DE3521680C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Trocknen einer horizontal unterstützten Gelplatte sowie ein Verfahren zum Trocknen einer Gelplatte und zum Verbinden der Gelplatte mit porösen Schutzfolien. Nach elektrophoretischen Trennungen soll die Position der Banden in den Gelplatten zum Zwecke der Aufbewahrung und der genauen Analyse des elektrophoretischen Musters fixiert werden.

Bei den bekannten Vorrichtungen zum Fixieren von Gelplatten durch Trocknung werden im allgemeinen sowohl Wärme als auch Vakuum angewendet, um die Feuchtigkeit aus dem Gel zu verdampfen. Ein Beispiel einer solchen Vorrichtung ist in der US 40 20 563 beschrieben, nach welcher der Oberbegriff des Anspruchs 1 gebildet wurde.

Das Trocknen eines Gels wird dadurch erschwert, daß das Gel beim Trocknen zu einem für eine Flüssigkeit undurchlässigen spröden Feststoff vitrifiziert wird. Beim lokalisierten Er­ hitzen oder Verdampfen trocknet somit eine Oberfläche oder ein Bereich einer Gelplatte, und die Feuchtigkeit in den benach­ barten Bereichen muß über die getrockneten Bereiche herum entweichen. Häufig kann die Feuchtigkeit innerhalb des Gels eingeschlossen werden. Wenn die eingeschlossene Feuchtigkeit verdampft und sich hierbei ausdehnt, nimmt der Druck im Gel zu, und die seitlichen Spannungen steigen, was dazu führt, daß das trocknende Gel reißt. Wenn winzige Risse auftreten, dehnen sie sich außerdem schnell aus, da der unter Druck stehende eingeschlossene Dampf zu entweichen sucht.

Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Trocknen einer Gelplatte anzugegen, durch welche diese Nachteile vermieden werden.

In der US 39 35 646 ist eine Trockenvorrichtung für Agarose-Gelstreifen nach der Elektrophorese beschrieben, bei der Vakuum und Heizluft verwendet werden, um Feuchtigkeit aus den Streifen zu entfernen. Die Heizluft wird mit Hilfe eines Heizelements erzeugt, das sich in der Nähe der Gelplatte be­ findet. Die Heizluft wird mit Hilfe eines Ventilators umge­ wälzt und kommt mit dem Gel durch Öffnungen im Boden einer rechteckigen Vertiefung in Berührung, in der sich das Gel befindet. Das Vakuum und die Wärme werden von der gleichen Seite zugeführt.

Aus "Analytical Biochemistry" 46, S. 19-32, 1972, ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Trocknen von Gelplatten bekannt, wobei lediglich ein Vakuum über einen Zeitraum von 2 bis 3 Stunden angelegt wird. Eine Heizplatte wird nicht ver­ wendet.

Gegenstand der Erfindung ist eine Vorrichtung zum Trocknen einer horizontal unterstützten Gelplatte, mit einem Behälter zur Aufnahme der Gelplatte, mit einer Heizplatte, die im thermischen Kontakt zu der Gelplatte angeordnet ist und mindestens die gleiche Ausdehnung wie diese hat, mit einer Einrichtung zur Herabsetzung des Atmosphärendruckes unterhalb der Gelplatte in im wesentlichen einheitlicher Weise über die gesamte Oberfläche derselben, um verdampfte Feuchtigkeit nach unten aus der Platte abzuziehen, und mit einer Vakuum­ haltenden Deckfolie, die oberhalb der Gelplatte angeordnet ist und zusammen mit dem Behälter eine Vakuum-haltende Kammer für die Gelplatte bildet, wobei die beschwerte Heizplatte unter dem Einfluß der Schwerkraft auf der Oberseite der Deckfolie ruht und mittels einer Befestigung aus einer Vielzahl von Stützen gleitend gehalten ist, so daß die Heizplatte während des Trocknens frei in Richtung zur Gelplatte beweglich ist.

Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zum Trocknen einer Gelplatte und zum Verbinden der Gelplatte mit porösen Schutzfolien, wobei man:

• a) die Gelplatte flach auf eine poröse Schutzfolie legt;
• b) die poröse Schutzfolie flach auf ein poröses hori­ zontales Trägerpolster legt;
• c) die Gelplatte mit einer verformbaren Schutzfolie und diese mit einer Deckfolie bedeckt, welche die Ober­ seite und die Seitenränder der Gelplatte gegen den Gasstrom abdichtet, wenn ein Vakuum von unten her angelegt wird
• d) durch das poröse Trägerpolster von unten her ein Vakuum anlegt; und
• e) die Oberseite der Deckfolie mit einer beschwerten Heizplatte, die mindestens die gleiche Ausdehnung wie die Gelplatte hat und unter dem Einfluß der Schwerkraft auf der Deckfolie ruht und mittels einer Befestigung aus einer Vielzahl von Stützen gleitend gehalten ist, so daß die Heizplatte während des Trocknens frei in Richtung zur Gelplatte beweglich ist, erhitzt, bis praktisch keine Feuchtigkeit mehr in der Gelplatte verbleibt.

Bevorzugte Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Vorrichtung bzw. des erfindungsgemäßen Verfahrens sind in den Unteran­ sprüchen angegeben.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung hat den Vorteile daß die die Platte verlassende verdampfte Feuchtigkeit an allen Punkten in der Gelplatte von der Heizplatte weg nach unten strömt und daß der Kontaktdruck der Heizplatte während des gesamten Verfahrens konstant bleibt, auch wenn sich die Dicke der Gelplatte vermindert. Es werden parallele Wärme- und Druckgradienten aufrechterhalten, um eine gleichmäßige Trocknung der Gelplatte ohne Einschluß von Feuchtigkeit bzw. ohne Druckaufbau im Inneren des Gels zu bewirken. Das Ergebnis ist eine beträchtliche Verbesserung der Beständigkeit der Gelplatte gegen Rißbildung während des Trocknungsvorganges.

Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die bei­ liegenden Zeichnungen anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer Trocknungsvorrichtung mit weggebrochenen Teilen, bei der die Heizplatte in einen mit einem Scharnier ver­ sehenen Deckel eingearbeitet ist, der in der of­ fenen Position gezeigt wird;

Fig. 2 eine Schnitt-Seitenaufrißansicht des Deckels und der Heizplatte der Ausführungsform gemäß Fig. 1 entlang der Linie 2-2;

Fig. 3 eine Schnitt-Frontaufrißansicht des Deckels und der Heizplatte der Ausführungsform gemäß Fig. 1 entlang der Linie 3-3 und

Fig. 4 eine Frontaufrißansicht der in Fig. 1 gezeigten Vorrichtung in auseinandergezogener Anordnung entlang der Linie 4-4.

In Fig. 1 ist ein Gelplattentrockner 10 gezeigt der aus einer Basis 11 und einem Deckel 12 besteht. Beide haben im allgemeinen eine rechteckige Form, wobei der Deckel mittels eines Scharniergelenks entlang einer der langen Seiten, welche die Rückseite der Vorrichtung bildet, drehbar an der Basis befestigt ist.

In der Basis 11 ist ein offener Behälter 13 vorgesehen für die Aufnahme eines porösen Trägerpolsters 14 mit einer ebenen horizontalen oberen Oberfläche 15 mit ausreichen­ den Dimensionen, um eine feuchte Gelplatten 40 tragen. Die Größe und Gestalt des Trägerpolster 14 sind nicht kri­ tisch, vorausgesetzt, daß seine Oberfläche 15 mindestens die gleiche Ausdehnung hat wie die Gelplatte. Während eines typischen Trocknungsverfahrens wird das Gel zwi­ schen Schutzfolien gelegt, die sich über seine Ränder hinaus erstrecken. Daher ist die Polsteroberfläche so­ wohl länger als auch breiter als das Gel, so daß ein Rand verbleibt, der das Gel in einer ausreichenden Breite umgibt, um die überschüssige Breite der Schutzfolien auf­ zunehmen.

Da die in der Elektrophorese verwendeten Gelplatten im allgemeinen rechteckig sind, sind der Behälter 13 und das Trägerpolster 14, die in der Zeichnung dargestellt sind, ebenfalls rechteckig, wobei der Behälter 13 eine ebene Bodenoberfläche 16 und gerade Seitenwände 17 auf­ weist. Die Bodenoberfläche 16 weist eine zentrale Öffnung 18 auf, durch die ein Vakuum erzeugt wird. Die Öffnung 18 steht, wie gezeigt ist, an der Seite oder der Rück­ wand der Basis mit einer äußeren Rohrverbindung 18a für den Anschluß an eine Vakuumleitung, die zu einer Vakuum­ quelle führt, in Verbindung. Es kann eine übliche Labor­ vakuumanlage verwendet werden. Beim typischen Betrieb ist das Vakuum ein Teilvakuum von mindestens 58,42 cm Quecksilber (absoluter Druck von weniger als etwa 200 Torr, entsprechend 26,66 kPa).

Um eine einheitliche Trocknungsrate über die gesamte Oberfläche der Gelplatte zu erzielen, muß die Abzugs­ kraft des Vakuums aus der Vakuumöffnung 18 so verteilt sein, daß sie die gesamte Länge und Breite des Gels um­ faßt. Um diesen Verteilungseffekt zu fördern, sind die oberen und unteren Oberflächen 15 des Trägerpolsters 14 durch offene Poren oder Durchgänge 19 miteinander ver­ bunden, die ausreichend eng oder so gewunden sind, daß ein Strömungswiderstand entsteht, der den Bereich erweitert, aus dem das Gas oder der Dampf in die Vakuumöffnung abgezogen wird. Daher muß das Polster aus Mate­ rialien, wie porösem Polyethylen oder anderen starren Kunststoffschäumen, einem gesinterten Metall oder mit­ einander verbundenen Glasperlen bestehen. Außerdem sind in der Bodenoberfläche 16 des Behälters 13 eine oder mehrere Rillen 20 vorgesehen, die sich in Richtung auf die Sei­ tenwände 17 erstrecken und in die Vakuumöffnung 18 öffnen. Diese erlauben das Strömen des Dampfes zu der Vakuum­ öffnung mit einem beträchtlich niedrigeren Strömungs­ widerstand als die Poren 19 in dem Trägerpolster und dadurch die Aufrechterhaltung eines im wesentlichen einheitlichen Druckes entlang des Bodens des Behälters, während Dampf durch das Polster abgezogen wird.

Dabei sind die Rillen radial und symmetrisch um die Vakuumöffnung herum angeordnet, wie in Fig. 1 gezeigt. Als Folge davon wird die ver­ dampfte Feuchtigkeit, die das Gel verläßt, in einer einheitlichen Rate entlang der gesamten seitlichen Aus­ dehnung des Gels gerade nach unten abgezogen, so daß das Gel während des gesamten Trocknungsverfahrens frei von seitlichen Spannungen bleibt.

Die Gelplatte mit Schutzschichten sowohl auf der Obersei­ te als auch auf der Unterseite wird so auf die Oberseite 15 des Trägerpolsters 14 gelegt, daß alle ihre Kanten inner­ halb derjenigen des Polsters liegen. Die Platte wird dann mit einer flexiblen Deckfolie 21 in Form einer Lasche be­ deckt, die sich über den gesamten Behälter 13 erstreckt und den Rand 22 überlappt, der durch die oberen Ränder der Seitenwände 17 gebildet wird. Die Deckfolie 21 und der Behälter bilden auf diese Weise eine geschlossene Kammer, die das Vakuum hält. Die Deckfolie 21 besteht aus einem Material, das ein Vakuum halten kann, aber dennoch aus­ reichend verformbar ist, um um den Rand 22 herum eine Ab­ dichtung zu bilden, wenn der Druck im Innern der Kammer herabgesetzt wird.

Die Dicke des Trägerpolsters 14 ist so groß, daß seine obere Oberfläche 15 eine ausreichende Höhe hat, um das Gel mit der Deckfolie 21 in vollen Kontakt zu bringen (über die obere Schutzschicht), bevor das Vakuum angelegt wird. Der durch die Deckfolie 21 auf das Gel ausgeübte Druck, wenn die Kammer evakuiert wird, ist dann gleichmäßig entlang der gesamten Kontaktfläche zwischen der Gelplatte und der Deckfolie 21.

Die Deckfolie 21 wird vorzugsweise aus einem transparenten Material zugeschnitten, so daß der Bediener der Vorrichtung das Trocknungsverfahren überwachen kann. Ein Beispiel für ein solches Material ist ein klarer Siliconkautschuk. Die in der Zeichnung dargestellte Deckfolie 21 ist an einer Seite an der Basis befestigt, so daß sie angehoben werden kann, um das Trägerpolster 14 und die Gelplatte 40 leicht einführen und herausnehmen zu können.

Der Deckel 12 der Vorrichtung trägt eine hängende Heizplatte 23. Die Heizplatte 23 wird in dem Deckel 12 mittels einer losen reibungsfreien Befestigung zurückgehalten, die der Platte einen ausreichenden Freiheitsgrad in Richtung senkrecht zum Deckel 12 erlaubt, so daß dann, wenn der Deckel 12 geschlossen wird, die untere Oberfläche der Heizplatte 23 auf der Oberseite der flexiblen Deckfolie 21 unter ihrer vollen Schwerkraft und nichts anderem ruht. Ein Beispiel für eine solche Verbindung ist die in den Zeichnungen dargestellte, die aus einer Reihe von Stützen 24 besteht, die sich von der inneren Oberfläche des Deckels 12 nach unten erstrecken und von denen jede in eine erhabene Öffnung oder in einen sich nach oben von der Heizplatte 23 erstreckenden Ring paßt. In einer zweckmäßigen Anordnung ist eine solche Stütze 24 in der Nähe jeder der vier Ecken des Deckels 12 angeordnet.

Eine der vier Stützen- und Ring-Komkbinationen ist in der Fig. 2 im Detail dargestellt. Bei der gezeigten Ausführungsform ist der Ring eine Öffnung 25 in einem L-förmigen Vorsprung 26, der sich von der Heizplatte 23 in der Nähe der Ecke der Heizplatte 23 nach oben erstreckt. Die Öffnung hat einen größeren Durchmesser als der Schaft 27 der Stütze 24, so daß ein lockerer Sitz für das reibungslose Gleiten des Vorsprungs an dem Schaft nach unten erhalten wird. Die verbreiterte Basis 28 der Stütze 24, die einen größeren Durchmesser als die Öffnung 25 hat, begrenzt den Weg der Wanderung des Arms, wodurch die Heizplatte 23 in dem Deckel 12 zurückgehalten wird, wenn der Deckel 12 angehoben wird.

Die Länge jedes Schafts 27 und somit der Höhenbereich der Heizplatte 23 werden so gewählt, daß dann, wenn der Deckel 12 über der Basis 11 geschlossen wird, die Heizplatte 23 mit der Deckfolie 21 in Kontakt steht und jede Öffnung 25 einen Abstand von beiden Grenzen des Schaftes 27 hat, die so verbleiben, wenn die Gelplatte 40 während der Trocknung in der Dicke schrumpft. Als Folge davon übt die Heizplatte 23 eine konstante Schwerkraft auf das die Gelplatte 40 während des Trocknungsverfahrens aus.

Die Heizplatte 23 und die damit verbundenen Kontrollein­ richtungen sind in Fig. 3 dargestellt. Die Heizplatte 23 kann irgendeinen konventionellen Aufbau haben, der eine im wesentlichen gleichmäßige Wärmeübertragung auf die Gelplatte 40 gibt. Ein Heizelement vom elektrischen Wider­ stands-Typ ist beispielsweise besonders geeignet. Typi­ sche derartige Elemente können aus einem elektrischen Draht bestehen, der zwischen Siliconkautschukfolien einge­ woben ist, oder sie können irgendeinen anderen üblichen Aufbau für ein Heizpolster haben. Bei der in den Zeich­ nungen dargestellten Ausführungsform hat die Heizplatte 23 eine Laminatstruktur, bestehend aus einem ebenen Heizelement 29, das mit einer Platte 30 aus einem wärmeleitfähigen Ma­ terial, wie z. B. Aluminium oder Kupfer, verbunden ist. Die Platte 30 fördert die gleichmäßige Verteilung der durch das Heizelement 29 erzeugten Wärme und wenn sie oberhalb des Heizelements 29, wie dargestellt, angeordnet ist, steht die Temperatur des Heizelements 29 mit den Thermostaten 31, 32, 33 in Verbindung. Die Platte 30 verleiht der Heizplatte 23 auch Masse, die sich zu der Kraft addiert, mit der die Heiz­ platte 23 mit der Deckfolie 21 oberhalb der Gelplatte 40 in Kontakt steht.

Das Gesamtgewicht der Heizplatte 23 ist nicht kritisch und kann stark variieren. Im allgemeinen liefert eine Heizplatte 23 mit einem Gewicht von etwa 0,5 bis etwa 5 g pro cm² Kontaktober­ fläche, vorzugsweise von etwa 0,75 bis etwa 3 g pro cm², die besten Ergebnisse Heizplatten 23 mit einem Gewicht von etwa 1,1 bis etwa 1 , 3 g/cm² haben sich als besonders zweck­ mäßig erwiesen.

Die Kontrolle der Temperatur der Heizplatte 23 kann nach konventionellen Methoden erzielt werden. Die in den Zeich­ nungen dargestellte Ausführungsform enthält eine Reihe von Thermostaten 31, 32, 33, um die Vorrichtung flexibel zu machen, so daß sie an die Bedürfnisse von Gelen unter­ schiedlicher Dicken und Konzentrationen angepaßt werden kann. Eine besonders vorteilhafte Anordnung umfaßt eine niedrige Wärmeeinstellung und eine hohe Wärmeeinstellung sowie einen Überhitzungsschutz und somit die drei gezeig­ ten Thermostaten. So ist beispielsweise ein Thermostat für niedrige Wärme, der auf 60°C eingestellt ist, geeignet für Gele, die autoradiographisch analysiert werden sollen, oder für ähnliche Systeme, die dazu neigen, bei höheren Temperaturen an Genauigkeit zu verlieren, während der Thermostat für einen hohen Wärmewert auf 80°C eingestellt werden kann für die Verwendung in anderen Systemen. Die Wahl des herrschenden Thermostaten kann durch einen Schalter 34 außen auf der Vorrichtung gesteuert werden, wie in Fig. 1 gezeigt. Der dritte Thermostat kann so eingestellt werden, daß die Heizeinrichtung abgeschaltet wird, wenn die Temperatur ein vorgegebenes Maximum von beispielsweise 90°C übersteigt. Dieser dient als Überhitzungsschutz für den Fall, daß der Kontrollthermostat, der in Betrieb ist, versagt. Weitere gegebenenfalls vorhandene Merkmale umfassen einen Zeitgeber 35 für das Heizelement und ein Anzeigelicht 36, das anzeigt, ob der Zeitgeber ein- oder ausgeschaltet ist, wodurch angezeigt wird, wenn die Trocknungsfolge beendet ist.

In der Fig. 4 ist die gesamte Vorrichtung in Form einer Frontansicht in auseinandergezogener Darstellung gezeigt, wobei der Deckel 12 nicht mit einem Scharniergelenk verse­ hen ist, und die außerdem die Gelplatte und Schutzschich­ ten 41, 42 umfaßt. Bei dieser Darstellung ist ein Isolierpolster 37 gezeigt, das in das Innere der Basis 11 paßt, so daß es nach oben gegen die Unterseite 38 der Bodenoberfläche Behälters 13 drückt. Das isolierende Polster 37 enthält eine Öffnung 39 für die Aufnahme der Vakuumleitung. In dieser Anordnung unterstützt das Isolierpolster 37 die Rück­ haltung der Wärme in dem System für eine wirksamere Trock­ nung.

Wie in der Fig. 4 gezeigt, ist das System bestimmt für die Verwendung mit einer Gelplatte 40, die durch Schutzschichten 41 bzw. 42 unterhalb bzw. oberhalb begrenzt ist, wie sie beim Trocknen und Fixieren von Gelplatten übli­ cherweise verwendet werden. Die Materialien für die Schutzschichten können solche sein, wie sie üblicher­ weise gemäß Stand der Technik verwendet werden. Die untere Schutzschicht 42 ist eine Folie mit einer ausrei­ chenden Porosität, um den Dampfstrom hindurch zu erlau­ ben und um ausreichend sorptiv zu sein, um sich mit dem Gel zu verbinden, wenn das Gel trocknet. Im allge­ meinen ist ein übliches Laborfilterpapier verschiedener Grade oder Cellophan geeignet. Die obere Schutzfolie 41 kann porös oder nicht-porös sein, in jedem Falle ist sie jedoch leicht verformbar. Wenn das Vakuum angelegt wird, haftet die obere Folie fest an den Rändern des Gels.

Wenn die Folie aus einem porösen Material, wie z. B. Cellophan, hergestellt ist, haftet das Gel beim Trocknen daran. Die Folie muß deshalb klar sein, um eine visuel­ le Analyse zu erlauben, wenn einmal das Trocknen beendet ist. Beispiele für klare nicht-poröse Materialien sind Saran Wrap®, Glad Wrap® und Mylar®. Nicht-haftende porö­ se Materialien, wie z. B. poröses Polyethylen oder poröses Polypropylen, sind von dem getrockneten Gel ent­ fernbar und brauchen daher nicht klar zu sein. Im allge­ meinen sind jedoch klare Materialien bevorzugt sowohl für die obere Schutzfolie 41 als auch für die Deckfolie 21 der Trocknungsvorrichtung, so daß das Fortschreiten der Trocknung visuell überwacht werden kann, ohne das Vakuum zu unterbrechen. In einigen Fällen kann bei der Trockenvorrichtung die obere Schutzfolie 41 vollständig eliminiert werden und die Deck­ folie 21 kann als einziger Schutz für die obere Oberfläche der Gelplatte 40 dienen.

Claims (11)

1. Vorrichtung zum Trocknen einer horizontal unterstützten Gelplatte, mit einem Behälter zur Aufnahme der Gelplatte, mit einer Heizplatte, die im thermischen Kontakt zu der Gelplatte angeordnet ist und mindestens die gleiche Ausdehnung wie diese hat, mit einer Einrichtung zur Herabsetzung des Atmosphären­ druckes unterhalb der Gelplatte in im wesentlichen ein­ heitlicher Weise über die gesamte Oberfläche derselben, um verdampfte Feuchtigkeit nach unten aus der Platte abzuziehen, und mit einer Vakuum-haltenden Deckfolie, die oberhalb der Gelplatte angeordnet ist und zusammen mit dem Behälter eine Vakuum-haltende Kammer für die Gelplatte bildet, dadurch gekennzeichnet, daß die beschwerte Heizplatte (23) unter dem Einfluß der Schwerkraft auf der Oberseite der Deckfolie (21) ruht und mittels einer Befestigung aus einer Vielzahl von Stützen (24) gleitend gehalten ist, so daß die Heizplatte (23) während des Trocknens frei in Richtung zur Grundplatte (40) be­ weglich ist.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß die Vakuum-haltende Deckfolie (21) transparent ist.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der Heizplatte (23) etwa 0,5 bis 5,0, vorzugsweise etwa 0,75 bis 3,0 g, pro cm² der Kontaktoberfläche beträgt.

4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizplatte (23) ein Laminat aus einem ebenen elektrischen Widerstandsheizelement (29) und einer damit verbundenen Platte (30) aus einem wärmeleitfähigen Material ist.

5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizplatte (23) unter einem drehbar an der Vorrichtung befestigten Deckel (12) gehalten ist.

6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Einrichtung zur Herabsetzung des Atmosphärendruckes eine zentral unterhalb der Gelplatte (40) angeordnete Vakuumöffnung (18) und ein zwischen der Vakuum­ öffnung (18) und der Gelplatte (40) angeordnetes poröses Trägerpolster (14) enthält, das einen ausreichenden Strömungswiderstand ergibt, um die durch die Vakuumöffnung (18) hervorgerufene Zugkraft seitlich auszubreiten.

7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Herabsetzung des Atmosphärendruckes mindestens eine Rille (20) in der Bodenfläche (16) des Behälters (13) enthält, die sich von der Vakuumöffnung (18) bis zum Umfang der Bodenfläche (16) erstreckt, um entlang der Bodenfläche (16) einen im wesentlichen gleichmäßigen Druck aufrechtzuerhalten.

8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Bodenfläche (16) wärmeisoliert ist und eine Vielzahl von Rillen (20) aufweist, die sich radial von der Vakuumöffnung (18) in Richtung auf die Seitenwände (17) des Behälters (13) erstrecken.

9. Verfahren zum Trocknen einer Gelplatte (40) und zum Verbinden der Gelplatte (40) mit porösen Schutzfolien (41 42), wobei man:

• a) die Gelplatte (40) flach auf eine poröse Schutzfolie (42) legt;
• b) die poröse Schutzfolie (42) flach auf ein poröses hori­ zontales Trägerpolster (14) legt;
• c) die Gelplatte (40) mit einer verformbaren Schutzfolie (41) und diese mit einer Deckfolie (21) bedeckt, welche die Ober­ seite und die Seitenränder der Gelplatte (40) gegen den Gasstrom abdichtet, wenn ein Vakuum von unten her angelegt wird;
• d) durch das poröse Trägerpolster (14) von unten her ein Vakuum anlegt; und
• e) die Oberseite der Deckfolie (21) mit einer beschwerten Heizplatte (23), die mindestens die gleiche Ausdehnung wie die Gelplatte (40) hat und unter dem Einfluß der Schwerkraft auf der Deckfolie (21) ruht und mittels einer Befestigung aus einer Vielzahl von Stützen (24) gleitend gehalten ist, so daß die Heizplatte (23) während des Trocknens frei in Richtung zur Gelplatte (40) beweglich ist, erhitzt, bis praktisch keine Feuchtigkeit mehr in der Gelplatte (40) verbleibt.

10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß man in Stufe (e) eine beschwerte Heizplatte (23) mit einem Gewicht von etwa 0,5 bis 5,0, vorzugsweise etwa 0,75 bis 3,0 g pro cm² Kontaktoberfläche verwendet.

11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß man in Stufe (d) ein Vakuum entsprechend einem absoluten Druck von weniger als etwa 26,66 kPa (200 Torr) anlegt.