DE3545355C2 - Lithium-Tantalat-Einkristallwafer - Google Patents
Lithium-Tantalat-EinkristallwaferInfo
- Publication number
- DE3545355C2 DE3545355C2 DE3545355A DE3545355A DE3545355C2 DE 3545355 C2 DE3545355 C2 DE 3545355C2 DE 3545355 A DE3545355 A DE 3545355A DE 3545355 A DE3545355 A DE 3545355A DE 3545355 C2 DE3545355 C2 DE 3545355C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- wafer
- single crystal
- lithium tantalate
- crystal wafer
- saw
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/0296—Surface acoustic wave [SAW] devices having both acoustic and non-acoustic properties
- H03H9/02968—Surface acoustic wave [SAW] devices having both acoustic and non-acoustic properties with optical devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
- C30B29/30—Niobates; Vanadates; Tantalates
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02543—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
- H03H9/02559—Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of lithium niobate or lithium-tantalate substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/42—Piezoelectric device making
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft
einen
Lithium-Tantalat-Wafer.
Derartige Einkristall-Wafer dienen als Ausgangsmaterial
zur Herstellung von Sendern, Empfängern oder Wandlern
für akustische Oberflächenwellen (SAW devices) hoher
Qualität und mit genau definierten Eigenschaften.
Bekannterweise sind Einkristalle aus Lithium-
Tantalat, Lithium-Niobat und Quarz als ferroelektrischer
und piezoelektrischer Werkstoff verwendbar. So werden
beispielsweise die obengenannten SAW-Wandler aus derartigen
Einkristallen hergestellt.
Unter diesen Einkristallwerkstoffen zeichnet sich Lithium-
Tantalat vor allen Dingen durch einen relativ hohen elek
tromechanischen Koppelkoeffizienten sowie durch eine geringe
Temperaturabhängigkeit verschiedener Parameter aus, so daß
Einkristalle aus Lithium-Tantalat besonders geeignet sind als
Werkstoff für Schwingkreise von Video-Kasettenrecordern und
als sogenannte PIF-Filter, nämlich piezoelektrische Filter für
die Videotechnik sowie für Schaltkreise von Hochfrequenzüber
tragungsanlagen. Eine zusammenfassende Darstellung über die
Eigenschaften von Oberflächenwellenvorrichtungen für Konsum
zwecke findet sich in Y. Yasuhara et al., Surface Acoustic
Wave Devises for Consumer Use, IEEE Transactions on Consumer
Electronics, Vol. CE-28, No. 3, 1982, S. 475-481.
Einkristalle aus Lithium-Tantalat werden üblicherweise nach
der sogenannten Czochralski-Methode hergestellt, die es vor
sieht, den Einkristall aus einem Kristallkeim zu züchten, der
aus einer Schmelze von einem Oxidgemisch gezogen ist, dessen
Zusammensetzung LiTaO₃ entspricht. Der gezüchtete Einkristall
rohling wird zunächst einer Umpolungsbehandlung unterzogen, um
die ferroelektrischen Domänen derart auszurichten, daß ein
Einzeldomänenkörper entsteht, der dann durch mechanische Be
arbeitung in eine Zylinderform überführt und dann in Wafer
geschnitten wird, die eine bestimmte kristallographische Aus
richtung aufweisen. Die Oberfläche des Wafers wird abgeschlif
fen uund poliert, bevor er als Ausgangsmaterial für verschiede
ne Arten von Schaltkreisen eingesetzt wird.
So ist beispielsweise in der DE-OS 27 12 519 eine Vorrichtung
für elastische Oberflächenwellen, insbesondere für die Verwen
dung als Zwischenfrequenzfilter eines Fernsehempfängers auf
Basis eines LiTaO₃-Substrats beschrieben.
Ferner können SAW-Schaltkreise beispielsweise dadurch herge
stellt werden, daß ein derartiger Wafer poliert und mit einer
Elektrode, meistens einer Aluminiumelektrode auf der Oberflä
che versehen und dann in kleine quadratische oder rechteckige
Chips oder Stückchen zersägt wird. Je nach Durchmesser des
Wafers und den Abmessungen des herzustellenden Teils oder
Schaltkreises können aus einem einzigen Wafer entweder ein
oder mehrere Chips durch Sägen herge
stellt werden. So lassen sich beispielsweise aus einem
einzigen Wafer mit einem Durchmesser von 76,2 mm nicht
weniger als 200 derartige Schaltkreise aussägen.
Es liegt auf der Hand, daß sich die Ertragsfähigkeit
dieses Herstellverfahrens erhöhen läßt, wenn die Anzahl
der aus einem einzelnen Wafer ausgesägten Teile oder
Schaltkreise erhöht wird. Aus diesem Grund werden auch
immer mehr Einkristallwafer mit immer größerem Durch
messer hergestellt. So gibt es heutzutage bereits Wafer im
Durchmesser von 76,2 mm, 101,6 mm und sogar noch größer,
was ausgesprochen bemerkenswert ist, da es noch keine sieben
Jahre her ist, daß ein Waferdurchmesser von 50,8 mm das technisch
Machbare darstellte.
Parallel zu diesem Trend, immer mehr und noch mehr Schaltkreis
chips aus einem einzigen Wafer aus Lithium-Tantalat-Ein
kristallen herauszuarbeiten, stellt sich das Problem, daß mit
dem gestiegenen Anspruch an eine gleichmäßige und ausreichend
kontrollierte Ausführung und Qualität der aus einem einzelnen
Wafer gewonnenen SAW-Schaltkreise einige der charakteristischen
Parameter eines Einkristallwafers von Bereich zu
Bereich des Wafers stark schwanken, wobei die Schwankung der
Werte mit steigendem Waferdurchmesser stärker zum Tragen
kommt. Am problematischsten ist dabei die Schwankung bzw.
die Abweichung vom Soll-Wert der optischen Eigenschaften,
wie etwa der Doppelbrechung (vergl. z. B. Hecht, Eugene, Optik, 1989 Addison-
Wesleg, S. 298-306), die eine der wichtigsten
charakteristischen Parameter eines Einkristallwafers aus
Lithium-Tantalat zur Herstellung von SAW-Schaltkreisen ist.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, einen
eingangs genannten Einkristallwafer aus Lithiumtantalat vor
allem zur Herstellung von SAW-Schaltkreisen zu schaffen, der
diese Nachteile nicht aufweist und dessen wichtigste Parameter
bezüglich akustischer Oberflächenwellen in einem engen
Toleranzbereich liegen.
Diese Aufgabe wird durch einen Einkristallwafer gemäß der
Lehre des Anspruchs 1 gelöst.
Der Kern der Erfindung besteht also darin, daß der er
findungsgemäße Lithium-Tantalat-Einkristallwafer einen
exakt definierten Doppelbrechungswert mit einer geringen,
in ihren Grenzen festgelegten Schwankungsbreite aufweist.
Dadurch ist eine hohe Qualität auch bei Wafern
extrem großen Durchmessers, und damit auch für die durch
Zersägen aus dem Wafer hergestellten SAW-Schaltkreise,
gewährleistet. Es wurde nämlich überraschenderweise fest
gestellt, daß eine enge Beziehung besteht zwischen der
optischen Eigenschaft des Wafers in Form des Wertes für
die Doppelbrechung und der Schallgeschwindigkeit akustischer
Oberflächenwellen an oder durch einen SAW-Schaltkreis, wo
bei ein optimaler Wert für die Schallgeschwindigkeit
der akustischen Oberflächenwellen korreliert mit einem
ganz bestimmten Wert für die Doppelbrechung des Wafers,
solange dieser Wert mit einer ganz bestimmten Genauigkeit
eingehalten wird. Diese Schwankungsbreite für den Doppel
brechungswert eines Lithium-Tantalat-Einkristallwafers
sollte nämlich innerhalb von ±6×10-4 liegen, da an
sonsten die Schallgeschwindigkeit der akustischen Ober
flächenwellen im SAW-Schaltkreis, der aus diesem Einkristall
wafer hergestellt ist, eine Schwankungsbreite von bis zu
±0,15% aufweist, was wiederum zur Folge hat, daß die aus
dem Wafer hergestellten SAW-Schaltkreise nicht die unbe
dingt erforderliche gleichmäßig hohe Qualität und hohe
Leistungsfähigkeit aufweisen.
Die erforderliche geringe Schwankungsbreite für den bei
einer Wellenlänge von 632,8 nm und einer Temperatur von
20°C bestimmten Doppelbrechungswert von 4,5×10-3 soll
erfindungsgemäß kleiner sein als ±6×10-4, vorzugsweise
±3×10-4.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnung
näher erläutert; in dieser zeigt
Fig. 1 das optische System zur Be
stimmung der Doppelbrechung
eines Wafers in schematischer
Darstellung;
Fig. 2 ein digital ausgebildetes
Filter, das mittels Schablone auf
einen erfindungsgemäßen Einkristall-
Wafer aus Lithium-Tantalat derart
aufgebracht ist, daß die Ausbreitungs
richtung der akustischen Oberflächen
wellen (SAW) in etwa parallel zur
Richtung 112°Y ist und
Fig. 3 ein Blockdiagramm eines elektrischen
Schaltkreises zur Bestimmung der
Ausbreitungsgeschwindigkeit akustischer
Oberflächenwellen mittels eines SAW-
Schaltkreises.
Es wurden mehrere Einkristallwafer aus Lithium-Tantalat
hergestellt, wobei jeder einzelne Wafer einen Doppelbrechungs
wert und eine Schwankungsbreite für diesen Wert aufwies, der
jeweils in Tabelle 1 dargestellt ist. Die in Tabelle 1 dar
gestellten Werte wurden durch Messungen bei 20°C und einer
Wellenlänge von 632,8 nm mittels eines optischen Systems
gemäß Fig. 1 ausgeführt.
Jeder Wafer wurde auf seiner Oberfläche mit einem digital
ausgebildeten Filter gemäß Fig. 2 versehen, welches mittels
einer Schablone aufgebracht und so ausgerichtet wurde, daß
die Ausbreitungsrichtung der akustischen Oberflächenwelle
parallel mit der Richtung 112°Y war. Die Schallgeschwindigkeit V der
akustischen Oberflächenwellen wurde mit Hilfe der
Meßanordnung von Fig. 3 erfaßt. Die Phasendifferenz zwischen
den Eingangssignalen und den Ausgangssignalen wurde mit der
Bezugsfrequenz des automatisch abtastenden Signalgenerators
bestimmt, und die Schallgeschwindigkeit V wurde gemäß folgender
Gleichung errechnet:
wobei V die Schallgeschwindigkeit ist, L der Abstand zwischen
den digital ausgebildeten Elektroden, dϕ die Phasenänderung
und dW die Frequenzänderung. V wurde dann als
V=L · ΔW/20 mit Hilfe eines Computers bzw. einer Zentral
recheneinheit bestimmt, um die Frequenzänderung W automatisch
bestimmen zu können, der gegenüber der Wert von dϕ
um 20 Wellenlängeneinheiten zurücklag. Die für die Messung
verwendete Frequenz wurde im Bereich von 95 MHz bis 105 MHz
variiert.
In Tabelle 1 sind die Meßergebnisse zusammengefaßt.
Unter den acht ausgeführten Experimenten wurden für die
Experimente mit den Nummern 2, 4, 5 und 6 ausgesprochen
befriedigende Resultate erreicht, da sowohl die maximale
Abweichung der Schallgeschwindigkeit der akustischen Ober
flächenwellen wie auch der Schwankungsbereich dieser Schall
geschwindigkeit innerhalb eines Wafers sehr klein war.
Sämtliche in Tabelle 1 angegebenen Werte beziehen sich auf
eine Temperatur von 20°C.
Claims (1)
- Lithium-Tantalat-Einkristallwafer mit einem bei einer Wellenlänge von 632,8 nm und einer Temperatur von 20°C mit einer Genauigkeit von mindestens ±6×10-4 bestimmten Doppelbrechungswert von 4,5×10-3.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59280820A JPS61151098A (ja) | 1984-12-24 | 1984-12-24 | タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3545355A1 DE3545355A1 (de) | 1986-07-31 |
DE3545355C2 true DE3545355C2 (de) | 1994-09-29 |
Family
ID=17630432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3545355A Expired - Fee Related DE3545355C2 (de) | 1984-12-24 | 1985-12-20 | Lithium-Tantalat-Einkristallwafer |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4776917A (de) |
JP (1) | JPS61151098A (de) |
DE (1) | DE3545355C2 (de) |
FR (1) | FR2575191B1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10237308A1 (de) * | 2002-08-14 | 2004-03-04 | Linos Photonics Gmbh & Co. Kg | Elektrooptisches Element |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61151098A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ |
US5746823A (en) * | 1995-09-08 | 1998-05-05 | University Of Puerto Rico | Organic crystalline films for optical applications and related methods of fabrication |
US5835205A (en) * | 1996-02-12 | 1998-11-10 | C3, Inc. | Optical testing system for distinguishing a silicon carbide gemstone from a diamond |
EP1329744B1 (de) * | 2002-01-10 | 2007-08-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Etalon aus Lithiumniobat oder Lithiumtantalat und dessen Herstellungsverfahren |
EP1693488B1 (de) * | 2003-11-21 | 2013-06-19 | National Institute for Materials Science | Linse und optoelektrochisches gerät |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3788890A (en) * | 1972-03-03 | 1974-01-29 | Ibm | Method of preparing dislocation-free crystals |
US3976535A (en) * | 1975-05-27 | 1976-08-24 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Screening seeds for quartz growth |
JPS604599B2 (ja) * | 1976-03-17 | 1985-02-05 | 株式会社東芝 | タンタル酸リチウム単結晶の製造方法 |
JPS52114246A (en) * | 1976-03-22 | 1977-09-24 | Toshiba Corp | Elastic surface wave device |
JPS5825078B2 (ja) * | 1977-06-24 | 1983-05-25 | 株式会社東芝 | 単結晶の製造方法 |
JPS5497585A (en) * | 1978-01-19 | 1979-08-01 | Toshiba Corp | Manufacture of syngle crystal |
SU769415A1 (ru) * | 1978-07-07 | 1980-10-07 | Всесоюзный Ордена Трудового Красного Знамени Научно-Исследовательский Институт Синтеза Минерального Сырья | Способ оценки качества кристаллов |
US4257825A (en) * | 1978-08-30 | 1981-03-24 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing semiconductor devices having improvements in device reliability by thermally treating selectively implanted test figures in wafers |
US4379620A (en) * | 1980-03-20 | 1983-04-12 | Keuffel & Esser Company | Light modulator employing electrooptic crystals |
GB2105953B (en) * | 1981-08-14 | 1985-05-22 | Sony Corp | Methods of and apparatus for coding television signals |
JPS595560A (ja) * | 1982-07-02 | 1984-01-12 | Citizen Watch Co Ltd | 小形薄形電池の製造方法 |
JPS5945999A (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-15 | Toshiba Corp | 単結晶引上げ方法 |
JPS6077192A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-05-01 | Fujitsu Ltd | 単結晶の欠陥検出装置 |
JPS61134111A (ja) * | 1984-12-04 | 1986-06-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ |
JPS61151098A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | タンタル酸リチウム単結晶ウエ−ハ |
-
1984
- 1984-12-24 JP JP59280820A patent/JPS61151098A/ja active Granted
-
1985
- 1985-12-20 DE DE3545355A patent/DE3545355C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-12-24 FR FR858519143A patent/FR2575191B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-03-04 US US07/022,591 patent/US4776917A/en not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-07-19 US US07/221,325 patent/US4898641A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10237308A1 (de) * | 2002-08-14 | 2004-03-04 | Linos Photonics Gmbh & Co. Kg | Elektrooptisches Element |
DE10237308B4 (de) * | 2002-08-14 | 2007-01-04 | Linos Photonics Gmbh & Co. Kg | Elektrooptisches Element |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2575191A1 (fr) | 1986-06-27 |
FR2575191B1 (fr) | 1990-09-28 |
US4776917A (en) | 1988-10-11 |
DE3545355A1 (de) | 1986-07-31 |
US4898641A (en) | 1990-02-06 |
JPS61151098A (ja) | 1986-07-09 |
JPH0425240B2 (de) | 1992-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2805491C2 (de) | Quarzschwinger mit Dickenscherschwingung | |
DE2005918A1 (de) | Siebschaltung | |
EP3186887B1 (de) | Filterchip und verfahren zur herstellung eines filterchips | |
DE2750144A1 (de) | Vorrichtung fuer elastische oberflaechenwellen | |
DE102018217999A1 (de) | Lithiumtantalat-Einkristallsubstrat, gebondetes Substrat, Herstellungsverfahren des gebondeten Substrats und eine akustische Oberflächenwellenvorrichtung, die das gebondete Substrat verwendet | |
DE3545355C2 (de) | Lithium-Tantalat-Einkristallwafer | |
DE2712519C3 (de) | Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen | |
EP0635938B1 (de) | Piezoelektrisches Kristallelement | |
EP0614271B1 (de) | Piezoelektrisches Kristallelement | |
AT401201B (de) | Piezoelektrisches messelement | |
DE10048373C2 (de) | Piezoelektrische Keramiken und Verwendung derselben als Oberflächenwellenbauelemente | |
EP0025523B1 (de) | Piezoelektrische Messwandler | |
DE2741890C2 (de) | Piezoelektrische Keramik | |
DE69832041T2 (de) | Akustische oberflächenwellenvorrichtung | |
WO2000051233A2 (de) | Substratplättchen aus langasit oder langatat | |
EP0370996B1 (de) | Piezoelektrisches Kristallelement auf der Basis von GaP04 | |
DE2461664C2 (de) | Vorrichtung auf der Basis der akustischen Oberflächenwellen | |
DE928969C (de) | Piezoelektrischer Koppler, insbesondere aus Quarzkristall | |
AT393183B (de) | Piezoelektrisches kristallelement und verfahren zur herstellung desselben | |
DE4497992C2 (de) | Rechteckiges AT-Schnitt-Quarzelement, Quarzschwinger, Quarzschwingereinheit und Quarzoszillator sowie Verfahren zur Herstellung des Quarzelements | |
DE743934C (de) | Wellenfilter aus mehreren hintereinandergeschalteten Gliedern, die alle den gleichen Durchlassbereich aufweisen und die jeweils piezoelektrische Kristalle als Impedanzen enthalten | |
EP0417132B1 (de) | Lithiumniobat-einkristalle mit kongruenter zusammensetzung und verfahren zu deren herstellung | |
DE2703335C2 (de) | ||
EP0424362B1 (de) | Verfahren zur Verringerung des Wassergehaltes in piezoelektrischen GaPO4-Kristallelementen und nach dem Verfahren hergestellte Kristallelemente | |
DE102015106191A1 (de) | Elektroakustisches Bauelement mit verbesserter Akustik |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |