DE3323852A1 - Beleuchtungsvorrichtung - Google Patents
BeleuchtungsvorrichtungInfo
- Publication number
- DE3323852A1 DE3323852A1 DE19833323852 DE3323852A DE3323852A1 DE 3323852 A1 DE3323852 A1 DE 3323852A1 DE 19833323852 DE19833323852 DE 19833323852 DE 3323852 A DE3323852 A DE 3323852A DE 3323852 A1 DE3323852 A1 DE 3323852A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- optical
- lighting device
- light source
- light
- generating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuchtungsvorrichtung, und insbesondere auf eine Beleuchtungsvorrichtung
bei einem Halbleiterdruckgerät zur Beleuchtung einer Maske oder eines Fadennetzes, die ein Schaltkreisriuster tragen,
durch sichtbare oder unsichtbare Fotoenergie. -
Bei einem Halbleiterherstellprozess, insbesondere in der
Verfahrensstufe des Drückens (Übertragung), wird ein integriertes
Schaltkreismuster auf ein Plättchen übertragen, wobei gewöhnlich folgende Methoden zur Anwendung kommen:
Eine Maske und ein Plättchen werden zum Drucken miteinander in Berührung gebracht; das Drucken wird durchgeführt,
während eine Maske in sehr kleinem Abstand von einem Plättchen
gehalten wird; das Mu-ster auf einer Maske (sonst
als Fadennetz bezeichnete Dinge werden auch hier Maske genannt) wird durch ein abbildendes optisches System
auf ein Plättchen projiziert und auf dieses gedruckt.
In diesem Fall wird die Herstellung des Musterbildes stark durch die Qualität der Beleuchtung der Maske beeinflußt und
aus diesem Grund wurden diesbezüglich viele technische Verbesserungen
vorgenommen; verschiedene Systeme sind haupt-
F/25
sächlich hinsichtlich der Elimination von Ungleichmäßigkeiten
in der Helligkeit auf der Flrichp der Maske, der Verbesserung
des Konvergenzwirkungsgrades und der Einstellung
des Maximalwertes des Einfallswinkels des auf die Oberflä-5
ehe der Maske auf t reff enden Lichtbündels auf einen qewiünRch
ten Wert (nachstehend als Konvergenzwinkel bezeichnet) bekannt. Bei diesen Systemen war in den letzten Jahren dasjenige
das geläufigste, bei dem eine Vielzahl von zweiten auf einer Ebene angeordneten Lichtquellen von einer ursprünglichen
Lichtquelle mittels eines Prismas oder einer
Vielfachlinse erzeugt wird und bei dem die Viel-Strahllichtbündel
aus den zweiten Lichtquellen auf die Oberfläche der Maske mittels einer konvergierenden KoIlimator1inse
,,- gerichtet werden; ein solches System ist z.B. in der japanischen
Patentanmeldung 103976/1975 oder 129045/1975 offenbart. Bei einem derartigen System wurde die Ausschaltung
von Helligkeitsunterschieden bemerkenswert verbessert, da
die um die optische Achse gestreuten Lichtbündel aus den
2Q zweiten Lichtquellen alle auf den Blättchen überlagert
werden. Andererseits führt die Verwendung eines elliptischen Spiegels als Einrichtung zur Konvergierung des aus
der Lichtquelle ausgesandten Lichtbündels auf ein ein Viel-Strahllichtbündel
erzeugendes optisches Element zur BiI-
2g dung der zweiten Lichtquellen zu einem verbesserten Konvergenzwirkungsgradjund
deshalb wurde dieser schon bei Halbleiterdruckgeräten verwendet.
Die HeI1igkeitsverteilung der zweiten Lichtquellen beim
herkömmlichen System ist jedoch nicht einheitlich, obwohl herausgefunden wurde, daß das System für die Beseitigung
von Ungleichmäßigkeiten der Beleuchtung wirksam ist,und
deshalb ist es schwierig, den tatsächlichen effektiven Konvergenzwinkel
auf einen gewünschten Wert festzusetzen. Das heißt: Unter der Annahme, daß die zweiten Lichtquellen von
irgendeinem Punkt auf dem Plättchen aus betrachtet werden, weisen diejenigen in der Nähe der optischen Achse eine
größere Lichtmenge auf und somit ist die Helligkeit in Abhängigkeit
der Richtung, unter welcher die zweiten Licht-5
quellen gesehen werden, unterschiedlich und folglich hängt
der tatsächliche Konvergenzwinkel von der zweiten Lichtquelle in der Nähe der optischen Achse ab, wenn der Lichtmengenunterschied
zwischen der zweiten Lichtquelle in der Nähe der optischen Achse und derjenigen im Umfangsbereich
groß ist; selbst wenn die zweiten Lichtquellen im Umfangsbereich durch eine Blende abgeschirmt werden, ist es schwierig,
den Konvergenzwinkel festzulegen und folglich kann ein
verbessertes Auflösungsvermögen nicht erwartet werden.
Beispielsweise wird bei einem System, bei dem Drucken
durchgeführt wird während ein Plättchen und eine Maske dicht nebeneinander gehalten werden, durch den Rand des
Musters der Maske Beugung verursacht und folglich während der Aufnahmezeit die Fläche der Maske von verschiedenen
Richtungen aus bestrahlt, um den Einfluß eines Seiten-
zipfels (Nebenmaximum) in der Lichtintensitätskurve des
projizierten Bilds zu unterdrücken. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß sich in diesem Fall das Auflösungsvermögen
im großen Maße in Abhängigkeit vom Wert des Konver-25
genzwmkels ändert, wobei der halbe Winkel eines optimalen
Konvergenzwinkels ungefähr bei 3 liegen soll (Literaturnachweis:
"Objektive für integrierte Schaltkreise (IC) und Druckgeräte" im 13. Sommerseminar über "Optik und IC-Technik").
Falls es, wie oben beschrieben, schwierig ist, den Konvergenzwinkel auf gewünschten Wert und Form festzusetzen,
kann das Auflösungsvermögen nicht verbessert werden.
Beim Projektionsdrucksystem wird das Bild einer zweiten
Lichtquelle (nachstehend als wirksame Lichtquelle bezeich-
J JZJÖOZ
DE 3110
net) in der Eintrittspupille eines Projektionsobjektivs
erzeugt und es ist bekannt, daß die Größe, Form und Int.ensitätsverteilung
dieser wirksamen Lichtguelle in großem Maße die Abbildungsleistung des Projektionsobjektivs beeinflussen.
Dieses System ist folglich ebenfalls uneinheitlich in der Helligkeitsverteilung der zweiten Lichtquelle
und eine Leistungsverbesserung kommt nicht zustande, wenn es schwierig ist, die wirksame Lichtquelle auf gewünschte
Größe, Form und Intensitätsverteilung festzu-
setzen.
Wie oben beschrieben, ist die Heiligkeitsverteilung der
zweiten Lichtquelle ein bedeutender Faktor, der das Auf-
,C lösungsvermögen bestimmt. Selbst beim herkömmlichen Beleuchtungssystem
ist ein Verfahren denkbar, bei welchem eine Blende als Einrichtung zur Vereinheitlichung der
Helligkeitsverteilung der zweiten Lichtquelle neben dieser
angeordnet wird und nur ein Teil der zweiten Lichtquelle,
2Q dessen Helligkeitsverteilung als einheitlich betrachtet
werden kann, verwendet wird; bei diesem Verfahren ist jedoch
der Verlust an Lichtmenge groß und in der Praxis ist
ein solches Verfahren ein Kompromiß zwischen Auflösungsvermögen und Konvergenzwirkungsgrad, und kann somit nicht
als effektives Verfahren bezeichnet werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein zu bestrahlendes
Objekt gut zu beleuchten. Die Beleuchtung soll mit einheitlicher Heiligkeitsverteilung erfolgen, wobei ein
hoher Konvergenzwirkungsgrad erreicht werden soll. Ferner soll es möglich sein, die zweite Lichtquelle mit einer gewünschten
Form auszubilden. Ferner soll eine Beleuchtungsvorrichtung
geschaffen werden, die zur Beleuchtung einer Fotomaske oder eines Fadennetzes, die mit einem kleinen
elektronischen Schaltkreismuster versehen sind, geeignet ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im
kennzeichnenden Teil von Patentanspruch 1 gelöst. Hierbei ist ein Aufbau vorgesehen, bei welchem eine Vielzahl von
zweiten Lichtquellen erzeugt und verwendet werden, um ein ein Viel-Strahllichtbündel erzeugendes optisches Element
zu beleuchten, wobei das aus diesem austretende Licht ein Objekt wie z.B. eine Maske beleuchtet. Das optische Element
umfaßt eine Anordnung mit einem Paar positiver Linsen, itio-
in bei jecie in der Brennpunktslage der anderen und zweidimensional
angeordnet ist, mit einer Facettenlinse mit einer Vielzahl von positiven oder negativen Linsen als Elemente,
mit bikonvexen übereinander gelegten Plättchen, wobei die Mehrzahl von diesen senkrecht zueinander ist, mit einer
.p- stabförmigen Linsengruppe, einem optischen Faserbündel,
einer Faserplatte mit einem gesinterten selbstfokussierenden
optischen Faserbündel mit einer Brechzahl, die sich vom Mittelpunkt aus in Richtung des Umfangs ändert, und mit
einer Streuplatte oder einem Streuelement genauester Ausrichtung; das optische Element ist eine Einrichtung zur
ständigen oder unterbrochenen Erzeugung vergrößerter zweiter Lichtquellen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand
schemata scher Zeichnungen näher erklärt. Es zeigen:
Fig. 1 eine optische Schnittansicht eines ersten Ausführungsbeispiels
der Erfindung,
Fig. 2 eine Schnittansicht der Bauteile des ersten Ausführungsbeispiels,
Fig. 3 die Intensitätsverteilung des Bilds einer Lichtquelle
,
*"" DET" 311 O
Fig. 4 die Helligkeitsverteilung einer zweiten Lichtquelle
b,
Fig. 5 die Helligkeitsverteilung einer zweiten Licht-5
quelIe d, und
Fig. 6 eine optische Schnittansicht eines zweiten erfindungsgemäßen
Ausführungsbeispiels.
In Fig. 1 ist ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung
dargestellt. Eine Lichtquelle 1 kann z.B. eine Höchstdruck-Quecksilberdampflampe
sein, da es ζι-jeckmäßig ist, daß die
Lichtquelle eine hohe Beleuchtungsstärke hat. Ein ellipse tischer Spiegel 2 dient zur verlustlosen Konvergierung des
aus der Lichtquelle 1 ausgesandten Lichtbündels. Der elliptische Spiegel 2 ist so angeordnet, daß die Lichtquelle 1
in seinem ersten Brennpunkt zu liegen kommt und das aus dieser ausgesandte Lichtbündel an seinem zweiten Brenn-OQ
punkt konvergiert wird. Ein Spiegel 3 mit dichroischer
Schicht läßt hauptsächlich infrarotes Licht hindurch und
reflektiert ultraviolettes. Dieser Spiegel dient zur Filterung
des Lichts und Umlenkung des optischen Wegs. Ein Verschluß 4 begrenzt die Bestrahlungsenergie. Ein optisches
Element 5 zur Erzeugung eines Viel-5trahlbündels umfaßt
ein Paar positiver Linsen L1 und L„ mit gleicher Brennweite,
wobei jede im Brennpunkt der anderen angeordnet ist und die zu einer Trommel zusammengebaut sind; das Paar positiver
Linsen ist zweidimensional angeordnet. Eine erste, die positive Linse L, umfassende Reihe ist so angeordnet,
daß sie mit der zweiten Brennebene des elliptischen Spiegels
2 zusammenfällt, und gemäß den nachstellend prwähnten
Gründen wird eine Vielzahl von zweiten Lichtquellen in
einer zweiten, die positive Linse L„ umfassenden Reihe erzeugt.
β *
• 4*
.3·
3323352
Spiegel 6 und 9 lenken den optischen Weg um jeweils 90
um und bewirken dadurch einen kompakten Aufbau des gesamten Beleuchtungssystems. Ein Filter 7 mit scharfer Unterdrückung
scheidet Licht mit einer kürzeren Wellenlänge als der beim
Drucken verwendeten Wellenlänge aus. Ferner sind eine Koilimatorlinse
8 und ein dem optischen Element 5 im Aufbau ähnliches optisches Element 10 zur Erzeugung eines Viel-Strahlbündels
dargestellt. Die Fläche b der zweiten Lichtn
quelle des optischen Elements 5 (die zweite Reihe der positiven Linse) liegt in einer Br enripunk tebene der Kollimatorlmse
8, und die Objektfläche c des optischen Elements
10 (die erste Reihe der positiven Linse) liegt in der anderen
Brennebene der Kollimatorlinse 8. Eine Blende 11 be-
, (- stimmt die Form und Größe der letzten zweiten Lichtquelle.
Ein ebener Spiegel 12 lenkt die optische Achse um 90 um. Eine Brennpunktsebene einer zweiten Kollimatorlinse 13
fällt mit der Oberfläche d der zweiten Lichtquelle des optischen Elements 10 zusammen, während deren andere Brenn-
2Q ebene mit einer Objektfläche e zusammenfällt. Auf dieser
ist eine Maske angeordnet, und ein Muster wird auf ein Plättchen gedruckt, das in Berührung mit oder dicht neben der
Maske steht; das Drucken auf das Plättchen kann auch durch
ein Projektionsobjektiv (nicht gezeigt) erfolgen.
Die KoI 1 im a tor 11 risen 8 bzw. 13 umfassen gewöhnlich ein π
Vielzahl von einzelnen Linsen; aus Gründen der Einfachheit sind sie jedoch hier jeweils.als einzelne Linse dargestellt.
Beim oben beschriebenen Aufbau wird nach dem Einschalten
der Lichtquelle 1 deren Bild durch den elliptischen Spiegel
in dessen zweiter Brennebene a erzeugt. Die Intensität
sverteilung dieses LichtquellenbiJ ds ist, wie Fig. 3
zeigt, aufgrund der Aberrationen des elliptischen Spiegels 2 sehr uneinheitlich, wobei die höchste Intensität auf der
J JZ Ο OD Δ
optischen Achse liegt und mit zunehmendem Abstand zu dieser
steil abfällt. Falls in.dieser Stufe versucht wird, die
erste Objektfläche c mit dem Lichtquellenbild als einer
zweiten Lichtquelle zu beleuchten, ist die HeI 1 lcjkeits-5
verteilung uneinheitlich und die Ungleichmäßigkeit der
Helligkeit der Lichtquelle 1 führt zur Uneinheitlichkeit
der Verteilungscharakteristik,und deshalb kann durch das
kritische Beleuchtungsverfahren bzw. das Köhler'sche Beleuchtungsverfahren
die erste Objektfläche c nicht einheitlich beleuchtet werden.
Da das optische Element 5 in der zweiten Brennebene a des
elliptischen Spiegels 2 angeordnet ist, wird der das Bild
der Lichtquelle 1 in der zweiten Brennebene a erzeugende
ο
Lichtstrahl (durch die zweidimensional angeordneten positiven Linsen) in eine Vielzahl von kleinen Abschnitten unterteilt,
und parallele Komponenten des Lichtstrahls mit verschiedener Neigung werden durch die positive Linse der
on ersten Reihe abgebildet und bilden entsprechend dem Einfallswinkel
in jedem der kleinen Abschnitte eine neue zweite Lichtquelle b. Diese zweite Lichtquelle weist Ungleichmäßigkeiten
in der Helligkeit auf, hat jedoch eine einheitliche Verteilungscharakteristik (Fig. 4). Das optische
2g Element dient nun zur Erzeugung einer zweiten Lichtquelle
einheitlicher Verteilungscharakteristik aus einer Lichtquelle
mit nicht einheitlicher Verteilungscharakteristik,
und falls die erste Objektfläche c mittels einer solchen zweiten Lichtquelle und mittels des Köhler'schen Beleuch-
gn tungsverfahrens beleuchtet wird, wird eine einheitliche
Helligkeit erreicht. Ferner wird die erste Objektfläche c als Bild der Lichtquelle betrachtet und das ein Viel-Strahlbündel
erzeugende optische Element wird an diessr angeordnet,wodurch die neu erzeugte zweite Lichtquelle d
keine Ungleichmäßigkelten in der Helligkeit hat und sehr
einheitlich in der Verteilungscharakteristik ist (Fig. 5)?
332385.
" * "OE '$110
.44.
und deshalb sind Helligkeitsunterschiede erheblich verringert,
wenn die zweite Objektfläche e durch diese zweite Lichtquelle d und mittels der KoI1imatorlinse 13 beleuchtet
. c wird.
ο
ο
Andererseits ist der Verschluß 4 zur Begrenzung der auf die zweite Objektfläche e (Maske) auftreffenden Bestrahlungsenergie
in der Nähe der zweiten Brennebene a des ellip-
in tischen Spiegels 2 angeordnet, und der Änderung der Helligkeitsverteilung
beim Öffnen und Schließen des Verschlußes wirkt das optische Element 10 entgegen und somit ist die
l/e r tei lungscharak ter ist ik der neuen zweiten Lichtquelle
d einheitlich und frei von Ungleichmäßigkeiten in der HeI-
•jp- ligkeit. Der Einfluß der Änderung der HeI 1 igkeitsverteilung
der zweiten Lichtquelle b zusammen mit einer aus dem Schwingen des Bogens der ursprünglichen Lichtquelle 1 während
der Aufnahmezeit oder aus Einbaufehlern des Bogens resultierenden Schwankung der Intensitätsverteilung des
2Q Bogens in der zweiten Brennebene a wird ebenfalls aus den
oben erwähnten Gründen neutralisiert.
Da die Helligkeitsver teilung der zweiten Lichtquelle d
einheitlich ist, kann deren Größe und Form unabhängig und leicht geändert werden, indem die Größe und Form der neben
ihr liegenden Blende 11 geändert wird.
Fig. 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel. Hierbei sind
eine dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel ähnliche
Lichtquelle 1 sowie Kondensor 1insen 22 und 22' dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel sind zwei linke und rechte
Kondensor 1insen angeordnet, es können jedoch alternativ
zwei zusätzliche Kondensorlinsen in einer zur Zeichenebene
senkrechten Richtung angeordnet sein. Die Kondensorlinsen 22 und 22' dienen zur verlustlosen Sammlung der aus der
J ό L ö 0 Ό L
DE** 3110
/ta- Ϋ;·
Lichtquelle 1 ausgesandten Lichtbündel. Spiegel 3' und
3" mit dichroischer Schicht filtern infrarotes Licht aus den durch die Kondensor linsen 22 und 22' zu parallelen ^
Lichtbündeln geformten Lichtbündeln aus und richten dieses auf Kondensorlinsen 23 und 23'. Filter 7' und 7" unterdrücken
Licht mit anderer als der verwendeten Wellenlänge und sind zwischen den Spiegeln 31 und 3" sowie den Kondensorlinsen
23 und 23' angeordnet. Ferner ist ein Verschluß 4 dargestellt.
Ein optisches Element 5' zur Erzeugung eines Viel-Strahlbündels
besteht z.B. aus einem optischen Faserbündel, das derart gebündelt ist, daß die Reihe der Eingangsfläche und
p. der Ausgangs fläche zufällig ist. Die Eingangsfläche a des
optischen Elements fällt mit der Brennpunktslage der Kondensorlinsen
23 und 23' zusammen. Eine K ollimator 1inse 8'
dient zur Konvergierυng; ein optisches Element 10' hat
einen Aufbau, der z.B. in Fig. 2 dargestellt ist. Die Aus-
rtQ gangsfläche b des optischen Elements liegt in der ersten Brennebens
der Kollimator 1inse 8 und die erste Objektfläche c des optischen Elements 10' liegt in der zweiten Brennebene
der Kollimatorlinse 8,und deshalb beleuchtet eine zweite
Lichtquelle an der Ausgangsfläche b die erste Objektfläche
oc c durch die Köhler'sche Beleuchtung ohne Unregelmäßigkeit.
Die auf die KoI1imatorlinse 8' folgende Anordnung ist ähnlich
derjenigen in Fig. 1. Es sind eine K ollimatorlinse 13',
ein Plättchen w sowie eine zweite Objektfläche e vorhanden, auf der eine Maske getragen wird.
Die Endfläche des in der hinteren Stufe befindlichen optischen Elements ]0' wird einheitlich durch den oben beschriebenen
Aufbau beleuchtet und deshalb hat die an der anderen Endfläche d gebildete zweite Lichtquelle keinerlei Helligkeitsunterschiede
und eine einheitliche Vertellungscharakteristik
und ist somit eine ideale Lichtquelle für die
332385;
zweite Objektfläche e.
Die Anordnung des optischen Systems vor dem in der hinteren
Stufe befindlichen optischen Element 10', die in Fig. ο
6 dargestellt ist, unterscheidet sich von der in Fig. 1 gezeigten vollständig, ist jedoch in der theoretischen
Wirkung mit dieser identisch. D.h.: in Fig. 1 wird ein
elliptischer Spiegel verwendet, um das von der Lichtquelle
1n ausgesandte Lichtbündel wirkungsvoll zu konvergieren und
das Bild der Lichtquelle auf der Endfläche a des in der
vorderen Stufe befindlichen optischen Elements zu erzeugen, während in Fig. 6 zwei Gruppen (oder 4 Gruppen) von Kondensorlinsensystemen
zum gleichen Zweck Verwendung finden.
je Alternativ kann das durch den elliptischen Spiegel reflektierte
Lichtbündel durch eine Linse in ein paralleles Lichtbündel geformt werden und eine Facettenlinse oder
dergleichen kann in diesem parallelen Bündel angeordnet sein. Das in der hinteren Stufe befindliche optische EIe-
2Q ment kann neben der in Fig. 2 dargestellten weitere Ausführungsformen
aufweisen: Es kann ein optisches Faserbündel oder eine Facettenlinse sein. Falls hierbei das Lichtbündel
aus der Lichtquelle an der Endfläche des optischen Elemeηts konvergiert wird und die Endfläche des in der vorderen
Stufe befindlichen optischen Elements mittels der durch das optische Element gebildeten zweiten Lichtquelle
einheitlich beleuchtet wird, weist die neue, durch das in der hinteren Stufe befindliche optische Element gebildete
zweite Lichtquelle keinerlei Helligkeitsunterschiede auf
und hat eine einheitliche Verteilungscharakteristik.
Wie oben beschrieben, eliminiert die Erfindung Ungleichmäßigkeit in der Helligkeit, verringert nicht den Konvergenzwirkungsgrad
bzw. vermindert die Ungleichmäßigkeit der örtlichen Helligkeit und kann somit eine ideale, in
-SÄ- " ' *6e'311O
der Winkelcharakteristik einheitliche Lichtquelle darstellen
bzw. kann leicht die zweite Lichtquelle zu gewünschter Form und Größe festsetzen. Ebenfalls können Helligkeits- *
,_ unterschiede oder die durch das Schwingen des Bogens der'"■"'·%-'_?
Höchstdruck-Quecksilberdampflampe, die die ursprüngliche
Lichtquelle ist, verursachte Winkelcharakter istik, das
Öffnen bzw. Schließen des Verschlußes oder die örtliche Abweichung des Bogens klein gehalten werden; dies führt zu
n einer ständig konstanten zweiten Lichtquelle und zum Ausschluß
von Beleuchtungsungleichmäßigkeiten.
Offenbart ist eine Beleuchtungsvorrichtung mit einer Be-1euchtungseinheit
zur Erzeugung mehrerer zweiter Licht-
·,(- quellen, wobei die Beleuchtungseinheit eine Lichtquelle,
eine Lichtkonvergenzeinrichtung zur Konvergierung der aus der Lichtquelle ausgesandten Fotoenergie und ein optisches
Element zur Erzeugung von V/iel-Strahllichtbündeln hat, mit
einem zweiten, ein Viel-Strahllichtbündel bildenden opti-
2Q sehen Element zur Erzeugung einer einheitlichen Helligkeitsverteilung
und zur Bildung von vielen Lichtbündeln, einem ersten optischen Konvergenzsystem zur Konvergierung
der aus dem ersten optischen Element ausgesandten Fotoenergie auf das zweite optische Element, und mit einem zweiten
optischen Konvergenzsystem zur Konvergierung der aus dem zweiten optischen System ausgesandten Fotoenergie auf eine
Fotomaske.
e e r s e 11 e
Claims (9)
1. JuIi 1983 DE 3110
Patentansprüche
ill
ill Beleuchtungsvorrichtung, gekennzeichnet durch eine
Beleuchtungseinrichtung (1, 2, 5) zur Erzeugung mehrerer zweiter Lichtquellen, eine optische Einrichtung (10, 10')
zur Erzeugung vieler Lichtbündel, eine erste optische Konvergenzeinrichtung
(8) zur Konvergierung der Strahlungsenergie von der zweiten Lichtquelle auf die optische Einrichtung,
und eine zweite optische Konvergenzeinrichtung (13) zur Konvergierung der Strahlungsenergie von der optischen
Einrichtung auf eine zu bestrahlende Fläche (e).
2. BeJ.euchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daö die Beleuchtungseinrichtung (1, 2, 5) mit einer Lichtquelle (1), einem ein Viel-Strahllichtbündel
erzeugenden optischen Element (5), und einem optischen Konvergenzelement (2) zur Konvergierung der Bestrah
lungsenergie aus der Lichtquelle (1) auf das optische Element (5) versehen ist.
3. Beleuchtunqsvorrichtunq nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet,daß das das Viel-Strahllichtbündel erzeugende
optische Element (5) eine Gruppe von Linsenanordnungen (L,, L_) ist, wobei jeweils eine Anordnung in der Brennebene
der anderen zu liegen kommt.
/25
Dresdner Bank (München) Klo 3939844 Bayer Vereinsbank (München) Kto 508 9*1 Postscheck 'München) KIo. 6ΓΟ-43-804
4. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß das ein Viel-Strahllichtbündel erzeugende
optische Element (5) ein optischen Faserbündel ist, das durch.zufällige Faseranordnung aufgebaut ist.
5. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 2
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Konvergenzelement (2) ein elliptischer Spiegel (2). ist.
6. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 2
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Konvergenzelement (2) eine Gruppe aus Kondensorlinsen ist.
7. Beleuchtungsvorrichtung nach eirrem der vorangehen-
den Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die ein Viel-Strahllichtbündel
erzeugende optische Einrichtung (10, 10') eine Gruppe aus Linsenanordnungen (L,, L„) ist, wobei jede
Anordnung im Brennpunkt der anderen zu liegen kommt.
8. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die ein Vie1-Strahllichtbündel
erzeugende optische Einrichtung (10, 10') ein optisches Faserbündel ist.
9. Beleuchtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1
bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die ein Viel-Strahllichtbündel
erzeugende optische Einrichtung (10, 10') eine Gruppe aus Linsenanordnungen (L,, L-) ist, die jeweils in
der Brennebene der anderen Anordnung angeordnet sind, wo-30
bei die vordere (L,) der Linsenanordnungen im wesentlichen
in der hinteren Brennebene (c) der ersten optischen Konvergenzeinrichtung
(8) zu liegen kommt und wobei die hintere (L7) der Linsenanordnungen im wesentlichen in der vorderen
Brennebene (d) der zweiten optischen Konvergenzeinrichtung
35
(13) zu liegen kommt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57115846A JPS597359A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 照明装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3323852A1 true DE3323852A1 (de) | 1984-01-05 |
DE3323852C2 DE3323852C2 (de) | 1992-05-07 |
Family
ID=14672579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833323852 Granted DE3323852A1 (de) | 1982-07-02 | 1983-07-01 | Beleuchtungsvorrichtung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4497013A (de) |
JP (1) | JPS597359A (de) |
DE (1) | DE3323852A1 (de) |
GB (1) | GB2125983B (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0177314A2 (de) * | 1984-10-01 | 1986-04-09 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Hochdruckplatten durch Projektionsbelichtung |
EP0302130A1 (de) * | 1987-08-05 | 1989-02-08 | Mercotrust Aktiengesellschaft | Belichtungseinrichtung |
DE4301716A1 (de) * | 1992-02-04 | 1993-08-05 | Hitachi Ltd |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59160134A (ja) * | 1983-03-04 | 1984-09-10 | Canon Inc | 照明光学系 |
JPS60218635A (ja) * | 1984-04-13 | 1985-11-01 | Canon Inc | 照明装置 |
US4619508A (en) * | 1984-04-28 | 1986-10-28 | Nippon Kogaku K. K. | Illumination optical arrangement |
US4629298A (en) * | 1984-08-03 | 1986-12-16 | Apogee, Inc. | Flux projector for use with composite photography |
JPS61148415A (ja) * | 1984-12-22 | 1986-07-07 | Canon Inc | 照明光学系 |
US4947030A (en) * | 1985-05-22 | 1990-08-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Illuminating optical device |
US4933813A (en) * | 1986-04-14 | 1990-06-12 | Berger Daniel S | Sunlight simulator |
JPS62244055A (ja) * | 1986-04-16 | 1987-10-24 | Doujiyun Koki Kk | プリント基板等の焼付機に対する露光装置 |
US4939630A (en) * | 1986-09-09 | 1990-07-03 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus |
JPS6461716A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-08 | Canon Kk | Illuminator |
US5307207A (en) * | 1988-03-16 | 1994-04-26 | Nikon Corporation | Illuminating optical apparatus |
US4887190A (en) * | 1988-10-15 | 1989-12-12 | In Focis Devices Inc. | High intensity fiber optic lighting system |
JP2696360B2 (ja) * | 1988-10-28 | 1998-01-14 | 旭光学工業株式会社 | 照明光学装置 |
US5153773A (en) * | 1989-06-08 | 1992-10-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination device including amplitude-division and beam movements |
US4993802A (en) * | 1989-10-10 | 1991-02-19 | Unisys Corp. | Randomizing optical converter for illumination beam and method utilizing same |
US5638211A (en) | 1990-08-21 | 1997-06-10 | Nikon Corporation | Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system |
US7656504B1 (en) * | 1990-08-21 | 2010-02-02 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus with luminous flux distribution |
US6252647B1 (en) | 1990-11-15 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US6885433B2 (en) * | 1990-11-15 | 2005-04-26 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
US6897942B2 (en) * | 1990-11-15 | 2005-05-24 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
US5719704A (en) * | 1991-09-11 | 1998-02-17 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US6967710B2 (en) | 1990-11-15 | 2005-11-22 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
US6710855B2 (en) | 1990-11-15 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
JP2946950B2 (ja) * | 1992-06-25 | 1999-09-13 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた露光装置 |
US6400444B2 (en) | 1992-07-09 | 2002-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device producing method using the same |
US5815248A (en) * | 1993-04-22 | 1998-09-29 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and method having a wavefront splitter and an optical integrator |
KR0165701B1 (ko) * | 1993-06-29 | 1999-02-01 | 미타라이 하지메 | 조명장치 및 동장치를 사용하는 노광장치 |
US5631721A (en) * | 1995-05-24 | 1997-05-20 | Svg Lithography Systems, Inc. | Hybrid illumination system for use in photolithography |
JP3437352B2 (ja) | 1995-10-02 | 2003-08-18 | キヤノン株式会社 | 照明光学系及び光源装置 |
US5699191A (en) * | 1996-10-24 | 1997-12-16 | Xerox Corporation | Narrow-pitch beam homogenizer |
GB2329036A (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-10 | Sharp Kk | Optical system for redistributing optical extent and illumination source |
DE69826950T2 (de) * | 1997-09-05 | 2006-02-23 | Sharp K.K. | Dunkelfeld-Projektionsanzeigegerät |
JP3950553B2 (ja) * | 1998-06-30 | 2007-08-01 | キヤノン株式会社 | 照明光学系及びそれを有する露光装置 |
TW529172B (en) * | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
EP1280007B1 (de) * | 2001-07-24 | 2008-06-18 | ASML Netherlands B.V. | Bilderzeugungsapparat |
US7911584B2 (en) * | 2003-07-30 | 2011-03-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination system for microlithography |
DE10345431B4 (de) * | 2003-09-30 | 2009-10-22 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Vorrichtung zur homogenen mehrfarbigen Beleuchtung einer Fläche |
KR100646264B1 (ko) * | 2004-09-07 | 2006-11-23 | 엘지전자 주식회사 | 프로젝션 시스템의 발광 다이오드(led) 조명장치 |
TW200625027A (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-16 | Zeiss Carl Smt Ag | Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus |
WO2010059657A2 (en) * | 2008-11-18 | 2010-05-27 | Light Prescriptions Innovators, Llc | Köhler concentrator |
JP2013167832A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | V Technology Co Ltd | 偏光光照射方法、露光済み材製造方法及び露光装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2500746A1 (de) * | 1974-01-12 | 1975-07-17 | Canon Kk | Belichtungseinrichtung |
US4080072A (en) * | 1976-01-12 | 1978-03-21 | Canadian Instrumentation And Research Limited | Additive lamphouse for contact printing |
JPS54111832A (en) * | 1978-02-22 | 1979-09-01 | Hitachi Ltd | Exposure device |
JPS54138649A (en) * | 1978-04-20 | 1979-10-27 | Asahi Chemical Ind | Production of spun like processed yarn |
US4206494A (en) * | 1978-09-05 | 1980-06-03 | Gca Corporation | High throughput illuminator |
DE2949708A1 (de) * | 1978-12-20 | 1980-11-06 | Jenoptik Jena Gmbh | Beleuchtungssystem fuer fotografische kopiergeraete |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB508219A (en) * | 1937-01-27 | 1939-06-28 | Zeiss Ikon Ag | Improvements in or relating to illuminating means for optical projection |
GB510412A (en) * | 1937-11-06 | 1939-08-01 | Zeiss Ikon Ag | Improvements in or relating to illumination means for optical projection |
GB654175A (en) * | 1946-04-05 | 1951-06-06 | Edgar Gretener | An improved optical illumination system |
GB1546513A (en) * | 1976-03-05 | 1979-05-23 | Le I Tochnoj Mekhaniki Optiki | Device for coherent lighting of objects |
FR2455299A1 (fr) * | 1979-04-23 | 1980-11-21 | Thomson Csf | Illuminateur a lampe a arc et dispositif optique de transfert par projection comportant un tel illuminateur |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP57115846A patent/JPS597359A/ja active Pending
-
1983
- 1983-06-27 US US06/508,333 patent/US4497013A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-07-01 DE DE19833323852 patent/DE3323852A1/de active Granted
- 1983-07-01 GB GB08317914A patent/GB2125983B/en not_active Expired
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2500746A1 (de) * | 1974-01-12 | 1975-07-17 | Canon Kk | Belichtungseinrichtung |
US4080072A (en) * | 1976-01-12 | 1978-03-21 | Canadian Instrumentation And Research Limited | Additive lamphouse for contact printing |
JPS54111832A (en) * | 1978-02-22 | 1979-09-01 | Hitachi Ltd | Exposure device |
JPS54138649A (en) * | 1978-04-20 | 1979-10-27 | Asahi Chemical Ind | Production of spun like processed yarn |
US4206494A (en) * | 1978-09-05 | 1980-06-03 | Gca Corporation | High throughput illuminator |
DE2949708A1 (de) * | 1978-12-20 | 1980-11-06 | Jenoptik Jena Gmbh | Beleuchtungssystem fuer fotografische kopiergeraete |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0177314A2 (de) * | 1984-10-01 | 1986-04-09 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Hochdruckplatten durch Projektionsbelichtung |
EP0177314A3 (de) * | 1984-10-01 | 1987-11-19 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Hochdruckplatten durch Projektionsbelichtung |
EP0302130A1 (de) * | 1987-08-05 | 1989-02-08 | Mercotrust Aktiengesellschaft | Belichtungseinrichtung |
DE4301716A1 (de) * | 1992-02-04 | 1993-08-05 | Hitachi Ltd | |
DE4301716C2 (de) * | 1992-02-04 | 1999-08-12 | Hitachi Ltd | Projektionsbelichtungsgerät und -verfahren |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8317914D0 (en) | 1983-08-03 |
JPS597359A (ja) | 1984-01-14 |
GB2125983A (en) | 1984-03-14 |
GB2125983B (en) | 1985-10-30 |
US4497013A (en) | 1985-01-29 |
DE3323852C2 (de) | 1992-05-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3323852A1 (de) | Beleuchtungsvorrichtung | |
DE69326630T2 (de) | Beleuchtungsvorrichtung für einen Projektionsbelichtungsapparat | |
DE2952607C2 (de) | Verfahren zur optischen Herstellung einer Einstellscheibe für eine Kamera | |
DE3343145C2 (de) | ||
DE2828530A1 (de) | Achromatisches optisches system | |
DE3114682A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum ausrichten von einander beabstandeter masken- und waferelementen | |
DE69511920T2 (de) | Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung | |
DE2910280A1 (de) | Optisches abbildungssystem | |
DE102008051252B4 (de) | Projektionsobjektiv und Projektor | |
DE2934397A1 (de) | Hochleistungs-lichtquelle | |
DE2947728C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Verbindungseinrichtung von mindestens zwei Lichtleitern und Verbindungseinrichtung nach diesem Verfahren | |
DE3418188C2 (de) | ||
DE3208753A1 (de) | Epidunkles beleuchtungssystem | |
DE2913761A1 (de) | Spaltbeleuchtungsvorrichtung | |
DE4421053A1 (de) | Beleuchtungseinrichtung | |
DE3108018C2 (de) | ||
DE19612846A1 (de) | Anordnung zur Erzeugung eines definierten Farblängsfehlers in einem konfokalen mikroskopischen Strahlengang | |
DE3151221A1 (de) | "abtastobjektiv fuer abtastung mit gleichmaessiger geschwindigkeit mit hohem aufloesungsvermoegen" | |
DE2906440A1 (de) | Spektrometer | |
DE102020126716A1 (de) | Projektionsvorrichtung für ein Mikroprojektionslichtmodul für einen Kraftfahrzeugscheinwerfer | |
DE102017200934A1 (de) | Verfahren zum Betrieb eines Manipulators einer Projektionsbelichtungsanlage | |
EP0613569B1 (de) | Hellfeld-durchlicht-beleuchtungseinrichtung für mikroskope | |
DE3432188A1 (de) | Verfahren zur bildung einer lichtquelle mittels einer linse mit brechzahlverteilung und eines lichtquellengeraets | |
DE3040569A1 (de) | Belichtungskorrektureinrichtung | |
DE2739274B2 (de) | Lichtoptisches Mikroskop für HeIl- und Dunkelfeldbeleuchtung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: G03B 27/16 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |