DE3323852A1 - Beleuchtungsvorrichtung - Google Patents

Beleuchtungsvorrichtung

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DE3323852A1 DE19833323852 DE3323852A DE3323852A1 DE 3323852 A1 DE3323852 A1 DE 3323852A1 DE 19833323852 DE19833323852 DE 19833323852 DE 3323852 A DE3323852 A DE 3323852A DE 3323852 A1 DE3323852 A1 DE 3323852A1
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Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuchtungsvorrichtung, und insbesondere auf eine Beleuchtungsvorrichtung bei einem Halbleiterdruckgerät zur Beleuchtung einer Maske oder eines Fadennetzes, die ein Schaltkreisriuster tragen, durch sichtbare oder unsichtbare Fotoenergie. -
Bei einem Halbleiterherstellprozess, insbesondere in der Verfahrensstufe des Drückens (Übertragung), wird ein integriertes Schaltkreismuster auf ein Plättchen übertragen, wobei gewöhnlich folgende Methoden zur Anwendung kommen: Eine Maske und ein Plättchen werden zum Drucken miteinander in Berührung gebracht; das Drucken wird durchgeführt, während eine Maske in sehr kleinem Abstand von einem Plättchen gehalten wird; das Mu-ster auf einer Maske (sonst als Fadennetz bezeichnete Dinge werden auch hier Maske genannt) wird durch ein abbildendes optisches System auf ein Plättchen projiziert und auf dieses gedruckt.
In diesem Fall wird die Herstellung des Musterbildes stark durch die Qualität der Beleuchtung der Maske beeinflußt und aus diesem Grund wurden diesbezüglich viele technische Verbesserungen vorgenommen; verschiedene Systeme sind haupt-
F/25
Dresdner Bank (München) KtO 3939 844 Bayer. Vereinsbank (München) Kto. 508 94t Postscheck (München) Kto. 670-43-804
sächlich hinsichtlich der Elimination von Ungleichmäßigkeiten in der Helligkeit auf der Flrichp der Maske, der Verbesserung des Konvergenzwirkungsgrades und der Einstellung
des Maximalwertes des Einfallswinkels des auf die Oberflä-5
ehe der Maske auf t reff enden Lichtbündels auf einen qewiünRch ten Wert (nachstehend als Konvergenzwinkel bezeichnet) bekannt. Bei diesen Systemen war in den letzten Jahren dasjenige das geläufigste, bei dem eine Vielzahl von zweiten auf einer Ebene angeordneten Lichtquellen von einer ursprünglichen Lichtquelle mittels eines Prismas oder einer Vielfachlinse erzeugt wird und bei dem die Viel-Strahllichtbündel aus den zweiten Lichtquellen auf die Oberfläche der Maske mittels einer konvergierenden KoIlimator1inse
,,- gerichtet werden; ein solches System ist z.B. in der japanischen Patentanmeldung 103976/1975 oder 129045/1975 offenbart. Bei einem derartigen System wurde die Ausschaltung von Helligkeitsunterschieden bemerkenswert verbessert, da die um die optische Achse gestreuten Lichtbündel aus den
2Q zweiten Lichtquellen alle auf den Blättchen überlagert werden. Andererseits führt die Verwendung eines elliptischen Spiegels als Einrichtung zur Konvergierung des aus der Lichtquelle ausgesandten Lichtbündels auf ein ein Viel-Strahllichtbündel erzeugendes optisches Element zur BiI-
2g dung der zweiten Lichtquellen zu einem verbesserten Konvergenzwirkungsgradjund deshalb wurde dieser schon bei Halbleiterdruckgeräten verwendet.
Die HeI1igkeitsverteilung der zweiten Lichtquellen beim herkömmlichen System ist jedoch nicht einheitlich, obwohl herausgefunden wurde, daß das System für die Beseitigung von Ungleichmäßigkeiten der Beleuchtung wirksam ist,und deshalb ist es schwierig, den tatsächlichen effektiven Konvergenzwinkel auf einen gewünschten Wert festzusetzen. Das heißt: Unter der Annahme, daß die zweiten Lichtquellen von
irgendeinem Punkt auf dem Plättchen aus betrachtet werden, weisen diejenigen in der Nähe der optischen Achse eine größere Lichtmenge auf und somit ist die Helligkeit in Abhängigkeit der Richtung, unter welcher die zweiten Licht-5
quellen gesehen werden, unterschiedlich und folglich hängt der tatsächliche Konvergenzwinkel von der zweiten Lichtquelle in der Nähe der optischen Achse ab, wenn der Lichtmengenunterschied zwischen der zweiten Lichtquelle in der Nähe der optischen Achse und derjenigen im Umfangsbereich groß ist; selbst wenn die zweiten Lichtquellen im Umfangsbereich durch eine Blende abgeschirmt werden, ist es schwierig, den Konvergenzwinkel festzulegen und folglich kann ein verbessertes Auflösungsvermögen nicht erwartet werden.
Beispielsweise wird bei einem System, bei dem Drucken durchgeführt wird während ein Plättchen und eine Maske dicht nebeneinander gehalten werden, durch den Rand des Musters der Maske Beugung verursacht und folglich während der Aufnahmezeit die Fläche der Maske von verschiedenen
Richtungen aus bestrahlt, um den Einfluß eines Seiten-
zipfels (Nebenmaximum) in der Lichtintensitätskurve des projizierten Bilds zu unterdrücken. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß sich in diesem Fall das Auflösungsvermögen im großen Maße in Abhängigkeit vom Wert des Konver-25
genzwmkels ändert, wobei der halbe Winkel eines optimalen Konvergenzwinkels ungefähr bei 3 liegen soll (Literaturnachweis: "Objektive für integrierte Schaltkreise (IC) und Druckgeräte" im 13. Sommerseminar über "Optik und IC-Technik"). Falls es, wie oben beschrieben, schwierig ist, den Konvergenzwinkel auf gewünschten Wert und Form festzusetzen, kann das Auflösungsvermögen nicht verbessert werden.
Beim Projektionsdrucksystem wird das Bild einer zweiten
Lichtquelle (nachstehend als wirksame Lichtquelle bezeich-
J JZJÖOZ
DE 3110
net) in der Eintrittspupille eines Projektionsobjektivs erzeugt und es ist bekannt, daß die Größe, Form und Int.ensitätsverteilung dieser wirksamen Lichtguelle in großem Maße die Abbildungsleistung des Projektionsobjektivs beeinflussen. Dieses System ist folglich ebenfalls uneinheitlich in der Helligkeitsverteilung der zweiten Lichtquelle und eine Leistungsverbesserung kommt nicht zustande, wenn es schwierig ist, die wirksame Lichtquelle auf gewünschte Größe, Form und Intensitätsverteilung festzu-
setzen.
Wie oben beschrieben, ist die Heiligkeitsverteilung der zweiten Lichtquelle ein bedeutender Faktor, der das Auf-
,C lösungsvermögen bestimmt. Selbst beim herkömmlichen Beleuchtungssystem ist ein Verfahren denkbar, bei welchem eine Blende als Einrichtung zur Vereinheitlichung der Helligkeitsverteilung der zweiten Lichtquelle neben dieser angeordnet wird und nur ein Teil der zweiten Lichtquelle,
2Q dessen Helligkeitsverteilung als einheitlich betrachtet werden kann, verwendet wird; bei diesem Verfahren ist jedoch der Verlust an Lichtmenge groß und in der Praxis ist ein solches Verfahren ein Kompromiß zwischen Auflösungsvermögen und Konvergenzwirkungsgrad, und kann somit nicht als effektives Verfahren bezeichnet werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein zu bestrahlendes Objekt gut zu beleuchten. Die Beleuchtung soll mit einheitlicher Heiligkeitsverteilung erfolgen, wobei ein hoher Konvergenzwirkungsgrad erreicht werden soll. Ferner soll es möglich sein, die zweite Lichtquelle mit einer gewünschten Form auszubilden. Ferner soll eine Beleuchtungsvorrichtung geschaffen werden, die zur Beleuchtung einer Fotomaske oder eines Fadennetzes, die mit einem kleinen elektronischen Schaltkreismuster versehen sind, geeignet ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil von Patentanspruch 1 gelöst. Hierbei ist ein Aufbau vorgesehen, bei welchem eine Vielzahl von zweiten Lichtquellen erzeugt und verwendet werden, um ein ein Viel-Strahllichtbündel erzeugendes optisches Element zu beleuchten, wobei das aus diesem austretende Licht ein Objekt wie z.B. eine Maske beleuchtet. Das optische Element umfaßt eine Anordnung mit einem Paar positiver Linsen, itio-
in bei jecie in der Brennpunktslage der anderen und zweidimensional angeordnet ist, mit einer Facettenlinse mit einer Vielzahl von positiven oder negativen Linsen als Elemente, mit bikonvexen übereinander gelegten Plättchen, wobei die Mehrzahl von diesen senkrecht zueinander ist, mit einer
.p- stabförmigen Linsengruppe, einem optischen Faserbündel, einer Faserplatte mit einem gesinterten selbstfokussierenden optischen Faserbündel mit einer Brechzahl, die sich vom Mittelpunkt aus in Richtung des Umfangs ändert, und mit einer Streuplatte oder einem Streuelement genauester Ausrichtung; das optische Element ist eine Einrichtung zur ständigen oder unterbrochenen Erzeugung vergrößerter zweiter Lichtquellen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand schemata scher Zeichnungen näher erklärt. Es zeigen:
Fig. 1 eine optische Schnittansicht eines ersten Ausführungsbeispiels der Erfindung,
Fig. 2 eine Schnittansicht der Bauteile des ersten Ausführungsbeispiels,
Fig. 3 die Intensitätsverteilung des Bilds einer Lichtquelle ,
*"" DET" 311 O
Fig. 4 die Helligkeitsverteilung einer zweiten Lichtquelle
b,
Fig. 5 die Helligkeitsverteilung einer zweiten Licht-5
quelIe d, und
Fig. 6 eine optische Schnittansicht eines zweiten erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiels.
In Fig. 1 ist ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung
dargestellt. Eine Lichtquelle 1 kann z.B. eine Höchstdruck-Quecksilberdampflampe sein, da es ζι-jeckmäßig ist, daß die Lichtquelle eine hohe Beleuchtungsstärke hat. Ein ellipse tischer Spiegel 2 dient zur verlustlosen Konvergierung des aus der Lichtquelle 1 ausgesandten Lichtbündels. Der elliptische Spiegel 2 ist so angeordnet, daß die Lichtquelle 1 in seinem ersten Brennpunkt zu liegen kommt und das aus dieser ausgesandte Lichtbündel an seinem zweiten Brenn-OQ punkt konvergiert wird. Ein Spiegel 3 mit dichroischer Schicht läßt hauptsächlich infrarotes Licht hindurch und reflektiert ultraviolettes. Dieser Spiegel dient zur Filterung des Lichts und Umlenkung des optischen Wegs. Ein Verschluß 4 begrenzt die Bestrahlungsenergie. Ein optisches Element 5 zur Erzeugung eines Viel-5trahlbündels umfaßt ein Paar positiver Linsen L1 und L„ mit gleicher Brennweite, wobei jede im Brennpunkt der anderen angeordnet ist und die zu einer Trommel zusammengebaut sind; das Paar positiver Linsen ist zweidimensional angeordnet. Eine erste, die positive Linse L, umfassende Reihe ist so angeordnet, daß sie mit der zweiten Brennebene des elliptischen Spiegels 2 zusammenfällt, und gemäß den nachstellend prwähnten Gründen wird eine Vielzahl von zweiten Lichtquellen in einer zweiten, die positive Linse L„ umfassenden Reihe erzeugt.
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3323352
Spiegel 6 und 9 lenken den optischen Weg um jeweils 90 um und bewirken dadurch einen kompakten Aufbau des gesamten Beleuchtungssystems. Ein Filter 7 mit scharfer Unterdrückung scheidet Licht mit einer kürzeren Wellenlänge als der beim Drucken verwendeten Wellenlänge aus. Ferner sind eine Koilimatorlinse 8 und ein dem optischen Element 5 im Aufbau ähnliches optisches Element 10 zur Erzeugung eines Viel-Strahlbündels dargestellt. Die Fläche b der zweiten Lichtn quelle des optischen Elements 5 (die zweite Reihe der positiven Linse) liegt in einer Br enripunk tebene der Kollimatorlmse 8, und die Objektfläche c des optischen Elements 10 (die erste Reihe der positiven Linse) liegt in der anderen Brennebene der Kollimatorlinse 8. Eine Blende 11 be-
, (- stimmt die Form und Größe der letzten zweiten Lichtquelle. Ein ebener Spiegel 12 lenkt die optische Achse um 90 um. Eine Brennpunktsebene einer zweiten Kollimatorlinse 13 fällt mit der Oberfläche d der zweiten Lichtquelle des optischen Elements 10 zusammen, während deren andere Brenn-
2Q ebene mit einer Objektfläche e zusammenfällt. Auf dieser ist eine Maske angeordnet, und ein Muster wird auf ein Plättchen gedruckt, das in Berührung mit oder dicht neben der Maske steht; das Drucken auf das Plättchen kann auch durch ein Projektionsobjektiv (nicht gezeigt) erfolgen.
Die KoI 1 im a tor 11 risen 8 bzw. 13 umfassen gewöhnlich ein π Vielzahl von einzelnen Linsen; aus Gründen der Einfachheit sind sie jedoch hier jeweils.als einzelne Linse dargestellt.
Beim oben beschriebenen Aufbau wird nach dem Einschalten der Lichtquelle 1 deren Bild durch den elliptischen Spiegel in dessen zweiter Brennebene a erzeugt. Die Intensität sverteilung dieses LichtquellenbiJ ds ist, wie Fig. 3 zeigt, aufgrund der Aberrationen des elliptischen Spiegels 2 sehr uneinheitlich, wobei die höchste Intensität auf der
J JZ Ο OD Δ
optischen Achse liegt und mit zunehmendem Abstand zu dieser steil abfällt. Falls in.dieser Stufe versucht wird, die erste Objektfläche c mit dem Lichtquellenbild als einer
zweiten Lichtquelle zu beleuchten, ist die HeI 1 lcjkeits-5
verteilung uneinheitlich und die Ungleichmäßigkeit der Helligkeit der Lichtquelle 1 führt zur Uneinheitlichkeit der Verteilungscharakteristik,und deshalb kann durch das kritische Beleuchtungsverfahren bzw. das Köhler'sche Beleuchtungsverfahren die erste Objektfläche c nicht einheitlich beleuchtet werden.
Da das optische Element 5 in der zweiten Brennebene a des elliptischen Spiegels 2 angeordnet ist, wird der das Bild der Lichtquelle 1 in der zweiten Brennebene a erzeugende ο
Lichtstrahl (durch die zweidimensional angeordneten positiven Linsen) in eine Vielzahl von kleinen Abschnitten unterteilt, und parallele Komponenten des Lichtstrahls mit verschiedener Neigung werden durch die positive Linse der
on ersten Reihe abgebildet und bilden entsprechend dem Einfallswinkel in jedem der kleinen Abschnitte eine neue zweite Lichtquelle b. Diese zweite Lichtquelle weist Ungleichmäßigkeiten in der Helligkeit auf, hat jedoch eine einheitliche Verteilungscharakteristik (Fig. 4). Das optische
2g Element dient nun zur Erzeugung einer zweiten Lichtquelle einheitlicher Verteilungscharakteristik aus einer Lichtquelle mit nicht einheitlicher Verteilungscharakteristik, und falls die erste Objektfläche c mittels einer solchen zweiten Lichtquelle und mittels des Köhler'schen Beleuch-
gn tungsverfahrens beleuchtet wird, wird eine einheitliche Helligkeit erreicht. Ferner wird die erste Objektfläche c als Bild der Lichtquelle betrachtet und das ein Viel-Strahlbündel erzeugende optische Element wird an diessr angeordnet,wodurch die neu erzeugte zweite Lichtquelle d keine Ungleichmäßigkelten in der Helligkeit hat und sehr einheitlich in der Verteilungscharakteristik ist (Fig. 5)?
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.44.
und deshalb sind Helligkeitsunterschiede erheblich verringert, wenn die zweite Objektfläche e durch diese zweite Lichtquelle d und mittels der KoI1imatorlinse 13 beleuchtet
. c wird.
ο
Andererseits ist der Verschluß 4 zur Begrenzung der auf die zweite Objektfläche e (Maske) auftreffenden Bestrahlungsenergie in der Nähe der zweiten Brennebene a des ellip-
in tischen Spiegels 2 angeordnet, und der Änderung der Helligkeitsverteilung beim Öffnen und Schließen des Verschlußes wirkt das optische Element 10 entgegen und somit ist die l/e r tei lungscharak ter ist ik der neuen zweiten Lichtquelle d einheitlich und frei von Ungleichmäßigkeiten in der HeI-
•jp- ligkeit. Der Einfluß der Änderung der HeI 1 igkeitsverteilung der zweiten Lichtquelle b zusammen mit einer aus dem Schwingen des Bogens der ursprünglichen Lichtquelle 1 während der Aufnahmezeit oder aus Einbaufehlern des Bogens resultierenden Schwankung der Intensitätsverteilung des
2Q Bogens in der zweiten Brennebene a wird ebenfalls aus den oben erwähnten Gründen neutralisiert.
Da die Helligkeitsver teilung der zweiten Lichtquelle d einheitlich ist, kann deren Größe und Form unabhängig und leicht geändert werden, indem die Größe und Form der neben ihr liegenden Blende 11 geändert wird.
Fig. 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel. Hierbei sind eine dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel ähnliche Lichtquelle 1 sowie Kondensor 1insen 22 und 22' dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel sind zwei linke und rechte Kondensor 1insen angeordnet, es können jedoch alternativ zwei zusätzliche Kondensorlinsen in einer zur Zeichenebene senkrechten Richtung angeordnet sein. Die Kondensorlinsen 22 und 22' dienen zur verlustlosen Sammlung der aus der
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DE** 3110
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Lichtquelle 1 ausgesandten Lichtbündel. Spiegel 3' und 3" mit dichroischer Schicht filtern infrarotes Licht aus den durch die Kondensor linsen 22 und 22' zu parallelen ^ Lichtbündeln geformten Lichtbündeln aus und richten dieses auf Kondensorlinsen 23 und 23'. Filter 7' und 7" unterdrücken Licht mit anderer als der verwendeten Wellenlänge und sind zwischen den Spiegeln 31 und 3" sowie den Kondensorlinsen 23 und 23' angeordnet. Ferner ist ein Verschluß 4 dargestellt.
Ein optisches Element 5' zur Erzeugung eines Viel-Strahlbündels besteht z.B. aus einem optischen Faserbündel, das derart gebündelt ist, daß die Reihe der Eingangsfläche und p. der Ausgangs fläche zufällig ist. Die Eingangsfläche a des optischen Elements fällt mit der Brennpunktslage der Kondensorlinsen 23 und 23' zusammen. Eine K ollimator 1inse 8' dient zur Konvergierυng; ein optisches Element 10' hat einen Aufbau, der z.B. in Fig. 2 dargestellt ist. Die Aus-
rtQ gangsfläche b des optischen Elements liegt in der ersten Brennebens der Kollimator 1inse 8 und die erste Objektfläche c des optischen Elements 10' liegt in der zweiten Brennebene der Kollimatorlinse 8,und deshalb beleuchtet eine zweite Lichtquelle an der Ausgangsfläche b die erste Objektfläche
oc c durch die Köhler'sche Beleuchtung ohne Unregelmäßigkeit. Die auf die KoI1imatorlinse 8' folgende Anordnung ist ähnlich derjenigen in Fig. 1. Es sind eine K ollimatorlinse 13', ein Plättchen w sowie eine zweite Objektfläche e vorhanden, auf der eine Maske getragen wird.
Die Endfläche des in der hinteren Stufe befindlichen optischen Elements ]0' wird einheitlich durch den oben beschriebenen Aufbau beleuchtet und deshalb hat die an der anderen Endfläche d gebildete zweite Lichtquelle keinerlei Helligkeitsunterschiede und eine einheitliche Vertellungscharakteristik und ist somit eine ideale Lichtquelle für die
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zweite Objektfläche e.
Die Anordnung des optischen Systems vor dem in der hinteren Stufe befindlichen optischen Element 10', die in Fig. ο
6 dargestellt ist, unterscheidet sich von der in Fig. 1 gezeigten vollständig, ist jedoch in der theoretischen Wirkung mit dieser identisch. D.h.: in Fig. 1 wird ein elliptischer Spiegel verwendet, um das von der Lichtquelle
1n ausgesandte Lichtbündel wirkungsvoll zu konvergieren und das Bild der Lichtquelle auf der Endfläche a des in der vorderen Stufe befindlichen optischen Elements zu erzeugen, während in Fig. 6 zwei Gruppen (oder 4 Gruppen) von Kondensorlinsensystemen zum gleichen Zweck Verwendung finden.
je Alternativ kann das durch den elliptischen Spiegel reflektierte Lichtbündel durch eine Linse in ein paralleles Lichtbündel geformt werden und eine Facettenlinse oder dergleichen kann in diesem parallelen Bündel angeordnet sein. Das in der hinteren Stufe befindliche optische EIe-
2Q ment kann neben der in Fig. 2 dargestellten weitere Ausführungsformen aufweisen: Es kann ein optisches Faserbündel oder eine Facettenlinse sein. Falls hierbei das Lichtbündel aus der Lichtquelle an der Endfläche des optischen Elemeηts konvergiert wird und die Endfläche des in der vorderen Stufe befindlichen optischen Elements mittels der durch das optische Element gebildeten zweiten Lichtquelle einheitlich beleuchtet wird, weist die neue, durch das in der hinteren Stufe befindliche optische Element gebildete zweite Lichtquelle keinerlei Helligkeitsunterschiede auf und hat eine einheitliche Verteilungscharakteristik.
Wie oben beschrieben, eliminiert die Erfindung Ungleichmäßigkeit in der Helligkeit, verringert nicht den Konvergenzwirkungsgrad bzw. vermindert die Ungleichmäßigkeit der örtlichen Helligkeit und kann somit eine ideale, in
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der Winkelcharakteristik einheitliche Lichtquelle darstellen bzw. kann leicht die zweite Lichtquelle zu gewünschter Form und Größe festsetzen. Ebenfalls können Helligkeits- *
,_ unterschiede oder die durch das Schwingen des Bogens der'"■"'·%-'_? Höchstdruck-Quecksilberdampflampe, die die ursprüngliche Lichtquelle ist, verursachte Winkelcharakter istik, das Öffnen bzw. Schließen des Verschlußes oder die örtliche Abweichung des Bogens klein gehalten werden; dies führt zu
n einer ständig konstanten zweiten Lichtquelle und zum Ausschluß von Beleuchtungsungleichmäßigkeiten.
Offenbart ist eine Beleuchtungsvorrichtung mit einer Be-1euchtungseinheit zur Erzeugung mehrerer zweiter Licht-
·,(- quellen, wobei die Beleuchtungseinheit eine Lichtquelle, eine Lichtkonvergenzeinrichtung zur Konvergierung der aus der Lichtquelle ausgesandten Fotoenergie und ein optisches Element zur Erzeugung von V/iel-Strahllichtbündeln hat, mit einem zweiten, ein Viel-Strahllichtbündel bildenden opti-
2Q sehen Element zur Erzeugung einer einheitlichen Helligkeitsverteilung und zur Bildung von vielen Lichtbündeln, einem ersten optischen Konvergenzsystem zur Konvergierung der aus dem ersten optischen Element ausgesandten Fotoenergie auf das zweite optische Element, und mit einem zweiten optischen Konvergenzsystem zur Konvergierung der aus dem zweiten optischen System ausgesandten Fotoenergie auf eine Fotomaske.
e e r s e 11 e

Claims (9)

qooo TlEDTKE - BüHLING - KlNNE - GfUIPE JSSS Pellmann ■ Grams <MO7 Dipl.-lng. R. Kinne Dipl.-lng R Grupe Dipl.-lng. B. Pellmar Dipl.-lng. K. Grams Dipl.-Chem. Dr. B. S Bavariaring 4, Post! 8OCK) München 2 Tel.: 089-539653 Telex: 5-24845 tipi Telecopier: 0 89-52 cable: Germaniapat
1. JuIi 1983 DE 3110
Patentansprüche
ill
ill Beleuchtungsvorrichtung, gekennzeichnet durch eine Beleuchtungseinrichtung (1, 2, 5) zur Erzeugung mehrerer zweiter Lichtquellen, eine optische Einrichtung (10, 10') zur Erzeugung vieler Lichtbündel, eine erste optische Konvergenzeinrichtung (8) zur Konvergierung der Strahlungsenergie von der zweiten Lichtquelle auf die optische Einrichtung, und eine zweite optische Konvergenzeinrichtung (13) zur Konvergierung der Strahlungsenergie von der optischen Einrichtung auf eine zu bestrahlende Fläche (e).
2. BeJ.euchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daö die Beleuchtungseinrichtung (1, 2, 5) mit einer Lichtquelle (1), einem ein Viel-Strahllichtbündel erzeugenden optischen Element (5), und einem optischen Konvergenzelement (2) zur Konvergierung der Bestrah lungsenergie aus der Lichtquelle (1) auf das optische Element (5) versehen ist.
3. Beleuchtunqsvorrichtunq nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,daß das das Viel-Strahllichtbündel erzeugende optische Element (5) eine Gruppe von Linsenanordnungen (L,, L_) ist, wobei jeweils eine Anordnung in der Brennebene der anderen zu liegen kommt.
/25
Dresdner Bank (München) Klo 3939844 Bayer Vereinsbank (München) Kto 508 9*1 Postscheck 'München) KIo. 6ΓΟ-43-804
4. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das ein Viel-Strahllichtbündel erzeugende optische Element (5) ein optischen Faserbündel ist, das durch.zufällige Faseranordnung aufgebaut ist.
5. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Konvergenzelement (2) ein elliptischer Spiegel (2). ist.
6. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Konvergenzelement (2) eine Gruppe aus Kondensorlinsen ist.
7. Beleuchtungsvorrichtung nach eirrem der vorangehen-
den Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die ein Viel-Strahllichtbündel erzeugende optische Einrichtung (10, 10') eine Gruppe aus Linsenanordnungen (L,, L„) ist, wobei jede Anordnung im Brennpunkt der anderen zu liegen kommt.
8. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die ein Vie1-Strahllichtbündel erzeugende optische Einrichtung (10, 10') ein optisches Faserbündel ist.
9. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die ein Viel-Strahllichtbündel erzeugende optische Einrichtung (10, 10') eine Gruppe aus Linsenanordnungen (L,, L-) ist, die jeweils in
der Brennebene der anderen Anordnung angeordnet sind, wo-30
bei die vordere (L,) der Linsenanordnungen im wesentlichen in der hinteren Brennebene (c) der ersten optischen Konvergenzeinrichtung (8) zu liegen kommt und wobei die hintere (L7) der Linsenanordnungen im wesentlichen in der vorderen
Brennebene (d) der zweiten optischen Konvergenzeinrichtung 35
(13) zu liegen kommt.
DE19833323852 1982-07-02 1983-07-01 Beleuchtungsvorrichtung Granted DE3323852A1 (de)

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DE3323852A1 true DE3323852A1 (de) 1984-01-05
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GB (1) GB2125983B (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0177314A2 (de) * 1984-10-01 1986-04-09 W.R. Grace & Co.-Conn. Hochdruckplatten durch Projektionsbelichtung
EP0302130A1 (de) * 1987-08-05 1989-02-08 Mercotrust Aktiengesellschaft Belichtungseinrichtung
DE4301716A1 (de) * 1992-02-04 1993-08-05 Hitachi Ltd

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59160134A (ja) * 1983-03-04 1984-09-10 Canon Inc 照明光学系
JPS60218635A (ja) * 1984-04-13 1985-11-01 Canon Inc 照明装置
US4619508A (en) * 1984-04-28 1986-10-28 Nippon Kogaku K. K. Illumination optical arrangement
US4629298A (en) * 1984-08-03 1986-12-16 Apogee, Inc. Flux projector for use with composite photography
JPS61148415A (ja) * 1984-12-22 1986-07-07 Canon Inc 照明光学系
US4947030A (en) * 1985-05-22 1990-08-07 Canon Kabushiki Kaisha Illuminating optical device
US4933813A (en) * 1986-04-14 1990-06-12 Berger Daniel S Sunlight simulator
JPS62244055A (ja) * 1986-04-16 1987-10-24 Doujiyun Koki Kk プリント基板等の焼付機に対する露光装置
US4939630A (en) * 1986-09-09 1990-07-03 Nikon Corporation Illumination optical apparatus
JPS6461716A (en) * 1987-08-31 1989-03-08 Canon Kk Illuminator
US5307207A (en) * 1988-03-16 1994-04-26 Nikon Corporation Illuminating optical apparatus
US4887190A (en) * 1988-10-15 1989-12-12 In Focis Devices Inc. High intensity fiber optic lighting system
JP2696360B2 (ja) * 1988-10-28 1998-01-14 旭光学工業株式会社 照明光学装置
US5153773A (en) * 1989-06-08 1992-10-06 Canon Kabushiki Kaisha Illumination device including amplitude-division and beam movements
US4993802A (en) * 1989-10-10 1991-02-19 Unisys Corp. Randomizing optical converter for illumination beam and method utilizing same
US5638211A (en) 1990-08-21 1997-06-10 Nikon Corporation Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system
US7656504B1 (en) * 1990-08-21 2010-02-02 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with luminous flux distribution
US6252647B1 (en) 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6885433B2 (en) * 1990-11-15 2005-04-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6897942B2 (en) * 1990-11-15 2005-05-24 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5719704A (en) * 1991-09-11 1998-02-17 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6967710B2 (en) 1990-11-15 2005-11-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6710855B2 (en) 1990-11-15 2004-03-23 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
JP2946950B2 (ja) * 1992-06-25 1999-09-13 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた露光装置
US6400444B2 (en) 1992-07-09 2002-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and device producing method using the same
US5815248A (en) * 1993-04-22 1998-09-29 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and method having a wavefront splitter and an optical integrator
KR0165701B1 (ko) * 1993-06-29 1999-02-01 미타라이 하지메 조명장치 및 동장치를 사용하는 노광장치
US5631721A (en) * 1995-05-24 1997-05-20 Svg Lithography Systems, Inc. Hybrid illumination system for use in photolithography
JP3437352B2 (ja) 1995-10-02 2003-08-18 キヤノン株式会社 照明光学系及び光源装置
US5699191A (en) * 1996-10-24 1997-12-16 Xerox Corporation Narrow-pitch beam homogenizer
GB2329036A (en) * 1997-09-05 1999-03-10 Sharp Kk Optical system for redistributing optical extent and illumination source
DE69826950T2 (de) * 1997-09-05 2006-02-23 Sharp K.K. Dunkelfeld-Projektionsanzeigegerät
JP3950553B2 (ja) * 1998-06-30 2007-08-01 キヤノン株式会社 照明光学系及びそれを有する露光装置
TW529172B (en) * 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
EP1280007B1 (de) * 2001-07-24 2008-06-18 ASML Netherlands B.V. Bilderzeugungsapparat
US7911584B2 (en) * 2003-07-30 2011-03-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system for microlithography
DE10345431B4 (de) * 2003-09-30 2009-10-22 Carl Zeiss Jena Gmbh Vorrichtung zur homogenen mehrfarbigen Beleuchtung einer Fläche
KR100646264B1 (ko) * 2004-09-07 2006-11-23 엘지전자 주식회사 프로젝션 시스템의 발광 다이오드(led) 조명장치
TW200625027A (en) * 2005-01-14 2006-07-16 Zeiss Carl Smt Ag Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
WO2010059657A2 (en) * 2008-11-18 2010-05-27 Light Prescriptions Innovators, Llc Köhler concentrator
JP2013167832A (ja) * 2012-02-16 2013-08-29 V Technology Co Ltd 偏光光照射方法、露光済み材製造方法及び露光装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2500746A1 (de) * 1974-01-12 1975-07-17 Canon Kk Belichtungseinrichtung
US4080072A (en) * 1976-01-12 1978-03-21 Canadian Instrumentation And Research Limited Additive lamphouse for contact printing
JPS54111832A (en) * 1978-02-22 1979-09-01 Hitachi Ltd Exposure device
JPS54138649A (en) * 1978-04-20 1979-10-27 Asahi Chemical Ind Production of spun like processed yarn
US4206494A (en) * 1978-09-05 1980-06-03 Gca Corporation High throughput illuminator
DE2949708A1 (de) * 1978-12-20 1980-11-06 Jenoptik Jena Gmbh Beleuchtungssystem fuer fotografische kopiergeraete

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB508219A (en) * 1937-01-27 1939-06-28 Zeiss Ikon Ag Improvements in or relating to illuminating means for optical projection
GB510412A (en) * 1937-11-06 1939-08-01 Zeiss Ikon Ag Improvements in or relating to illumination means for optical projection
GB654175A (en) * 1946-04-05 1951-06-06 Edgar Gretener An improved optical illumination system
GB1546513A (en) * 1976-03-05 1979-05-23 Le I Tochnoj Mekhaniki Optiki Device for coherent lighting of objects
FR2455299A1 (fr) * 1979-04-23 1980-11-21 Thomson Csf Illuminateur a lampe a arc et dispositif optique de transfert par projection comportant un tel illuminateur

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2500746A1 (de) * 1974-01-12 1975-07-17 Canon Kk Belichtungseinrichtung
US4080072A (en) * 1976-01-12 1978-03-21 Canadian Instrumentation And Research Limited Additive lamphouse for contact printing
JPS54111832A (en) * 1978-02-22 1979-09-01 Hitachi Ltd Exposure device
JPS54138649A (en) * 1978-04-20 1979-10-27 Asahi Chemical Ind Production of spun like processed yarn
US4206494A (en) * 1978-09-05 1980-06-03 Gca Corporation High throughput illuminator
DE2949708A1 (de) * 1978-12-20 1980-11-06 Jenoptik Jena Gmbh Beleuchtungssystem fuer fotografische kopiergeraete

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0177314A2 (de) * 1984-10-01 1986-04-09 W.R. Grace & Co.-Conn. Hochdruckplatten durch Projektionsbelichtung
EP0177314A3 (de) * 1984-10-01 1987-11-19 W.R. Grace & Co.-Conn. Hochdruckplatten durch Projektionsbelichtung
EP0302130A1 (de) * 1987-08-05 1989-02-08 Mercotrust Aktiengesellschaft Belichtungseinrichtung
DE4301716A1 (de) * 1992-02-04 1993-08-05 Hitachi Ltd
DE4301716C2 (de) * 1992-02-04 1999-08-12 Hitachi Ltd Projektionsbelichtungsgerät und -verfahren

Also Published As

Publication number Publication date
GB8317914D0 (en) 1983-08-03
JPS597359A (ja) 1984-01-14
GB2125983A (en) 1984-03-14
GB2125983B (en) 1985-10-30
US4497013A (en) 1985-01-29
DE3323852C2 (de) 1992-05-07

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