphosphat, im Über­ schuß umzusetzen. Anstatt von einer Palladiumnitrit­ komplexverbindung kann man aber auch von anderen Palladiumverbindungen, insbesondere vom Palladiumhydroxid ausgehen und dieses mit Di- oder Polyphosphor­ säure oder deren Salzen im Überschuß umsetzen. Im Über­ schuß sollte zweckmässigerweise auch das Succinimid vor­ handen sein. Durch den Überschuß an komplexbildenden Substanzen soll ermöglicht werden, dass das Palladium und das Silber, welche von Beginn an im Bad sind oder im Laufe der Zeit in Form eines Ergänzungssalzes zugegeben werden, vollständig komplex gebunden werden können.
Zweckmässigerweise enthält das erfindungsgemäße Bad einen Zusatz, welcher als Netzmittel wirkt und die Ausbildung einer feinkörnigen und rißfreien Silber-Palladium- Legierung begünstigt. Als besonders geeignete Feinkorn­ zusatz- und Netzmittel für das erfindungsgemäße Bad haben sich wasserlösliche, sulfonierte, aromatische Aldehyde erwiesen, von denen Anisaldehydsulfonsäure und Benzaldehyddisulfonsäure besonders hervorzuheben sind. Andere geeignete Vertreter aus der Gruppe der sulfonierten aromatischen Aldehyde sind sulfoniertes Vanillin, sulfonierter Salicylaldehyd und sulfonierter Zimtaldehyd. Die sulfonierten Aldehyde werden dem Bad zweckmässigerweise in einer Menge von 0,1 bis 5 g/l, vorzugsweise 1 bis 3 g/l zugegeben.
Mit Bädern von erfindungsgemäßer Zusammensetzung lassen sich duktile rißfreie Überzüge aus Silber-Palladium- Legierungen mit seidenglänzender Oberfläche abscheiden.
Nachfolgend werden noch zwei Ausführungsbeispiele angegeben.
Beispiel 1
Das Band enthält
10 g/lPalladium als Kaliumtetranitritopalladat (II),  2 g/lSilber als Silber-Succinimid-Komplex, 30 g/lSuccinimid 40 g/lKaliumdiphosphat, 30 g/lBorsäure,  1 g/lSalicylaldehydsulfonsäure.
Zum Abscheiden einer Legierung aus 70 Gew.-% Silber und 30 Gew.-% Palladium stellt man in dem Bad durch Zugabe von Kaliumhydroxid einen pH-Wert von 9,5 ein und führt die Abscheidung bei einer Temperatur von 25°C und einer Stromdichte von 0,5 A/dm2 durch. Als Anoden verwendet man am besten solche aus platiniertem Titan, welche sich in dem Bad nicht auflösen.
Die abgeschiedene Silber-Palladium-Legierung ist duktil und rißfrei und hat eine seidenglänzende Oberfläche.
Beispiel 2
Das Bad enthält
 7 g/lPalladium als Palladiumpolyphosphat, hergestellt aus Palladiumoxidhydrat und Polyphosphat,  1 g/lSilber als Silber-Succinimid-Komplex, 25 g/lSuccinimid, 20 g/lNatriumpolyphosphat, 30 g/lBorsäure,  1 g/lBenzaldehyddisulfonsäure.
Zum Abscheiden einer Legierung aus 50 Gew.-% Silber und 50 Gew.-% Palladium wird durch Zugeben von Kaliumhydroxid ein pH-Wert von 9,5 eingestellt und die Abscheidung bei einer Temperatur von 40°C und einer Stromdichte von 0,5 A/dm2 durchgeführt. Als Anodenwerkstoff wählt man am besten wiederum platiniertes Titan.
Die abgeschiedene Silber-Palladium-Legierung ist duktil und rißfrei und hat eine seidenglänzende Oberfläche.

Claims (10)

1. Wässriges, schwach alkalisches, cyanid- und ammoniakfreies Bad zum elektrolytischen Abscheiden von Silber-Palladium-Legierungen aus löslichen Ver­ bindungen des Silbers und des Palladiums, dadurch gekennzeichnet, dass es das Silber als Silber- Succinimidkomplex oder Silber-Succinimidderivatkomplex und das Palladium als Palladiumdiphosphat und/oder als Palladiumpolyphosphat enthält.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es zwischen 0,5 und 15 g/l Silber enthält.
3. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es zwischen 1 und 25 g/l Palladium enthält.
4. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es das Palladiumdiphosphat bzw. das Palladiumpoly­ phosphat als Reaktionsprodukt aus einer Palladiumver­ bindung, z.B. Palladiumhydroxid oder Palladiumnitrit­ verbindung, und Di- bzw. Polyphosphorsäure oder deren Salzen enthält.
5. Bad nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass es die Di- bzw. Polyphosphorsäure bzw. deren Salze­ verglichen mit der Palladiumnitritverbindung - im stöchiometrischen Überschuß enthält.
6. Bad nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Bad das Palladium als Reaktionsprodukt aus Kaliumtetranitritopalladat (II) und Kaliumdiphosphat oder Kaliumpolyphosphat enthält.
7. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es bis zu 200 g/l, vorzugsweise 20 bis 50 g/l Succinimid im Überschuß enthält.
8. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es als Feinkornzusatz- und Netzmittel (Tensid) einen wasserlöslichen, sulfonierten, aromatischen Aldehyd enthält.
9. Bad nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass es als Aldehyd einen oder mehrere Vertreter aus der Gruppe von sulfoniertem Vanillin, Anis-, Salicyl-, Zimt- und Benzaldehyd enthält, wobei Anisaldehydsulfon­ säure und Benzaldehyddisulfonsäure besonders bevorzugt sind.
10. Bad nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Bad den Aldehyd in einer Menge von 0,1 bis 5 g/l, vorzugsweise 1 bis 3 g/l enthält.
DE19863609309 1986-03-20 1986-03-20 Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen Granted DE3609309A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19863609309 DE3609309A1 (de) 1986-03-20 1986-03-20 Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen
DE8787103932T DE3764685D1 (de) 1986-03-20 1987-03-18 Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen.
EP87103932A EP0239876B1 (de) 1986-03-20 1987-03-18 Bad zum elektrolytischen Abscheiden von Silber-Palladium-Legierungen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19863609309 DE3609309A1 (de) 1986-03-20 1986-03-20 Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3609309A1 true DE3609309A1 (de) 1987-09-24
DE3609309C2 DE3609309C2 (de) 1988-06-01

Family

ID=6296792

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19863609309 Granted DE3609309A1 (de) 1986-03-20 1986-03-20 Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen
DE8787103932T Expired - Lifetime DE3764685D1 (de) 1986-03-20 1987-03-18 Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen.

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8787103932T Expired - Lifetime DE3764685D1 (de) 1986-03-20 1987-03-18 Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen.

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0239876B1 (de)
DE (2) DE3609309A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02104699A (ja) * 1988-10-11 1990-04-17 C Uyemura & Co Ltd 銀の電解剥離剤及び電解剥離方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE167531T1 (de) * 1993-04-07 1998-07-15 Atotech Deutschland Gmbh Elektrolytische abscheidung von palladium oder palladiumlegierungen

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2704691A1 (de) * 1976-03-01 1977-09-08 Technic Cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung glaenzender silber- und silberlegierungsueberzuege und wasserloeslicher silberkomplex zur herstellung desselben
EP0112561A1 (de) * 1982-12-22 1984-07-04 LeaRonal, Inc. Wässrige Elektroplattierlösungen und Verfahren für das Elektroplattieren von Palladium-Silber-Legierungen

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BR8001854A (pt) * 1979-04-04 1980-11-18 Engelhard Min & Chem Banho de revestimento de prata ou liga da mesma e respectivo processo de estabilizacao
US4487665A (en) * 1980-12-17 1984-12-11 Omi International Corporation Electroplating bath and process for white palladium

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2704691A1 (de) * 1976-03-01 1977-09-08 Technic Cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung glaenzender silber- und silberlegierungsueberzuege und wasserloeslicher silberkomplex zur herstellung desselben
EP0112561A1 (de) * 1982-12-22 1984-07-04 LeaRonal, Inc. Wässrige Elektroplattierlösungen und Verfahren für das Elektroplattieren von Palladium-Silber-Legierungen

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Platinum Metals Review 1984, 28, (3), S.117-124 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02104699A (ja) * 1988-10-11 1990-04-17 C Uyemura & Co Ltd 銀の電解剥離剤及び電解剥離方法
JPH0587598B2 (de) * 1988-10-11 1993-12-17 Uemura Kogyo Kk

Also Published As

Publication number Publication date
DE3609309C2 (de) 1988-06-01
EP0239876B1 (de) 1990-09-05
EP0239876A1 (de) 1987-10-07
DE3764685D1 (de) 1990-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2244434C3 (de) Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Goldlegierungen
DE2255728C2 (de) Wässriges, cyanidfreies Bad mit p↓H↓-Werten von 6 und mehr zur galvanischen Abscheidung heller und einheitlich starker Metallüberzüge
DE2355581C3 (de) Galvanisches Glanzgoldbad mit hoher Abscheidungsgeschwindigkeit
CH647269A5 (de) Plattierungsloesung fuer die ablagerung einer palladium/nickel-legierung.
DE832982C (de) Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer
DE3447813C2 (de)
DE1496916B1 (de) Cyanidfreies,galvanisches Bad und Verfahren zum Abscheiden galvanischer UEberzuege
DE68902192T2 (de) Ethylenthioharnstoff enthaltende zusammensetzungen zur herstellung von verschleissfesten, stromlos abgeschiedenen nickel-borueberzuegen.
DE2458913A1 (de) Vergoldungsbad und dessen verwendung
DE2608644C3 (de) Glanzzinkbad
EP0119424B1 (de) Verfahren zum Abscheiden von niederkarätigen, glänzenden Gold-Silber-Legierungsüberzügen
CH636909A5 (de) Verfahren zur galvanischen abscheidung eines eisen und nickel und/oder kobalt enthaltenden niederschlags und hierfuer geeignetes bad.
DE3609309A1 (de) Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen
DE69011578T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines einseitig elektrogalvanisierten Stahlbandes.
DE69011549T2 (de) Elektroplattierung von Gold enthaltenden Legierungen.
AT353071B (de) Cyanidfreies, basisches sulfitbad zur elektrolytischen faellung von gold-zink- legierungen
DE3502995C2 (de)
DE10214859B4 (de) Verfahren zum Verkupfern oder Verbronzen eines Gegenstandes und flüssige Gemische hierfür
DE2122455C3 (de) Wäßrige Lösung für die stromlose Ablagerung einer Nickel-Kupfer-Phosphor-Legierung mit höchstens 25 Gew.% Kupfer
DE3416993A1 (de) Waessrige, saure, nickel- und cobalt-ionen enthaltende elektrolyte zur galvanischen abscheidung von harten, anlaufbestaendigen, weiss glaenzenden legierungsueberzuegen
DE2166059A1 (de) Stromlos plattierter Gegenstand Ausscheidung aus 2122455
DE2236493B2 (de) Verfahren zum galvanischen abscheiden glaenzender goldueberzuege mit hohem goldgehalt
DE2125589C3 (de) Verfahren zur galvanischen Direktverkupferung von Aluminium
DE3013029C2 (de) Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge
DE4440176C2 (de) Bad zum galvanischen Abscheiden von Silber-Zinn-Legierungen

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: DODUCO GMBH + CO DR. EUGEN DUERRWAECHTER, 7530 PFO

8339 Ceased/non-payment of the annual fee