DE3901401C2 - Verfahren zur Steuerung einer Vakuum-Lichtbogenentladung - Google Patents
Verfahren zur Steuerung einer Vakuum-LichtbogenentladungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Steuerung eines Vakuum-Lichtbogens, wie er in der
Form sogenannter Kaltkathoden-Bogenverdampfer zum Verdampfen leitfähiger Materialien,
insbesondere von Metallen vielfältigen Einsatz, z. B. für die Zwecke der reaktiven
plasmagestützten Hartstoffbeschichtung, Anwendung gefunden hat. Derartige
Verdampfungssysteme zeichnen sich dadurch aus, daß eine Verdampfung von oben nach
unten möglich ist und hohe Verdampfungsraten realisierbar sind.
Aufbau und Wirkungsweise von Verdampfern, die auf dem Prinzip der
Vakuum-Lichtbogenentladung beruhen, sind vielfach beschrieben und weitgehend
bekannt (z. B. VDI-Zeitschrift 129, 1987, 84).
Ihre Funktion beruht darauf, daß innerhalb eines Vakuumbehälters zwischen einer relativ
großflächigen Kathode, die aus dem zu verdampfenden leitfähigen Material besteht und
einer isoliert dazu angeordneten Anode durch bekannte Methoden ein Lichtbogen gezündet
wird. Üblicherweise wird dazu eine anodische Zündelektrode kurzzeitig auf die Kathode
getippt. Es wurde auch vorgeschlagen, zur Zündung spezielle HF-Plasmen oder fokussierte
Laserstrahlung einzusetzen (EP 0 211 413 A2 und Nucl. Instrum. and Methods, Bd. 213 (1983)
S. 539-544).
Der Lichtbogen kann Stromstärken zwischen einigen 10 A und 100 A bei Spannungen
zwischen 20 V und 50 V leiten, tritt mit der Kathode im sogenannten Brennfleck in Kontakt
und führt dort zu einem erosiven Materialabtrag. Durch die sehr hohe Energiedichte im
Brennfleck, der einen Durchmesser von nur einigen µm hat, kommt es zur extrem schnellen
Aufheizung, die zu einer explosionsartigen Verdampfung sowie Ionisierung des
Kathodenmaterials führt. Die geladenen Teilchen im Plasma besitzen dabei eine hohe
Energie und Dichte.
Eines der Probleme bei diesem Vakuum-Bogenentladungsprinzip wird dadurch
hervorgerufen, daß der Brennfleck sich völlig stochastisch und unkontrollierbar auf der
Kathodenoberfläche bewegt. Diese sehr schnell verlaufende Bewegung führt zu einer
Instabilität des Bogens und auch dazu, daß der Bogen ausbricht und Isolatoren,
Abschirmungen und ähnliche Einbauten in der Nähe der Kathode beschädigt. Zur
Beseitigung dieses Mangels sind bereits Vorschläge unterbreitet worden, die eine
Begrenzung des Lichtbogens auf der Kathodenfläche zum Inhalt haben. In der
DE 35 28 677 A1 werden z. B. Magnetfelder zur Bogenführung vorgeschlagen und in der
DE 33 45 493 A1 Begrenzungseinrichtungen aus speziellen Materialien mit niedrigen
Elektronenemissionskoeffizienten eingesetzt.
Gemeinsam ist diesen Vorschlägen, daß es zwar gelingt, durch Pulsieren des Bogenstromes
die Brennfleckbewegung zu beeinflussen, jedoch nicht diese Bewegung des Bogens, bzw.
des Brennfleckes auf der Kathode definiert zu steuern (US-PS 4 555 612). Somit ist keine
Sicherheit vorhanden, daß das Ausbrechen des Bogens verhindert wird. Die Größe des
Magnetfeldes z. B. reicht nicht immer aus, um den Erosionsbereich sicher zu begrenzen.
Elektrisch aktive Begrenzungen können durch Bedampfen während des Betriebes der
Entladung unwirksam werden. Im allgemeinen ist durch derartige Varianten aber der
Kathodenbereich, in dem die Erosion eintritt, eingeschränkt. Dadurch sinkt die
Materialausnutzung an der Kathode und die Effektivität des Verfahrens. Ein weiterer Nachteil
des Vakuum-Bogenentladungsverdampfers besteht in dem bisher noch ungelösten Problem
der Verminderung der Tröpfchenbildung, der sogenannten Droplets.
Droplets sind relativ große Materialteilchen, die durch den Kathodenmechanismus,
insbesondere durch die unterschiedlich große und nicht steuerbare Geschwindigkeit des
Brennfleckes auf der Kathode hervorgerufen werden, und wenn sie auf die Substrate
auftreffen, die Schichtbildung und die Schichtqualität vermindern. Teilweise wird dadurch
Substrat und Schicht unbrauchbar.
Die Herstellung von Mehrfachschichten mittels Vakuum-Lichtbogenverdampfung ist jedoch
relativ schwer möglich, wenn die verschiedenen Materialien von einem Verdampfer aus
verdampft werden sollen.
In der DE 31 52 736 C2 wird eine Kathode für einen Lichtbogen-Metallverdampfer
beschrieben, die aus mehreren Schichten von Metallen mit unterschiedlich großem
Kathodenfall besteht, die derart angeordnet sind, daß der Kathodenfall von der
geometrischen Achse der Kathode zu deren Randpartien hin geringer wird. Durch die
Wechselwirkung magnetischer Felder mit Eigenbewegung des Kathodenbrennfleckes durch
den unterschiedlichen Kathodenfall kann eine Zweifachschicht hergestellt werden. Eine
reproduzierbare definierte Abscheidung der einzelnen Schichtkomponenten ist jedoch nicht
möglich.
Die US-PS 4 596 716 beschreibt eine Einrichtung zur Vakuum-Lichtbogenverdampfung, bei
der zwei Elektroden aus den zu verdampfenden Materialien wahl- und wechselweise als
Kathode oder Anode geschaltet werden können. Eine derartige Anordnung gestattet jedoch
keine Abscheidung reiner Einzelschichten da physikalisch bedingt, nicht vermeidbare
Materialtransporte von Kathode zur Anode nach erfolgter Umschaltung auftreten, die später
wieder mit verdampft werden. Vor allem bei der Herstellung sehr dünner optischer Schichten
können diese Verunreinigungen stören.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zu finden, welches durch sichere
Steuerung der Brennfleckbewegung auf der Kathode die Dropletbildung minimiert und die
Kathodenmaterialausnutzung erhöht sowie die Herstellung von Mehrfachschichten gestattet.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß die Spannung zwischen Anode und
Kathode pulsierend angelegt und jeweils bei maximaler Spannung ein örtlich variabler und
definierter Laserimpuls auf die Kathodenoberfläche gerichtet wird. Die Spannung zwischen
Anode und Kathode liegt dabei in der Regel unterhalb der Spannung, die für eine
selbständige Zündung der Bogenentladung erforderlich ist. Das Spannungsminimum hat
dabei einen Wert, der mit Sicherheit zum Verlöschen der Entladung führt. Bei den üblichen
Bogenentladungsverdampfern liegt das Spannungsmaximum bei 100 V und das Minimum
bei 10 V. Die Brennzeit der Bogenentladung wird in Abhängigkeit vom Kathodenmaterial und
dem Oberflächenzustand der Kathode im Bereich von einigen µs eingestellt. Die Festlegung
der pro Brennintervall (Impuls) umgesetzten Leistung ist über eine entsprechende
Dimensionierung im Stromversorgungskreis der Vakuum-Lichtbogenentladung möglich.
Durch die Einleitung des erfindungsgemäßen stark fokussierten Laserimpulses zum
Zeitpunkt des Erreichens des Spannungsmaximums auf die elektrisch leitfähige Oberfläche,
wird an dieser Stelle ein Plasma erzeugt. Die Plasmafront erreicht die Anode des
Bogenentladungsverdampfers und führt zur Zündung eines Vakuumlichtbogens zwischen
Anode und der Auftreffstelle des Laserstrahles auf der Kathode. Die Impulsdauer des Lasers
ist dabei kurz gegenüber der Brenndauer des Vakuumbogens, der erst durch Absenken der
Spannung zwischen Anode und Kathode zum Verlöschen gebracht wird. Die
Impulsfolgefrequenz ist in weiten Grenzen wählbar und lediglich durch die Leistungsfähigkeit
des Lasers sowie die Zeit bestimmt, die benötigt wird, um die Energie für den
Bogenverdampfer-Impuls bereitzustellen.
Erfindungsgemäß wird der Auftreffort des Laserimpulses auf der Kathode zwischen zwei
Zündungsimpulsen durch geeignete Mittel (z. B. Dreh- oder Schwingspiegel) verändert und
die Kathodenoberfläche gleichmäßig oder nach einem festgelegten Muster abgerastert.
Dadurch wird erreicht, daß die Kathode maximal als Materialquelle ausgenutzt, sowie das
Erosionsprofil bestimmten Erfordernissen gemäß gestaltet werden kann. Beispielsweise ist
es möglich, dieses Erosionsprofil der Kathode so zu gestalten, daß die
Verdampfungscharakteristik über den gesamten, zum Abtrag der Kathode benötigten,
Zeitraum konstant bleibt oder sich gezielt verändert. Durch die Steuerung der
Brennfleckbewegung kann weiterhin gesichert werden, daß ein Ausbrechen des Bogens aus
dem Kathodenbereich unmöglich wird.
Die erfindungsgemäße Lösung gestattet erstmalig eine sichere Steuerung der
Brennfleckbewegung auf der Kathode, wobei sich die Droplet-Bildung deutlich reduziert. Das
Kathodenmaterial wird gezielt über die gesamte Fläche ausgenutzt. Durch die Steuerbarkeit
wird weiterhin eine weitgehende Regelbarkeit der Verdampfungsrate und
Verdampfungscharakteristik erreicht.
Zur Herstellung von Mehrfachschichten an verschiedenen Verdampfungsmaterialien wird die
Bogenentladung wahlweise gegenüber dem Zentrum eines von mehreren Targets gezündet
und die Impulslänge, d. h. die Brenndauer einer Bogenentladung, derart gewählt wird, daß
die maximal zu erwartende Verschiebung des Kathodenbrennfleckes während des Impulses
kleiner ist als der geringste Abstand zum Targetrand und, daß die Schichtdicken der
herzustellenden Einzelschicht mittels der Zahl der Bogenentladungen gegen ein Target, bzw.
auf das entsprechende Material, bestimmt wird.
Die Variierung der einzelnen Materialien ist leicht über die Veränderung des Zündortes
möglich. Die Zahl der verschiedenen Verdampfungsmaterialien ist grundsätzlich beliebig.
Sie werden vorteilhaft auf einem gemeinsamen kathodischen Targetträger angeordnet. Nach
erfolgter Zündung beginnt der Kathodenbrennfleck des Lichtbogens unter unmittelbarer
Targetverdampfung seinen physikalisch bedingten unkontrollierten Weg, auch Verschiebung
genannt, über die Targetoberfläche. In Abhängigkeit von der materialspezifischen
Geschwindigkeit der Brennfleckverschiebung und des radialen Randabstandes auf dem
Target, wird die Impuls- bzw. Brenndauer des Lichtbogens durch Absenkung der
Bogenspannung so bestimmt, daß die Verschiebung des Lichtbogenbrennfleckes kleiner ist
als der kleinste Randabstand auf dem Target. Damit wird sichergestellt, daß innerhalb eines
derartigen Bogenentladungs-Impulses nur Material dieses einen Targets verdampft wird,
auch wenn in unmittelbarer Nähe auf dem kathodischen Targetträger andere
Targetmaterialien vorhanden sind.
Die Verdampfungsmenge innerhalb eines Impulses ist in der Regel für den technologischen
Beschichtungsprozeß zu gering. Deshalb liegt es an den technologischen Erfordernissen,
wie oft nacheinander ein Bogenentladungs-Impuls gegen das gleiche Target gezündet wird
und wann mittels Veränderung des Zündortes die Bogenentladung gegen ein anderes
Target gezündet wird.
Die Impulszeiten für einen Bogenentladungs-Impuls sind sehr unterschiedlich und richten
sich nach dem Material und den daraus folgenden Geschwindigkeiten der
Brennfleckverschiebung und der Targetgröße. Bei üblichen Dimensionierungen liegen die
Impulszeiten bei einigen Millisekunden.
Zur Vermeidung makroskopischer Kraterbildung ist es vorteilhaft den Zündort auf einem
Target von Entladung zu Entladung, in einem Bereich der geringer ist als die mittlere
Verschiebung während eines Entladungsimpulses, zu verändern.
Mittels dieser Verfahrensführung ist es sehr gut möglich Mehrfachschichten aus
verschiedenen leitfähigen Materialien mit variabler Dicke und hoher Reinheit herzustellen.
Aufgrund der relativ geringen Verdampfungsmenge bei einem Bogenentladungsimpuls ist es
beim ständigen Wechsel der Targets, gegen die die Bogenentladung brennt, praktisch auch
möglich Mischschichten herzustellen, obwohl es eigentlich auch nur Mehrfachschichten
sind.
Unabhängig von der erfindungsgemäßen Verfahrensführung kann die Arbeitsatmosphäre
inert oder reaktiv sein, in entsprechender Weise ändert sich die abgeschiedene Schicht auf
dem Substrat.
Nachfolgend soll die Erfindung an einem Beispiel näher erläutert werden.
In einer Hochvakuum-Bedampfungsanlage ist ein Kaltkathodenverdampfer, bestehend aus
wassergekühlter Targetkathode und ringförmiger Anode, installiert. Die Stromversorgung für
diesen Verdampfer ist so ausgelegt, daß die Zündspannung von 100 V bei einer maximalen
Strombelastung von 100 A impulsförmig mit Impulslängen von einigen µs zugeführt wird.
Synchron, mit Erreichen des oberen Spannungswertes, wird ein Nd-YAG-Laserimpuls der
Leistungsdichte von 10⁷ W cm-2 auf die Kathodenoberfläche gerichtet. Dadurch wird
erfindungsgemäß der Vakuumlichtbogen gezündet und brennt bis zum Erreichen der
unteren Schwellspannung. Die Laserimpulsdauer beträgt 500 ns und die Brenndauer des
Vakuumlichtbogens ca. 10 µs. Die Impulsfrequenz liegt im Beispiel bei 10 Hz.
Die Einleitung des Laserstrahles auf die Kathodenoberfläche erfolgt mittels Fokussiersystem
und eines um zwei Achsen programmierbaren auslenkbaren Schwingspiegels sowie ein
Lasereintrittsfenster. Damit kann die Kathodenoberfläche programmiert punktförmig
abgerastert werden. Mit diesem Verfahren, bei dem die Kathode aus einem graphitischen
Kohlenstoff besteht, wird eine Verdampfungsrate von 0,5 g/min erreicht. Auf dem Substrat,
welches in 10 cm Abstand von der Kathode angeordnet ist, wird eine Kohlenstoffschicht
abgeschieden, die einen erhöhten Anteil an sp³-Bindungen aufweist und somit durch
diamantartige Eigenschaften gekennzeichnet ist.
Es besteht das Ziel, auf einem Substrat bei hoher Reinheit der Einzelschichten eine Wolfram-
Kohlenstoff-Mehrfachschicht herzustellen. Eine derartige Beschichtung ist z. B. für
Röntgenspiegel erforderlich.
In einer Hochvakuum-Beschichtungsanlage der bekannten Ausführung mit einem Vakuum-Licht
bogenverdampfer und Substratanordnungen wird die erfindungsgemäße
Verfahrensführung realisiert. Als erforderliche Zündeinrichtung ist eine Laserstrahleinrichtung
vorhanden, die ein integriertes Spiegelsystem aufweist, welches den Laserstrahl wahlweise
auf das Zentrum der zwei verschiedenen kathodischen Targets (W und C) ausrichtet.
Die kathodischen Targets sind auf einer gemeinsamen Kathodenhalterung angeordnet, die
von einem Anodenring umgeben ist. Das Wolfram-Target hat einen Durchmesser von
150 mm und das Kohlenstoff-Target einen Durchmesser von 40 mm. Diese Maße sind mit
den materialspezifischen Brennfleckgeschwindigkeiten und den möglichen Schalt
geschwindigkeiten für die Bogenspannung abgestimmt.
Unabhängig anderer technologisch erforderlicher Vorbereitungsprozesse erfolgt die
erfindungsgemäße Verfahrensführung in nachfolgender Weise.
Als erste Schicht soll auf dem Substrat eine W-Schicht abgeschieden werden. Dazu wird
zwischen Anode und Kathode eine Spannung von 100 V angelegt und die Stromversorgung
so ausgelegt, daß der Bogenstrom nach der Zündung 80 A beträgt. Eine selbständige
Zündung tritt bei der angegebenen Spannung noch nicht ein. Erst wenn ein Laserimpuls auf
das Zentrum der Wolfram-Targetplatte gerichtet wird und dieses zu einer örtlichen
Plasmabildung führt, kommt es zur Zündung der Bogenentladung. Der Brennfleck beginnt
seine unkontrollierte Bewegung auf dem Target und verdampft dabei das Material. Bevor es
dem Brennfleck möglich ist den Randbereich des Targets zu erreichen, wird
verfahrensgemäß die Bogenspannung unter 50 V abgesenkt, wodurch die Bogenentladung
verlischt. Die Brenndauer des Bogens wurde auf 10 ms eingestellt. Damit beträgt die
Schichtdicke etwa 0,1 nm. Die technologisch bedingte Schichtdicke der Wolfram-Schicht
verlangt eine Wiederholung eines derartigen Impulses. Im Anschluß daran wird in
äquivalenter Weise der Bogenentladungs-Laserzündimpuls auf das Zentrum des
Kohlenstofftargets gerichtet und dort die Bogenentladung gezündet. Zur Vereinfachung des
elektronischen Aufwandes wurde die Brenndauer auch in diesem Fall auf 10 ms eingestellt.
Die abgeschiedene C-Schicht beträgt etwa 0,1 nm und es ist ein Bogenentladungsimpuls
ausreichend. Zum Aufbau der Gesamtschicht werden insgesamt 60 W-C-Folgeschichten
nacheinander abgeschieden. Zwischen den Einzelschichten werden keine Übergangszonen
abgeschieden.
Claims (6)
1. Verfahren zur Steuerung einer Vakuum-Lichtbogenentladung mittels Beeinflussung der
Lage des Brennfleckes auf der Kathodenoberfläche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Spannung zwischen Anode und Kathode pulsierend angelegt und jeweils
bei maximaler Spannung ein örtlich variabler und definierter Laserimpuls auf die
Kathodenoberfläche gerichtet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die maximale
Spannung zwischen Anode und Kathode unterhalb der Spannung einer selbständigen
Zündung einer Bogenentladung liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die minimale
Spannung zwischen Anode und Kathode unterhalb der minimalen Brennspannung der
Bogenentladung liegt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Folge der
Auftrefforte des Laserimpulses gleichmäßig oder nach einem festgelegten Muster über
die Kathodenoberfläche geführt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung
von Mehrfachschichten die Bogenentladung wahlweise gegenüber dem Zentrum eines
von mehreren Targets gezündet wird und die Impulslänge der Bogenentladung derart
eingestellt wird, daß die maximal zu erwartende Verschiebung des
Kathodenbrennfleckes während des Impulses kleiner ist als der geringste Abstand zum
Targetrand und daß in der Folge weitere Bogenentladungen in gleicher Weise gegen
das gleiche oder andere Targets gezündet werden.
6. Verfahren gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
Schichtdicke der abzuscheidenden Schichten über die Zahl der
Bogenentladungs-Impulse eingestellt wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD31326488A DD277178A3 (de) | 1988-03-01 | 1988-03-01 | Verfahren zur steuerung einer vakuumlichtbogenentladung |
DD31623488A DD272666B5 (de) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | Verfahren zur Herstellung von Mehrfachschichten mittels Vakuum-Lichtbogenverdampfer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3901401A1 DE3901401A1 (de) | 1989-09-14 |
DE3901401C2 true DE3901401C2 (de) | 1996-12-19 |
Family
ID=25748192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3901401A Expired - Lifetime DE3901401C2 (de) | 1988-03-01 | 1989-01-19 | Verfahren zur Steuerung einer Vakuum-Lichtbogenentladung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0747818B2 (de) |
DE (1) | DE3901401C2 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19838826A1 (de) * | 1998-08-26 | 2000-03-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Optisches Element mit transparenter, kratzfester Beschichtung, Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung sowie dessen Verwendung |
DE19850218C1 (de) * | 1998-08-26 | 2000-03-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung von Substraten im Vakuum |
DE19946080C2 (de) * | 1998-10-06 | 2002-02-14 | Fraunhofer Ges Forschung | Testflasche und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE59108387D1 (de) * | 1990-03-01 | 1997-01-16 | Balzers Hochvakuum | Vorrichtung und Verfahren zum Verdampfen von Material im Vakuum sowie Anwendung des Verfahrens |
DE4037388A1 (de) * | 1990-11-22 | 1992-05-27 | Scheibe Hans Joachim Dr | Schaltungsanordnung zur stromversorgung fuer gepulst betriebene vakuumboegen |
DE19600993A1 (de) * | 1995-01-13 | 1996-08-08 | Technics Plasma Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur anodischen Verdampfung eines Materials mittels einer Vakuumlichtbogenentladung |
DE19618073C1 (de) * | 1996-05-06 | 1997-09-18 | Inovap Vakuum Und Plasmatechni | Zündeinrichtung für einen Vakuumbogenverdampfer |
US6533908B1 (en) | 1998-08-26 | 2003-03-18 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Device and method for coating substrates in a vacuum utilizing an absorber electrode |
EP1117852B1 (de) | 1998-08-26 | 2002-07-31 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von substraten im vakuum |
DE19924094C2 (de) | 1999-05-21 | 2003-04-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Vakuumbogenverdampfer und Verfahren zu seinem Betrieb |
HUE026952T2 (en) | 2005-03-24 | 2016-08-29 | Oerlikon Surface Solutions Ag Truebbach | Hard Coating Materials |
DE102007019982B4 (de) * | 2007-04-23 | 2011-02-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Anordnung zur Ausbildung von Beschichtungen auf Substraten im Vakuum |
JP2010248574A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置及び蒸着方法。 |
DE102011003254A1 (de) | 2011-01-27 | 2012-08-02 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Gleitelement, insbesondere Kolbenring, mit einer Beschichtung sowie Verfahren zur Herstellung eines Gleitelements |
DE102017205417A1 (de) | 2017-03-30 | 2018-10-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Ausbildung einer mit poly- oder einkristallinem Diamant gebildeten Schicht |
DE102020215892A1 (de) * | 2020-12-15 | 2022-06-15 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Vorrichtung zur Ausbildung von amorphen Kohlenstoffschichten auf Bauteiloberflächen mit reduzierter Oberflächenrauheit |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3152736C2 (de) * | 1981-02-23 | 1984-04-05 | Leonid Pavlovič Sablev | Selbstverzehrende Kathode f}r einen Lichtbogen-Metallverdampfer |
GB2140040B (en) * | 1983-05-09 | 1986-09-17 | Vac Tec Syst | Evaporation arc stabilization |
US4596716A (en) * | 1983-06-08 | 1986-06-24 | Kennecott Corporation | Porous silicon nitride semiconductor dopant carriers |
US4555612A (en) * | 1983-10-17 | 1985-11-26 | General Electric Co. | Plasma jet cleaning apparatus and method |
US4724058A (en) * | 1984-08-13 | 1988-02-09 | Vac-Tec Systems, Inc. | Method and apparatus for arc evaporating large area targets |
EP0211413A3 (de) * | 1985-08-09 | 1989-03-15 | The Perkin-Elmer Corporation | Bogenzündungsvorrichtung |
-
1989
- 1989-01-19 DE DE3901401A patent/DE3901401C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-01 JP JP1046698A patent/JPH0747818B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19838826A1 (de) * | 1998-08-26 | 2000-03-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Optisches Element mit transparenter, kratzfester Beschichtung, Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung sowie dessen Verwendung |
DE19850218C1 (de) * | 1998-08-26 | 2000-03-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung von Substraten im Vakuum |
DE19838826B4 (de) * | 1998-08-26 | 2005-03-03 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optisches Element mit transparenter, kratzfester Beschichtung, Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung sowie dessen Verwendung |
DE19946080C2 (de) * | 1998-10-06 | 2002-02-14 | Fraunhofer Ges Forschung | Testflasche und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3901401A1 (de) | 1989-09-14 |
JPH01316454A (ja) | 1989-12-21 |
JPH0747818B2 (ja) | 1995-05-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: HOCHVAKUUM DRESDEN GMBH I.L., O-8017 DRESDEN, DE |
|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWAN |
|
8170 | Reinstatement of the former position | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |