DE3337303A1 - Verfahren zur photolithographischen erzeugung von resistschichten und hierfuer verwendbare lichtempfindliche zusammensetzungen - Google Patents
Verfahren zur photolithographischen erzeugung von resistschichten und hierfuer verwendbare lichtempfindliche zusammensetzungenInfo
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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