DE3013029C2 - Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge - Google Patents

Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge

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DE3013029C2
DE3013029C2 DE19803013029 DE3013029A DE3013029C2 DE 3013029 C2 DE3013029 C2 DE 3013029C2 DE 19803013029 DE19803013029 DE 19803013029 DE 3013029 A DE3013029 A DE 3013029A DE 3013029 C2 DE3013029 C2 DE 3013029C2
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Eberhard Ing.(grad.) 7470 Ebingen Bitzer
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
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    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
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Description

Die Erfindung betrifft ein galvanisches Bad zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge, das 1 — 15 g/l Palladium in Form von Palladium-(II)-diaminodinitrit, 10—50 g/l Ammoniumnitrat und gegebenenfalls 1—20 g/l eines Komplexbildners enthält, und ein Verfahren unter Verwendung dieses Bads.
Palladium läßt sich aus wäßrigen Lösungen aus einer ganzen Reihe von Palladiumverbindungen galvanisch abscheiden. Die am meisten hierfür verwendete Verbindung ist das Pailadiumdiaminodinitrit, das sogenannte P-SaIz. Es sind eine ganze Reihe von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Palladiumschichten bekannt, die dies Salz enthalten.
So sind z. B. Palladiumbäder bekannt, die das P-SaIz in einem Ammoniumnitrat-Ammoniumhydroxid-Puffer bei einem pH-Wert von etwa 9 enthalten. Aus diesen Bädern erhält man jedoch nur weißgraue, matte Palladiumüberzüge, die ab einer Schichtdicke von etwa 1 μιη zud( m rissig ausfallen. Da solche Bäder gegen metallische Verunreinigungen, insbesondere Kupfer, sehr empfindlich sind, setzt man ihnen vorteilhafterweise starke Komplexbildner wie Salze der Äthylendiamintetraessigsäure zu, um diese Verunreinigungen zu binden.
Diese bekannten Palladiumbäder sind stabil und lassen sich bei sorgfältigem Arbeiten über längere Zeit störungsfrei betreiben. Die abgeschiedenen Überzüge sehen jedoch matt aus und sind sehr griffempfindlich. Außerdem weisen die Überzüge hohe innere Spannungen auf, die je nach Betriebsbedingungen und dem Grad der Verunreinigung des Elektrolyten schon bei geringen Schichtdicken zu einer Rißbildung führen können. Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß die Elektrolyte aufgrund ihres pH-Wertes von etwa 9 stets geringe Mengen an Ammoniak abgeben, was zu einer Geruchsbelästigung beim Arbeiten mit diesen Bädern führt und mit einem stetigen Absinken des pH-Wertes verbunden ist.
Es war daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein galvanisches Bad zur Abscheidung von Palladiumüberzügen zu finden mit 1 — 15 g/l Palladium in Form von Palladium-(ll)-diiiminodinitrit. 10 —50 g/l Ammoniumnitrat und gegebenenfalls 1 —20 g/I eines Komplexbildners, das glänzende und rißfreie Schichten auch bei höheren Schichtstärken liefert, sowie ein Verfahren unter Verwendung dieses Bades festzulegen.
Diese Aufgabe wurde erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das Bad 0,05 bis 1 g/l eines wasserlöslichen Derivats des Benzophenons enthält Besonders bewährt hat sich der Zusatz von Benzophenonsulfonsaure oder von 2-Hydroxy~4-methoxy-benzophenon-5-sulfonsäure als wasserlösliches Derivat des Benzophenons und der Zusatz von Äthylendiamintetraessigsäure als Komplexbildner. Beim Verfahren unter Verwendung solcher Bäder werden diese bei pH-Werten zwischen 6 und 8 und Stromdichten von 03—2 A/dm2 betrieben.
Anhand des folgenden Beispiels soll die Erfindung näher beschrieben werden. In 1 Liter Wasser wurden 20 g Ammoniumnitrat gelöst und durch Z'j^abe von Ammoniak auf einen pH-Wert von 9 gebracht In diese Lösung wurden 8 g Palladium als Palladiumdiaminodinitrit eingebracht Aus diesem Bad wurde mit platziertem ι ΐΐΗΠ SiS üfuGSiiCiic niiOuc UIIu einem VciTiiCKciicn, pülierten Messingblech als Kathode bei Raumtemperatur mit einer Stromdichte von 1 A/dm2 Palladium abgeschieden, wobei die Kathode mit einer Gcschwindigkeii von 5 cm/s bewegt wurde, um anhaftende Wasscrstoffblasen abzustreifen. Nach einer Galvanisierdauer von 20 Minuten wurde ein mattgrauer Überzug von 23 μπι Stärke erhalten, welcher insbesondere im Bereich der Kanten feine Risse aufwies. Diesem Elektrolyten wurden 200 mg 2-Hydroxy-4-methoxy-benzophenin-5-sulfonsäure zugesetzt und mit Salpetersäure der pH-Wert auf 7 eingestellt. Bei Raumtemperatur, einer Stromdichte von 1 A/dm2 und den übrigen obigen Bedingungen erhält man nach 20 Minuten Galvanisierdauer eine 2,5 μιη starke, hochglänzende und rißfreic Palladiumschicht.

Claims (4)

Patentansprüche:
1. Galvanisches Bad zur Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge mit 1 — 15 g/l Palladium in Form von PalIadium-(II)-diaminodinitrit, 10—50 g/l Ammoniumnitrat und gegebenenfalls 1—20g/l eines Komplexbildners, dadurch gekennzeichnet, daß es 0,05— 1 g/l eines wasserlöslichen Derivates des Benzophenons enthält
2. Galvanisches Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es als wasserlösliches Derivat des Benzophenons Benzophenonsulfonsaure oder 2-Hydroxy-4-methoxy-benzophenon-5-sulfonsäure enthält
3. Galvanisches Bad nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es als Komplexbildner Äthyldiamintetraessigsäure enthält
4. Verfahren zur galvanischen Abscheidung glänzender, rißfreier Palladiumüberzüge unter Verwendung eines Bades nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad bei pH-Werten zwischen 6 und 8 und Stromdichten von 0,5 bis 2 A/ dm2 betrieben wird.
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