DE3013029C2 - Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge - Google Patents
Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung glänzender, rißfreier PalladiumüberzügeInfo
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
- C25D3/52—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals characterised by the organic bath constituents used
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Description
Die Erfindung betrifft ein galvanisches Bad zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge, das
1 — 15 g/l Palladium in Form von Palladium-(II)-diaminodinitrit,
10—50 g/l Ammoniumnitrat und gegebenenfalls 1—20 g/l eines Komplexbildners enthält, und ein
Verfahren unter Verwendung dieses Bads.
Palladium läßt sich aus wäßrigen Lösungen aus einer ganzen Reihe von Palladiumverbindungen galvanisch
abscheiden. Die am meisten hierfür verwendete Verbindung ist das Pailadiumdiaminodinitrit, das sogenannte
P-SaIz. Es sind eine ganze Reihe von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Palladiumschichten bekannt,
die dies Salz enthalten.
So sind z. B. Palladiumbäder bekannt, die das P-SaIz
in einem Ammoniumnitrat-Ammoniumhydroxid-Puffer bei einem pH-Wert von etwa 9 enthalten. Aus diesen
Bädern erhält man jedoch nur weißgraue, matte Palladiumüberzüge, die ab einer Schichtdicke von etwa 1 μιη
zud( m rissig ausfallen. Da solche Bäder gegen metallische
Verunreinigungen, insbesondere Kupfer, sehr empfindlich sind, setzt man ihnen vorteilhafterweise starke
Komplexbildner wie Salze der Äthylendiamintetraessigsäure zu, um diese Verunreinigungen zu binden.
Diese bekannten Palladiumbäder sind stabil und lassen sich bei sorgfältigem Arbeiten über längere Zeit
störungsfrei betreiben. Die abgeschiedenen Überzüge sehen jedoch matt aus und sind sehr griffempfindlich.
Außerdem weisen die Überzüge hohe innere Spannungen auf, die je nach Betriebsbedingungen und dem Grad
der Verunreinigung des Elektrolyten schon bei geringen Schichtdicken zu einer Rißbildung führen können. Ein
weiterer Nachteil besteht darin, daß die Elektrolyte aufgrund ihres pH-Wertes von etwa 9 stets geringe Mengen
an Ammoniak abgeben, was zu einer Geruchsbelästigung beim Arbeiten mit diesen Bädern führt und mit
einem stetigen Absinken des pH-Wertes verbunden ist.
Es war daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein galvanisches Bad zur Abscheidung von Palladiumüberzügen
zu finden mit 1 — 15 g/l Palladium in Form von Palladium-(ll)-diiiminodinitrit. 10 —50 g/l Ammoniumnitrat
und gegebenenfalls 1 —20 g/I eines Komplexbildners, das glänzende und rißfreie Schichten auch bei
höheren Schichtstärken liefert, sowie ein Verfahren unter Verwendung dieses Bades festzulegen.
Diese Aufgabe wurde erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das Bad 0,05 bis 1 g/l eines wasserlöslichen
Derivats des Benzophenons enthält Besonders bewährt hat sich der Zusatz von Benzophenonsulfonsaure oder
von 2-Hydroxy~4-methoxy-benzophenon-5-sulfonsäure
als wasserlösliches Derivat des Benzophenons und der Zusatz von Äthylendiamintetraessigsäure als Komplexbildner.
Beim Verfahren unter Verwendung solcher Bäder werden diese bei pH-Werten zwischen 6 und 8 und
Stromdichten von 03—2 A/dm2 betrieben.
Anhand des folgenden Beispiels soll die Erfindung näher beschrieben werden. In 1 Liter Wasser wurden
20 g Ammoniumnitrat gelöst und durch Z'j^abe von Ammoniak auf einen pH-Wert von 9 gebracht In diese
Lösung wurden 8 g Palladium als Palladiumdiaminodinitrit
eingebracht Aus diesem Bad wurde mit platziertem ι ΐΐΗΠ SiS üfuGSiiCiic niiOuc UIIu einem VciTiiCKciicn, pülierten
Messingblech als Kathode bei Raumtemperatur mit einer Stromdichte von 1 A/dm2 Palladium abgeschieden,
wobei die Kathode mit einer Gcschwindigkeii von 5 cm/s bewegt wurde, um anhaftende Wasscrstoffblasen
abzustreifen. Nach einer Galvanisierdauer von 20 Minuten wurde ein mattgrauer Überzug von 23 μπι
Stärke erhalten, welcher insbesondere im Bereich der Kanten feine Risse aufwies. Diesem Elektrolyten wurden
200 mg 2-Hydroxy-4-methoxy-benzophenin-5-sulfonsäure
zugesetzt und mit Salpetersäure der pH-Wert auf 7 eingestellt. Bei Raumtemperatur, einer Stromdichte
von 1 A/dm2 und den übrigen obigen Bedingungen erhält man nach 20 Minuten Galvanisierdauer eine
2,5 μιη starke, hochglänzende und rißfreic Palladiumschicht.
Claims (4)
1. Galvanisches Bad zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge mit 1 — 15 g/l Palladium
in Form von PalIadium-(II)-diaminodinitrit, 10—50 g/l Ammoniumnitrat und gegebenenfalls
1—20g/l eines Komplexbildners, dadurch gekennzeichnet,
daß es 0,05— 1 g/l eines wasserlöslichen Derivates des Benzophenons enthält
2. Galvanisches Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß es als wasserlösliches Derivat des Benzophenons Benzophenonsulfonsaure oder 2-Hydroxy-4-methoxy-benzophenon-5-sulfonsäure
enthält
3. Galvanisches Bad nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es als Komplexbildner
Äthyldiamintetraessigsäure enthält
4. Verfahren zur galvanischen Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge unter Verwendung
eines Bades nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß das Bad bei pH-Werten zwischen 6 und 8 und Stromdichten von 0,5 bis 2 A/
dm2 betrieben wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803013029 DE3013029C2 (de) | 1980-04-03 | 1980-04-03 | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19803013029 DE3013029C2 (de) | 1980-04-03 | 1980-04-03 | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3013029A1 DE3013029A1 (de) | 1981-10-15 |
DE3013029C2 true DE3013029C2 (de) | 1985-05-09 |
Family
ID=6099231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19803013029 Expired DE3013029C2 (de) | 1980-04-03 | 1980-04-03 | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3013029C2 (de) |
-
1980
- 1980-04-03 DE DE19803013029 patent/DE3013029C2/de not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
NICHTS-ERMITTELT |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3013029A1 (de) | 1981-10-15 |
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