DE3513014C2 - Verfahren zur Behandlung der Oberfläche von Werkstücken - Google Patents
Verfahren zur Behandlung der Oberfläche von WerkstückenInfo
- Publication number
- DE3513014C2 DE3513014C2 DE3513014A DE3513014A DE3513014C2 DE 3513014 C2 DE3513014 C2 DE 3513014C2 DE 3513014 A DE3513014 A DE 3513014A DE 3513014 A DE3513014 A DE 3513014A DE 3513014 C2 DE3513014 C2 DE 3513014C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- workpiece
- cathode
- substrate
- coating
- anode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K28/00—Welding or cutting not covered by groups B23K5/00 - B23K26/00
- B23K28/003—Welding in a furnace
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
- C23C26/02—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00 applying molten material to the substrate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur
Behandlung der Oberfläche von Werkstücken, insbesondere auf
eine Oberflächenbehandlung, bei welcher metallurgische Be
schichtungen, Oberflächenlegierungen, eine Oberflächen-Wärme
behandlung oder eine Material-abtragende Behandlung der Ober
fläche eines Werkstückes durch Strahlzerstäubung erzielt werden
bzw. wird.
Ein bekanntes Verfahren zur Aufbringung einer Oberflächenbeschichtung
auf einem Werkstück wird mit Hilfe eines im Vakuum
erzeugten Lichtbogens durchgeführt. Bei diesem bekannten Verfahren
wird eine elektrische Entladung zwischen zwei sich in
einem Vakuum befindenden, leitfähigen Elektroden eingeleitet.
Die Leitung des elektrischen Stromes erfolgt dabei mit Hilfe
eines Plasmas, welches in erster Linie aus ionisierten und neutralen
Teilchen des Elektrodenmaterials besteht; diese Teilchen
werden durch die Wirkung des Lichtbogens an der Oberfläche der
Elektroden erzeugt. Die bisher bekannten Verfahren beruhen im
allgemeinen auf der Anwendung von Gleichstrom mit relativ nied
riger Amplitude, normalerweise zwischen 1 und 300 A, wobei das
Werkstück bzw. das Substrat relativ weit von der Quelle bzw.
der Kathode entfernt ist, um eine möglichst gleichmäßige Beschichtung
zu erreichen. Eine solche Anordnung ergibt aber nur
einen niedrigen Abscheidungsgrad, und deshalb ist die Behandlungsdauer
im allgemeinen ziemlich lang, typischerweise Minuten
oder Stunden, um eine Beschichtung spürbarer Dicke zu erzeugen,
d. h. eine Dicke von mindestens einigen wenigen Mikrons. Unter
diesen Umständen ist die Erwärmung des Werkstückes begrenzt und
die thermische Diffusionslänge ist üblicherweise groß im Vergleich
mit der Abmessung des Werkstückes. Die überschüssige
Wärme wird normalerweise über die Werkstückhalterung durch Konduktion
abgeführt, wobei gegebenenfalls eine Flüssigkeitskühlung
innerhalb der Werkstückhalterung vorgesehen werden kann.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren
zur Behandlung der Oberfläche von Werkstücken vorzugschlagen,
welches insofern Vorteile gegenüber den bekannten Verfahren,
insbesondere gegenüber dem Verfahren zur Beschichtung im Vakuum
mittels eines Lichtbogens, bietet, als eine höhere Ablagerungs
geschwindigkeit erzielt, eine gezielte Behandlung einzelner Bereiche
der Werkstückoberfläche ermöglicht und ein Arbeiten bei
höherem Umgebungsdruck realisiert werden kann.
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung durch ein Verfahren gelöst,
welches die im Patentanspruch 1 angegebenen Merkmale auf
weist.
Vorzugsweise sind das Werkstück und die Kathode im Abstand zu
einander angeordnet und durch einen Spalt voneinander getrennt,
dessen Breite geringer ist als die kleinste Dimension der
Kathode, gemessen in der Ebene durch die Kathode und parallel
zum Werkstück.
Daraus ist ersichtlich, und wird durch die nachfolgende Be
schreibung noch erhärtet werden, daß das neue, vorgeschlagene
Verfahren der vorliegenden Erfindung gegenüber den konventionellen
Ablagerungsverfahren mit einem Vakuumlichtbogen eine Anzahl
von Vorteilen wie folgt bietet:
- 1. Während die bekannten Verfahren im allgemeinen mit Gleichstrom niedriger Amplitude arbeiten, verwendet das neue Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung Impulse mit hoher Amplitude und kurzer Dauer. Vorzugsweise beträgt die Länge eines einzelnen Impulses, gemessen über eine volle Wellenlänge bei halber Amplitude (HAFW) etwa 0,5-100 ms. Bei der elektrischen Entladung entstehen dabei Stromdichten von mindestens 3×10⁶ A pro m², mit einer Stromstärke z. B. im Bereich von 500-2000 A mit den üblicherweise verwen deten Kathoden.
- 2. Währenddem die konventionellen, im Vakuum durchgeführten Verfahren eine geometrische Anordnung verwenden, in welcher das Substrat relativ weit von der Quelle entfernt ist, sieht die vorliegende Erfindung vor, daß das Substrat oder Werkstück vorzugsweise relativ nah zur Quelle bzw. zur Kathode angeordnet ist, beispielsweise, daß der Zwischenraum zwischen Anode und Kathode weniger beträgt als die kleinste Dimension der Kathode. Als Beispiel kann angeführt werden, daß bei Verwendung einer Kathode von mindestens 10 mm Durchmesser der Spalt weniger als 8 mm, vorzugsweise zwischen 1 und 4 mm beträgt.
- 3. Als Folge der kurzen Dauer des Lichtbogen-Impulses kommt hinzu, daß die gesamte Energie, die zum Werkstück übertragen wird, relativ niedrig gehalten werden kann, und daß die thermische Diffusionslänge bedeutend kleiner gemacht werden kann als die Dicke des Werkstückes.
Im folgenden wird eine Anzahl von Ausführungsbeispielen einer
Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens beispielsweise erläutert.
Bei einigen der beschriebenen Ausführungsbeispiele
dient das Material der Kathode gleichzeitig als Oberflächenbe
schichtungsmaterial für das Werkstück, wobei die Oberfläche des
Werkstückes durch die elektrische Entladung über den Schmelzpunkt
des Kathodenmaterials, aber nicht bis zum Schmelzpunkt
des Materials des Werkstückes erhitzt wird. Bei anderen, nachstehend
beschriebenen Ausführungsbeispielen wird das Material
der Kathode als Oberflächenbeschichtung des Werkstückes angewandt,
wobei die Oberfläche des Werkstückes durch die elektrische
Entladung soweit erhitzt wird, daß eine Verschmelzung und
damit eine Adhäsion zwischen dem Werkstück und dem Kathodenmaterial
erreicht wird. In einem weiteren, nachstehend beschriebenen
Ausführungsbeispiel wird das Material der Kathode als
Oberflächenbeschichtung des Werkstückes verwendet, wobei die
Oberfläche des Werkstückes durch die elektrische Entladung über
den Schmelzpunkt sowohl des Kathodenmaterials als auch des
Werkstückmaterials erhitzt wird; dabei ergibt sich eine Ober
flächenlegierung zwischen den beiden Materialien auf der Oberfläche
des Werkstückes. In einem weiteren, nachstehend beschriebenen
Ausführungsbeispiel wird die Oberfläche des Werkstückes
durch die elektrische Entladung über die Festphasen-
Transformationstemperatur erwärmt und anschließend einer raschen
Abkühlung unterzogen, dies durch natürliche Wärmekonduktion
in das Innere des Werkstückmaterials, wobei die Bereiche
nahe der Oberfläche des Werkstückes abgeschreckt werden, um eine
metastabile kristalline Struktur zu erzeugen.
Weil die kurze Dauer der Lichtbogenentladung erlaubt, daß die
thermale Diffusionslänge bedeutend weniger beträgt als die
Dicke des Werkstückes, kann erreicht werden, daß die Phasen
transformation auf einen Bereich beschränkt werden kann, der in
der Nähe der Oberfläche des Werkstückes liegt, währenddem die
gesamte Temperaturerhöhung des Hauptteiles des Werkstückes vergleichsweise
gering bleibt.
Im folgenden wird ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen
Verfahrens beispielsweise erläutert, und zwar unter Bezugnahme
auf eine Anzahl von beispielhaften Vorrichtungen, die in
den beiliegenden Zeichnungen schematisch dargestellt sind. In
den Zeichnungen zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung des Ablaufs des er
findungsgemäßen Verfahrens;
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines Ausführungs
beispiels einer Vorrichtung zur Ausübung des er
findungsgemäßen Verfahrens;
Fig. 3 eine schematische Darstellung einer anderen Aus
führungsform einer Einrichtung zur Ausübung des
erfindungsgemäßen Verfahrens, bei welcher eine
kombinierte, kathodische und Gasplasma-Entladung
bei hohen Strömen erfolgt;
Fig. 4a eine Ausführungsform einer Einrichtung zur Ausübung
des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Erzeugung
von Plasmaströmen, die von zwei (oder mehr)
Kathoden ausgehen und die gegen die Oberfläche des
Werkstückes gerichtet sind, z. B. zur Erzeugung einer
Legierungsschicht oder einer gekörnten Schicht
auf dem Werkstück;
Fig. 4b/c Kurvendiagrammme des Stromes, der den beiden Kathoden
zugeführt wird;
Fig. 4d die resultierenden Ablagerungen;
Fig. 5 eine weitere Ausführungsform einer Einrichtung zur
Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Erzeugung
einer Schicht, die aus einer Mehrzahl von
Materialkomponenten auf einem Substrat besteht;
Fig. 6 eine weitere Ausführungsform der Erfindung, bei
welcher ein magnetisches Feld zur Steuerung des
Plasmastromes verwendet wird;
Fig. 7, 7a eine Stirnansicht, bzw. einen Schnitt einer Einrichtung
zur Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens,
insbesondere für die Behandlung von lang
gestreckten, zylindrischen Werkstücken, und
Fig. 8-10 eine Einrichtung zur Ausübung des erfindungsgemäßen
Verfahrens für die Beschichtung der inneren
Oberfläche von hohlen, langgestreckten Körpern.
Bevor die einzelnen Ausführungsmöglichkeiten des erfindungsgemäßen
Verfahrens anhand der Fig. 2-7 näher erläutert werden,
soll der prinzipielle Verfahrensablauf anhand der aus Fig. 1
ersichtlichen schematischen Darstellung erklärt werden, damit
das Verfahren gemäß der Erfindung und die damit zu erzielenden
Vorteile besser verständlich werden.
Wie aus der schematischen Darstellung in Fig. 1 ersichtlich
ist, ist eine Anode und eine im Abstand dazu angeordnete Kathode
vorhanden, zwischen welchen ein Vakuum herrscht. Im Raum
zwischen Anode und Kathode ist ein Lichtbogen vorhanden, mit
einem Strom von ca. 1 kA. Das leitende Medium zwischen Kathode
und Anode ist ein Plasma, das durch eine Vielzahl von winzigen
Regionen erzeugt wird, welche als sogenannte Kathodenflecken
bekannt sind, die sich auf oder in der Nähe der Kathodenoberfläche
befinden. Die Anzahl der vorhandenen Kathodenflecken ist
proportional zum Strom, wobei die Proportionalität in Abhängigkeit
des Kathodenmaterials konstant ist. Materialien mit einem
hohen Dampfdruck tendieren dazu, relativ wenig Strom pro Kathodenfleck
zu ziehen (z. B. 10-20 A im Fall von Cd), während
schwerer schmelzbare Materialien sich durch höhere Ströme pro
Kathodenfleck auszeichnen (z. B. 150-200 A bei Mo). Jeder
Kathodenfleck emittiert einen Plasmastrahl, der generell in
einer Richtung von der Kathodenoberfläche weg verläuft. Im allgemeinen
ist der Plasmastrahl stark ionisiert und fließt mit
hoher Geschwindigkeit. Die Parameter, welche den Plasmastrahl
charakterisieren, hängen vom Material ab. Im Falle von Kupfer
ist der von den Kathodenflecken ausgehende Plasmastrahl in einen
Vakuumlichtbogen durch eine praktisch vollständig ionisierte
Form gekennzeichnet, und zwar wie folgt:
Der durchschnittliche Ionisierungsgrad der Ionen beträgt 1,85,
und die durchschnittliche Geschwindigkeit der Ionen beträgt
10⁴ m/s. Der Ionenstrom, der sich von der Kathode wegbewegt,
beträgt ungefähr 8% des gesamten Kathodenfleckenstromes.
In einer gewissen Distanz von der Kathodenoberfläche, abhängig
von der Dichte der Kathodenflecken, fließen die einzelnen
Ströme zusammen und bilden einen quasi uniformen Plasmastrombereich,
mit einer generellen Flußrichtung von der Kathode
weg. Im einfachsten Fall, wie er in Fig. 1 dargestellt ist, bei
welchem die Anode des Lichtbogens in der Nähe der Kathode angeordnet
ist, schneidet diese den Plasmastrom; je nach Kombination
der Materialien wird ein gewisser Anteil des Plasmas auf
der Anodenoberfläche kondensieren, so daß die Anode in diesem
Fall als das Substrat für die aufzubringende Schicht dient. Bei
gewissen Materialkombinationen tritt der Effekt auf, daß die
energiereichen Ionen, die das Substrat bombardieren, den Ausstoß
von neutralen Atomen aus der Substratoberfläche bewirken,
ein Phänomen, welches als "Kathodenzerstäubung" bekannt ist.
Falls der Grad dieser Kathodenzerstäubung allzu groß ist, wird
sich keine Deckschicht ausbilden; daher kann dieses Phänomen
zur Ätzung der Oberfläche des Substrates verwendet werden.
Der Ionenstrom zur Anode, d. h. zur Substratoberfläche, kann
durch die folgende Gleichung ausgedrückt werden:
Gi = f I / (e Z A) (1)
Dabei bedeuten "Gi der Ionenfluß (Anzahl der Ionen) pro
Zeiteinheit und pro Flächeneinheit, f ist der Ionenstromanteil
(im allgemeinen ungefähr=0,1), I ist der Strom des Lichtbogens,
e ist die Ladung pro Elektron, Z ist die durchschnittliche
Ionisierung der Plasmaionen und A ist der Querschnitt der
Fläche, auf welcher die Entladung stattfindet. Im Fall, wo der
zwischen den Elektroden befindliche Spalt klein ist, verglichen
mit den Abmessungen der Kathode, kann A mit der Fläche der
Kathode gleichgesetzt werden. Falls alle Ionen auf dem Substrat
kondensieren und eine Beschichtung bilden, kann der Beschichtungsgrad
durch die folgende Gleichung ausgedrückt werden:
Vc = Gi mi/p = f I mi / (e Z A p) (2)
Dabei bedeutet "p" die Dichte des Beschichtungsmaterials und
"m" die ionische Masse. In einem numerischen Beispiel beträgt
der Beschichtungsgrad, der bei einem 1kA Cu Lichtbogen
(f=0,08, Z=1,85) aus einer nahe bei der Anode angeordneten
Kathode mit einem Durchmesser von 12 mm resultiert, ungefähr
26 Mikron pro Sekunden. Die Gesamtdicke der Beschichtung 1c kann
durch Integration der Gleichung (2) erhalten werden:
wobei T die Zeitdauer des Auftretens des Lichtbogens ist.
Gleichzeitig mit einem Materialfluß existiert ein Energiefluß
auf die Oberfläche des Substrates. Der wesentliche Mechanismus
dieses Energietransportes ist die Energie, die durch die Elektronen
und die Ionen transportiert wird. Ein kleinerer Anteil
der Energieübertragung kann infolge von Plasmastrahlung und infolge
eines Flusses von Makropartikeln auftreten. Dieser Ener
giefluß, der auf die Oberfläche des Substrates auftrifft,
heizt dieses auf. Der Zufluß an Energie wird in erster Linie
durch Wärmeleitung in das Innere des Substrates bei niedrigen
Temperaturen im Gleichgewicht gehalten. Wenn die Oberfläche in
beträchtlicher Weise aufgeheizt worden ist, kann eine Kühlung
durch Verdampfung ebenfalls auftreten. Eine zusätzliche Kühlung
durch Abstrahlung und Aussendung von sekundären Partikeln ist
ebenfalls beoabachtet worden. Beim einfachen geometrischen Aufbau,
wie er in Fig. 1 dargestellt ist, wobei das Substrat als
Anode des Lichtbogens dient, und unter der Voraussetzung, daß
der Lichtbogen gleichförmig ist, kann der Energiefluß zur Ano
denoberfläche durch die folgende Formel ausgedrückt werden:
S = IVe/A (3)
Hierin bedeutet Ve das anodische Energieflußpotential, welches
durch folgende Formel veranschaulicht werden kann:
In dieser Formel ist Te die Temperatur der Elektronen im
Plasma, Vw ist die anodische Arbeitsfunktion, Va ist das
Anodenschichtpotential (welches im allgemeinen negativ ist,
wenn ein gleichmäßiger Vakuumlichtbogen vorliegt und in der
Größenordnung von wenigen Elektronenvolt liegt), Vi ist die
Energie, welche benötigt wird, um das Atom zum i-ten Grad der
Ionisation zu ionisieren, Vw ist die Verdampfungsenergie, und
fi ist der Bruchteil der Ionen, die zum i-ten Grad der Ionisation
ionisiert worden sind. Der erste Ausdruck in der Glei
chung (5) stellt die elektronische Komponente des Energieflusses
dar, während der zweite Ausdruck die ionische Komponente
darstellt. Wenn die Dicke des Substrates im Vergleich zur thermischen
Diffusionszeit groß ist, kann die Anodenoberflächen
temperatur durch die Auflösung der Wärmeflußgleichung für
halbbestimmte Feststoffe abgeschätzt werden:
Hierin bedeuten Ta(t) die momentane Oberflächentemperatur der
Anode, Ta(O) die anfängliche Oberflächentemperatur der Anode,
St(t) der momentane
gesamte Nettowärmefluß an der Oberfläche; letzterer entspricht
dem Wert von S(t) in Gleichung (3), mit Korrekturen für
die Abkühlung durch Verdampfung, Abstrahlung, Kathodenflecken
bildung usw. Allerdings sind diese zuletzt genannten Effekte
im allgemeinen während der Anfangsphase des Lichtbogens zu ver
nachlässigen, wenn die Ausgangstemperatur im Bereich der Raum
temperatur liegt. Die Gleichung (5) gilt nur ungefähr, da die
Ohmsche Aufheizung im Inneren des Substrates, Phasenänderungen
im Substrat und die Anhäufung von Material auf der Oberfläche
während des Beschichtungsprozesses nicht in Betracht gezogen
werden. Allerdings scheinen diese Effekte nur von sekundärer
Wichtigkeit zu sein. Wesentlich ist, daß die Gleichung (5) die
mometane Oberflächentemperatur der Anode sowohl während eines
Lichtbogenimpulses wie auch danach angibt. Eine nähere Betrachtung
der Gleichung und auch numerische Beispiele zeigen, daß:
- 1. ein Maximalwert der Oberflächentemperatur der Anode nach einem Stromspitzenwert auftritt und
- 2. daß die charakteristische Abkühlzeit der Anodenober fläche proportional zur Aufheizzeit ist.
Die zweite Schlußfolgerung führt zum wichtigen Resultat, daß
die Abschreckzeit, welche oft kurz gehalten werden muß, um
eine Umwandlung in metastabile kristalline Strukturen zu ermöglichen,
dadurch verringert werden kann, daß die Anode mit einem
kurzen Lichtbogenimpuls aufgeheizt wird.
In vorausbestimmbarer Weise können verschiedene Arten von Ober
flächenstrukturen erzeugt werden, abhängig von den Verfahrens-
Parametern (Amplitude des Stromimpulses, Wellenform, Dauer des
Stromimpulses, Geometrie der Anordnung und verwendete Materialien).
Wenn die Oberflächentemperatur unterhalb der Rekristal
lisations-Temperatur bleibt (sowohl beim Substrat als auch beim
Beschichtungsmaterial), kann eine Kondensation aus dem Plasmazustand
heraus erfolgen und eine quasi-amorphe struktur (d. h.
mit sehr kleinen Kristallen in der Größenordnung von 2-5 nm)
kann erzeugt werden. Wenn die Temperatur oberhalb der
Rekristallisationstemperatur liegt, können Strukturen mit größeren
Kristallen hergestellt werden. Wenn die Temperatur genügend
hoch ist, so daß eine Materialdiffusion beim verwendeten
Material zu beobachten ist, kann eine Zwischendiffusions-
Schicht zwischen der Beschichtung und dem Substrat erzeugt werden,
welche entweder die Adhäsion begünstigt, indem eine gute
metallische Verbindung erzeugt wird, oder aber die Haftung wird
beeinträchtigt, wenn eine brüchige, intermetallische Zwischenschicht
ausgebildet wird. Durch die Maßnahme, die Temperatur
die Transformations-Temperatur der festen Phase überschreiten
zu lassen, und durch ein nachfolgendes rasches Abkühlen, kann
erreicht werden, daß metastabile Strukturen erzeugt werden,
wie z. B. Martensit in Stählen.
Zur Erzeugung von Oberflächenlegierungen kann wie folgt vorge
gangen werden: Die Oberflächentemperatur wird soweit erhöht,
bis sie die Schmelztemperatur entweder des Substrates oder des
Beschichtungsmaterials überschreitet (dabei ist eine möglicher
weise auftretende Änderung des Schmelzpunktes infolge des Kontaktes
mit dem anderen Material im Auge zu behalten), so daß
ein Schmelzen und ein gegenseitiges Ineinanderfließen der beiden
Materialien erfolgt. In jedem Fall aber kann das Vorgehen
gemäß der vorliegenden Erfindung dazu verwendet werden, Strukturen
zu verändern, und zwar infolge des Aufbringens von Makro
partikeln, die auf dem Substrat auftreffen.
An dieser Stelle muß betont werden, daß die vorstehenden Er
läuterungen der Verfahrensmechanismen notwendigerweise kurz gehalten
werden mußten und sich insbesondere auf die einfache
Geometrie des in Fig. 1 gezeigten Modells beziehen; weiter ist
vorausgesetzt, daß ein gleichförmiger Lichtbogen vorhanden
ist. Sobald von den idealen, vorstehend diskutierten Bedingungen
abgewichen wird, sind natürlich zahlreiche Änderungen er
forderlich. Wenn z. B. eine ringförmige Anode und ein separates,
elektrisch isoliertes Substrat verwendet wird, wird sich der
Elektronenfluß zum Substrat hin auf einen Wert verringern, der
etwa dem Ionenfluß entspricht, und eine geringere Aufheizung
wird resultieren. Mit der geometrisch einfachen Anordnung gemäß
Fig. 1 ist bei höheren Strömen und einem großen Elektrodenspalt
eine Tendenz zu beobachten, daß sich der Lichtbogen
in der Nähe der Anode konzentriert, was evtl. zur Ausbildung
von Anodenflecken führen kann. Natürlich können so verstärkter
Materialfluß und/oder Wärmefluß begünstigt werden. Allerdings
kann diesem Phänomen dadurch vorgebeugt werden, daß ein axiales
magnetisches Feld überlagert wird, welches eine Größe hat,
die in etwa dem eigenen magnetischen Feld des Lichtbogens ent
spricht.
Die vorstehenden Erläuterungen beziehen sich insbesondere auf
einen Lichtbogen, der in einem idealen Vakuum brennt, d. h. auf
einen solchen, bei welchem der Einfluß irgendwelcher sonstiger
vorhandener Gase vernachlässigbar gering ist. Im Fall eines
Lichtbogens in einer Niederdruck-Atmosphäre sind aber auch Ka
thodenfleckenstrahlen vorhanden, so daß die gleichen Überlegungen
in modifizierter Form auch dann gelten, wenn ein solches
Gas vorhanden ist, welches die Bildung einer Legierung begünstigt,
wie es im folgenden noch insbesondere im Zusammenhang
mit dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 3 beschrieben werden
wird.
In den Beispielen, die im folgenden noch näher beschrieben werden,
sind Spitzenströme im Bereich von 0,5-2,0 kA verwendet
worden und zwar mit Kathoden, die einen Durchmesser von 12-14 mm
besitzen. Diese Tatsache kann zutreffender dadurch erläutert
werden, daß eine Stromdichte im Bereich von 3×10⁶-2×10⁷ A
pro m² erzeugt wurde. Es wurde davon ausgegangen, daß
bei geeigneter Auswahl der Geometrie der Anordnung und des magnetischen
Feldes (um eine Konzentration des Lichtbogens in der
Nähe der Anode zu vermeiden), wesentlich höhere Ströme erreicht
werden können, z. B. in der Größenordnung von 200 kA, wobei
trotzdem die gleichen prinzipiellen Wirkungen beibehalten werden,
unter der Voraussetzung, daß die Stromdichte den vorstehend
erwähnten Bereich nicht wesentlich überschreitet. In den
von der Anmelderin durchgeführten Versuchen wurden Pulse mit
einer Zeitdauer im Bereich von 0,65-75 ms (HAFW) angewandt;
allerdings wird davon ausgegangen, daß dieser Bereich prinzipiell
in beiden Richtungen über- bzw. unterschritten werden
kann.
In Richtung auf kürzere Impulsdauer hin wird die am meisten ins
Auge springende Grenze die Zeit sein, die benötigt wird, bis
sich die Kathodenflecken über die Oberfläche der Kathode aus
gebreitet haben. In manchen Anwendungen aber, wo eine konzentrierte
Beschichtung oder Aufheizung erforderlich ist, stellt
auch diese Tatsache keine Grenze dar. In allen Fällen, wo eine
gleichmäßige Verteilung der Kathodenflächen erforderlich ist,
muß die Brenndauer des Lichtbogens größer sein als D/(2vcs)
wobei D den Kathodendurchmesser und vcs die Ausbreitungsge
schwindigkeit der Kathodenflecken bedeutet. Eine andere Möglichkeit
besteht darin, zusätzliche Mittel vorzusehen, die ver
schiedene Kathodenflecken an verschiedenen Orten auf der Kathoden
oberfläche erzeugen. Im Falle von Kupfer beträgt der Wert
von vcs typischerweise etwa 100 m/s. Als Beispiel kann ange
geben werden, daß die Brenndauer des Lichtbogens größer als
60 Mikrosekunden sein muß, um eine einigermaßen gleichförmige
Verteilung der Kathodenflächen auf einer Kathode aus Kupfer mit
einem Durchmesser von 12 mm zu erreichen.
Die grundssätzliche, untere Grenze für die Brenndauer des Lichtbogens
stellt diejenige Zeit dar, die benötigt wird, den Lichtbogen
im Vakuum zu zünden. Kürzlich durchgeführte Untersuchungen
haben gezeigt, daß fremdgezündete Lichtbogen eine Zeit in
der Größenordnung von 200 ns benötigen, um sich auszubilden,
während vorgespannte Spalte im Vakuum in Zeiten in der Größenordnuung
von 20 ns gezündet werden können. In all diesen Fällen
muß aber berücksichtigt werden, daß die Menge des übertragenen
Materials wie auch die Menge der Wärme, die dem Substrat
zugeführt wird, von der Brenndauer des Lichtbogens abhängt. Es
ist deshalb unwahrscheinlich, daß extrem kurz dauernde Lichtbogen-
Impulse für die Beschichtung und die Oberflächenbehandlung
irgendeine vernünftige Anwendung finden werden, ausgenommen
vielleicht in ganz speziellen Anwendungsbereichen.
Eine grundsätzliche obere Grenze für die Brenndauer des Lichtbogens
scheint nicht zu existieren. Allerdings muß beachtet
werden, daß die Oberfläche des Substrates nicht unbegrenzt
aufgeheizt werden darf. Deshalb soll die Brenndauer des Lichtbogens
ungefähr entsprechend der thermischen Diffusionszeit ge
wählt werden, welche sich durch folgende Gleichung ausdrücken
läßt:
wobei p die Dichte des Substrates, c die Wärmekapazität, l die
erwünschte thermische Eindringdistanz und k die thermische
Leitfähigkeit bedeuten. Wenn die Dauer des Impulses so groß
ist, daß die thermische Diffusionslänge die Dicke des Substrates
erreicht, kann die Wärme vom Substrat durch die thermische
Leitfähigkeit über den Träger entfernt werden und der Wärmefluß
nähert sich einem Gleichgewichtzustand. Bei einer solchen
Brenndauer des Lichtbogens, der natürlich von den thermischen
Eigenschaften des Substrates und dessen Dicke abhängt, nähert
sich der hier diskutierte Verfahrensablauf demjenigen, welcher
bei einer kontinuierlichen Verfahrensweise im Vakuum zu be
obachten ist. Als Beispiel kann angegeben werden, daß sich bei
einem 1 cm dicken Nickel-Substrat ein thermischer Gleichge
wichtszustand nach ungefähr 4 Sekunden einstellt.
In Fig. 2 ist eine schematische Darstellung eines Ausführungs
beispiels der Einrichtung dargestellt, die zur Ausführung des
erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet werden kann; diese Aus
führung der Einrichtung wurde bei den meisten nachstehend noch
diskutierten Beispielen verwendet.
Wie aus Fig. 2 ersichtlich ist, besitzt die Einrichtung eine
Lichtbogenkammer 10, die z. B. aus rostfreiem Stahl besteht, die
einen Durchmesser von 160 mm besitzt und die mit Öffnungen 12
und 14 versehen ist. Letztere dienen dazu, einen Zugriff zum Inneren
der Kammer zu schaffen und das Innere der Kammer visuell
zu beobachten. Die Kammer 10 wird über eine Leitung 16 evakuiert;
die Leitung 16 ist an eine Vakuumpumpe angeschlossen,
z. B. eine Öldiffusionspumpe, die von einer mechanischen Rotationspumpe
unterstützt wird. Das Vakuum, das während der meisten
nachstehend noch zu beschreibenden Versuche in der Kammer
10 erzeugt worden ist, liegt im Bereich
0,52-2,7 mPa.
Im Inneren der Kammer 10 ist eine Aufnahme 20 für das Werkstück
bzw. Substrat 22, welches als Anode dient, sowie eine weitere
Aufnahme 24 für die Plasmaquelle bzw. Kathode 26 angeordnet. Im
dargestellten Beispiel besitzt die Kathode 26 ringförmige Gestalt
und ist von der durch das Werkstück gebildeten Anode 22
durch einen Spalt 28 getrennt, welcher eine kleinere Abmessung
besitzt als die kleinste Abmessung der Kathode 26, und zwar in
einer parallel zum Werkstück 22 verlaufenen Ebene. In einem
praktischen Beispiel, wie es auch für die nachfolgend zu be
schreibenden Versuche angewendet worden ist, hat die Kathode
einen äußeren Durchmesser von 10 mm, und der Spalt 28 besitzt
eine Breite von weniger als 8 mm, in einigen Fällen eine Breite
von 1 mm und in anderen Fällen eine Breite von 4 mm.
Die Kathode 26 ist mit der gemeinsamen Masse verbunden und die
Anode 22 ist über die Aufnahme 20 mit einer Stromquelle verbunden,
die einen hohen Strom zu liefern imstande ist. Die Stromquelle
umfaßt einen Kondensator-Block 30, der über eine Induk
tivität L und über einen Widerstand R mit dem Werkstück verbunden
ist. Im allgemeinen wurden Kondensatoren mit einer Gesamtkapazität
von 48-384 mF verwendet, bei einer Ladespannung im
Bereich von 50-250 Volt. Zur Aufbereitung des elektrischen
Stromimpulses wurde ein Widerstand R mit einem Wert von ca. 200 mOhm
und eine Induktivität L von bis zu 2 mH verwendet.
Die Einrichtung, die in Fig. 2 dargestellt ist, umfaßt ferner
eine konische Zündelektrode 32, die in einem Loch von 2 mm
Durchmesser im Zentrum der ringförmigen Kathode 26 angeordnet
ist und von dieser mittels eines Isolators 34 isoliert ist. Die
Zündelektrode 32 wird durch eine Zündschaltung 36 gezündet. Das
Anlegen einer hohen Spannung an die Zündelektrode 32 bewirkt,
daß an der Oberfläche des Isolators 34 (z. B. Glas) ein elek
trischer Überschlag auftritt, so daß ein Kathodenfleck auf
der Oberfläche der Kathode erzeugt wird. Der nachfolgende
Stromfluß in der Zündschaltung erzeugt ein Plasma, welches den
Spalt 28 zwischen den Elektroden ausfüllt, und evtl. einen
Durchbruch und einen Stromfluß zwischen der Kathode 26 und dem
Werkstück 22, welches als Anode dient, erzeugt.
Im folgenden werden eine Anzahl von spezifischen Beispielen
näher erläutert, an welchen das erfindungsgemäße Verfahren
erprobt wurde, unter Verwendung der Einrichtung, wie sie in
Fig. 2 dargestellt ist.
Unter Verwendung der Einrichtung gemäß Fig. 2 wurden eine
Reihe von Beschichtungsverfahren durchgeführt, nämlich eine Be
schichtung von Stahl mit Aluminium bzw. eine Oberflächenlegierung
des Stahls mit Aluminium, und zwar mit den folgenden Ver
fahrens-Parametern:
Als Beschichtungsquelle wurden Aluminium-Kathoden mit einem
Durchmesser von 12-14 mm verwendet, und zwar in Verbindung
mit einem 1010- oder 1010-Freischneid-Stahl mit einem Durchmesser
von 25 mm und einer Dicke von mehr als 1 cm als Sub
strat. Der Spalt zwischen den Elektroden betrug 4 mm.
Bei einem ersten Verfahrenstest mit einer Aluminiumkathode mit
einem Durchmesser von 14 mm wurden alle übrigen Verfahrens-Pa
rameter konstant gehalten, mit Ausnahme der Ladespannung der
Kondensatoren, welche in erster Linie den Spitzenstrom des
Lichtbogens beeinflußt. Alle Versuche wurden mit einer Kapazität
von ungefähr 0,4 F, mit einer Induktivität von ungefähr 2 mH,
und mit einem gesamten Serienwiderstand von ungefähr 150 mOhm
durchgeführt. Die erzeugte Kurvenform zeigte eine Spitze
bei ungefähr 30 ms nach der Zündung des Lichtbogens und eine
Gesamtbreite bei halber Amplitude (HAFW) von 71 ms. Die Werte
für den Spitzenstrom und für die effektive Massenveränderung
einerseits der Quelle (ΔMc) und andererseits des Substrates
(ΔMa) nach einem einzelnen Impuls bei konstanter Ladespannung
des Kondensator-Blocks sind aus der Tabelle I ersichtlich.
Zu bemerken ist, daß ungefähr ein Drittel des von der Quelle
abgetragenen Materials auf dem Substrat abgelagert ist. Die so
erzeugte Beschichtung besaß eine helle, gesprenkelte Oberfläche,
wobei das gesprenkelte Erscheinungsbild insbesondere
auf die in der oder auf der Beschichtung enthaltenen Makropar
tikel zurückzuführen ist. Bei Versuchen, in denen Vc gleich
oder größer als 175 Volt war, zeigte der mittlere Bereich des
Substrates eine glänzende Oberfläche, was als Anzeichen zu deu
ten ist, daß die Beschichtung während des Lichtbogen-Zyklus
ihre Schmelztemperatur überschritten hat. Die Ausdehnung dieser
glänzenden Fläche vergrößerte sich mit zunehmender Ladespannung.
Eine mikrographische Untersuchung von geschnittenen Mustern
hat Strukturen aufgezeigt, die Anhaltspunkte dafür liefern,
daß die Aluminium-Beschichtung geschmolzen ist und daß
eine Oberflächenlegierung stattgefunden hat. Mikrohärte-Messungen,
die im Bereich dieser Oberflächenlegierung durchgeführt
wurden, haben verdeutlicht, daß die erzeugten Strukturen härter
waren sowohl als Ferrit als auch als Aluminium. Messungen
mit einer Knoop-Riffelwalze, mit einer Belastung von 100 g,
führten zu folgenden Resultaten: Die Mikrohärte der Ferrit- und
Perlit-Strukturen lagen im Bereich von 2060 und 4400 N/mm²,
was für 1010-Stahl, entfernt von der Oberfläche, normal ist.
Die Mikrohärte von ausgewählten Bereichen der Oberfläche mit
einer Legierungsstruktur betrug 8114 N/mm². In den Randbereichen
des Substrates war ein Übergang, gebildet durch eine Diffusions
schicht zwischen der Deckschicht und dem Substrat, zu
beobachten. In allen Bereichen war die Haftung der Überzugsschicht
sehr gut, d. h. es war nicht möglich, die Überzugs
schicht mit einer Nadel zu entfernen.
Bei einem anderen Test wurde eine Aluminiumkathode als Quelle
mit einem Durchmesser von 14 mm und eine 1010-Stahlanode als
Substrat verwendet, wobei eine Folge von 100 Impulsen mit einer
HAFW-Breite von 0,65 ms verwendet wurde. Die Dicke der Be
schichtung betrug ungefähr 10 µm; andererseits wurden Anzeichen
entdeckt, daß das Beschichtungsmaterial geschmolzen
war und sich in eine Mehrzahl von 0,1 bis 1,0 mm große Klumpen
zusammengeballt hat, und zwar vor allem im zentralen Bereich
des Substrates. Die Haftung der Überzugsschicht war schlecht,
da sie leicht abgeschabt werden konnte.
Eine bekannte Verfahrensweise zur Härtung von Stahl besteht
darin, das Stahlwerkstück mit einer Schicht von Kohlepulver zu
umgeben, dieses während längerer Zeit (im Normalfall während
Stunden) in einem Ofen zu erhitzen, um eine Diffusion der Kohle
in den Stahl zu bewirken, und dann den Stahl in einem separaten
Verfahrensschritt abzuschrecken, um eine harte, martensitische
Struktur im Stahl zu erzeugen. Dieses Verfahren ist langwierig
und das Erhitzen sowie das nachfolgende, schnelle Abkühlen des
Stahlwerkstückes kann mechanische Verformungen und Spannungen
darin erzeugen.
Als Alternative wird vorgeschlagen, Kohle auf ein Stahlsubstrat
im Zuge einer Oberflächenlegierung aufzubringen und abzu
schrecken, und zwar während eines einzelnen, gepulsten Lichtbogens
im Vakuum. Diese Verfahrensweise wurde mit den folgenden
Parametern getestet: Als Quelle wurde eine Graphitkathode mit
einem Durchmesser von 14 mm und als Anode, die gleichzeitig als
Substrat dient, wurde ein 1010-Schneidstahlwerkstück mit einem
Durchmesser von 25 mm verwendet. Diese beiden Elektroden wurden
so angeordnet, daß dazwischen ein Spalt von 4 mm Breite ent
stand. Zur Erzeugung des Lichtbogens wurde dieselbe Impuls
schaltung wie im vorhergehenden Beispiel verwendet (Kondensator
mit einer Kapazität von 0,4 F, Induktivität von 2 mH, Serien
widerstand von 150 mOhm) mit einer Ladespannung von 200 Volt,
einem Spitzenstrom von 1 kA und einer Halbamplituden-Impuls
dauer von 73 ms. Eine Untersuchung des Substrates ergab, daß
in dessen zentralen Bereichen ein Anschmelzen des Substratmaterials
stattgefunden hat. Das gesamte Substrat war mit einer
schwarzen Schicht bedeckt, welche leicht abgekratzt werden
konnte. Eine metallographische Untersuchung eines Schnittes
durch das Substrat hat ergeben, daß der angeschmolzene Bereich
des Substrates eine martensitische Struktur aufwies, was darauf
hindeutet, daß während der Lichtbogenentladung Kohlenstoff in
die geschmolzenen Bereiche des Substrates eingedrungen ist, und
weiter, daß eine schnelle Abkühlung dieser geschmolzenen Bereiche
stattgefunden hat. Die Mikrohärte dieses martensitischen
Bereiches wurde, unter Verwendung einer Knoop-Riffelwalze mit
25 g Belastung, gemessem und ergab einen Wert von 10 290 N/mm²
(was grob ungefähr einer Rockwellhärte von 70 C entspricht). Es
soll noch darauf hingewiesen werden, daß unter der oberflächlichen
Legierungsschicht außerdem Feststoffphasentransformationen
beobachtet wurden.
Ferner sei darauf hingewiesen, daß im Fall des hier diskutierten
Beispieles, nämlich von gezogenem 1010-Schneidstahl, die
Perlitbereiche normalerweise entlang von Bändern oder Ketten in
der Richtung der Stab- bzw. Ziehachse verlaufen. In der Nähe
der Oberfläche allerdings zeigte diese bandartige Struktur eine
auseinandergezogene Erscheinung, wobei die beobachtete Divergenz
umso größer wurde, umsomehr die Oberfläche näher benachbart
lag. Diese Erscheinung war im mittleren Bereich des Substrates
am ausgeprägtesten. Es wird angenommen, daß die Temperatur
in diesen Bereichen die austenitische Temperatur überschritten
hat und daß der Kohlenstoff im Perlit aufgelöst und
lateral diffundiert worden ist. Durch das rasche Abschrecken
hat sich eine pseude-martensitische Struktur ausgebildet.
Bei einem weiteren Versuch wurde eine Oberflächenlegierung aus
Molybdänkarbid und Molybdän auf einem Substrat ausgebildet, das
aus Molybdän besteht. Dabei wurde die Einrichtung gemäß Fig. 2
verwendet. Im wesentlichen fanden dieselben Schaltungsparameter
Anwendung, wie es vorstehend beschrieben worden ist, mit einer
Ladespannung der Kondensatoren entweder bei 200 Volt oder bei
215 Volt. Die Messungen der Veränderungen im Elektrodengewicht
ΔMc und ΔMa der Kathode bzw. der Anode nach einem
einzelnen Lichtbogen-Entladungsimpuls sind in der Tabelle II
dargestellt. Bei dieser Gelegenheit sei darauf hingewiesen,
daß ein gewisses Maß an statistisch bedingten Variationen bei
Lichtbogenentladungseinrichtungen normal sind, welche haupt
sächlich von der Qualität des Elektrodenmaterials abhängen. Die
Kurvenform des Lichtbogentroms ist ähnlich wie diejenige im
vorher erwähnten Beispiel, welche dieselbe Schaltung verwendet
(Spitzenströme von ungefähr 1 kA, HAFW von ca. 70 ms). Als
Quelle diente eine Graphikathode mit einem Durchmesser von
14 mm, während das Substrat durch eine Molybdän-Anode mit einem
Durchmesser von 12 mm gebildet wurden. Eine Untersuchung des
Substrates nach erfolgter Lichtbogenentladung zeigte, daß ein
mittlerer Bereich des Substrates geschmolzen war und daß die
gesamte Oberfläche des Substrates mit einem schwarzen Film be
deckt ist. Dieser schwarze Film konnte leicht abgekratzt werden,
zeigte jedoch keine Tendenz, abzusplittern. Eine metallo
graphische Untersuchung eines Schnittes des Musters zeigte,
daß die geschmolzenen Bereiche eine feine dendritische Struktur
aufweisen, hauptsächlich zusammengesetzt aus abwechselnden
Streifen von Mo und Mo₂C. Die Mikrohärte der geschmolzenen
Bereiche zeigt einen Meßwert von 5880 bis 6860 N/mm² (Knoop-
Prägewalze, 25 g Belastung); die Mikrohärte des Substratmaterials
Mo in gewissem Abstand von der Oberfläche dagegen zeigte
einen Wert von 3146 N/mm². Bei einem Versuch mit einer Ladespannung
von 215 Volt konnten wenige isolierte Bereiche festgestellt
werden, die offensichtlich aus reinem Mo₂C bestehen
und die eine Mikrohärte von 16 580 N/mm² aufwiesen.
Zusätzlich wurde ein Versuch gemacht mit einer Ladespannung von
175 Volt. Dabei konnten keine Anzeichen von einer Aufschmelzung
des Substratmaterials festgestellt werden. Das Substrat war mit
einer Schicht bedeckt, die entlang der Peripherie schwarze
Farbe aufwies, in einem mittleren Bereich jedoch grau war. Der
schwarze Bereich konnte leicht abgekratzt werden, währenddem
sich der graue Bereich als kratzfest erwies.
Weder der graue noch der schwarze Bereich zeigte eine Tendenz,
abzublättern. Offensichtlich war diese Beschichtung sehr dünn
(0,5 Micron oder weniger), da er bei einer optisch-mikroskopischen
Untersuchung einer metallographischen Schnittprobe nicht
einwandfrei erkannt werden konnte.
Mit Hilfe der Einrichtung, wie sie in Fig. 2 dargestellt ist,
wurde ein Kupfersubstrat mit Molybdän beschichtet. Dabei fanden
die folgenden Verfahrensparameter Anwendung: Die Quelle war
eine Kathode aus Molybdän mit 12 mm Durchmesser, und das Substrat
war eine Kupfer-Anode mit einem Durchmesser von 25 mm.
Der Spalt zwischen Anode unnd Kathode betrug 1 mm. Die Parameter
der Entladeschaltung waren wie folgt: C=0,4 F, L=1,9 mH,
R=150 mOhm. Ein einzelner Impuls mit einer Kondensator-Ladespannung
von 200 Volt erzeugte eine glatte Beschichtung, welche
im Bereich der Peripherie des Substrates als sehr dünn erschien.
Die Kathode verlor dabei ein Gewicht von 1,49 mg, währenddem
die Anode eine Gewichtszunahme von 0,87 mg verzeichnete.
Ohne Hilfsmittel konnte von Auge keine Beeinträchtigung
durch Makropartikel festgestellt werden (dies im Gegensatz zur
Aluminium-Beschichtung mittels Lichtbogen im Vakuum).
Bei einem weiteren Versuch wurde eine Folge von 10 Lichtbogen-Impulsen,
mit denselben Parametern wie oben beschrieben, angewendet.
Die Kathode zeigte einen Verlust von 26,29 mg, währenddem
die Anode eine Gewichtszunahme von 17,58 mg auswies; dies
bedeutet, daß die Anode ungefähr 2/3 des von der Kathode emittierten
Materials aufgefangen hat. Eine metallographische Untersuchung
der Probe ergab eine ebene, gleichmäßige Beschichtung,
welche die Konturen erkennen ließ, die bei der Oberflächenbearbeitung
der Substratprobe entstanden sind. Die größte
Dicke der Beschichtung war im Bereich des Zentrums zu beobachten;
Messungen ergaben eine Dicke von ungefähr 10 µm.
Weitere Versuche wurden mit derselben Anordnung und derselben
Ladespannung durchgeführt, hingegen mit einem größeren Elektrodenspalt
(z. B. 4 mm). Dabei wurde gefunden, daß eine gewisse
Wahrscheinlichkeit besteht, daß der Hauptanteil der
Lichtbogenentladung einerseits zwischen der elektrisch mit der
Kathode verbundenen Entladungskammerwand und andererseits der
Anodenträgeranordnung erfolgte, so daß auf der Oberfläche des
Substrates keine Deckschicht ausgebildet wurde.
Schließlich wurden weitere Versuche durchgeführt, mit einer
Folge von Impulsen, mit den folgenden Parametern: C=0,2 F,
L=0,17 mH, R=95 mOhm. Hierbei wurden Impulse erzeugt, die
einen maximalen Strom zwischen 0,4 und 2,0 kA aufwiesen; dieser
Spitzenstrom stellte sich 6 ms nach der Zündung des Lichtbogens
ein. Die Halbamplituden-Impulsbreite betrug dabei 16 ms. Als
Quelle wurden Molybdänkathoden mit einem Durchmesser von 12 mm
und als Substrate Kupferanoden mit einem Durchmesser von 14 mm
verwendet. Als Resultat konnten im allgemeinen gleichmäßige,
glänzende, gut haftende Beschichtungen festgestellt werden;
allerdings wurden keine detaillierten metallographischen Untersuchungen
durchgeführt.
Bei diesen Versuchen wurde als Quelle eine gesinterte Wolframkathode
mit einem Durchmesser von 14 mm verwendet, wobei eine
Anode als Substrat diente, die als 1010-Stahl mit einem Durchmesser
von 25 mm ausgebildet war. Die Parameter der Entladungsschaltung
waren wie folgt: C=0,4 F, L=1,9 mH, R=130 mOhm.
Bei einem ersten Testdurchlauf wurde eine Folge von 19 Impulsen
angewendet, wobei zwischen jedem Impuls eine Pause von wenigen
Minuten eingehalten wurde. Der gesamte Ladungsübergang betrug
641 Coulomb. Nach Beendigung des Versuches zeigte die Oberfläche
des Substrates eine mattgraue Farbe. Der Hauptteil der
so erzeugten Beschichtung konzentrierte sich in einem ringförmigen
Bereich, mit einem zentralen Durchmesser von ca. 3 mm und
einem äußeren Durchmesser von ca. 21 mm. Es wurde dabei angenommen,
daß dieser äußere Ring darauf zurückzuführen ist,
daß wegen der vergleichsweise kleinen Kathode eine mangelhafte
Verteilung stattgefunden hat, und daß der beobachtete, innere
Ring auf das Loch in der Kathode zurückzuführen ist, in welcher
die Zündungselektrode aufgenommen ist. Die Beschichtung konnte
angekratzt werden, zeigte jedoch keinerlei Tendenz, abzusplittern.
Eine metallographische Untersuchung eines Schnittes durch
das Muster zeigte, daß die Beschichtung im Bereich der ausgeprägtesten
Regionen eine Dicke von ca. 10 µm aufwies. Die
Beschichtung schien hauptsächlich aus zusammengeballten Makropartikeln
zu bestehen, die vermutlich durch die Plasma-Kondensation
zusammengeschmolzen wurden. Es wird vermutet, daß diese
Anhäufung von Makropartikeln, die in der Beschichtung festgestellt
werden konnte, eine direkte Folge der gesinterten Konstruktion
der Kathode ist.
Wie schon vorher erwähnt, kann nicht jede Kombination von Quelle
und Substratmaterial eine Deckschicht erzeugen. Im Fall einer
Molybdän-Quelle und eines Stahl-Substrates hat man festgestellt,
daß das als Anode dienende Substrat während des Auftretens
des Lichtbogens an Masse verliert, vermutlich wegen
Kathodenzerstäubung, die durch die Bombardierung mit energetischen
Mo-Ionen erfolgt. Als Beispiel kann angeführt werden:
Wenn ein einzelner Lichtbogenimpuls zwischen einer als Quelle
dienenden Molybdän-Kathode mit einem Durchmesser von 12 mm und
einem Substrat, bestehend aus einem 1010-Stahl mit einem Durchmesser
von 25 mm und einem Spalt zwischen Anode und Kathode von
4 mm erzeugt wird, wobei die folgenden Schaltungsparameter eingehalten
werden: C=0,4 F, L=2 mH, R=130 mOhm, Vc=175 V,
tritt ein effektiver Massenverlust von 0,25 mg bei der
Anode auf. Dies entspricht einer Abtragung einer Schichtdicke
von ungefähr 65 nm der Subsstratoberfläche, unter der
Voraussetzung, daß die Kathodenzerstäubung gleichmäßig über
der Substratoberfläche stattgefunden hat; allerdings ist zu
erwarten, daß im Bereich des Zentrums des Substrates eine
stärkere Abtragung erfolgt.
All diese vorstehenden Aussagen beziehen sich auf einen einzelnen
Entladungsimpuls mit einer Halbamplituden-Breite von 70 ms.
Auf der anderen Seite hat sich ein solches Vorgehen als wirksamer
Weg erwiesen, um Stahl oder andere Substrate zu reinigen,
und zwar bevor die Oberfläche mit anderen Beschichtungsmaterialien
versehen wird, mit dem Zweck, eine saubere Oberfläche, die
zu beschichten ist, zu erzielen.
Unter Verwendung der Einrichtung gemäß Fig. 2 wurden TiN-Beschichtungen
hergestellt, mit einer Titankathode mit einem
Durchmesser von 14 mm, einem 4 mm breiten Spalt und mit Werkstücken
aus Stahl mit einem Durchmesser von 44 mm, die als Anoden
angeschlossen waren. Zusätzlich wurde in kontrollierter
Weise ein Gas in den Verfahrensablauf einbezogen, nämlich
Stickstoff bei niedrigem Druck, welches als Hilfsgas für die
Legierungsbildung in der Vakuumkammer dient. Bei einem ersten
Verfahrensdurchlauf wurden die Parameter für die Schaltung der
Erzeugung des Lichtbogens konstant gehalten (C=0,4 F, L=2 mH,
R=150 mOhm, Vc=200 Volt), wobei aber der Druck des
verwendeten Gases von Versuch zu Versuch vergrößert worden
ist. Dabei wurde erkannt, daß bei Drücken von weniger als 6,7 Pa
kein Anzeichen einer TiN-Beschichtung von bloßem Auge
erkennbar waren. Bei einem Druck von 13 Pa hingegen zeigte
es sich, daß der äußere Rand des Werkstückes mit TiN beschichtet
war; dies kann leicht durch die goldene Farbe der Beschichtung
erkannt werden (im Gegensatz zur natürlichen,
weiß-metallischen Farbe von Titan-Beschichtungen, die bei
niedrigen Drücken erzeugt werden). Bei einem Druck von 40 Pa
war zu beobachten, daß die Breite der TiN-beschichteten Bereiche
zunahm; unter diesen Bedingungen ergab sich ein ringförmiger
Bereich mit einer Breite von 2-3 mm am Rand des
Werkstückes. Schließlich, bei einem Druck von 130 Pa, war
ein goldfarbiger TiN-Überzug über der gesamten Oberfläche des
Werkstückes festzustellen.
Anschließend wurden verschiedene Versuche unter Verwendung
eines Werkstückes mit einem Durchmesser von 24 mm durchgeführt,
und zwar aus 1010-, 4340- und M-42-(HS-)Stählen. Die Ladespannung
Vc der Kondensatoren betrug dabei zwischen 160 und
200 Volt. Stickstoffgas mit einem Druck von 93-170 pA wurde
zugeführt, und zwischen 1 und 3 Lichtbogen-Entladungen wurden
angewandt. In gewissen Fällen erfolgte die Entladung des
ersten Lichtbogens im Hochvakuumbereich (0,26-2,6 mPa),
um eine erste Titanschicht abzulagern. Einige
dieser Proben wurden danach metallurgisch untersucht. Im allgemeinen
wurde festgestellt, daß die Beschichtung nicht
gleichmäßig ist, sondern in einzelne konzentrische Ringe unterteilt
werden kann, wobei sich jeder dieser Ringe vom benachbarten
Ring durch entweder eine unterschiedliche Farbtönung
oder durch eine unterschiedliche Texturierung auszeichnet. Bei
den Versuchen, in welchen eine höhere Ladespannung angewandt
wurde, konnte man eine Aufschmelzung der Oberfläche des Substrates
im Zentrum des Werkstückes feststellen. Die Beschichtung
zeigte dabei ein getreues Abbild der Unregelmäßigkeiten
in der Oberfläche, die durch das Aufschmelzen verursacht worden
sind. Die größte Dicke der Beschichtung wurde im Zentrum des
Werkstückes gemessen, wo eine Dicke bis zu 5 µm festgestellt
werden konnte; allerdings war die Beschichtung im allgemeinen
nicht gleichmäßig.
Metallurgische Untersuchungen von polierten und geätzten Mustern
haben gezeigt, daß im Zentrum der Werkstückprobe eine
schattierte, durch Hitze beeinflußte Zone festzustellen ist;
die schnelle Erwärmung und die darauf folgende Abschreckung
durch thermische Leitung in das Innere des Werkstückes hat also
eine Härtung der äußeren Regionen (typischerweise 0,1 mm) des
Werkstückes bewirkt. Das vorstehend beschriebene Verfahren zur
Ablagerung von TiN mittels eines Hochstrom-Lichtbogens besitzt
verschiedene, potentielle Vorteile gegenüber anderen, bisher
praktizierten Verfahren:
- 1. Die Ablagerungsgeschwindigkeit, nämlich bis zu 24 µm pro Sekunde, ist um Größenordnungen höher als sie mit anderen bekannten Verfahren erzielt werden kann, wodurch bedeutend reduzierte Verfahrenszeiten erreicht werden können.
- 2. Die Behandlung kann auf ausgewählte Bereiche des Werkstückes ausgerichtet werden.
- 3. Die Kombination einer Beschichtung und der Erzeugung einer gehärteten, äußeren Region des Werkstückes kann in manchen Fällen vorteilhaft sein, wie es in der wissenschaftlichen Literatur schon mehrfach erwähnt worden ist; nachgewiesenermaßen besteht eine Beziehung zwischen der Härte des Substrates und der Haftfähigkeit der Beschichtung.
- 4. Der Druck, der bei dem neuen Verfahren vorgeschlagen wird (ungefähr 130 Pa) ist bedeutend höher als derjenige, der bei den bisher bekannten Verfahren Verwendung fand (ca. 0,13 Pa); dies erlaubt die Verwendung von einfacheren Vakuumpumpen und zugeordneten Überwachungseinheiten.
Mit Hilfe des erfindungsgemäß vorgeschlagenen Verfahrens wurden
eine Vielzahl von anderen Beschichtungen praktisch erprobt;
allerdings wurden nicht in allen Fällen detaillierte metallographische
Untersuchungen durchgeführt. In der nachfolgenden
Tabelle III sind einige Kombinationen von verwendeten, als
Quelle dienenden Kathodenmaterialien und als Anode dienenden
Substrat-Materialien sowie die Bedingungen zur Ausbildung des
Lichtbogens aufgeführt.
Das in Fig. 3 gezeigte Ausführungsbeispiel veranschaulicht eine
Möglichkeit, ein Glas, welches die Legierungsbildung unterstützt
und welches während der Entladung des Lichtbogens in das Vakuum
eingeleitet wird, zur Erzeugung eines kombinierten, kathodischen
und eines Gasplasmaflusses bei hohen Strömen zu verwenden.
Die Einrichtung gemäß Fig. 3 umfaßt ebenfalls eine
Lichtbogen-Kammer, von der nur ein Teil 40 gezeigt ist, um ein
Vakuum aufrecht zu erhalten. Innerhalb der evakuierten Kammer
ist ein Werkstück 42 angeordnet, welches als Anode dient und
welches durch einen Anodenträger 43 gehalten ist. Weiter ist
eine Kathode 46 vorgesehen, welche einen hohlen Kathodenträger
47 aufweist, der dazu dient, Gas von einer Gasquelle 48 zuzuführen;
letztere ist außerhalb der Kammer angeordnet und führt
das Gas über eine Steuereinheit 49 zu. Die Kathode 46 ist ebenfalls
hohl ausgebildet und umfaßt eine Mehrzahl von Öffnungen
50, die in ihrer oberen Wand 51 ausgebildet sind. Durch diese
Öffnungen fließt das Gas in den Spalt 52 zwischen der Kathode
und der durch das Werkstück gebildeten Anode 42. Auf diese Weise
wird im Spalt 52 ein kombinierter kathodischer und Gasplasmafluß
erzeugt.
Bei den hohen Strömen, die im Verfahren gemäß der vorliegenden
Erfindung verwendet werden, hat der kathodische Ionenfluß die
Tendenz, auszuweichen und das unter niedrigem Druck vorliegende
Gas bzw. dessen Moleküle zu verdrängen. Deshalb muß das zur
Legierungsbildung herangezogene Gas, das aus der Gasquelle 48
zugeführt wird, unter hohem Druck entlang der Entladeachse eingeführt
werden. Weiter ist zu beachten, daß die Zuflußrate
des Gases mit dem stöchiometrischen Verhältnis übereinstimmt,
welches bei dem als Anode dienenden Werkstück 42 erwünscht ist,
und weiter, mit dem Ionen-Emissionsverhältnis von der Kathode.
Im vorliegenden Beispiel kann das als Anode 42 dienende Werkstück
aus Stahl bestehen, die Kathode kann aus Titan bestehen
und das Gas, das von der Quelle 48 geliefert wird, kann Stickstoff
sein. Auf diese Weise kann auf dem stählernen Werkstück
eine Titan-Nitridbeschichtung erzeugt werden.
In der Fig. 4a ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Einrichtung
zur Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt,
welches eine Mehrzahl von Kathoden, im Ausführungsbeispiel
zwei, 61 und 62, aufweist, welche aus unterschiedlichen
Materialien bestehen, um ein polyvalentes Plasma mit Bezug auf
das Werkstück 63 zu erzeugen; letzteres dient als gemeinsame
Anode für sämtliche Kathoden. Wie bereits erwähnt, besteht jede
Kathode aus unterschiedlichem Material und wird von einer getrennten
Stromquelle, im Beispiel 64, 65, gespeist. Die Stromquellen
haben ebenfalls unterschiedliche Kurvenformen, wie dies
in den Fig. 4b und 4c dargestellt ist. Wie aus Fig. 4d zu entnehmen
ist, kann dadurch, durch kontinuierliche Veränderung des
Verhältnisses der Ströme der beiden Kathoden, eine abgestimmte
Beschichtung des als Anode dienenden Werkstückes erreicht werden.
Die Kathode 61 kann z. B. aus demselben Material bestehen wie
das Werkstück 63, währenddem die Kathode 62 aus einem Material
bestehen kann, welches gewisse erwünschte Schutzeigenschaften
aufweist. Als repräsentatives Beispiel kann angeführt werden,
daß das Werkstück aus Stahl, die Kathode 61 ebenfalls aus
Stahl und die Kathode 62 aus Aluminium besteht.
Eine andere Möglichkeit besteht darin, daß die Kathoden 61 und
62 aus zwei unterschiedlichen Materialien bestehen, um so eine
zusammengesetzte Beschichtung auf dem als Anode 63 dienenden
Werkstück zu erzeugen, die auf andere Weise schwierig zu erzielen
wäre. Z. B. kann die eine Kathode aus Wolfram und die andere
aus Graphit bestehen, um eine Wolframkarbidbeschichtung
auf dem z. B. aus Stahl bestehenden Werkstück zu erzeugen.
Weitere, denkbare Anwendungsbereiche des Verfahrens und der
Einrichtung gemäß Fig. 4a bis 4d sind wie folgt:
- 1. Herstellung von sonst schwerlich zu erzeugenden Materialien, eingeschlossen Karbide, z. B. Borkarbid. Es muß dabei berücksichtigt werden, daß infolge der sehr schnellen Kondensation aus dem Plasma-Zustand heraus metastabile, kristalline Erscheinungsformen auftreten können; unter Ausnutzung dieses Effektes kann ein Verfahren durchgeführt werden, welches mit Erfolg superleitfähige Legierungen produzieren kann, wie z. B. die A15-Form von Nb₃Si; solche Legierungen wurden theoretisch erarbeitet, konnten bisher aber praktisch nicht produziert werden.
- 2. Herstellung von abgestuften Beschichtungen. Um die Haftfähigkeit der Beschichtung auf dem Substrat zu erhöhen, kann es vorteilhaft sein, zunächst das Substrat mit Ionen des Substratmaterials zu beschichten und dann, im Verlauf der Lichtbogenentladung, den Entladungsstrom zu derjenigen Kathode, die aus dem Substratmaterial besteht, zu verringern, währenddem gleichzeitig derjenige Strom erhöht wird, der zu derjenigen Kathode führt, die das schlußendlich erwünschte Beschichtungsmaterial liefert. Auf diese Weise können schroffe Übergänge der physikalischen Eigenschaften des Beschichtungsmaterials vermieden werden.
- 3. Herstellung von isolierenden Überzügen, und zwar in solchen Fällen, wo die individuellen Komponenten einer Legierung leitende Materialien sind, die als Kathoden aufgearbeitet werden können.
- 4. Herstellung von geschichteten Überzügen, die abwechselnd aus einem ersten Material und aus einem zweiten Material bestehen.
Eine andere Möglichkeit besteht darin, die Gas-Legierungs-Technik
gemäß dem Ausführungsbeispiel von Fig. 3 mit der Mehrfach-
Kathoden-Technik der Fig. 4a bis 4d zu kombinieren. Mit
anderen Worten bedeutet das, Überzüge zu erzeugen, die einerseits
aus verschiedenen Elementen bestehen, welche normalerweise
als leitende Feststoffe bekannt sind, und andererseits
aus Elementen, die normalerweise im Zustand eines Gases sind.
Insbesondere besteht ein ausgeprägtes Interesse daran, sogenannte
BCN-Schichten auf Werkzeugen von Bearbeitungsmaschinen
herzustellen, die als Schutzschichten gegen Abnützung dienen;
dies ist prinzipiell dadurch möglich, daß man Kathoden einerseits
aus Graphit und andererseits aus Bor verwendet, wobei
Stickstoff als die Legierung förderndes Gas verwendet wird, wie
es vorstehend beschrieben worden ist.
In der Fig. 5 ist ein Ausführungsbeispiel gezeigt, bei welchem
die Vakuumkammer 70 eine Mehrzahl von Kathoden 71 und 72 sowie
einen Einlaß 73 für ein die Legierungsbildung unterstützendes
Gas aufweist; das Gas wird von einer Quelle 74 über einen
Steuer-Regulator 75 zugeführt. Jede der beiden Kathoden 71 und
72 wird individuell mit Energie versorgt, und zwar durch je ein
zugeordnetes Netzteil 76 bzw. 77. Aus der Fig. 5 kann unschwer
erkannt werden, daß auf diese Weise, d. h. durch die Zusammenarbeit
der beiden Kathoden und des Gases eine Reaktion zwischen
den kombinierten Materialien und dem Gas im Spalt 78 stattfindet,
wobei das Werkstück als Anode 79 dient.
Beispielsweise kann die Kathode 71 aus Titan, die Kathode 72
hingegen aus Barium oder Magnesium bestehen. Das Gas 74 kann
z. B. Sauerstoff sein, und die Anode 79 kann aus Kupfer bestehen,
um Bariumtitanat oder Magnesiumtitanat als Beschichtung
bei Dünnfilmkondensatoren zu erzeugen.
In Fig. 6 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Einrichtung
darstellt, die insbesondere dazu geeignet ist, eine verbesserte
Gleichmäßigkeit der Beschichtung zu gewährleisten,
und zwar dadurch, daß ein magnetisches Feld aufgebaut wird.
Dieses magnetische Feld, welches axial zum Spalt zwischen dem
als Anode dienenden Werkstück und der Kathode verläuft, wird
bei jeder Entladung des Lichtbogens aufgebaut und steuert den
Fluß des Plasmas in einer vorgegebenen Richtung. Die Einrichtung
gemäß Fig. 6 weist eine evakuierte Kammer 80 auf, in welcher
eine als Plasmaquelle dienende Kathode 81 sowie eine Anode
82 vorgesehen ist, welch letztere durch das zu bearbeitende
Werkstück gebildet ist; die Anode und die Kathode sind durch
einen Spalt 83 voneinander getrennt. Spulen 84 und 85, die ein
magnetisches Feld erzeugen, sind außerhalb der Vakuumkammer 80
angeordnet (eine andere Möglichkeit besteht auch darin, diese
in der Kammer anzuordnen), und sind so ausgerichtet, daß sie
ein magnetisches Feld erzeugen, welches axial durch den Spalt
84 verläuft. Dieses magnetische Feld sammelt den Plasmafluß,
unterdrückt radiale Abweichungen des elektrischen Stromflusses
im Bereich des als Anode dienenden Werkstückes und gewährleistet
auf diese Weise einen gleichmäßigeren Fluß der Wärmeübertragung.
In der Anordnung gemäß Fig. 6 ist das als Anode
82 dienende Werkstück unterhalb der Kathode 81 angeordnet, so
daß die Schwerkraft die geschmolzene Oberfläche der Anode
glättet und dabei die Ausbildung von Kratern verhindert.
In den Fig. 7 und 7a ist eine weitere Ausführungsform einer
Einrichtung dargestellt, welche dazu verwendet werden kann,
bestimmte Oberflächenbereiche eines länglichen, zylindrischen
Gegenstandes zu bearbeiten, wie z. B. die Lageroberfläche einer
Antriebswelle. Zu diesem Zweck umfaßt die Einrichtung gemäß
Fig. 7 und 7a eine Vakuumkammer 90, in welcher eine evakuierte
Atmosphäre aufgebaut wird. Die Vakuumkammer ist mit Öffnungen
versehen, um das längliche, zylindrische Werkstück 91 aufzunehmen,
welches bearbeitet werden soll und welches als Anode
dient. Die Kammer 90, in welcher die Entladung des Lichtbogens
erfolgt, umfaßt ferner eine Mehrzahl von Trägern 92, die eine
Mehrzahl von Kathoden 93 aufnehmen, welch letztere in ringförmiger
Konfiguration um das Werkstück 91 herum angeordnet
sind. Vorzugsweise ist jede der Kathoden 93 mit einem unabhängigen
Netzteil 94 versehen, wie es in Fig. 7 dargestellt
ist, damit eine gleichmäßige Verteilung des zugeführten Stromes
unter den Kathoden 93 gewährleistet ist. Dadurch, daß isolierte
Einführungsflansche 95 mit O-Ring-Dichtungen 96 vorhanden
sind, können Werkstücke 91 in der Vakuumkammer 90 behandelt
werden, die länger als letztere sind. Die Vakuumkammer wird
durch eine Pumpenanordnung evakuiert, die an einen Flansch 97
angeschlossen ist.
Die Fig. 8 bis 10 veranschaulichen weitere Ausführungsformen
der Einrichtung zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens,
welche z. B. verwendet werden können für die Oberflächenbearbeitung
der Innenseite eines länglichen, hohlen, zylindrischen
Werkstückes, wie z. B. der Innenfläche einer Wärmetauscherröhre,
eines Waffenlaufes oder dgl.
Aus der Fig. 8 geht hervor, daß das Werkstück 101, z. B. der
Lauf einer Waffe, als Teil der Vakuumkammer verwendet wird. Ein
Ende desselben ist über eine geeignete Vakuumdichtung 102 und
ein Anpassungsstück 103 an eine Einheit 104 zur Erzeugung und
Überwachung des Vakuums angeschlossen. Das gegenüberliegende
Ende ist mittels einer Abschlußwand 105 verschlossen; letztere
ist mit einer Durchführungsöffnung 106 versehen, die abgedichtet
ist und die eine Kathodenanordnung 107 aufnimmt, welche in
Längsrichtung innerhalb des Werkstückes verschiebbar angeordnet
ist. Das Werkstück 101 dient dabei als Anode für den Lichtbogen,
in Zusammenarbeit mit der beweglichen Kathode 107. Ein
Netzteil 108 ist zwischen der als Werkstück dienenden Anode 101
und der beweglichen Kathode 107 angeschlossen und liefert den
für die Erzeugung von kurzen Lichtbogenimpulsen erforderlichen,
hohen Strom.
Die Fig. 9 veranschaulicht ein Ausführungsbeispiel, welches als
Kathodenanordnung 107 bei einer Vorrichtung gemäß Fig. 8
verwendet werden kann. Aus Fig. 9 ist zu entnehmen, daß die
Kathodenanordnung 107 eine aktive Kathode 110 umfaßt, welche
am Ende einer elektrisch leitfähigen Stange 111 angeordnet ist.
Letztere dient zudem als elektrische Verbindung zur Kathode und
erstreckt sich durch die Durchführung 105 (Fig. 8) am Ende des
als Anode dienenden Werkstückes 101; somit wird die Verschiebung
und Bedienung der Kathode erleichtert. Die Stange 111 ist
durch ein aus Isoliermaterial bestehendes Rohr 112 umschlossen,
welches z. B. aus Glas oder Keramik bestehen kann, damit eine
Lichtbogenentladung entlang seiner Länge vermieden wird.
Sobald ein elektrischer Impuls, unter Einfluß des Netzteils
108 (Fig. 8) mit hoher Stromstärke und kurzer Dauer, zwischen
den Punkten 113 auf der Kathode 110 und dem als Anode dienenden
Werkstück 101 angelegt wird, wird ein Plasmastrahl 114 erzeugt.
Der letztere kann dazu verwendet werden, eine metallurgische
Deckschicht, eine Oberflächenlegierung oder eine Oberflächenbehandlung
zu erzeugen, oder kann auch dazu verwendet werden,
die innere Oberfläche des Werkstückes im Sinn einer ätzenden
Abtragung zu bearbeiten.
Vorzugsweise ist das Ende der Kathode 110 mit einer isolierenden
Kappe 115 bedeckt, damit ein Funkenüberschlag vom Ende der
Kathode vermieden werden kann. Gleichzeitig wird durch diese
Maßnahme erreicht, daß die Kathodenflecken auf diejenigen
Seiten der Kathode konzentriert werden, wie es in den Fig. 8
und 9 dargestellt ist. Außerdem kann die Kathodenanordnung 107
mit einer Auslöseanordnung 116 zur Zündung des Lichtbogens sowie
mit einem Kühlkreislauf 117 zur Kühlung der Kathode versehen
sein, wenn eine länger andauernde Betriebsweise oder eine
Zündung des Lichtbogens in rascher Folge vorgesehen ist.
Schließlich ist es auch denkbar, eine Quelle zur Erzeugung
eines magnetischen Feldes vorzusehen, welches in bezug auf die
Kathode axial verläuft, um den Plasmastrom bzw. die Plasmastrahlen
zu führen und um die Kathodenflächen um die Seiten der
Kathode 110 herum zu lenken.
Aus der Fig. 9 geht eine Anordnung hervor, die zeigt, wie das
magnetische Feld erzeugt werden kann. Dazu ist eine Spule 118
vorgesehen, die axial um die Kathode herum angeordnet ist; anderseits
ist es auch möglich, einen Permanentmagneten oder andere
geeignete Mittel zur Erzeugung eines magnetischen Feldes,
z. B. wie in Fig. 5 dargestellt, zu verwenden.
In der Fig. 10 ist eine weitere Ausführungsform dargestellt, in
welcher die Kathode 110′ der Kathodenanordnung 107′ einen Gaskanal
aufweist, um ein die Legierungsbildung förderndes Gas den
Kathodenflecken zuzuführen, wie es bereits im Zusammenhang mit
der Ausführung gemäß Fig. 3 erläutert worden ist. Zu diesem
Zweck ist die Kathode 110′ hohl ausgeführt und besitzt eine
Mehrzahl von Austrittsöffnungen 120 für das Gas, welch letzteres
durch einen Einlaß 121 zugeführt wird.
Die Einrichtung gemäß Fig. 8 bis 10 wird wie folgt betrieben:
Die Kathodenanordnung 107 bzw. 107′ wird durch die abgedichtete
Öffnung 105 in das Werkstück 101 eingeführt und ist innerhalb
desselben in Längsrichtung positioniert, und zwar in einem solchen
Bereich, in welchem die Behandlung der Oberfläche stattfinden
soll. Darauf wird durch Betätigung des Netzteils 108 der
Lichtbogen zwischen der Kathodenanordnung und dem Werkstück,
welches als Anode dient, gezündet. Zwischen den einzelnen
Lichtbogen-Impulsen wird die Kathodenanordnung in eine neue
Position verschoben, indem sie durch die abgedichtete Öffnung
105 hindurch gestoßen bzw. gezogen wird; auf diese Weise ist
es ermöglicht, die gesamte Länge des Werkstückes oder aber ausgewählte
Bereiche davon in der gewünschten Weise zu bearbeiten.
Währenddem die Einrichtung, die in den Fig. 8 bis 10 dargestellt
ist, sowie andere Einrichtungen, die vorstehend beschrieben
worden sind, insbesondere dafür geeignet sind, metallische
Werkstücke mit Impulsen zu bearbeiten, die hohe
Spitzenströme, jedoch eine kurze Dauer aufweisen, versteht es
sich, daß solche Einrichtungen auch dazu verwendet werden können,
ein Werkstück mit Gleichstromimpulsen zu behandeln. Als
Beispiel sei angeführt, daß die Einrichtung, die in den Fig. 8
bis 10 dargestellt ist, mittels Gleichstrom so betrieben werden
kann, daß ein Lichtbogen gezündet wird, währenddem die Kathodenanordnung
107 bzw. 107′ sich am einen Ende des Werkstückes
befindet. Währenddem diese Kathodenanordnung in axialer Richtung
zum anderen Ende des Werkstückes bewegt wird, kann der
Lichtbogen kontinuierlich weiterbrennen, bis das Ende des Werkstückes
erreicht ist, wo der Lichtbogen dann gelöscht wird.
Im Zusammenhang mit den vorstehend beschriebenen Beispielen
wurde als Stromversorgung ein Kondensator-Block als Stromimpulsquelle
verwendet; der Bereich des Stromes variierte dabei
zwischen 0,5 und 2,0 kA mit einer Halbamplitudenbreite von 0,65
bis 75 ms. Es versteht sich, daß andere Mittel zur Erzeugung
dieser Stromimpulse verwendet werden können und daß der Bereich
der Stromstärke bzw. die Dauer des Impulses variiert werden
können. Als alternative Stromquelle bietet sich eine Schaltung
mit einem phasenkontrollierten, gesteuerten Gleichrichter
an, vorausgesetzt, die Spannung ist genügend hoch, um den
Lichtbogen zu zünden und aufrecht zu erhalten. Wie schon vorher
erwähnt, sind Pulsbreiten von 10 ns bis zu Sekunden (oder
länger) möglich, und Spitzenstromamplituden im Bereich von 1 A
bis zu hunderten von kA sind im Prinzip denkbar. Die zweckmäßige
Auswahl des Lichtbogenstromes und der Länge des Impulses
wird schlußendlich von der spezifischen Anwendung abhängen,
wobei auch die Geometrie und das Material des Substrates und
der Elektrode sowie die erwünschte Schichtdicke, die Oberflächentemperatur
und die Wärmeverhältnisse in Betracht gezogen
werden müssen. Insbesondere im Bereich hoher Stromstärken müssen
Vorsichtsmaßnahmen getroffen werden, hauptsächlich bezüglich
Geometrie und Anwendung eines axialen magnetischen Feldes
usw., um zu verhindern, daß Anodenflecken entstehen, wenn dies
nicht ausdrücklich erwünscht ist.
In der Ausführung gemäß Fig. 2 wurde eine Zündelektrode zur
Erzeugung des Lichtbogens vorgeschlagen. Es versteht sich jedoch,
daß auch andere Mittel zur Zündung des Lichtbogens vorgesehen
sein können, z. B. mit Hilfe der Anode oder einer zusätzlichen,
mechanischen Zündelektrode, mittels Laser-Zündung,
mittels elektrischer Überlastung des Anoden-Kathoden-Spaltes
oder mittels Verwendung eines Zündungsdrahtes. Sobald die Zündung
des Lichtbogens erfolgt ist, gelten im allgemeinen die
vorstehenden Ausführungen bezüglich des Verfahrensablaufes.
Die Ausführungsbeispiele der Einrichtungen, wie sie vorstehend,
z. B. mit Bezug auf Fig. 2 beschrieben worden sind, verwenden
eine sehr einfache geometrische Anordnung, bestehend aus einem
Paar von parallel verlaufenden Elektroden, wobei die Kathode
als Quelle und die Anode als Substrat dient. Allerdings sind
verschiedene andere Möglichkeiten bezüglich der geometrischen
Anordnung möglich. Die Geometrie des Substrates wird schlußendlich
von der erwünschten Wirkung bestimmt. Grundsätzlich bestehen
keine Einschränkungen bezüglich der Geometrie des Substrates,
obwohl im Auge behalten werden muß, daß die Formgebung
desselben sehr wahrscheinlich die Gleichmäßigkeit und andere
Eigenschaften des auf dem Substrat aufzubringenden Überzuges
beeinflußt. Außerdem ist zu berücksichtigen, daß sehr
wahrscheinlich solche Bereiche des Substrates, welche weniger
intensiv mit der Masse des Substrates thermisch verbunden sind,
auf höhere Temperaturen erwärmt werden als benachbarte, flache,
verhältnismäßig dicke Bereiche; dieser Effekt muß stets berücksichtigt
werden, um eine Beschädigung des Substrates zu
verhindern.
Schließlich sei noch erwähnt, daß die Kathode in ihrer Formgebung
so gewählt werden kann, daß eine erwünschte Ablagerung
oder das erwünschte thermische Bild auf dem Substrat erreicht
werden kann, insbesondere in denjenigen Fällen, in welchen die
Kathode sehr nahe zum Substrat angeordnet ist oder in denjenigen
Fällen, wo ein axiales magnetisches Feld vorgesehen ist, um
den Fluß des Plasmas zu beeinflussen.
Claims (14)
1. Verfahren zur Behandlung der Oberfläche eines Werkstücks mit
einem Behandlungsmaterial, dadurch gekennzeichnet, daß ein
oder mehrere einzelne, monopolare elektrische Impulse mit einer
Impulsdauer von 0,5 bis 100 ms, gemessen bei halber Amplitude,
angewendet werden, um bei jedem Impuls eine elektrische Entladung
mit einer Strom-Amplitude von mindestens 500 A zwischen dem
als Anode geschalteten Werkstück und dem als Kathode geschalteten
Behandlungsmaterial zu erzeugen, wobei Werkstück und Behandlungsmaterial
in einem evakuierten Raum angeordnet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das
Werkstück und die Kathode durch einen Spalt, dessen Breite geringer
ist als die kleinste Dimension der Kathode, gemessen in
einer durch diese gehenden und zum Werkstück parallelen Ebene,
voneinander getrennt werden.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die elektrische Entladung mit einer Stromdichte
von mindestens 3×10⁶ A/m² durchgeführt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der Durchmesser der Kathode auf mindestens 10 mm
und der Abstand des Werkstückes zur Kathode auf Werte zwischen
1 und 8 mm eingestellt werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß das Material der Kathode als Oberflächenbeschichtung
auf das Werkstück aufgetragen wird, und daß die
Oberfläche des Werkstückes durch die elektrische Entladung über
den Schmelzzpunkt des Kathodenmaterials, aber nicht bis zum
Schmelzpunkt des Werkstückmaterials erwärmt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß das Material der Kathode als Oberflächenbeschichtung
auf das Werkstück aufgetragen wird, und daß die
Oberfläche des Werkstückes durch die elektrische Entladung zu
einer Verschmelzung und damit eine Haftung zwischen dem Werkstück
und dem kathodischen Beschichtungsmaterial erwärmt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß das Material der Kathode als Oberflächenbeschichtung
auf das Werkstück aufgetragen wird, und daß die
Oberfläche des Werkstückes durch die elektrische Entladung über
den Schmelzpunkt sowohl des Kathodenmaterials als auch des
Werkstückmaterials zu einer Oberflächenlegierung der beiden Materialien
an der Oberfläche des Werkstückes erwärmt wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Oberfläche des Werkstückes durch die elektrische
Entladung über die Festphasen-Transformationstemperatur
erwärmt und anschließend einer durch natürliche Konduktion ins
Innere des Werkstückes erfolgenden Abkühlung unterzogen wird,
so daß die Bereiche in der Nähe der Oberfläche des Werkstückes
abgeschreckt werden.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
daß jedesmal während einer elektrischen Entladung in
der evakuierten Kammer ein die Legierungsbildung förderndes Gas
zugesetzt wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die elektrische Entladung zwischen dem Werkstück
und einer Mehrzahl von Kathoden durchgeführt wird, wobei letztere
eine Mehrzahl von Plasmastrahlen erzeugen, die im Bereich
der Oberfläche des Werkstückes ineinanderlaufen.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen dem Werkstück und der Kathode ein axial
zum Spalt gerichtetes Magnetfeld erzeugt wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, bei dem das Werkstück
längliche, zylindrische Gestalt besitzt, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Mehrzahl von Kathoden um das längliche, zylindrische
Werkstück herum angeordnet werden.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet,
daß zur Ablagerung verschiedener Materialschichten
auf dem Werkstück eine Mehrzahl von Kathoden in enger Nachbarschaft
zum Werkstück angeordnet werden, und daß zwischen jeder
Kathode und dem Werkstück, nacheinander, mindestens eine elektrische
Entladung mit kurzer Dauer und hoher Stromstärke erzeugt
wird.
14. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das
Werkstück längliche, hohle Gestalt besitzt, und daß die Kathode
innerhalb des Werkstückes angeordnet wird.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IL71530A IL71530A (en) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | Method and apparatus for surface-treating workpieces |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3513014A1 DE3513014A1 (de) | 1985-10-24 |
| DE3513014C2 true DE3513014C2 (de) | 1994-03-24 |
Family
ID=11054983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3513014A Expired - Fee Related DE3513014C2 (de) | 1984-04-12 | 1985-04-11 | Verfahren zur Behandlung der Oberfläche von Werkstücken |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4645895A (de) |
| JP (1) | JPH0633451B2 (de) |
| DE (1) | DE3513014C2 (de) |
| IL (1) | IL71530A (de) |
Families Citing this family (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH671407A5 (de) * | 1986-06-13 | 1989-08-31 | Balzers Hochvakuum | |
| DE3700633C2 (de) * | 1987-01-12 | 1997-02-20 | Reinar Dr Gruen | Verfahren und Vorrichtung zum schonenden Beschichten elektrisch leitender Gegenstände mittels Plasma |
| EP0285745B1 (de) * | 1987-03-06 | 1993-05-26 | Balzers Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtungen zum Vakuumbeschichten mittels einer elektrischen Bogenentladung |
| FR2612204A1 (fr) * | 1987-03-12 | 1988-09-16 | Vac Tec Syst | Procede et appareil pour le depot par un plasma d'arc electrique sous vide de revetements decoratifs et de revetements resistant a l'usure |
| FI79351C (fi) * | 1988-01-18 | 1989-12-11 | Asko Anttila | Foerfarande och anordning foer ytbelaeggning av material. |
| US4902378A (en) * | 1988-04-27 | 1990-02-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymer with reduced internal migration |
| JP2836072B2 (ja) * | 1988-05-30 | 1998-12-14 | 株式会社島津製作所 | スパッタリング装置 |
| EP0404973A1 (de) * | 1989-06-27 | 1991-01-02 | Hauzer Holding B.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten |
| DE3941202A1 (de) * | 1989-12-14 | 1990-06-07 | Fried. Krupp Gmbh, 4300 Essen | Verfahren zur erzeugung von schichten aus harten kohlenstoffmodifikationen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| US5241152A (en) * | 1990-03-23 | 1993-08-31 | Anderson Glen L | Circuit for detecting and diverting an electrical arc in a glow discharge apparatus |
| IT1240811B (it) * | 1990-03-28 | 1993-12-17 | Selenia Ind Elettroniche | Metodo per la deposizione di strati sottili con assistenza di ioni da plasma rf. |
| US5126030A (en) * | 1990-12-10 | 1992-06-30 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Apparatus and method of cathodic arc deposition |
| US5254237A (en) * | 1991-03-01 | 1993-10-19 | Snaper Alvin A | Plasma arc apparatus for producing diamond semiconductor devices |
| US5229171A (en) * | 1991-12-23 | 1993-07-20 | Research Triangle Institute | Apparatus and method for uniformly coating a substrate in an evacuable chamber |
| DE4204650C1 (de) * | 1992-02-15 | 1993-07-08 | Hoffmeister, Helmut, Dr., 4400 Muenster, De | |
| US5480527A (en) * | 1994-04-25 | 1996-01-02 | Vapor Technologies, Inc. | Rectangular vacuum-arc plasma source |
| US6027619A (en) * | 1996-12-19 | 2000-02-22 | Micron Technology, Inc. | Fabrication of field emission array with filtered vacuum cathodic arc deposition |
| CN1220707A (zh) * | 1997-03-20 | 1999-06-23 | 摩托罗拉公司 | 形成碳膜的方法 |
| US6077572A (en) * | 1997-06-18 | 2000-06-20 | Northeastern University | Method of coating edges with diamond-like carbon |
| US7014738B2 (en) * | 1997-10-24 | 2006-03-21 | Filplas Vacuum Technology Pte Ltd. | Enhanced macroparticle filter and cathode arc source |
| US6501232B1 (en) * | 2000-01-11 | 2002-12-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electric power unit for electric discharge surface treatment and method of electric discharge surface treatment |
| US6495002B1 (en) | 2000-04-07 | 2002-12-17 | Hy-Tech Research Corporation | Method and apparatus for depositing ceramic films by vacuum arc deposition |
| US6613452B2 (en) | 2001-01-16 | 2003-09-02 | Northrop Grumman Corporation | Corrosion resistant coating system and method |
| US20050034668A1 (en) * | 2001-03-22 | 2005-02-17 | Garvey James F. | Multi-component substances and apparatus for preparation thereof |
| DE10159907B4 (de) * | 2001-12-06 | 2008-04-24 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. | Beschichtungsverfahren |
| US6936145B2 (en) * | 2002-02-28 | 2005-08-30 | Ionedge Corporation | Coating method and apparatus |
| DE60315007D1 (de) * | 2002-03-23 | 2007-08-30 | Metal Nanopowders Ltd | Verfahren zur erzeugung von pulver |
| JP4373252B2 (ja) * | 2004-03-16 | 2009-11-25 | 浩史 滝川 | プラズマ生成装置 |
| EP2477207A3 (de) * | 2004-09-24 | 2014-09-03 | Zond, Inc. | Vorrichtung zum Erzeugen von elektrischen Hochstrom-entladungen |
| US9997338B2 (en) * | 2005-03-24 | 2018-06-12 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Method for operating a pulsed arc source |
| PL1863947T3 (pl) | 2005-03-24 | 2012-06-29 | Oerlikon Trading Ag | Warstwa z twardego materiału |
| US7524385B2 (en) * | 2006-10-03 | 2009-04-28 | Elemetric, Llc | Controlled phase transition of metals |
| TWI379916B (en) * | 2009-02-24 | 2012-12-21 | Ind Tech Res Inst | Vacuum coating device and coating method |
| DE102011016681A1 (de) | 2011-04-11 | 2012-10-11 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Kohlenstofffunkenverdampfung |
| NL2008208C2 (en) * | 2012-01-31 | 2013-08-01 | Univ Delft Tech | Spark ablation device. |
| JP7332614B2 (ja) * | 2018-03-23 | 2023-08-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 分離した裏側ヘリウム供給システム |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1162149A (en) * | 1914-10-22 | 1915-11-30 | Engelhardt A Eckhardt | Process of making wear-withstanding coat. |
| DE696739C (de) * | 1937-10-21 | 1940-09-27 | Metallgesellschaft Akt Ges | lischen Werkstuecken |
| US3461268A (en) * | 1967-01-24 | 1969-08-12 | Inoue K | Kinetic deposition of particulate materials |
| JPS5189834A (ja) * | 1975-02-04 | 1976-08-06 | Kinzokunohodenmetsukihoho | |
| SU707714A1 (ru) * | 1976-06-28 | 1980-01-05 | Могилевский Машиностроительный Институт | Способ электродуговой наплавки |
| JPS5918625A (ja) * | 1982-07-23 | 1984-01-31 | Hitachi Ltd | 薄膜製造方法 |
| JPS5938373A (ja) * | 1982-08-26 | 1984-03-02 | Canon Inc | プラズマcvd装置 |
| JPS60149768A (ja) * | 1984-01-11 | 1985-08-07 | Hitachi Ltd | 高密着性メタライズ膜 |
-
1984
- 1984-04-12 IL IL71530A patent/IL71530A/xx not_active IP Right Cessation
-
1985
- 1985-04-03 US US06/719,308 patent/US4645895A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-04-11 DE DE3513014A patent/DE3513014C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1985-04-11 JP JP60077527A patent/JPH0633451B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3513014A1 (de) | 1985-10-24 |
| IL71530A0 (en) | 1984-07-31 |
| JPH0633451B2 (ja) | 1994-05-02 |
| US4645895A (en) | 1987-02-24 |
| JPS6199672A (ja) | 1986-05-17 |
| IL71530A (en) | 1987-09-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3513014C2 (de) | Verfahren zur Behandlung der Oberfläche von Werkstücken | |
| EP0306612B2 (de) | Verfahren zur Aufbringung von Schichten auf Substraten | |
| DE69227313T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von bauteilen in einem gasentladungsplasma | |
| EP0885981B1 (de) | Verfahren und Anlage zum Behandeln von Substraten mittels Ionen aus einer Niedervoltbogenentladung | |
| EP0725843B1 (de) | Verfahren und einrichtung zum plasmaaktivierten elektronenstrahlverdampfen | |
| DE3117299C2 (de) | ||
| DE3144192C2 (de) | Verfahren zum Bedampfen einer Oberfläche mit Hartstoffen und Anwendung des Verfahrens | |
| EP2041331B1 (de) | Verfahren zum abscheiden elektrisch isolierender schichten | |
| DE60033458T2 (de) | Vorrichtung zum Gasflusssputtern | |
| EP0432090B1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung und Werkstück beschichtet nach dem Verfahren | |
| DE3901401C2 (de) | Verfahren zur Steuerung einer Vakuum-Lichtbogenentladung | |
| DE69300749T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung. | |
| EP0666335A1 (de) | Verfahren zum Betreiben eines Vakuumlichtbogenverdampfers und Stromversorgungseinrichtung dafür | |
| AT1984U1 (de) | Verfahren zur herstellung einer anode für röntgenröhren | |
| WO1992003841A2 (de) | Vorrichtung zur materialverdampfung mittels vakuumlichtbogenentladung und verfahren | |
| EP0867036B1 (de) | Verfahren und einrichtung zur vorbehandlung von substraten | |
| DE2902142C2 (de) | Vorrichtung zur Abscheidung von Überzügen im Vakuum | |
| DE69020553T2 (de) | Elektrische Lichtbogenbehandlung von Teilchen. | |
| EP2697817B1 (de) | Kohlenstofffunkenverdampfung | |
| DE2820183C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Überziehen der Oberfläche eines elektrisch leitenden Werkstücks | |
| EP0389506B1 (de) | Verfahren zum erzeugen dünner schichten aus hochschmelzendem oder bei hoher temperatur sublimierendem material welches aus unterschiedlichen chemischen verbindungen zusammengesetzt ist auf einem substrat | |
| WO2000016373A1 (de) | Targetanordnung für eine arc-verdampfungs-kammer | |
| DD272666A1 (de) | Verfahren zur herstellung von mehrfachschichten mittels vakuum'lichtbogenverdampfer | |
| DD275883B5 (de) | Verfahren zur homogenen Schichtabscheidung mittels Bogenentladung | |
| DE102020124269A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden harter Kohlenstoffschichten |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8125 | Change of the main classification |
Ipc: C23C 14/24 |
|
| 8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: LEBERECHT, F. GEIGER, F. DOERINGER, F., RECHTSANWA |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |