DE346339C - Ergaenzungsblatt - Google Patents
ErgaenzungsblattInfo
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- DE346339C DE346339C DE1920346339D DE346339DD DE346339C DE 346339 C DE346339 C DE 346339C DE 1920346339 D DE1920346339 D DE 1920346339D DE 346339D D DE346339D D DE 346339DD DE 346339 C DE346339 C DE 346339C
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- Germany
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- chromate
- supplement sheet
- layer
- etching
- zinc
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/04—Chromates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
Das älteste Kopierverfahren, welches zur Herstellung von geätzten Druckformen auf
photomechanischem Wege benutzt wurde, war das Asphaltverfahren; es wurde aber wegen
seiner geringen Lichtempfindlichkeit von dem sogenannten Chromatverfahren verdrängt. Hiervon
haben sich in der Praxis das Eiweißchromatverfahren auf Zink und das Chromat leimverfahren
auf Kupfer, das sogenannte
ίο Kupferemailverfahren seit einer Reihe von
Jahren bestens bewährt. Das letztere unterscheidet sich vom Eiweißchromatverfahren
hauptsächlich dadurch, daß die Kopierschicht eingebrannt wird und bis zur Beendigung des
Ätzprozesses haften bleibt, während beim Eiweißchromatverfahren sich die Kopierschicht
bei Anwendung der Plattenreinigungsmittel löst und bei jeder Ätzung die Herstellung eines
neuen Ätzgrundes durch Einwalzen mit Fett-
ao farbe, Einstauben und Anschmelzen mit Harzpulver notwendig ist. Das Leimchromatverfahren
hat aber den Nachteil, daß bei demselben nur Kupfer zur Verwendung gelangen kann, weil beim Emaillieren der Schicht die
Platte einem hohen Hitzegrad ausgesetzt werden muß. Dies würde z. B. bei Zink eine Veränderung
der Struktur hervorrufen, die es für die Zwecke der Zinkätzung unbrauchbar macht.
Nun ist man seit langem bemüht, eine Kopierschicht herzustellen, welche ohne Einbrennen
die Eigenschaft des Kupferemails besitzt und deshalb auch auf Zink angewendet werden
kann, jedoch hat sich noch keiner der vielen sogenannten kalten Emailprozesse in der Praxis
bewährt. Erst in neuerer Zeit ist es gelungen, der Lösung dieser Frage näherzukommen,
indem ein Ätzuntergrund, welcher die Stelle des Kupferemails vertritt, zwischen Druckplatte
und lichtempfindliche Schicht geschaltet, und nach dem Entwickeln das Metall an den
nicht kopierten Stellen mit einem Lösungsmittel, welches nur den Ätzgrund auflöst, freigelegt
wurde. Dieses Verfahren hat aber immer noch den Nachteil, daß es zwei getrennte Arbeitsvorgänge erfordert.
Dieser Nachteil wird durch die vorliegende Erfindung behoben. Versetzt man nämlich eine
ammoniakalische Schellacklösung mit Chromat, so wird sie lichtempfindlich. Die mit diesem
lichtempfindlichen und zugleich säurewiderstandsfähigen lackpräparierten Metallplatten
können nach dem Kopieren und Entwickeln ohne weitere Operationen fertig geätzt werden.
Die Schicht hat auch die Eigenschaft, sich in den üblichen Plattenputzmitteln nicht zu lösen.
Claims (1)
- Patent-Anspruch:Verfahren zur photomechanischen Herstellung von geätzten Druckformen, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht aus einer ammoniakalischen, mit einem löslichen Chromat versetzten Schellacklösung hergestellt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US516989A US1552428A (en) | 1921-11-22 | 1921-11-22 | Light-sensitive acid-resistant composition of matter |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE346339C true DE346339C (de) | 1921-12-31 |
Family
ID=24057912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1920346339D Expired DE346339C (de) | 1921-11-22 | 1920-12-14 | Ergaenzungsblatt |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US1552428A (de) |
DE (1) | DE346339C (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1072905C (zh) * | 1995-09-05 | 2001-10-17 | 安井制果株式会社 | 胶质软糖及其制造方法 |
-
1920
- 1920-12-14 DE DE1920346339D patent/DE346339C/de not_active Expired
-
1921
- 1921-11-22 US US516989A patent/US1552428A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US1552428A (en) | 1925-09-08 |
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