DE3510554A1 - Schmalbandige laseranordnung - Google Patents

Schmalbandige laseranordnung

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DE3510554A1 DE19853510554 DE3510554A DE3510554A1 DE 3510554 A1 DE3510554 A1 DE 3510554A1 DE 19853510554 DE19853510554 DE 19853510554 DE 3510554 A DE3510554 A DE 3510554A DE 3510554 A1 DE3510554 A1 DE 3510554A1
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Benjamin Haworth San Jose Calif. Cook
David Charles Mountain View Calif. Gerstenberger
Marc Kevin van Gunten
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Spectra Physics Inc
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    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08059Constructional details of the reflector, e.g. shape

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  • Optics & Photonics (AREA)
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Description

Schmalbandige Laseranordnung
Die Erfindung betrifft Laser- und optische Dünnfilm-Interferenzfilter für den Schmalbandbetrieb eines Lasers.
Die Erfindung ist besonders anwendbar für optische Elemente selektiver Bandbreiten zum Betrieb eines Gaslasers mit schmaler Bandbreite oder einer einzigen Wellenlänge.
Viele Anwendungen von Lasern erfordern den Einsatz von Laseranordnungen mit einer einzigen Wellenlänge. Ein Argon-Ionen-Laser, der z.B. in reprographischen Lasersystemen eingesetzt wird, kann bei einer Vielzahl von Spektrallinien im Bereich von 450 bis 520 Nanometern gleichzeitig schwingen. Eine einzige Wellenlänge wird in dem Laser gewöhnlich durch Einfügen eines selektiven optischen Elementes, wie z.B. ein Prisma oder ein doppelt brechendes Filter, in den optischen
Laserraum ausgewählt.
Alternativ kann die Laseranordnung mit einer niedrigen Eingangsleistung derart betrieben werden, daß lediglich eine einzige Spektrallinie über der Grenze liegt.
Für viele Zwecke sind die beschriebenen Techniken jedoch nicht akzeptabel.
Laserräume mit Prismen oder doppelt brechenden Filtern sind beträchtlich schwieriger einzustellen und deren Einstellung einzuhalten, als Räume, die nur mit Spiegeln versehen sind. Weiterhin müssen komplizierte Methoden zum Ausgleich von thermischen Änderungen im Brechungsindex angewendet werden, um Laser zu stabilisieren, die Prismen verwenden und die über einen weiten Temperaturbereich arbeiten.
Bei Verwendung der zweiten genannten Methode, nämlich dem Betrieb des Lasers bei einer niedrigen Eingangsleistung, um eine einzige Spektrallinie zu erhalten, wird die Ausgangs*· leistung für die einzige Wellenlänge des Lasers unnötig begrenzt. Außerdem ermöglicht das Verfahrenopnäktisch keine Auswahl der Schwinglinie, da nominell die Spektrallinie mit dem höchsten Pegel zuerst die Grenze überschreitet.
Ein erster Zweck der vorliegenden Erfindung ist es daher, einen Laser mit einer einzigen Spektrallinie oder einer ausgewählten engen Bandbreite anzugeben, sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung, die die oben genannten P.cobleme des Standes der Technik vermeiden. Ein weiterer Zweck ist es, den Betrieb eines Lasers für eine einzige Wellenlänge zu erreichen, indem Laserspiegel verwendet werden, die eine derartige optische Beschichtung aufweisen, daß sie über eine genügend schmale Bandbreite reflektieren, um die bevorzugte Arbeitswellenlänge auszuwählen.
Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 angegebene Erfindung gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in Unteransprüchen angegeben.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird der Betrieb eines Lasers bei einer einzigen Wellenlänge oder einem schmalen Wellenlängenbereich durch Verwendung eines Laserspiegels erhalten, der eine genügend schmalbandige optische Beschichtung aufweist, um die bevorzugte Arbeitswellenlänge oder den Wellenlängenbereich auszuwählen.
Spiegel mit Beschichtungen äußerst schmaler Bandbreite haben hinsichtlich des Standes der Technik mit Auswahleinrichtungen und Verfahren für eine einzige Wellenlänge verschiedene Vorteile. Derartige Spiegel sind billiger herzustellen als Prismen und doppelt brechende Platten. Diese Spiegel sind sehr viel einfacher mechanisch zu montieren als doppelt brechende Platten oder Prismen. Bei Änderungen der Temperaturen sind derartige Spiegel beträchtlich weniger Verschiebungen in der Wellenlängenselektivität ausgesetzt, und daher ist keine Bimetallkompensation erforderlich. Solche Spiegel sind außerdem beträchtlich einfacher auszurichten und in Lasern mit internen optischen Mitteln einzustellen, als andere Wellenlängen-selektierende Komponenten.
Einer ;der^besorideren. Zustände für Wellenselektive Spiegel in praktischen Argonionenlasern besteht für die drei Laserlinien bei 476,5 Nanometern, 488,0 Nanometern und 496,5 Nanometern. Die 488,0 Nanometer-Linie hat den höchsten Pegel und für Argonionenlaser mit kleiner Leistung (20 mW) die höchste Ausgangsleistung. Wellenlängen-selektierende Ausgangspiegel, die für Schwingungen bei dieser Spektrallinie gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ausgebildet sind, ergeben etwa 2 % Transmission bei 488,0 Nanometern und ausreichende Transmission bei 476,5 Nanometern und 496,5 Nanometern, um Schwin-
gungen bei diesen Linien zu unterdrücken. Für Argonionenlaser mit typisch 20 mW Leistung werden Durchlaßwerte von mehr als 15 % bei 476,5 Nanometern und 10 % bei 496,5 Nanometern erreicht.
Beim Stand der Technik wurden die Laserspiegel aus di-elektrischem Material mit einer Viertelwellen-Dicke mit Schichten von hohem und niedrigem Brechungsindex hergestellt, aber die üblichen Materialien für diese Schichten führten zu Bandbreitenzonen, die zu weit waren, um Laserschwingungen im blau/grün Spektrum von Argonionen bei einer vorgegebenen Spektrallinie zu unterstützen, während alle benachbarten Linien völlig zu unterdrücken waren. Ein typisches Material mit hohem Index, das beim Stand der Technik verwendet wurde, war Titandioxid mit einem Brechungsindex von 2,35 (bei 500.0 Nanometern). Ein typisches Material mit niedrigem Brechungsindex war Silizizmdioxid mit einem Brechungsindex von 1,45 (bei 500.0 Nanometern). Reflektierende Mehrschichtenstapel, die aus diesem di-elektrischem Material hergestellt wurden, waren nicht geeignet, als selektive optische Elemente für eine einzige Spektrallinie eines Lasers zu dienen.
Die vorliegende Erfindung beinhaltet einen oder mehrere Spiegel, die geeignet sind, eine einzige Wellenlänge oder einen schmalen Bandbreitenbereich zu ermöglichen.
Das Verfahren und die Einrichtung nach der vorliegenden Erfindung enthält ein konventionelles Lasermedium, wie z.B. Argon, Krypton, Helium-Neon oder ein anderes Gas, ohne darauf beschränkt zu sein, und eine Entladungsröhre, die mit dem optischen Hohlraum, der zwei oder mehr Spiegel enthält, gekoppelt ist. Wenigstens einer der Spiegel hat eine ausreichend schmale Spektralcharakteristik, um Laserschwingungen bei einer Spektrallinie zu unterstützen und Laserschwingungen bei allen anderen Spektrallinien zu unterdrücken. Irgendeiner oder alle
Spiegel können wellenlängenselektiv sein einschließlich von Reflektoren und Ausgangskopplern. Ein wellenlängenselektiver Ausgangskoppler kann ebenfalls an beiden Enden eines Hohlraums mit zwei Spiegeln angeordnet sein oder mehrere Spiegel in einer Mehrspiegelraum-Anordnung enthalten. Es existieren viele Kombinationen mit wellenlängenselektiven Beschichtungen und Schichten mit Standardbandbreiten, sowohl bei hoch reflektierenden Reflektoren als auch bei Ausgangskopplern.
In einer speziellen Ausführungsorm der vorliegenden Erfindung werden mehrfach abwechselnde Schichten von Aluminiumoxid (mit einem Brechungsindex von etwa 1,676 bei 488,0 Nanometern) und Siliziumdioxid (mit einem Brechungsindex von etwa 1,448 bei 488,0 Nanometern) auf optischem Glas mit der Bezeichnung BK-1 verwendet, um den Betrieb eines Argonionenlasers bei 488,0 Nanometern mit einer einzigen Spektrallinie zu erreichen, während Schwingungen bei den benachbarten 476,5 Nanometer und 496,5 Nanometerlinien und andere Linien im blau/grünen Argonionenspektrum zu unterdrücken waren. In dieser Ausführungsform ermöglicht die Beschichtung Schwingungen bei 488,0 Nanometern durch starke optische Reflexion und niedrige optische Transmission durch die Spiegel bei dieser Wellenlänge und die Beschichtung unterdrückt Schwingungen bei 476,5 Nanometern und 496,5 Nanometern und anderen Linien im Argonionen blau/grün Spektrum, indem die notwendige optische Transmission durch die Spiegel gegeben ist, um Schwingungen bei diesen Wellenlängen zu unterdrücken.
Die Beschichtung der vorliegenden Erfindung reflektiert daher über einen sehr engen Bandbreitenbereich, um Schwingungen bei der ausgewählten Linie zu ermöglichen, während Schwingungen über alle anderen Linien und insbesondere über eng benachbarte Linien unterdrückt werden.
Die Materialien, die zur Beschichtung bei der vorliegenden Er-
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findung verwendet werden, sind di-elektrische Materialien, die den dauernden hohen Temperaturen widerstehen, die für.das starke Abdichten des Spiegels am Ende des Hohlraums des Gaslasers ohne Bruch, Risse, Ablättern, Abdampfen vom Substrat oder andere Verschlechterung der optischen Eigenschaften der Schicht erforderlich sind. Das starke Dichtvermögen dieses Spiegels ist sehr einzigartig. Im allgemeinen neigen Spiegel mit dicken Beschichtungen oder vielen Schichten zum Reißen, Bröckeln, oder Abblättern unter hoher Temperaturbelastung, die durch die Spiegel-Sinterzyklen erzeugt wird. Andere dielektrische Materialien wie andere Oxide oder Fluoride können ebenfalls verwendet werden. Die Auswahl ist jedoch durch die Anforderungen gemäß dieser Beschreibung begrenzt.
Die di-elektrischen Materialien der Beschichtung der vorliegenden Erfindung können ebenfalls den Vakuuirbedingungen und der starken Ultraviolettstrahlung der Glimmentladung in den Plasmaröhren des Gasionenlasers widerstehen, ohne daß Änderungen der Stochiometrie (Kristallstruktur oder chemische Struktur) der Beschichtung, teilweise wegen der niedrigen Absorptionsgrenze für ultraviolette Wellenlängen entstehen.
Das Verfahren und die Einrichtung der vorliegenden Erfindung kann ebenfalls verwendet werden in Anordnungen mit "offenen Räumen", in denen die Spiegel von der unmittelbaren Plasmaentladung durch Brewster-Fenster oder ähnlichem getrennt sind. Diese Erfindung kann ebenfalls verwendet werden in Farbstofflasern, Farbringlasern oder Halbleiterlasern, bei denen Wellenlängenbereiche oder individuelle Spektrallinien gewünscht werden.
Die Mehrfachbeschichtung, die individuelle Schichtdicken aufweist, kann periodisch oder aperiodisch ausgebildet sein. Die individuellen Schichtdicken hängen von der geforderten theoretischen Struktur und der erforderlichen Bandbreite ab, um Schwingungen bei benachbarten Spektrallinien zu unterdrücken.
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Dies wird bei der Beschreibung eines Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Eine Einrichtung mit einem Wellenlängen-selektrierenden Spiegel und Verfahren, die die beschriebene Struktur und Technik enthalten, und die wie beschreiben arbeiten, bilden weitere, spezielle Zwecke für diese Erfindung.
Andere und weitere Zwecke der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung und den Ansprüchen und sind in den begleitenden Zeichnungen erläutert, die bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung, der Grundprinzipien und der als beste Ausführungsform angesehenen Einrichtung zur Ausführung des Grundprinzips enthalten. Andere Ausführungsformen der Erfindung smit den gleichen oder ähnlichen Prinzipien können ebenfalls verwendet werden und vom Fachmann gewünschte Änderungen der Struktur liegen ebenfalls im Schutzumfang der Ansprüche.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Fig. 1 zeigt eine Seitenansicht eines Laserspiegels nach
der Erfindung,
Fig. 2 zeigt eine graphische Ansicht zur Darstellung der
Bandbreite gegenüber dem Brechungsindex nH/nL, Fig. 3 zeigt eine graphische Darstellung der Reflektions-
eigenschaft gegenüber %0/^, Fig. 4 ist eine graphische Darstellung des prozentualen
Durchlasses gegenüber der Wellenlänge.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen reflektierenden Spiegel für einen Laser, der bei einer Mehrzahl von Spektrallinien gleichzeitig schwingt.
Der reflektierende Spiegel der vorliegenden Erfindung weist eine optische Interferenzbeschichtung für einen Ausgangskoppler
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auf, die über eine sehr schmale Bandbreite reflektiert und die eine ausreichend schmale Spektralcharakteristik ergibt, um Laserschwingungen bei einer Linie zu unterstützen und Laserschwingungen bei allen anderen Linien zu unterdrücken.
Der wellenlängenselektive Spiegel der vorliegenden Erfindung wird mit einem konventionellen Lasermedium verwendet und hat einen besonderen Anwendungsbereich bei inneren Endspiegeln des optischen Hohlraums eines Argonionenlasers, in dem die reflektierende Spiegeloberfläche der Plasmaumgebung innerhalb des Hohlraumes des Argonionengaslasers ausgesetzt ist.
Fig. 1 zeigt eine Ausführungsform eines Endspiegels gemäß der vorliegenden Erfindung, der als einer der reflektierenden Spiegel für einen Argonionenlaser verwendet ist und für den Betrieb bei einer einzigen Spektrallinie von 488,0 Nanometern ausgebildet ist. Der Spiegel hat eine optische Interferenzbeschichtung zur Auskopplung, die eine Schwingung bei 488,0 Nanometern im blau/grünen Spektrum eines Argonionenlasers ermöglicht, während alle anderen Linien in diesem Spektrum, insbesondere die benachbarten Linien bei 476,5 Nanometern und 496,5 Nanometern unterdrückt werden. Die Schichten sind zum Zwecke der besseren Verdeutlichung stark vergrößert dargestellt und der größte Teil des Schichtenstapels ist weggebrochen, um die Gesamthöhe der Zeichnung zu reduzieren.
Der Spiegel in Fig. 1 ist durch die Ziffer 11 gekennzeichnet. Der Spiegel enthält ein optisches Glas 13, das in der speziellen Ausführungsform ein Glas mit der Bezeichnung BK-1 ist. Der Spiegel 11 weist eine Oberfläche 15 auf. Die Oberfläche 15 ist mit Schichten 17 und 19 von di-elektrischem Material versehen, die hohe bzw. niedrige Brechungsindizes aufweisen.
Der Spiegel nach Fig. 1 ermöglicht den Betrieb mit einer einzigen Wellenlänge, indem hohe optische Reflexion und niedrige optische Transmission von Licht über eine eng begrenzte Band-
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breite bei der gewünschten Betriebslinie vorgesehen werden und Schwingungen an den anderen eng benachbarten Linien durch Vorsehen von notwendigen optischen Transmissions- und Reflexionseigenschaften für Licht unterdrückt werden.
Die Dünnbilmbeschichtung der vorliegenden Erfindung verwendet zwei grundsätzliche Konzepte ^on optischen Interferenzfiltern.
Die folgende grundsätzliche Beschreibung und das Konzept beziehen sich auf Mehrschichtenanordnungen von abwechselnden nicht absorbierenden di-elektrischen Schichten mit hohen und niedrigen Brechungsindizes. Jede Schicht weist eine optische Dicke einer Viertelwellenlänge auf, wobei die Dicke gleich viermal dem Brechungsindex mal der physikalischen Dicke der Schicht beträgt (QWOT=4nt).
Zunächst ist bekannt, daß Mehrschichtenanordnungen von abwechselnden Schichten von hohem und niedrigem Brechungsindex (n, bzw. n,), wobei n, etwa gleich n, ist, über eine ziemlich schmale Bandbreite reflektieren.
Zweitens ist die Wellenlängen-Bandbreite von derartigen Anordnungen eine Funktion der Ordnung (erster oder höherer Ordnung) des Reflexionsvermögens, und zu einem geringeren Ausmaß der optischen Dicke jeder individuellen Schicht.
Aus der Dünnfilmtheorie ist bekannt, daß, wenn die Anordnung äußere Schichten mit hohem Brechungsindex aufweist, und wenn das Reflexionsvermögen (R) hoch ist, die Transmission (T) von solchen Anordnungen in erster Annäherung durch folgende Formel gegeben ist:
T = 1-R sf 4(n1/nh)2N(ns/nh 2) (1)
In dieser Formel bedeuten:
η, = Brechungsindex der Schicht mit niedrigem Index n, = Brechungsindex der Schicht mit hohem Index η = Brechungsindex des Substrats
2N+1 = gesamte Anzal der Schichten in der Anordnung R = Reflexionsvermögen der Schicht
T r Durchlässigkeit der Schicht
Aus der oben genannten Gleichung folgt, daß, wenn die Differenz zwischen n, und n, sich Null annähert, mehr Schichtenpaare erforderlich sind, um oine gegebene niedrige Transmission zn·.erhalten. Die Bandbreite (BW) des Reflexionsgrad-Bereichs ist gegeben durch folgende Formel
BW = (4/if) Aresin (n^/r^-1)/(r^/r^+1) (2)
Aus dieser Gleichung ergibt sich, daß die Bandbreite einer hoch reflektierenden Beschichtung nur eine Funktion des Brechungsgrades der Schichten mit hohem und niedrigem Index ist, und wenn der Wert (nu/ni) sich Eins annähert, nähert sich die Bandbreite Null.
Eine graphische Ansicht dieser Gleichung ist in Fig. 2 angegeben. Hier ist die Bandbreite des Reflexionsbereichs einer Anordnung mit Viertelwellendicke gegen das Verhältnis der Brechungsindizes einer Schicht mit hohem Index und einer Schicht mit niedrigem Index aufgezeichnet.
Aus der Dünnfilmtheorie ist ebenfalls bekannt, daß Reflexionsbereiche derartiger Anordnungen bei Wellenlängen existieren, bei denen die Schichten ungerade ganzzahlige Vielfache (Νλ/4 wobei N=1,3,5--.) einer Viertelwellendicke (λ/4) sind. Somit erscheinen Reflexionsbereiche höherer Ordnung bei iq/3, jLq/5,... für eine Andordnung mit einer Basis-Reflexionszone um j_q. Die Bandbreiten der Reflexionszonen dieser höheren Ordnungen laufen als BW/3, BW/5,... usw. Auf diese Weise erzeugen Bereiche aufeinanderfolgender höherer Ordnung sukzessive schmalere Bandbreiten. Eine Schichtenanordnung, bei der alle
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Schichten eine Dicke von (2Ν+1)Λ·/4 aufweisen, wobei N= 0,1,2,3... ist, erzeugt eine Bandbreite, die 1/(2N+1) mal so groß ist wie eine Andordnung, bei der nur Viertelwellendicken (>/4) verwendet sind, z.B. weist die Reflexionszone der ersten höheren Ordnung eine Bandbreite von einem Drittel der Basisreflexionszone auf.
Die technischen Erfordernisse für einen selektiven Auslaßkoppler für einen Argonionengaslaser mit inneren Spiegeln bei nominal 20 mW und 488,0 Nanometern sind wie folgt. Die grundsätzlichen spektralen Erfordernisse sind:
T - 2.0 % bei 488,0 nm, normaler Strahleneinfall T 7 15,0 % bei 476,5 nm, normaler Strahleneinfall T7 10,0 % bei 496,5 nm, normaler Strahleneinfall A <C 0,05 % bei 488,0 nm,
S < 0,1 % bei 488,0 nm,
wobei A den Absorptionsverlust und S den Streuverlust angeben, wobei als weitere Erfordernisse eine ausreichend hohe Transmission für alle anderen Argonionenlaserlinien im blau/grünen Spektrum angegeben sind, um Schwingungen zu unterdrücken. Umwelt- und Haltbarkeitserfordernisse sind ebenfalls zu beachten. Die Schicht muß Widerstandsfähigkeit gegenüber Beschädigungen durch hohe Ultraviolett-Strahlung aufweisen, um der bohrenden Strahlung durch die Plasmaentladung zu widerstehen. Die Schicht muß in der Lage sein, die Standzeitanforderungen im Bereich von Tausenden von Stunden zu erfüllen, da die Anwendung für Ionenlaser mit inneren Spiegeln vorgesehen ist und die versinterte Abdichtung verhindert einen Ersatz von beschädigten Spiegeln. Das Verschieben der zentralen Wellenlänge der Beschichtung muß in dem Zyklus von der Atmosphäre zum Vakuum und durch die hohe Temperatur beim Einschmelzzyklus klein sein, um die Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Die Beschichtung muß ebenfalls in der Lage sein, Einbrennzyklen mit 465°C zu überstehen. Nach diesen Zyklen darf die
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Beschichtung nicht verringert sein, aufspringen, rissig sein oder abplatzen und muß alle technischen Spezifikationen dauernd erfüllen.
Es wurde gefunden, daß eine Beschichtung, die aus 33 Schichten mit der Dicke 3V2J der Größe S,(HL)NH, Vakuum, wobei N = 16 ist, von Aluminiumoxid (H) und Siliziumdioxid (L) die genannten Anforderungen erfüllt. Der Brechungsindex von AIpOo (Aluminiumoxid) bei 488,0 Nanometern beträgt etwa 1,676 und der Brechungsindex von SiOp (Siliziumdioxid) beträgt etwa 1,448. Aus Berechnungen mit Gleichung 1 ergibt sich die Transmission der Beschichtung auf optischem Glas mit der Bezeichnung BK-1 (n =1,522) zu 2,0 %. Die Bandbreitenberechnung (BW) (Gleichung 2) führt zu 3,1 % oder 15,0 Nanometern bei 488,0 Nanometern. Diese Bandbreite ist ausreichend für die gleichzeitige Unterdrückung von 476,5 Nanometern und 496,5 Nanometern sowie alle anderen nahe benachbarten Linien im blau/grünen Spektrum.
Fig. 4 zeigt eine graphische Darstellung der Spektralkurve mit einer wellenselektiven Ausgangskopplerbeschichtung für Schwingungen eines Argonionenlasers mit einer einzigen Spektrallinie bei 488,0 Nanometern. Beim Austesten von Lasern waren die Schichten bis jetzt nicht verringert, abgeplatzt oder in Schmelzzyklen bis 500 C gerissen. Die Schicht verschiebt sich um einen Bereich von 0,7 - 1>0 Nanometern nach unten, wenn die Schicht dem Brennzyklus (frit cycles) und der Teilvakuumumgebung der Laserröhre ausgesetzt ist. Dieses Verschieben hat sich als hochbeständig und wiederholbar erwiesen, so daß der Beschichtungshersteller die Schicht entsprechend zentrieren kann. Beim Testen konnte über eine Zeitdauer von über 5.000 Stunden Dauerbetrieb von Laserröhren keine Verringerung der Schicht aufgrund der Plasmaentladung oder ultravioletter Strahlung beobachtet werden.
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Obgleich diese Erfindung im Detail für den Betrieb eines Argonionengaslasers bei 488,0 Nanometern beschrieben ist, kann die Erfindung ebenfalls zum Betrieb von Argonionengaslasern mit anderen Spektrallinien (z.B. 457,9, 476,5, 514,5, 351,1 und 363,8 Nanometern) verwendet werden..Die Erfindung ist ebenfalls bei schmalbandiger Wellenauswahl von anderen Lasern, wie z.B. Kryptonlasern, YAG-Stäben oder Flachlasern, Halbleiterlasern und Ring- oder Farbstofflasern verwendbar.
Die Erfindung ist nicht auf das Ausführungsbeispiel beschränkt, sondern umfaßt alle unter die Ansprüche fallenden Ausführungsformen.

Claims (15)

  1. Ansprüche
    Laser, der eine Mehrzahl von Spektrallinien gleichzeitig erzeugt, mit einem Laserraum, einem Verstärkermedium, wenigstens zwei dem Hohlraum zugeordnete Spiegel, dadurch gekennzeichnet, daß auf wenigstens einer der Spiegeloberflächen eine Beschichtung vorgesehen ist, die einen Betrieb des Lasers in einem eingeschränkten Wellenlängenbereich ermöglicht, indem Schwingungen innerhalb eines schmalbandigen Wellenlängenbereiches zugelassen und Schwingungen außerhalb des schmalbandigen Wellenlängenbereiches unterdrückt werden.
  2. 2. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung den Betrieb des Lasers bei einer einzigen Wellenlänge ermöglicht, indem Schwingungen bei einer Linie zugelassen und Schwingungen bei benachbarten Spektrallinien unterdrückt werden.
  3. 3. Laser nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung eine derartige spektrale Charakteristik aufweist, daß die optischen Reflexionseigenschaften eine Schwingung bei einer Spektrallinie ermöglichen und Schwingungen bei benachbarten Spektrallinien unterdrükken, wobei zur Unterdrückung von Schwingungen bei benachbarten Spektrallinien eine optische Durchlässigkeit
    der Spiegel vorgesehen ist.
  4. 4. Laser nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Laser ein Gaslaser mit inneren Spiegeln ist und wenigstens ein Spiegel eine innere Oberfläche aufweist, die gegen eine Plasmaquelle innerhalb des Gaslaserraums gerichtet ist.
  5. 5. Laser nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens ein Laserspiegel sich außerhalb der Plasmaumgebung befindet.
  6. 6. Laser nach Anspruch 1, bei der der Laser ein Argonionengaslaser ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung Reflexionseigenschaften für Schwingungen bei einer der folgenden Wellenlängen besitzt:
    a) 457,9 Nanometern
    b) 476,5 Nanometern
    c) 488,0 Nanometern
    d) 514,5 Nanometern
    e) 351,1 Nanometern
    f) 363,8 Nanometern.
  7. 7. Laser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Laser ein Kryptongaslaser ist.
  8. 8. Laser nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung eine Mehrschichtenanordnung von di-elektrischen Materialien mit abwechselnd hohem und niedrigem Brechungsindex aufweist, die über einen sehr schmalen Bandbereich reflektiert.
  9. 9. ' Laser nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die
    Wellenlängenbandbreite der Beschichtungsanordnung eine
    Funktion der Ordnung der Reflexionszone und der optischen Dicke jeder einzelnen Schicht ist.
  10. 10. Laser nach Anspruch 9, bei dem der Laser ein Argonionengaslaser ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht für einen Betrieb bei einer einzigen Wellenlänge von 488,0 Nanometern ausgebildet ist, und daß die Schicht abwechselnd Schichten aus Aluminiumoxid (Al-OO und Siliziumdioxid (SiO~) aufweist.
  11. 11. Laser nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsanordnung di-elektrische Materialien enthält, die Unterschiede in den optischen Brechungsindizes aufweist, um die schmale Bandbreite des reflektierenden Bandes zu bestimmen.
  12. 12. Laser nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die di-elektrischen Materialien dauernden hohen Temperaturen widerstehen, die für das Abdichten der Spiegel gegenüber der zugehörigen Kammeranordnung ohne Bruch, Abdampfen von dem Substrat oder andere Verringerung der optischen oder physikalischen Eigenschaften der Schicht erfordern.
  13. 13. Laser nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die di-elektrischen Materialien der Vakuumumgebung und der ultravioletten Strahlung der Glimmentladung in den Plasmaröhren von Gaslasern ohne Verringerung der optischen und physikalischen Eigenschaften in der Schicht widerstehen.
  14. 14. Laser nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichtanordnung Schichten von Aluminiumoxid (AlpO^) und
    ' Siliziumdioxid (SiO3) enthält.
  15. 15. Verfahren zum Betrieb eines Lasers mit einer einzigen Wellenlänge, wobei der Laser in der Lage ist bei einer Mehrzahl von Spektrallinien gleichzeitig zu schwingen, dadurch gekennzeichnet, daß eine Spiegeloberfläche mit einer Beschichtung versehen ist, deren optische Eigenschaften ein Schwingen der einen Spektrallinie ermöglichen, während ein Schwingen von eng benachbarten Spektrallinien unterdrückt wird, daß der Spiegel im Verhältnis zum Laserraum in einer Position montiert wird, in der die Spiegelbeschichtung eine Schwingung einer Spektrallinie ermöglicht, während eine Schwingung von eng benachbarten Spektrallinien unterdrückt wird.
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DE19853510554 1984-03-30 1985-03-21 Schmalbandige laseranordnung Ceased DE3510554A1 (de)

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Publications (1)

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DE3510554A1 true DE3510554A1 (de) 1985-10-10

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Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0190635B1 (de) * 1985-01-30 1989-04-05 Siemens Aktiengesellschaft Gaslaser mit einem frequenzselektiven dielektrischen Schichtensystem
EP0215372A3 (de) * 1985-09-17 1989-01-04 Siemens Aktiengesellschaft Kanten-Interferenzfilter für die optische Nachrichtenübertragung im Wellenlängenmultiplex
DE3686395T2 (de) * 1985-11-27 1993-01-14 American Telephone & Telegraph Logisches optisches bauelement.
DE3617084A1 (de) * 1986-05-21 1987-11-26 Messerschmitt Boelkow Blohm Laser mit umschaltbarer emissionswellenlaenge
JPH0271202A (ja) * 1987-06-18 1990-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 写真用バンド・ストップ・フイルター
EP0310000B1 (de) * 1987-09-28 1994-06-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Laser-Apparat
EP0315031A1 (de) * 1987-11-05 1989-05-10 Siemens Aktiengesellschaft Laserröhre für polarisierte Strahlung
US5179318A (en) * 1989-07-05 1993-01-12 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Cathode-ray tube with interference filter
US5127018A (en) * 1989-08-08 1992-06-30 Nec Corporation Helium-neon laser tube with multilayer dielectric coating mirrors
US5003547A (en) * 1989-12-29 1991-03-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Room-temperature, flashpumped, 1.96 micron solid state laser
US5194989A (en) * 1990-05-07 1993-03-16 Mcdonnell Douglas Corporation Dielectric combiner including first and second dielectric materials having indices of refraction greater than 2.0
US5124998A (en) * 1990-05-21 1992-06-23 Coherent, Inc. Laser plasma tube having a window sealed end and a mirror sealed end
EP0575324A1 (de) * 1990-07-27 1993-12-29 Ion Laser Technology Mischgas-ionenlaser
US5214658A (en) * 1990-07-27 1993-05-25 Ion Laser Technology Mixed gas ion laser
US5101415A (en) * 1990-09-14 1992-03-31 Coherent, Inc. Laser resonator mirror with wavelength selective coatings on two surfaces
CA2114226A1 (en) * 1991-07-26 1993-02-18 George Anthony Rakuljic Photorefractive systems and methods
US5440669A (en) * 1991-07-26 1995-08-08 Accuwave Corporation Photorefractive systems and methods
US5691989A (en) * 1991-07-26 1997-11-25 Accuwave Corporation Wavelength stabilized laser sources using feedback from volume holograms
US5491570A (en) * 1991-07-26 1996-02-13 Accuwave Corporation Methods and devices for using photorefractive materials at infrared wavelengths
US5226054A (en) * 1991-09-18 1993-07-06 Coherent, Inc. Cavity mirror for suppressing high gain laser wavelengths
US5257278A (en) * 1992-05-13 1993-10-26 Liconix Helium-cadmium laser for 353.6 nm line
US5274661A (en) * 1992-12-07 1993-12-28 Spectra Physics Lasers, Inc. Thin film dielectric coating for laser resonator
US5777793A (en) * 1996-07-25 1998-07-07 Northern Telecom Limited Polarization insensitive multilayer planar reflection filters with near ideal spectral response
US6282013B1 (en) 1997-04-30 2001-08-28 Lasermed, Inc. System for curing polymeric materials, such as those used in dentistry, and for tailoring the post-cure properties of polymeric materials through the use of light source power modulation
US6008264A (en) 1997-04-30 1999-12-28 Laser Med, Inc. Method for curing polymeric materials, such as those used in dentistry, and for tailoring the post-cure properties of polymeric materials through the use of light source power modulation
AU1198199A (en) 1997-10-29 1999-05-17 Bisco, Inc. Dental composite light curing system
US6116900A (en) * 1997-11-17 2000-09-12 Lumachem, Inc. Binary energizer and peroxide delivery system for dental bleaching
US6200134B1 (en) 1998-01-20 2001-03-13 Kerr Corporation Apparatus and method for curing materials with radiation
US6314116B1 (en) 1998-07-07 2001-11-06 Spectra Physics Lasers, Inc. Single resonator for simultaneous multiple single-frequency wavelengths
US6265033B1 (en) 1998-09-11 2001-07-24 Donald Bennett Hilliard Method for optically coupled vapor deposition
GB9906494D0 (en) * 1999-03-23 1999-05-12 Renishaw Plc Laser interferometer
US6157661A (en) * 1999-05-12 2000-12-05 Laserphysics, Inc. System for producing a pulsed, varied and modulated laser output
US6807216B1 (en) * 2000-09-29 2004-10-19 Donald Bennett Hilliard Circular laser
US20040032591A1 (en) 2002-01-04 2004-02-19 Takahiro Itoh Wavelength determining apparatus, method and program for thin film thickness monitoring light
US7065109B2 (en) * 2002-05-08 2006-06-20 Melles Griot Inc. Laser with narrow bandwidth antireflection filter for frequency selection
US6876784B2 (en) * 2002-05-30 2005-04-05 Nanoopto Corporation Optical polarization beam combiner/splitter
US20040047039A1 (en) * 2002-06-17 2004-03-11 Jian Wang Wide angle optical device and method for making same
US7386205B2 (en) * 2002-06-17 2008-06-10 Jian Wang Optical device and method for making same
US7283571B2 (en) * 2002-06-17 2007-10-16 Jian Wang Method and system for performing wavelength locking of an optical transmission source
US6859303B2 (en) 2002-06-18 2005-02-22 Nanoopto Corporation Optical components exhibiting enhanced functionality and method of making same
CN1692291A (zh) 2002-08-01 2005-11-02 纳诺普托公司 精密相位延迟装置和其制造方法
US6920272B2 (en) * 2002-10-09 2005-07-19 Nanoopto Corporation Monolithic tunable lasers and reflectors
US7013064B2 (en) * 2002-10-09 2006-03-14 Nanoopto Corporation Freespace tunable optoelectronic device and method
EP1597616A4 (de) * 2003-02-10 2008-04-09 Nanoopto Corp Universeller breitbandpolarisator, vorrichtungen damit und herstellungsverfahren dafür
US20040258355A1 (en) * 2003-06-17 2004-12-23 Jian Wang Micro-structure induced birefringent waveguiding devices and methods of making same
JP4274147B2 (ja) * 2004-06-18 2009-06-03 ソニー株式会社 光学多層膜及び反射型スクリーン
US20080166694A1 (en) * 2007-01-09 2008-07-10 Michael Weber Plant tissue packaging process
US20090018805A1 (en) * 2007-07-12 2009-01-15 Michael Weber Optically selective coatings for plant tissues
US20090186768A1 (en) * 2007-11-16 2009-07-23 Hoobler Ray J Sunscreen formulations for use in the production of organic crops
WO2009067190A1 (en) * 2007-11-19 2009-05-28 Purfresh, Inc. Systems and methods for applying particle films to control stress on plant tissues
US9072572B2 (en) 2009-04-02 2015-07-07 Kerr Corporation Dental light device
US9066777B2 (en) 2009-04-02 2015-06-30 Kerr Corporation Curing light device
WO2012166984A1 (en) 2011-06-01 2012-12-06 Pfi Acquisition, Inc. Apparatus for powering an accessory device in a refrigerated container
CN104020519A (zh) * 2014-04-28 2014-09-03 中国科学院上海光学精密机械研究所 紫外薄膜滤光片

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4099840A (en) * 1975-10-02 1978-07-11 U.S. Philips Corporation Multilayer reflector for gas discharge laser
US4132959A (en) * 1976-06-21 1979-01-02 U.S. Philips Corporation Gas discharge laser having an asymmetrical coupling-out mirror
US4201954A (en) * 1978-03-07 1980-05-06 U.S. Philips Corporation Gas discharge laser for generating linearly polarized radiation
GB2091439A (en) * 1981-01-16 1982-07-28 Standard Telephones Cables Ltd Gas Laser Cavity Mirror
US4358851A (en) * 1980-02-28 1982-11-09 Xerox Corporation Fiber optic laser device and light emitter utilizing the device
JPS57202791A (en) * 1981-06-08 1982-12-11 Toshiba Corp Laser device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL295159A (de) * 1963-07-10
NL165340C (nl) * 1968-05-09 1981-03-16 Philips Nv Inrichting voor het opwekken van gestimuleerde infraroodemissie met een golflengte van ongeveer 10,6 mu bevattende middelen voor het instand houden van een elektrische ontlading in een gedeeltelijk uit kool- zuurgas bestaand gasmensel.
GB1529813A (en) * 1974-10-16 1978-10-25 Siemens Ag Narrow-band interference filter
GB2050683B (en) * 1979-06-02 1983-09-14 Ferranti Ltd Lasers
JPS5689703A (en) * 1979-12-24 1981-07-21 Agency Of Ind Science & Technol Manufacture of reflecting mirror for high output laser

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4099840A (en) * 1975-10-02 1978-07-11 U.S. Philips Corporation Multilayer reflector for gas discharge laser
US4132959A (en) * 1976-06-21 1979-01-02 U.S. Philips Corporation Gas discharge laser having an asymmetrical coupling-out mirror
US4201954A (en) * 1978-03-07 1980-05-06 U.S. Philips Corporation Gas discharge laser for generating linearly polarized radiation
US4358851A (en) * 1980-02-28 1982-11-09 Xerox Corporation Fiber optic laser device and light emitter utilizing the device
GB2091439A (en) * 1981-01-16 1982-07-28 Standard Telephones Cables Ltd Gas Laser Cavity Mirror
JPS57202791A (en) * 1981-06-08 1982-12-11 Toshiba Corp Laser device

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
APPT, W. u.a.: Durchstimmbare kohärente Strahlung vom UV bis ins IR durch Farbstofflaser mit Fre- quenzwandlung. In. DE-Z.: Feinwerktechnik und Meßtechnik, 83. Jg., H. 2, Februar/März 1975, S. 33-39 *
BRIDGES, W.B., CHESTER, A.N.: Visible and uv Laser Oscillation at 118 Wavelengths in Ionized Neon, Argon, Krypton, Xenon, Oxygen, and Other Gases. In. US-Z.: Applied Optics, Vol. 4, No. 5, May 1965, S. 573-580 *
GB-Buch: M.J. Beesley: "Lasers and their Applica- tions", London 1971, S. 110-124, ISBN 0 85066 045 9 *

Also Published As

Publication number Publication date
CA1262956C (en) 1989-11-14
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IE56360B1 (en) 1991-07-03
GB2156577A (en) 1985-10-09
US4615034B1 (de) 1990-05-29
IE850613L (en) 1985-09-30
US4615034A (en) 1986-09-30
FR2562269A1 (fr) 1985-10-04
JPS60218601A (ja) 1985-11-01
GB8508440D0 (en) 1985-05-09
CA1262956A (en) 1989-11-14

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