DE3545355C2 - Lithium-Tantalat-Einkristallwafer - Google Patents

Lithium-Tantalat-Einkristallwafer

Info

Publication number
DE3545355C2
DE3545355C2 DE3545355A DE3545355A DE3545355C2 DE 3545355 C2 DE3545355 C2 DE 3545355C2 DE 3545355 A DE3545355 A DE 3545355A DE 3545355 A DE3545355 A DE 3545355A DE 3545355 C2 DE3545355 C2 DE 3545355C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
wafer
single crystal
lithium tantalate
crystal wafer
saw
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE3545355A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3545355A1 (de
Inventor
Masahiro Ogihara
Shinji Makikawa
Masaaki Iguchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Publication of DE3545355A1 publication Critical patent/DE3545355A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3545355C2 publication Critical patent/DE3545355C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02535Details of surface acoustic wave devices
    • H03H9/0296Surface acoustic wave [SAW] devices having both acoustic and non-acoustic properties
    • H03H9/02968Surface acoustic wave [SAW] devices having both acoustic and non-acoustic properties with optical devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • C30B29/30Niobates; Vanadates; Tantalates
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02535Details of surface acoustic wave devices
    • H03H9/02543Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
    • H03H9/02559Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of lithium niobate or lithium-tantalate substrates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/85Piezoelectric or electrostrictive active materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/42Piezoelectric device making

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen Lithium-Tantalat-Wafer.
Derartige Einkristall-Wafer dienen als Ausgangsmaterial zur Herstellung von Sendern, Empfängern oder Wandlern für akustische Oberflächenwellen (SAW devices) hoher Qualität und mit genau definierten Eigenschaften.
Bekannterweise sind Einkristalle aus Lithium- Tantalat, Lithium-Niobat und Quarz als ferroelektrischer und piezoelektrischer Werkstoff verwendbar. So werden beispielsweise die obengenannten SAW-Wandler aus derartigen Einkristallen hergestellt.
Unter diesen Einkristallwerkstoffen zeichnet sich Lithium- Tantalat vor allen Dingen durch einen relativ hohen elek­ tromechanischen Koppelkoeffizienten sowie durch eine geringe Temperaturabhängigkeit verschiedener Parameter aus, so daß Einkristalle aus Lithium-Tantalat besonders geeignet sind als Werkstoff für Schwingkreise von Video-Kasettenrecordern und als sogenannte PIF-Filter, nämlich piezoelektrische Filter für die Videotechnik sowie für Schaltkreise von Hochfrequenzüber­ tragungsanlagen. Eine zusammenfassende Darstellung über die Eigenschaften von Oberflächenwellenvorrichtungen für Konsum­ zwecke findet sich in Y. Yasuhara et al., Surface Acoustic Wave Devises for Consumer Use, IEEE Transactions on Consumer Electronics, Vol. CE-28, No. 3, 1982, S. 475-481.
Einkristalle aus Lithium-Tantalat werden üblicherweise nach der sogenannten Czochralski-Methode hergestellt, die es vor­ sieht, den Einkristall aus einem Kristallkeim zu züchten, der aus einer Schmelze von einem Oxidgemisch gezogen ist, dessen Zusammensetzung LiTaO₃ entspricht. Der gezüchtete Einkristall­ rohling wird zunächst einer Umpolungsbehandlung unterzogen, um die ferroelektrischen Domänen derart auszurichten, daß ein Einzeldomänenkörper entsteht, der dann durch mechanische Be­ arbeitung in eine Zylinderform überführt und dann in Wafer geschnitten wird, die eine bestimmte kristallographische Aus­ richtung aufweisen. Die Oberfläche des Wafers wird abgeschlif­ fen uund poliert, bevor er als Ausgangsmaterial für verschiede­ ne Arten von Schaltkreisen eingesetzt wird.
So ist beispielsweise in der DE-OS 27 12 519 eine Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen, insbesondere für die Verwen­ dung als Zwischenfrequenzfilter eines Fernsehempfängers auf Basis eines LiTaO₃-Substrats beschrieben.
Ferner können SAW-Schaltkreise beispielsweise dadurch herge­ stellt werden, daß ein derartiger Wafer poliert und mit einer Elektrode, meistens einer Aluminiumelektrode auf der Oberflä­ che versehen und dann in kleine quadratische oder rechteckige Chips oder Stückchen zersägt wird. Je nach Durchmesser des Wafers und den Abmessungen des herzustellenden Teils oder Schaltkreises können aus einem einzigen Wafer entweder ein oder mehrere Chips durch Sägen herge­ stellt werden. So lassen sich beispielsweise aus einem einzigen Wafer mit einem Durchmesser von 76,2 mm nicht weniger als 200 derartige Schaltkreise aussägen.
Es liegt auf der Hand, daß sich die Ertragsfähigkeit dieses Herstellverfahrens erhöhen läßt, wenn die Anzahl der aus einem einzelnen Wafer ausgesägten Teile oder Schaltkreise erhöht wird. Aus diesem Grund werden auch immer mehr Einkristallwafer mit immer größerem Durch­ messer hergestellt. So gibt es heutzutage bereits Wafer im Durchmesser von 76,2 mm, 101,6 mm und sogar noch größer, was ausgesprochen bemerkenswert ist, da es noch keine sieben Jahre her ist, daß ein Waferdurchmesser von 50,8 mm das technisch Machbare darstellte.
Parallel zu diesem Trend, immer mehr und noch mehr Schaltkreis­ chips aus einem einzigen Wafer aus Lithium-Tantalat-Ein­ kristallen herauszuarbeiten, stellt sich das Problem, daß mit dem gestiegenen Anspruch an eine gleichmäßige und ausreichend kontrollierte Ausführung und Qualität der aus einem einzelnen Wafer gewonnenen SAW-Schaltkreise einige der charakteristischen Parameter eines Einkristallwafers von Bereich zu Bereich des Wafers stark schwanken, wobei die Schwankung der Werte mit steigendem Waferdurchmesser stärker zum Tragen kommt. Am problematischsten ist dabei die Schwankung bzw. die Abweichung vom Soll-Wert der optischen Eigenschaften, wie etwa der Doppelbrechung (vergl. z. B. Hecht, Eugene, Optik, 1989 Addison- Wesleg, S. 298-306), die eine der wichtigsten charakteristischen Parameter eines Einkristallwafers aus Lithium-Tantalat zur Herstellung von SAW-Schaltkreisen ist.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, einen eingangs genannten Einkristallwafer aus Lithiumtantalat vor allem zur Herstellung von SAW-Schaltkreisen zu schaffen, der diese Nachteile nicht aufweist und dessen wichtigste Parameter bezüglich akustischer Oberflächenwellen in einem engen Toleranzbereich liegen.
Diese Aufgabe wird durch einen Einkristallwafer gemäß der Lehre des Anspruchs 1 gelöst.
Der Kern der Erfindung besteht also darin, daß der er­ findungsgemäße Lithium-Tantalat-Einkristallwafer einen exakt definierten Doppelbrechungswert mit einer geringen, in ihren Grenzen festgelegten Schwankungsbreite aufweist. Dadurch ist eine hohe Qualität auch bei Wafern extrem großen Durchmessers, und damit auch für die durch Zersägen aus dem Wafer hergestellten SAW-Schaltkreise, gewährleistet. Es wurde nämlich überraschenderweise fest­ gestellt, daß eine enge Beziehung besteht zwischen der optischen Eigenschaft des Wafers in Form des Wertes für die Doppelbrechung und der Schallgeschwindigkeit akustischer Oberflächenwellen an oder durch einen SAW-Schaltkreis, wo­ bei ein optimaler Wert für die Schallgeschwindigkeit der akustischen Oberflächenwellen korreliert mit einem ganz bestimmten Wert für die Doppelbrechung des Wafers, solange dieser Wert mit einer ganz bestimmten Genauigkeit eingehalten wird. Diese Schwankungsbreite für den Doppel­ brechungswert eines Lithium-Tantalat-Einkristallwafers sollte nämlich innerhalb von ±6×10-4 liegen, da an­ sonsten die Schallgeschwindigkeit der akustischen Ober­ flächenwellen im SAW-Schaltkreis, der aus diesem Einkristall­ wafer hergestellt ist, eine Schwankungsbreite von bis zu ±0,15% aufweist, was wiederum zur Folge hat, daß die aus dem Wafer hergestellten SAW-Schaltkreise nicht die unbe­ dingt erforderliche gleichmäßig hohe Qualität und hohe Leistungsfähigkeit aufweisen.
Die erforderliche geringe Schwankungsbreite für den bei einer Wellenlänge von 632,8 nm und einer Temperatur von 20°C bestimmten Doppelbrechungswert von 4,5×10-3 soll erfindungsgemäß kleiner sein als ±6×10-4, vorzugsweise ±3×10-4.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert; in dieser zeigt
Fig. 1 das optische System zur Be­ stimmung der Doppelbrechung eines Wafers in schematischer Darstellung;
Fig. 2 ein digital ausgebildetes Filter, das mittels Schablone auf einen erfindungsgemäßen Einkristall- Wafer aus Lithium-Tantalat derart aufgebracht ist, daß die Ausbreitungs­ richtung der akustischen Oberflächen­ wellen (SAW) in etwa parallel zur Richtung 112°Y ist und
Fig. 3 ein Blockdiagramm eines elektrischen Schaltkreises zur Bestimmung der Ausbreitungsgeschwindigkeit akustischer Oberflächenwellen mittels eines SAW- Schaltkreises.
Es wurden mehrere Einkristallwafer aus Lithium-Tantalat hergestellt, wobei jeder einzelne Wafer einen Doppelbrechungs­ wert und eine Schwankungsbreite für diesen Wert aufwies, der jeweils in Tabelle 1 dargestellt ist. Die in Tabelle 1 dar­ gestellten Werte wurden durch Messungen bei 20°C und einer Wellenlänge von 632,8 nm mittels eines optischen Systems gemäß Fig. 1 ausgeführt.
Jeder Wafer wurde auf seiner Oberfläche mit einem digital ausgebildeten Filter gemäß Fig. 2 versehen, welches mittels einer Schablone aufgebracht und so ausgerichtet wurde, daß die Ausbreitungsrichtung der akustischen Oberflächenwelle parallel mit der Richtung 112°Y war. Die Schallgeschwindigkeit V der akustischen Oberflächenwellen wurde mit Hilfe der Meßanordnung von Fig. 3 erfaßt. Die Phasendifferenz zwischen den Eingangssignalen und den Ausgangssignalen wurde mit der Bezugsfrequenz des automatisch abtastenden Signalgenerators bestimmt, und die Schallgeschwindigkeit V wurde gemäß folgender Gleichung errechnet:
wobei V die Schallgeschwindigkeit ist, L der Abstand zwischen den digital ausgebildeten Elektroden, dϕ die Phasenänderung und dW die Frequenzänderung. V wurde dann als V=L · ΔW/20 mit Hilfe eines Computers bzw. einer Zentral­ recheneinheit bestimmt, um die Frequenzänderung W automatisch bestimmen zu können, der gegenüber der Wert von dϕ um 20 Wellenlängeneinheiten zurücklag. Die für die Messung verwendete Frequenz wurde im Bereich von 95 MHz bis 105 MHz variiert.
In Tabelle 1 sind die Meßergebnisse zusammengefaßt. Unter den acht ausgeführten Experimenten wurden für die Experimente mit den Nummern 2, 4, 5 und 6 ausgesprochen befriedigende Resultate erreicht, da sowohl die maximale Abweichung der Schallgeschwindigkeit der akustischen Ober­ flächenwellen wie auch der Schwankungsbereich dieser Schall­ geschwindigkeit innerhalb eines Wafers sehr klein war. Sämtliche in Tabelle 1 angegebenen Werte beziehen sich auf eine Temperatur von 20°C.
Tabelle 1

Claims (1)

  1. Lithium-Tantalat-Einkristallwafer mit einem bei einer Wellenlänge von 632,8 nm und einer Temperatur von 20°C mit einer Genauigkeit von mindestens ±6×10-4 bestimmten Doppelbrechungswert von 4,5×10-3.
DE3545355A 1984-12-24 1985-12-20 Lithium-Tantalat-Einkristallwafer Expired - Fee Related DE3545355C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59280820A JPS61151098A (ja) 1984-12-24 1984-12-24 タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3545355A1 DE3545355A1 (de) 1986-07-31
DE3545355C2 true DE3545355C2 (de) 1994-09-29

Family

ID=17630432

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3545355A Expired - Fee Related DE3545355C2 (de) 1984-12-24 1985-12-20 Lithium-Tantalat-Einkristallwafer

Country Status (4)

Country Link
US (2) US4776917A (de)
JP (1) JPS61151098A (de)
DE (1) DE3545355C2 (de)
FR (1) FR2575191B1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10237308A1 (de) * 2002-08-14 2004-03-04 Linos Photonics Gmbh & Co. Kg Elektrooptisches Element

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61151098A (ja) * 1984-12-24 1986-07-09 Shin Etsu Chem Co Ltd タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ
US5746823A (en) * 1995-09-08 1998-05-05 University Of Puerto Rico Organic crystalline films for optical applications and related methods of fabrication
US5835205A (en) * 1996-02-12 1998-11-10 C3, Inc. Optical testing system for distinguishing a silicon carbide gemstone from a diamond
EP1329744B1 (de) * 2002-01-10 2007-08-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Etalon aus Lithiumniobat oder Lithiumtantalat und dessen Herstellungsverfahren
EP1693488B1 (de) * 2003-11-21 2013-06-19 National Institute for Materials Science Linse und optoelektrochisches gerät

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3788890A (en) * 1972-03-03 1974-01-29 Ibm Method of preparing dislocation-free crystals
US3976535A (en) * 1975-05-27 1976-08-24 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Screening seeds for quartz growth
JPS604599B2 (ja) * 1976-03-17 1985-02-05 株式会社東芝 タンタル酸リチウム単結晶の製造方法
JPS52114246A (en) * 1976-03-22 1977-09-24 Toshiba Corp Elastic surface wave device
JPS5825078B2 (ja) * 1977-06-24 1983-05-25 株式会社東芝 単結晶の製造方法
JPS5497585A (en) * 1978-01-19 1979-08-01 Toshiba Corp Manufacture of syngle crystal
SU769415A1 (ru) * 1978-07-07 1980-10-07 Всесоюзный Ордена Трудового Красного Знамени Научно-Исследовательский Институт Синтеза Минерального Сырья Способ оценки качества кристаллов
US4257825A (en) * 1978-08-30 1981-03-24 U.S. Philips Corporation Method of manufacturing semiconductor devices having improvements in device reliability by thermally treating selectively implanted test figures in wafers
US4379620A (en) * 1980-03-20 1983-04-12 Keuffel & Esser Company Light modulator employing electrooptic crystals
GB2105953B (en) * 1981-08-14 1985-05-22 Sony Corp Methods of and apparatus for coding television signals
JPS595560A (ja) * 1982-07-02 1984-01-12 Citizen Watch Co Ltd 小形薄形電池の製造方法
JPS5945999A (ja) * 1982-09-06 1984-03-15 Toshiba Corp 単結晶引上げ方法
JPS6077192A (ja) * 1983-09-30 1985-05-01 Fujitsu Ltd 単結晶の欠陥検出装置
JPS61134111A (ja) * 1984-12-04 1986-06-21 Shin Etsu Chem Co Ltd タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ
JPS61151098A (ja) * 1984-12-24 1986-07-09 Shin Etsu Chem Co Ltd タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10237308A1 (de) * 2002-08-14 2004-03-04 Linos Photonics Gmbh & Co. Kg Elektrooptisches Element
DE10237308B4 (de) * 2002-08-14 2007-01-04 Linos Photonics Gmbh & Co. Kg Elektrooptisches Element

Also Published As

Publication number Publication date
FR2575191A1 (fr) 1986-06-27
FR2575191B1 (fr) 1990-09-28
US4776917A (en) 1988-10-11
DE3545355A1 (de) 1986-07-31
US4898641A (en) 1990-02-06
JPS61151098A (ja) 1986-07-09
JPH0425240B2 (de) 1992-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2805491C2 (de) Quarzschwinger mit Dickenscherschwingung
DE2005918A1 (de) Siebschaltung
EP3186887B1 (de) Filterchip und verfahren zur herstellung eines filterchips
DE2750144A1 (de) Vorrichtung fuer elastische oberflaechenwellen
DE102018217999A1 (de) Lithiumtantalat-Einkristallsubstrat, gebondetes Substrat, Herstellungsverfahren des gebondeten Substrats und eine akustische Oberflächenwellenvorrichtung, die das gebondete Substrat verwendet
DE3545355C2 (de) Lithium-Tantalat-Einkristallwafer
DE2712519C3 (de) Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen
EP0635938B1 (de) Piezoelektrisches Kristallelement
EP0614271B1 (de) Piezoelektrisches Kristallelement
AT401201B (de) Piezoelektrisches messelement
DE10048373C2 (de) Piezoelektrische Keramiken und Verwendung derselben als Oberflächenwellenbauelemente
EP0025523B1 (de) Piezoelektrische Messwandler
DE2741890C2 (de) Piezoelektrische Keramik
DE69832041T2 (de) Akustische oberflächenwellenvorrichtung
WO2000051233A2 (de) Substratplättchen aus langasit oder langatat
EP0370996B1 (de) Piezoelektrisches Kristallelement auf der Basis von GaP04
DE2461664C2 (de) Vorrichtung auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen
DE928969C (de) Piezoelektrischer Koppler, insbesondere aus Quarzkristall
AT393183B (de) Piezoelektrisches kristallelement und verfahren zur herstellung desselben
DE4497992C2 (de) Rechteckiges AT-Schnitt-Quarzelement, Quarzschwinger, Quarzschwingereinheit und Quarzoszillator sowie Verfahren zur Herstellung des Quarzelements
DE743934C (de) Wellenfilter aus mehreren hintereinandergeschalteten Gliedern, die alle den gleichen Durchlassbereich aufweisen und die jeweils piezoelektrische Kristalle als Impedanzen enthalten
EP0417132B1 (de) Lithiumniobat-einkristalle mit kongruenter zusammensetzung und verfahren zu deren herstellung
DE2703335C2 (de)
EP0424362B1 (de) Verfahren zur Verringerung des Wassergehaltes in piezoelektrischen GaPO4-Kristallelementen und nach dem Verfahren hergestellte Kristallelemente
DE102015106191A1 (de) Elektroakustisches Bauelement mit verbesserter Akustik

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee