DE3521680A1 - Verfahren und vorrichtung zum trocknen von gelplatten - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zum trocknen von gelplattenInfo
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Description
-7-Beschreibung
Die Erfindung betrifft Laborverfahren und Laboreinrichtungen zum Trocknen von ebenen Gelplatten nach elektrophoretischen
Trennungen; sie betrifft insbesondere das Fixieren von Gelen und der Position der Banden darin zum
Zwecke der Aufbewahrung (Konservierung) und genauen Analyse des elektrophoretischen Musters.
In den bereits existierenden Einrichtungen zum Fixieren von Gelplatten durch Dehydratation werden im allgemeinen
sowohl Wärme als auch Vakuum angewendet, um die Feuchtigkeit aus dem Gel zu verdampfen. Eines von mehreren Beispielen
in der publizierten Literatur für eine solche Einrichtung ist diejenige, wie sie von Hoefer in der US-PS
4 020 563 beschrieben ist.
Das Trocknen eines Gels wird erschwert durch die Tatsache,
daß das Gel beim Trocknen zu einem für ein Fluid bzw. eine Flüssigkeit undurchlässigen spröden Feststoff
vitrifiziert wird. Beim lokalisierten Erhitzen oder Verdampfen trocknet somit eine Oberfläche oder ein Bereich
einer Gelplatte, die Feuchtigkeit in den benachbarten Bereichen muß ihren Weg um die getrockneten
Bereiche herum finden, um entweichen zu können. Häufig kann die Feuchtigkeit im Innern des Gels eingeschlossen
werden. Wenn die eingeschlossene Feuchtigkeit verdampft und sich weiter ausdehnt, nimmt der Druck im Innern des
Gels zu und die seitlichen Spannungen steigen, was dazu führt, daß das trocknende Gel reißt. Wenn winzige
Risse auftreten, dehnen sie sich außerdem schnell aus, da der unter Druck stehende eingeschlossene Dampf zu
entweichen sucht.
Gegenstand der Erfindung sind eine Vorrichtung und ein
Verfahren zum Trocknen einer Gelplatte mit verbesserten Ergebnissen gegenüber dem Stand der Technik. Sowohl in
der Vorrichtung als auch in dem Verfahren wird eine Vakuumquelle, die unterhalb einer horizontal auf einem
Träger aufliegenden Gelplatte angeordnet ist, kombiniert
mit einer beschwerten Heizplatte, die auf der Oberseite der Platte ruht, wodurch die Platte unter dem Einfluß
der Schwerkraft zusammengedrückt wird. Die die Platte verlassende verdampfte Feuchtigkeit strömt nach unten
,Q in einer gleichmäßigen Rate an allen Punkten in der Gelplatte von der Wärmequelle weg und der Kontaktdruck des
Heizelements ist konstant innerhalb des Trocknungsverfahrens, wenn das Gel in seiner Dicke abnimmt. Parallele
Wärme- und Druckgradienten werden aufrechterhalten, um
. ρ- eine gleichmäßige Trocknung des Gels ohne Einschluß von
Feuchtigkeit oder Druckanreicherung im Innern des Gels zu bewirken. Das Ergebnis ist eine beträchtliche Verbesserung
der Beständigkeit einer Gelplatte gegen Rißbildung während der Dehydratation.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer beispielhafo_
ten Trocknungsvorrichtung gemäß der VOrliegen-
den Erfindung mit weggebrochenen Teilen, bei der die Heizplatte in einen mit einem Scharnier versehenen
Deckel eingearbeitet ist, der in der offenen Position gezeigt wird;
Fig. 2 eine Schnitt-Seitenaufrißansicht des Deckels und
der Heizplatte der Ausführungsform gemäß Fig. 1 entlang der Linie 2-2 derselben;
__ Fig. 3 eine Schnitt-Frontaufrißansicht des Deckels und
ob
der Heizplatte der Ausführungsform gemäß Fig. 1 entlang der Linie 3-3 derselben; und
Fig. 4 eine Frontaufrißansicht der in Fig. 1 gezeigten Vorrichtung in auseinandergezogener Anordnung
entlang der Linie 4-4 derselben.
In der Fig. 1 ist ein Gelplattentrockner 10 gezeigt, der
eine beispielhafte Ausführungsform der Erfindung darstellt. Der Trockner besteht aus einer Basis 11 und einem Deckel
Beide haben im allgemeinen eine rechteckige Form, wobei der Deckel mittels eines Scharniergelenks entlang einer
der langen Seiten, welche die Rückseite der Vorrichtung bildet, drehbar an der Basis befestigt.ist.
In der Basis ist ein offener Behälter 13 vorgesehen für die Aufnahme eines porösen Trägerpolsters 14 mit einer
ebenen horizontalen oberen Oberfläche 15 mit ausreichenden Dimensionen, um eine feuchte Gelplatte zu tragen.
Die Größe und Gestalt des Trägerpolsters sind nicht kritisch, vorausgesetzt, daß seine Oberfläche 15 mindestens
die gleiche Ausdehnung hat wie die Gelplatte. Während eines typischen Trocknungsverfahrens wird das Gel zwischen
Schutzfolien gelegt, die sich über seine Ränder hinaus erstrecken. Bei bevorzugten Ausführungsformen der
Trocknungsvorrichtung ist daher die Polsteroberfläche sowohl
langer als auch breiter als das Gel, so daß ein Rand verbleibt, der das Gel in einer ausreichenden Breite
umgibt, um die überschüssige Breite der Schutzfolien aufzunehmen .
Da die in der Elektrophorese verwendeten Gelplatten im allgemeinen rechteckig sind, sind der Behälter 13 und
das Trägerpolster 14, die in der Zeichnung dargestellt sind, ebenfalls rechteckig, wobei der Behälter eine
ebene Bodenoberfläche 16 und gerade Seitenwände 17 aufweist.
Die Bodenoberfläche weist eine zentrale öffnung 18 auf, durch die ein Vakuum erzeugt wird. Die öffnung
18 steht, wie gezeigt ist, an der Seite oder der Rückwand der Basis mit einer äußeren Rohrverbindung 18a für
-ιοί den Anschluß an eine Vakuumleitung, die zu einer Vakuumquelle
führt, in Verbindung. Es kann eine übliche Laborvakuumanlage
verwendet werden. Beim typischen Betrieb ist das Vakuum ein Teilvakuum von mindestens 58,42 cm
(23 inches) Quecksilber (absoluter Druck von weniger als etwa 200 Torr, entsprechend 26,66 kPa) .
Um eine einheitliche Trocknungsrate über die gesamte Oberfläche der Gelplatte zu erzielen, muß die Abzugskraft
des Vakuums aus der Vakuumöffnung 18 so verteilt
sein, daß sie die gesamte Länge und Breite des Gels umfaßt. Um diesen Verteilungseffekt zu fördern, sind die
oberen und unteren Oberflächen des Trägerspolsters 14 durch offene Poren oder Durchgänge 19 miteinander verbunden,
die ausreichend eng oder so gewunden sind, daß ein Strömungswiderstand entsteht, der den Bereich
erweitert, aus dem das Gas oder der Dampf in die Vakuumöffnung abgezogen wird. Daher muß das Polster aus Materialien,
wie porösem Polyethylen oder anderen starren Kunststoffschäumen, einem gesinterten Metall oder miteinander
verbundenen Glasperlen bestehen. Außerdem sind in der Bodenoberfläche 16 des Behälters eine oder mehr
Rillen 20 vorgesehen, die sich in Richtung auf die Seitenwände 17 erstrecken und in die Vakuumöffnung 18 öffnen.
Diese erlauben das Strömen des Dampfes zu der Vakuumöffnung mit einem beträchtlich niedrigeren Strömungswiderstand
als die Poren 19 in dem Trägerpolster und dadurch die Aufrechterhaltung eines im wesentlichen
einheitlichen Druckes entlang des Bodens des Behälters, während Dampf durch das Polster abgezogen wird. Bei
bevorzugten Ausführungsformen sind die Rillen radial und symmetrisch um die Vakuumöffnung herum angeordnet,
wie in Fig. 1 gezeigt. Als Folge davon wird die verdampfte Feuchtigkeit, die das Gel verläßt, in einer
einheitlichen Rate entlang der gesamten seitlichen Ausdehnung des Gels gerade nach unten abgezogen, so daß das
Gel wäirend des gesamten Trocknungsverfahrens frei von
- 352168G -11-seitlichen Spannungen bleibt.
Die Gelplatte mit Schutzschichten sowohl auf der Oberseite als auch auf der Unterseite wird so auf die Oberseite
des Trägerpolsters 14 gelegt, daß alle ihre Kanten innerhalb derjenigen des Polsters liegen. Die Platte wird dann
mit einer flexiblen Deckfolie 21 in Form einer Lasche bedeckt, die sich über den gesamten Behälter 13 erstreckt
und den Rand 2 2 überlappt, der durch die oberen Ränder
IQ der Seitenwände 17 gebildet wird. Die Deckfolie und der
Behälter bilden auf diese Weise eine geschlossene Kammer, die das Vakuum hält. Die Deckfolie besteht aus einem
Material, das ein Vakuum halten kann, aber dennoch ausreichend verformbar ist, um um den Rand 22 herum eine Abdichtung
zu bilden, wenn der Druck im Innern der Kammer herabgesetzt wird.
Die Dicke des Trägerblockes 14 ist so groß, daß seine obere Oberfläche eine ausreichende Höhe hat, um das Gel mit
der Deckfolie in vollen Kontakt zu bringen (über die obere Schutzschicht), bevor das Vakuum angelegt wird.
Der durch die Deckfolie auf das Gel ausgeübte Druck, wenn die Kammer evakuiert wird, ist dann gleichmäßig entlang
der gesamten Kontaktfläche zwischen der Gelplatte und der
Abdeckung.
Die Abdeckung 21 wird vorzugsweise aus einem transparenten Material zugeschnitten, so daß der Bediener der Vorrichtung
das Trocknungsverfahren überwachen kann. Ein Beispiel gO für ein solches Material ist ein klarer Siliconkautschuk.
Die in der Zeichnung dargestellte Abdeckung ist an einer Seite an der Basis befestigt, so daß die Abdeckung angehoben
werden kann, um den Trägerblock und die Gelplatte leicht einführen und herausnehmen zu können.
Der Deckel 12 der Vorrichtung trägt eine hängende Heizplatte
23. Die Platte wird in dem Deckel mittels einer
losen reibungsfreien Befestigung zurückgehalten, die der
Platte einen ausreichenden Freiheitsgrad in Richtung senkrecht zum Deckel erlaubt, so daß dann, wenn der
Deckel geschlossen wird, die untere Oberfläche der Platte auf der Oberseite der flexiblen Deckfolie 21 unter ihrer
vollen Schwerkraft und nichts anderem ruht. Ein Beispiel für eine solche Verbindung ist die in den Zeichnungen dargestellte,
die aus einer Reihe von Stützen 24 besteht, die sich von der inneren Oberfläche des Deckels nach
IQ unten erstrecken und von denen jede in eine erhabene
Öffnung oder in einen sich nach oben von der Heizplatte
erstreckenden Ring paßt. In einer zweckmäßigen Anordnung ist eine solche Stütze in der Nähe jeder der vier Ecken
des Deckels angeordnet.
Eine der vier Stützen- und Ring-Kombinationen ist in der Fig. 2 im Detail dargestellt. Bei der gezeigten Ausführungsform
ist der Ring eine Öffnung 2 5 in einem L-förmigen Vorsprung 26, der sich von der Heizplatte 23 in der Nähe
der Ecke der Platte nach oben erstreckt. Die Öffnung hat
einen größeren Durchmesser als der Schaft 27 der Stütze, so daß ein lockerer Sitz für das reibungslose Gleiten des
Vorsprungs an dem Schaft nach unten erhalten wird. Die
verbreiterte Basis der Stütze 28, die einen größeren Durchmesser als die Öffnung 2 5 hat, begrenzt den Weg der
Wanderung des Arms, wodurch die Heizplatte in dem Deckel zurückgehalten wird, wenn der Deckel angehoben wird.
Die Länge jedes Schafts und somit der Höhenbereich der gO Heizplatte 23 werden so gewählt, daß dann, wenn der
Deckel 12 über der Basis 11 geschlossen wird, die Platte mit der Deckfolie 21 in Kontakt steht und jede Öffnung
2 5 einen Abstand von beiden Grenzen des Schaftes hat, die so verbleiben, wenn das Gel während der Trocknung in
gg der Dicke schrumpft. Als Folge davon übt die Heizplatte
eine konstante Schwerkraft auf das Gel während des Trocknungsverfahrens aus.
Die Heizplatte 2 3 und die damit verbundenen Kontrolleinrichtungen
sind in Fig. 3 dargestellt. Die Heizplatte kann irgendeinen konventionellen Aufbau haben, der eine
im wesentlichen gleichmäßige Wärmeübertragung auf die Gelplatte gibt. Ein Heizelement vom elektrischen Widerstands-Typ
ist beispielsweise besonders geeignet. Typische derartige Elemente können aus einem elektrischen
Draht bestehen, der zwischen Siliconkautschukfolien eingewoben ist, oder sie können irgendeinen anderen üblichen
Aufbau für ein Heizpolster haben. Bei der in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsform hat die Platte eine
Laminatstruktur, bestehend aus einem ebenen Heizelement 29, das mit einer Platte aus einem wärmeleitfähigen Material
30, wie z.B. Aluminium oder Kupfer, verbunden ist. Die Platte fördert die gleichmäßige Verteilung der durch
das Heizelement erzeugten Wärme und wenn sie oberhalb des Elements, wie dargestellt, angeordnet ist, steht die
Temperatur des Elements mit den Thermostaten 31, 32, 33 in Verbindung. Die Platte 30 verleiht der Heizplatte
auch Masse, die sich zu der Kraft addiert, mit der die Platte mit der Deckfolie 21 oberhalb der Gelplatte in
Kontakt steht.
Das Gesamtgewicht der Platte ist nicht kritisch und kann stark variieren. Im allgemeinen liefert eine Platte mit
einem Gewicht von etwa 0,5 bis etwa 5 g/cm2 Kontaktoberfläche, vorzugsweise von etwa 0,75 bis etwa 3 g/cm2,
die besten Ergebnisse. Platten mit einem Gewicht von etwa 1,1 bis etwa 1,3 g/cm2 haben sich als besonders zweckmäßig
erwiesen.
Die Kontrolle der Temperatur der Heizplatte kann nach konventionellen Methoden erzielt werden. Die in den Zeichnungen
dargestellte Ausführungsform enthält eine Reihe von Thermostaten 31, 32, 33, um die Vorrichtung flexibel zu
machen, so daß sie an die Bedürfnisse von Gelen unterschiedlicher Dicken und Konzentrationen angepaßt werden
kann. Eine besonders vorteilhafte Anordnung umfaßt eine
niedrige Wärmeeinstellung und eine hohe Wärmeeinstellung sowie einen Überhitzungsschutz und somit die drei gezeigten
Thermostaten. So ist beispielsweise ein Thermostat für niedrige Wärme, der auf 600C eingestellt ist, geeignet
für Gele, die autoradiographisch analysiert werden sollen, oder für ähnliche Systeme, die dazu neigen, bei höheren
Temperaturen an Genauigkeit zu verlieren, während der Thermostat für einen hohen Wärmewert auf 800C eingestellt
werden kann für die Verwendung in anderen Systemen. Die
IQ Wahl des herrschenden Thermostaten kann durch einen Schalter
34 außen auf der Vorrichtung gesteuert werden, wie in Fig. 1 gezeigt. Der dritte Thermostat kann so eingestellt
werden, daß die Heizeinrichtung abgeschaltet wird, wenn die Temperatur ein vorgegebenes Maximum von beispielsweise
-^g 900C übersteigt. Dieser dient als überhitzungsschutz für
den Fall, daß der Kontrollthermostat, der in Betrieb ist, versagt. Weitere gegebenenfalls vorhandene
Merkmale umfassen einen Zeitgeber 35 für das Heizelement und ein Anzeigelicht 36, das anzeigt, ob der Zeitgeber
ein- oder ausgeschaltet ist, wodurch angezeigt wird, wenn die Trocknungsfolge beendet ist.
In der Fig. 4 ist die gesamte Vorrichtung in Form einer Frontansicht in auseinandergezogener Darstellung gezeigt,
wobei der Deckel nicht mit einem Scharniergelenk versehen ist, und die außerdem die Gelplatte und Schutzschichten
umfaßt. Bei dieser Darstellung ist ein Isolierpolster 37 gezeigt, das in das Innere der Basis 11 paßt, so daß
es nach oben gegen die Unterseite 38 der Bodenoberfläche
«Ο des Behälters 13 drückt. Das isolierende Polster enthält
eine Öffnung 39 für die Aufnahme der Vakuumleitung. In dieser Anordnung untersützt das Isolierpolster die Rückhaltung
der Wärme in dem System für eine wirksamere Trocknung.
Wie in der Fig. 4 gezeigt, ist das System bestimmt für die Verwendung mit einer Gelplatte 40, die durch Schutzschich-
ten 41 bzw. 42 unterhalb bzw. oberhalb begrenzt ist,
wie sie beim Trocknen und Fixieren von Gelplatten üblicherweise verwendet werden. Die Materialien für die
Schutzschichten können solche sein, wie sie üblicherweise gemäß Stand der Technik verwendet werden. Die
untere Schutzschicht ist eine Folie mit einer ausreichenden Porosität, um den Dampfstrom hindurch zu erlauben
und um ausreichend sorptiv zu sein, um sich mit dem Gel zu verbinden, wenn das Gel trocknet. Im allgemeinen
ist ein übliches Laborfilterpapier verschiedener Grade oder Cellophan geeignet. Die obere Schutzfolie 37
kann porös oder nicht-porös sein, in jedem Falle ist sie jedoch leicht verformbar. Wenn das Vakuum angelegt wird,
haftet die obere Folie fest an den Rändern des Gels.
Wenn die Folie aus einem porösen Material, wie z.B.
Cellophan, hergestellt ist, haftet das Gel beim Trocknen
daran. Die Folie muß deshalb klar sein, um eine visuelle Analyse zu erlauben, wenn einmal das Trocknen beendet
ist. Beispiele für klare nicht-poröse Materialien sind
Saran Wrap®, Glad Wrap® und Mylar®. Nicht-haftende poröse
Materialien, wie z.B. poröses Polyethylen oder poröses Polypropylen, sind von dem getrockneten Gel entfernbar
und brauchen daher nicht klar zu sein. Im allgemeinen sind jedoch klare Materialien bevorzugt sowohl
für die obere Schutzfolie 41 als auch für die Deckfolie 21 der Trocknungsvorrichtung, so daß das Fortschreiten
der Trocknung visuell überwacht werden kann, ohne das Vakuum zu unterbrechen. In einigen Fällen kann die obere
Schutzfolie vollständig eliminiert werden und die Deckfolie 21 kann als einziger Schutz für die obere Oberfläche
der Gelplatte dienen.
Die vorstehende Beschreibung dient hauptsächlich der Erläuterung der Erfindung, ohne sie jedoch darauf zu
beschränken. Es ist für den Fachmann auf diesem Gebiet klar, daß zahlreiche Modifikationen und Abänderungen
der Materialien, des Aufbaus und der vorstehend be-
schriebenen Verfahren angewendet werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen
wird.
Claims (18)
- Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen von GelplattenPatentansprüche1 . Vorrichtung zum Trocknen einer horizontal unterstützten Gelplatte, gekenn ze ichnet durch eine beschwerte Heizplatte (23) , die auf der Oberseite der Gelplatte (40) unter dem Einfluß der Schwerkraft ruht und mindestens die gleiche Ausdehnung wie dieselbe hat; undeine Einrichtung zur Herabsetzung des Atmosphärendruckes unterhalb der Gelplatte (40) in im wesentlichen einheitlicher Weise über die gesamte Oberfläche derselben, um verdampfte Feuchtigkeit nach unten aus der Platte (40) abzuziehen.
- 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem eine Vakuum-haltende Folie (21) aufweist, die zwischen der Heizplatte (2 3) und der Gelplatte (40) angeordnet ist.
- 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Vakuum-haltende Folie (21) transparent ist.
- 4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem eine Vakuumhaltende Kammer aufweist, welche die Gelplatte (40) umschließt und oben durch eine transparente Vakuumhaltende Folie (21), die zwischen der Heizplatte(23) und der Gelplatte (40) angeordnet ist, versiegelt ist.
- 5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der Heizplatte (2 3) etwa 0,5 bis etwa 5,0 g/cm2 der auf der Gelplatte (40) ruhenden Oberfläche beträgt.
- 6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der Heizplatte (2 3) etwa 0,75 bis etwa 3,0 g/cm2 der auf der Gelplatte (40) ruhenden Oberfläche beträgt.
- 7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizplatte (23) ein Laminat ist, das besteht aus einem ebenen elektrischen Widerstandsheizelement (29), das an eine Platte aus einem wärmeleitfähigen Material (30) gebunden ist.
- 8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem eine Vakuumhaltende Kammer aufweist, welche die Gelplatte (40) umschließt und oben durch eine transparente Vakuumhaltende Folie (21), die zwischen der Heizplatte (23) und der Gelplatte (40) angeordnet ist, abgedichtet wird und in der die Heizplatte (23) unter einem drehbar an der Kammer befestigten Deckel (12) festgehalten wird.
- 9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizplatte (23) mittels einer Verbindung, diebesteht aus einer Vielzahl von Stützen (24), die jeweils gleitend in eine lose passende öffnung eingreifen, in dem Deckel (12) zurückgehalten wird.
- 10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Druckreduziereinrichtung besteht aus einer Vakuumöffnung (18), die zentral unterhalb der Gelplatte (40) angeordnet ist, und einem porösen Trägerpolster (14), das zwischen der Vakuum-];Q öffnung (18) und der Gelplatte (40) angeordnet ist, das einen ausreichenden Strömungswiderstand ergibt, um die durch die Vakuumöffnung (18) hervorgerufene Zugkraft seitlich zu expandieren.ic
- 11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß sie außerdem eine Vakuumhaltende Kammer mit einem ebenen Boden aufweist, welche die Gelplatte (40) umschließt und oben durch eine Vakuumhaltende Folie (21), die zwischen der Heizplatte (23)„n und der Oberseite der Gelplatte (40) angeordnet ist, abgedichtet ist und in der die Druckreduziereinrichtung besteht aus:einer Vakuumöffnung (18) , die zentral in der Bodenoberfläche (16) der Kammer angeordnet ist;2g einem porösen Trägerpolster (14), das zwischen der Vakuumöffnung (18) und der Gelplatte (40) angeordnet ist, das einen ausreichenden Strömungswiderstand ergibt, um die durch die Vakuumöffnung (18) hervorgerufene Zugkraft seitlich zu expandieren; undOQ mindestens einer Rille (20) in der Bodenoberfläche (16) der Kammer, die sich von der Vakuumöffnung (18) hin zum Umfang der Bodenoberfläche (16) erstreckt, um entlang der Bodenoberfläche (16) einen im wesentlichen einheitlichen Druck aufrechtzuerhalten.
- 12. Vorrichtung zum Trocknen einer Gelplatte, die durch eine untere Schutzfolie mit einer ausreichenden Porosität, um einen Dampfstrom hindurchzulassen, undeiner oberen Schutzfolie mit einer ausreichenden Flexibilität, um die Kanten der Gelplatte abzudichten, begrenzt (gebunden) ist, die gekennzeichnet ist durch: eine geschlossene Kammer, begrenzt durch eine Bodenoberfläche (16), Seitenwände (17) und eine transparente flexible Abdeckung (21), die bei der Herabsetzung des Druckes im Innern der Kammer mit den Seitenwänden (17) eine Abdichtung bilden kann;
Einrichtungen zum Evakuieren der Kammer durch die Boden-IQ oberfläche (16);ein poröses Trägerpolster (14), das eine solche Größe hat, daß es in die Kammer paßt, und das eine ausreichende Dicke hat, um die Gelplatte (40) mit der oberen Schutzschicht im Kontakt mit der flexiblen Abdeckung"L5 zu tragen; undeine beschwerte Heizplatte (23), die mindestens die gleiche Ausdehnung wie die Gelplatte (40) hat, die auf der Oberseite der Abdeckung unter dem Einfluß der Schwerkraft ruht. - 13. Vorrichtung zum Trocknen einer Gelplatte und zum Fixieren der Gelplatte an einer darunterliegenden porösen Folie, während sie durch eine transparente, verformbare, darüberliegende Schutzfolie geschützt ist, welche2= die obere Oberfläche und die seitlichen Ränder der Gelplatte gegenüber einem Gasstrom versiegeln kann, wenn ein Vakuum von unten her angelegt wird, gekennzeichnet durch:
eine geschlossene Kammer, die von einer ebenen, wärmeiso-ng lierten Bodenoberfläche (16), Seitenwänden (17) und einer transparenten flexiblen Abdeckung (21), die bei Herabsetzung des Druckes im Innern der Kammer die Seitenwände (17) versiegeln kann, begrenzt ist; eine Vakuumöffnung (18), die zentral in der Bodenober-gg fläche (16) angeordnet ist;ein poröses Trägerpolster (14), das eine solche Größe hat, daß es in das Innere der Kammer paßt und das eine ausrei--δ-chende Dicke hat, um die Gelplatte mit der darüberliegenden Schutzfolie (41) im Kontakt mit der flexiblen Abdeckung (21) zu unterstützen, die einen ausreichenden Strömungswiderstand ergibt, um die Zugkraft eines durch die Vakuumöffnung (18) angelegten Vakuums seitlich zu expandieren;eine Vielzahl von Rillen (20) in der Bodenoberfläche (16), die sich radial von der Vakuumöffnung (18) in Richtung auf die Seitenwände (17) erstrecken, um einen im wesentlichen einheitlichen Druck entlang der Bodenoberfläche (16) aufrechtzuerhalten; eine beschwerte Laminat-Heizplatte (23) , die mindestens die gleiche Ausdehnung hat wie die Gelplatte (40) , bestehend aus einem ebenen elektrischen Widerstandheizelement (29), das an eine Platte aus einem wärmeleitfähigen Material (30) gebunden ist; und einen an der Kammer drehbar befestigten Deckel (12), der die Heizplatte (23) darin lose zurückhält mit einer ausreichenden Bewegungsfreiheit, so daß dann, wenn der Deckel (12) geschlossen wird, die Heizplatte (23) auf der flexiblen Abdeckung (21) unter der Wirkung der Schwerkraft ruht. - 14. Verfahren zum Trocknen einer Gelplatte und zum Verbinden der Gelplatte mit einer porösen Folie, dadurch gekennzeichnet, daß man:a) die Gelplatte flach auf die poröse Folie legt;b) die poröse Folie flach auf eine poröse horizontale Trägeroberfläche legt;c) die Gelplatte mit einer verformbaren Schutzfolie bedeckt, welche die obere Oberfläche und die Seitenränder der Gelplatte gegen den Gasstrom abdichten kann, wenn ein Vakuum von unten her angelegt wird;d) durch die poröse Trägeroberfläche von unten her ein Vakuum anlegt; unde) die obere Oberfläche der Gelplatte mit einer beschwerten Heizplatte, die mindestens die gleicheAusdehnung hat wie die Gelplatte und unter dem Einfluß der Schwerkraft darauf ruht, erhitzt, bis praktisch keine Feuchtigkeit mehr in der Platte verbleibt.
- 15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der beschwerten Heizplatte etwa 0,5 bis etwa 5,0 g/cm2 der auf der Gelplatte ruhenden Oberfläche beträgt.
- 16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der beschwerten Heizplatte etwa 0,75 bis etwa 3,0 g/cm2 der auf der Gelplatte ruhenden Oberfläche beträgt.
- 17. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die verformbare Schutzfolie transparent ist.
- 18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß das Vakuum in der Stufe (d) einem absoluten Druck von weniger als etwa 200 Torr (26,66 kPa) entspricht.
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