DE3604173C2 - - Google Patents
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Halbleiterschaltein
richtung gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Der Oberbegriff des Patentanspruchs 1 geht von einem
firmeninternen Stand der Technik aus, wie er zumindest
der Anmelderin bekannt ist. Demzufolge sind Halbleiter-
Schalteinrichtungen bekannt, bei denen eine Last mittels
eines Schalttransistors selektiv ein- und ausschaltbar
ist, dessen Basis von einer Treiberstufe zum Ein- und
Ausschalten der Stromzufuhr zur Last angesteuert wird.
Ein wesentliches Kriterium für den Entwurf der Treiberstufe
des Schalttransistors besteht darin, den Schalttransistor
bei genau definierten Verhältnissen, d. h. bei einem genau
vorgebbaren Schwellenwert des an einem Steueranschluß
anliegenden Steuersignals ein- und ausschalten zu können.
In der Praxis wird der Steueranschluß der Treiberstufe
daher meist über ein Spannungssignal gesteuert, dessen
Triggerpegel leicht mit einem ohne Probleme auf einem
Halbleiterchip integrierbaren Spannungsteiler eingestellt
werden kann.
Ein Nachteil einer derartigen Steuerspannung liegt indes
darin, daß die Steuerspannung sehr leicht durch äußere
Störungen, wie z. B. Brummeinstreuungen, überlagert werden
kann, so daß die Treiberstufe den Schalttransistor u. U.
nicht bei dem gewünschten Schwellenwert ein- oder aus
schaltet.
Es wurde daher bereits vorgeschlagen, die Treiberstufe
nicht über ein Spannungssignal, sondern über ein Stromsignal
anzusteuern, das bekanntlich wesentlich weniger anfällig
für Brummeinstreuungen ist. Bei den bekannten Treiberstufen
bereitet es jedoch große Probleme, bei Verwendung eines
Stromsignals einen genauen Schwellenstrom einzustellen,
bei dem die Treiberstufe den Schalttransistor durchsteuert.
So war es bisher insbesondere nicht möglich, bei einer
integrierten Treiberstufe, d. h. ohne die Verwendung externer
Bauelemente, eine ausreichende Schaltgenauigkeit zu
erzielen.
Der Erfindung liegt demgemäß die Aufgabe zugrunde, eine
Halbleiter-Schalteinrichtung gemäß dem Oberbegriff des
Patentanspruchs 1 derart weiterzubilden, daß bei Einsatz
eines Stromsignals auch bei Ausführung der Halbleiterschalt
einrichtung als integrierte Schaltung eine sehr hohe
Schaltgenauigkeit erzielbar ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit den im kennzeichnen
den Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Maßnahmen
gelöst.
Dabei wird durch den Lateraltransistor gemäß Merkmal
(A) erreicht, daß ein zum Substrat fließender Strom von
der zusätzlichen Halbleiterzone 18 abgefangen wird und
von dieser zum Steueranschluß 21 fließt. Wenn der Steuer
strom allmählich ansteigt, steigt auch der Kollektorstrom
allmählich an, so daß sich der Spannungsabfall an dem
Widerstand R 2 entsprechend erhöht. Hierdurch steigt die
Basisemitterspannung des Transistors Q 3 schneller an
als die des Transistors Q 4, wobei die Durchschaltung
des Schalttransistors Q 5 genau dann erfolgt, wenn der
Steuerstrom einen Schwellenwert erreicht, der durch das
Verhältnis der Emitterfläche der Transistoren Q 3 und
Q 4 genau einstellbar ist.
Erfindungsgemäß wird hierdurch erreicht, daß die gewünschte
Schaltschwelle sehr einfach und störungsunanfällig durch
geeignete Wahl des Emitterflächenverhältnisses eingestellt
werden kann. Da es darüber hinaus sehr einfach ist, dieses
Flächenverhältnis mit üblichen Lithographieverfahren
mit hoher Genauigkeit einzustellen, eignet sich die erfin
dungsgemäße Schalteinrichtung hervorragend für die Inte
gration auf einem Halbleiterchip.
Aus dem Patents Abstracts of Japan, Band 7, 2. April
1983, Nr. 80, E-163, 58-9370 (A) ist ein Lateraltransistor
bekannt, der von innen nach außen eine Emitterzone, eine
erste und zweite Kollektorzone und einen Isolierbereich
aufweist.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbei
spielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1A ist eine schematische Draufsicht auf einen
Lateraltransistor gemäß einem Aus
führungsbeispiel.
Fig. 1B ist eine Ansicht eines Schnitts längs einer Li
nie I-I in Fig. 1A.
Fig. 1C ist eine Äquivalenzschaltung des Lateraltransi
stors gemäß dem Ausführungsbeispiel.
Fig. 2 ist ein Schaltbild eines erfindungsgemäßen Schaltglieds, das un
ter Verwendung des Lateraltransistors gemäß dem
Ausführungsbeispiel aufgebaut ist.
Gemäß den Fig. 1A, 1B und 1C wird auf einem P--Substrat 11 eine
versenkte N⁺-Schicht 12 und darauffolgend durch epi
taxiales Wachsen eine N--Schicht 13 gebildet. Danach wird
beispielsweise durch Diffusion eine P⁺-Zone 14 als Zel
lenisolierzone gebildet. Darauffolgend werden eine P⁺-
Emitterzone 15, eine erste P⁺-Kollektorzone 16, eine
zweite P⁺-Kollektorzone 17 und eine die Kollektorzonen 16
und 17 umgebende P⁺-Zone 18 gebildet, wonach schließlich
eine N⁺-Zone 19 so ausgebildet wird, daß sie die P⁺-Zone
18 umgibt. Es ist zwar nicht immer notwendig, daß die N⁺-
Zone 19 die P⁺-Zone 18 umgibt, jedoch bietet der umrah
mende Aufbau einen Vorteil insofern, als Störeffekte
unterdrückt werden. Ferner kann die N⁺-Zone 19 auch ver
tieft ausgebildet werden, wie es in Fig. 1B durch gestri
chelte Linien dargestellt ist.
In den Fig. 1A und 1B sind die Einzelheiten der Gestaltung der
jeweiligen Elektroden und Isolierfilme weggelassen und
nur schematisch die jeweiligen Elektroden gezeigt. Dem
nach sind eine Emitterelektrode E von der Emitterzone 15,
Kollektorelektroden C 1 und C 2 von den Kollektorzonen 16
bzw. 17, eine Basiselektrode B von der N⁺-Zone 19 und
eine Elektrode T von der P⁺-Zone 18 herausgeführt.
Wenn bei dieser Gestaltung beispielsweise die Spannung
zwischen der Kollektorelektrode C 2 und der Emitterelek
trode E so abgesenkt ist, daß der Sättigungsbetriebs
zustand des Transistors erreicht ist, und an die Elek
trode T eine Spannung angelegt wird, die niedriger als
die an der Kollektorelektrode C 1 oder C 2 angelegte ist,
fließt der Strom aus der Emitterzone 15 zu der P⁺-Zone 18
mit dem niedrigeren Potential als die Kollektorzone 17
und nicht zu dem Substrat 11.
Nachstehend wird eine erfindungsgemäße Halbleiter-Schalteinrichtung beschrieben, in der ein
Lateraltransistor verwendet wird.
Die Fig. 2 ist ein Schaltbild einer erfindungsgemäßen Halbleiter-Schalteinrichtung
bzw. eines Schaltglieds, die bzw. das den Lateraltran
sistor gemäß dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbei
spiel enthält.
Die Fig. 2 zeigt einen Lateraltransistor Q 6 gemäß dem
Ausführungsbeispiel. Die Kollektorelektrode C 1 und die
Basiselektrode B sind miteinander verbunden, so daß sich
im wesentlichen funktionell zwei PNP-Transistoren erge
ben, die eine Stromspiegel-Konstantstromschaltung bilden.
Die Kollektoren C 1 und C 2 des Transistors Q 6 sind jeweils
mit dem Kollektor von NPN-Transistoren Q 3 bzw. Q 4 verbun
den. Die Transistoren Q 3 und Q 4 haben Emitterflächen in
einem Verhältnis von n : 1 (n < 1). Die Basiselektroden der
Transistoren Q 3 und Q 4 sind gemeinsam über einen Wider
stand R 1 mit dem positiven Anschluß einer Stromquelle 20
verbunden, so daß die Transistoren Q 3 und Q 4 auf einen
konstanten Pegel vorgespannt sind. Es ist ausreichend,
wenn der Widerstand R 1 einen hohen Widerstandswert hat,
jedoch kann statt dessen auch eine Konstantstromquelle wie
ein Feldeffekttransistor eingesetzt werden. Der Emitter
des Transistors Q 3 ist über einen Widerstand R 2 mit einem
Eingangsanschluß 21 verbunden, mit dem der Emitter des
Transistors Q 4 direkt verbunden ist. Ferner ist an den
Eingangsanschluß 21 auch die Elektrode T des Lateral
transistors Q 6 angeschlossen.
Der Kollektor C 2 des Transistors Q 6 ist mit der Basis
eines PNP-Transistors Q 5 verbunden. Der Emitter des
Transistors Q 5 ist an den positiven Anschluß der Strom
quelle 20 angeschlossen, während der Kollektor des
Transistors Q 5 über einen Lastkreis 22 mit einer Masse
leitung GND verbunden ist. Da der negative Anschluß der
Stromquelle 20 mit der Masseleitung GND verbunden ist,
wird der Lastkreis 22 durch das Ein- und Ausschalten des
Transistors Q 5 angesteuert. Ferner ist der Emitter des
Transistors Q 6 mit dem positiven Anschluß der Stromquelle
20 verbunden und erhält aus dieser einen Strom.
Bei der vorstehend beschriebenen erfindungsgemäßen Halbleiter-Schalteinrichtung wird
der Transistor Q 5 in Abhängigkeit davon ein- oder ausge
schaltet, ob ein über den Eingangsanschluß fließender
Strom einen bestimmten Schwellenwert I th übersteigt. Der
Schwellenwert I th ist durch das Verhältnis n der Emitter
fläche des Transistors Q 3 zu der Emitterfläche des
Transistors Q 4 sowie durch zum Emitter des Transistors
Q 3 führenden Widerstand R 2 bestimmt, was nachfolgend er
läutert wird.
Als nächstes wird die Schaltfunktion der vorstehend be
schriebenen erfindungsgemäßen Halbleiter-Schalteinrichtung erläutert.
Wenn zuerst ein Eingangsstrom I geringer als der
Schwellenwert I th ist, ist der Spannungsabfall an dem
Widerstand R 2 gering, wobei der Transistor Q 5 in den
Ausschaltzustand geschaltet bzw. gesperrt wird und keine
Strombegrenzung des Stroms I erfolgt. Da ferner die Emit
terfläche des Transistors Q 3 größer als diejenige des
Transistors Q 4 ist, wird der Kollektorstrom Ic 3 des
Transistors Q 3 größer als der Kollektorstrom Ic 4 des
Transistors Q 4 (Ic 3 < Ic 4). Da jedoch der Lateraltran
sistor Q 6 eine Stromspiegel-Konstantstromschaltung
bildet, fließt über die Strecke zwischen dem Emitter E
und dem Kollektor C 2 des Transistors Q 6 ein Strom, der
zum Kollektorstrom Ic₃ des Transistors Q 3 äquivalent ist,
wobei das Potential an dem Kollektor C 2 bis nahe an die
Spannung der Stromquelle 20 ansteigt. Infolgedessen
bleibt der Sperrzustand des Transistors Q 5 erhalten, so
daß dem Lastkreis 22 kein Strom zugeführt wird. Zu diesem
Zeitpunkt wird die Potentialdifferenz zwischen dem Emit
ter E und dem Kollektor C 2 des Transistors Q 6 klein.
Infolgedessen würde bei der Verwendung eines anhand der
Fig. 3 beschriebenen herkömmlichen Laterialtransistors
ungenutzter Strom von der Emitterzone 3 zu dem Substrat 1
fließen. Bei diesem Ausführungsbeispiel des Schaltglieds,
bei dem der Lateraltransistor gemäß den Fig. 1A bis 1C
verwendet wird, wird jedoch der Strom durch die P⁺-Zone
18 abgefangen, so daß er über die Elektrode T zu dem
Eingangsanschluß 21 fließt.
Sobald der Strom I allmählich ansteigt, steigt auch der
Kollektorstrom Ic 3 an, was einen gesteigerten Spannungs
abfall an dem Widerstand R 2 ergibt. Infolgedessen steigt
die Basis-Emitter-Spannung des Transistors Q 4 bevorzugt
gegenüber derjenigen des Transistors Q 3 an. Solange aber
der Strom I nicht den Schwellenwert I th erreicht, der
durch das Emitterflächenverhältnis n zwischen den Tran
sistoren Q 3 und Q 4 sowie den Widerstand R 2 bestimmt ist,
wird trotzdem die Bedingung Ic 3 < Ic 4 aufrechterhalten,
so daß der Transistor Q 5 gesperrt bleibt.
Wenn dann der Strom I weiter ansteigt und den Schwellen
wert I th übersteigt, ergibt sich hinsichtlich der Kollek
torströme der Transistoren Q 3 und Q 4 der Zustand Ic 3<
Ic 4. Da jedoch der Strom über den Kollektor C 2 des
Transistors Q 6 zu dem Strom Ic 3 äquivalent ist, wird das
Kollektorpotential des Transistors Q 4 abgesenkt, so daß
der Transistor Q 5 durchgeschaltet wird und dem Lastkreis
22 Strom aus der Stromquelle 20 zugeführt wird.
Auf diese Weise fließt bei dem Ausschaltzustand, bei dem
dem Lastkreis kein Strom zugeführt wird, kein Strom von
der Stromquelle 20 zur Masse. Ferner kann der über den
Eingangsanschluß fließende Strom I im wesentlichen gleich
dem über den Transistor Q 6 fließende Strom gemacht
werden, wodurch die Stromverschwendung herabgesetzt wird.
Gemäß der vorstehenden ausführlichen Beschreibung wird
der Lateraltransistor zum Verhindern
eines nutzlosen Stromflusses zum Substrat selbst im
Sättigungsbetriebszustand gestaltet, so daß der Stromver
brauch auf ein Mindestmaß herabgesetzt werden kann.
Claims (1)
- Halbleiter-Schalteinrichtung zur selektiven Stromzufuhr zu einer Last, die an den Kollektor eines Schalttransistors angeschlossen ist, dessen Emitter an eine Stromquelle und dessen Basis an eine Treiberschaltung angeschlossen ist, die den Schalttransistor nach Maßgabe des an einem Steueran schluß fließenden Steuerstroms ein- und ausschaltet, gekennzeichnet durch
- (A) einen Lateraltransistor (Q 6) mit einer Basiszone (19), einer Emitterzone (15), einer ersten (C 1) und einer zweiten (C 2) Kollektorzone (16, 17), deren Leitungstyp dem der Emitterzone entspricht, sowie mit einer außerhalb der beiden Kollektorzonen angeordneten und deren Leitungstyp aufwei senden Halbleiterzone (18; T),
- (B) einen ersten NPN-Transistor (Q 3), dessen Kollektor mit der Basis und dem ersten Kollektor (C 1) des Lateraltran sistors (Q 6) verbunden ist, sowie durch
- (C) einen zweiten NPN-Transistor (Q 4), dessen Emitter fläche das 1/n-fache der Emitterfläche des ersten NPN- Transistors (Q 3) beträgt und dessen Kollektor mit dem zweiten Kollektor (C 2) des Lateraltransistors (Q 6) verbunden ist, wobei
- (D) die Basis des Schalttransistors (Q 5) mit dem zweiten Kollektor (C 2) des Lateraltransistors (Q 6) und dem Kollektor des zweiten Transistors (Q 4) verbunden ist,
- (E) der Emitter des Lateraltransistors und - über einen hochohmigen Vorwiderstand (R 1) - die Basen der NPN-Tran sistoren (Q 3, Q 4) mit der Stromquelle (20) verbunden sind, und wobei schließlich
- (F) der Steueranschluß (21) mit der Halbleiterzone (18; T) des Lateraltransistors (Q 6), dem Emitter des zweiten NPN- Transistors (Q 4) und - über einen Vorwiderstand (R 2) - mit dem Emitter des ersten NPN-Transistors (Q 3) verbunden ist.
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