DE3322484A1 - Widerstandsteil eines schiebewiderstandes - Google Patents

Widerstandsteil eines schiebewiderstandes

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Description

  • Widerstandsteil eines Schiebewiderstandes
  • Die Erfindung betrifft ein Widerstandsteil eines Schiebewiderstandes, in welchem ein Abgriffgleiter auf der Oberfläche eines auf einem Isolierstoffträger befindlichen Widerstandsstreifens entlang gleitet.
  • Sogenannte Dünnfilmwiderstände, bei denen auf einem Isolierstoffträger eine dünne Metallfilmwiderstandsschicht angeordnet ist, die im Vakuum, im Kathodensputterverfahren oder durch Plattieren aufgebracht ist, besitzen bessere Eigenschaften als bekannte Metallackwiderstände oder gedruckte Widerstände hinsichtlich ihres Temperaturkoeffizienten, des Abgriffgleitgeräusches oder der Belastbarkeit, doch haben die Dünnfilmwiderstände wegen der geringen mechanischen Festigkeit gegenüber dem Abgriffgleiter kurze Lebensdauer und damit als Schiebewiderstand nur begrenzte Brauchbarkeit.
  • Ein Dünnfilmwiderstand der Substrattype, der durch ein subtraktives Behandlungsverfahren (Maskenätzverfahren) erhalten wird, ist in der US-PS 4 220 945 beschrieben, weist eine dreischichtige gedruckte Schaltungsplatte mit einer aufgebrachten Metalldünnfilmwiderstandsschicht auf, die beispielsweise durch Plattieren auf einer Seite einer Kupferfolie gewonnen wird, über die eine isolierende Trägerplatte geschichtet wird. Der Widerstandstemperaturkoeffizient dieses Widerstandes, seine Gleichmäßigkeit und andere Eigenschaften sind besser.
  • Er ist außerdem leicht, er reißt nicht leicht oder schuppt nicht leicht ab und ist billig herzustellen. Dennoch ist diese Metalldünnfilmwiderstandsschicht des Widerstandes sehr anfällig bezüglich mechanischer Reibungskräfte.
  • Daraus ergibt sich, daß der Widerstandswert eines Schiebewiderstandes steigt, wenn der Abgriffgleiter über die Oberfläche der Metalldünnfilmwiderstandsschicht hin- und hergeschoben wird. Ohne eine Schutzschicht aus einem isolierenden Harz ist außerdem die Widerstandsschicht anfällig gegenüber Feuchtigkeit, Hitze und Lötmittel. Daraus ergibt sich, daß der auf einem Substrat aufgebrachte Dünnfilmwiderstand sich als Widerstandselement für einen Stellwiderstand mit Gleiterabgriff nicht eignet.
  • Es wurde auch bereits ein Widerstand eingesetzt, der zahlreiche goldplattierte Elektroden aufwies, die im Muster der Zähne eines Kammes auf einer Metalldünnfilmwiderstands schicht angebracht waren und auf denen ein Abgriffgleiter verschoben wurde. Sind jedoch sehr feine Einstellungen des Widerstandswertes erforderlich, so ist ein solcher Widerstand ungeeignet, da die Änderungen des Widerstandswertes stufenweise und nicht kontinuierlich erfolgen. Außerdem benötigt dieser Widerstand für den Abgriffgleiter einen Elektrodenabschnitt, wodurch ein zusätzlicher Platz in der Breite des Widerstandes nötig wird. Zudem sind Elektroden mit dem Muster der Zäh- ne eines Kamms insoweit von Nachteil, als die abgelagerte Goldplattierung der Elektroden in Form von feinen Partikeln bei zahlreichen Gleitbewegungen des Abgriffgleiters immer mehr abgeschabt werden. Dadurch können zwischen den einzelnen Elektroden Kurzschlüsse entstehen.
  • Mit der Erfindung sollen die vorstehend aufgeführten Mängel herkömmlicher Widerstände vermieden werden, weshalb mit der Erfindung ein Teil für einen Gleiterabgriffstellwiderstand geschaffen wird, bei welchem auf einem Isolierstoffträger eine Dünnfilmwiderstandsschicht aufgebracht ist, auf deren Oberfläche der Abgriffgleiter entlanggeführt wird, und bei dem die Dünnfilmwiderstandsschicht auf dem Isolierstoffträger ein auf den Träger aufgeklebtes Hauptwiderstandsmuster und darüber ein schützendes Widerstandsschichtmuster aufweist, das einen höheren Flächenwiderstand als das Hauptwiderstandsmuster aufweist. Im einzelnen sind zur Erläuterung der Erfindung in der Zeichnung dargestellt in Fig. 1 eine Draufsicht eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung, Fig. 2 einen Schnitt nach der Linie a-a' in Fig. 1, Fig. 3 eine Draufsicht auf ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung, Fig. 4 und 5 Schnitte nach den Linien b-b' und c-c' in Fig. 3.
  • Der erfindungsgemäße Dünnfilmwiderstand ist mehrschichtig aufgebaut, und der Gesamtblattwiderstand der filmartigen Widerstandsschicht ist die Summe der Blatt- oder Folienwiderstände der Hauptwiderstandsschicht und der Schutz- widerstandsschicht. Da der Widerstandswert der Hauptwiderstands schicht kleiner als der Widerstandswert der Schutzwiderstandsschicht ist, dominiert ersterer den Gesamtwiderstandswert der Widerstandsfilmschicht. Die Hauptwiderstandsschicht ist zudem durch die Schutzwiderstandsschicht abgedeckt, so daß sie durch von außen wirkende Kräfte anläßlich der Gleitbewegung nicht beschädigt werden kann.
  • Eine Metalldünnfilmwiderstandsschicht, die ja bekanntlich sehr gute Eigenschaften hinsichtlich des Widerstandstemperaturkoeffizienten hat, kann in diesem Falle vorteilhaft -als Hauptwiderstandsschicht eingesetzt werden.
  • Fig. 1 in Draufsicht und Fig. 2 als Querschnitt entlang der Linie a-a' in Fig. 1 zeigen einen Isolierstoffträger 1, Kupferelektroden 2 und eine Filmwiderstandsschicht 3, die aus Hauptwiderstandsschicht 31 und Schutzwiderstandsschicht 32 besteht. Im Gebrauch gleitet ein (nicht gezeigter) Abgriffgleiter über die Oberfläche der Schutzwiderstandsschicht 32. Damit kommt über die Schutzwiderstandsschicht 32 eine elektrischvleitende Verbindung zwischen Abgriffgleiter und Hauptwiderstandsschicht 31 zustande, und da die Schutzwiderstandsschicht 32 äußerst dünn ist, ist ihr Widerstand senkrecht zur Schichtebene vernachlässigbar.
  • Die Fig. 3, 4 und 5 zeigen in Draufsicht bzw. in Schnitten nach den Linien b-b' und c-c' ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung mit einem Isolierstoffträger 1, einer Elektrode 2, einer Filmwiderstandsschicht 3, einer Gleiterabgriff-Schiene 4 und Befestigungslöchern 5.
  • Aus Fig. 4 sind die Hauptwiderstandsschicht 31 und eine Schutzwiderstandsschicht 32 und ferner ein durch Plattierung auf der Oberfläche der Abgriffgleiter-Schiene angebrachter Goldfilm 41, eine Kupferfolie 42 und eine Hauptwiderstandsschicht 43 erkennbar. Fig. 5 zeigt einen durch Plattierung auf der Oberfläche der Elektrode 2 aufgebrachten Goldfilm 21, eine Kupferfolie 22 und die Hauptwiderstandsschicht 23. Der Isolierstoffträger 1 kann ein Plättchen aus Keramik, Glas, einem Glas-Epoxidharzlaminat, einem Papier-Epoxidharzlaminat oder einem Papier-Phenolharzlaminat sein.
  • Die Hauptwiderstandsschicht besteht aus einem elektrischen Widerstandsmaterial mit einer Dicke von 0,01 bis 7 m und einem Schichtwiderstand von 5 Ohm je Flächeneinheit bis 30 Kiloohm je Flächeneinheit. Die Hauptwiderstandsschicht kann ein Metalldünnfilmwiderstand sein, der durch Elektroplattierung, nicht-elektrolytisches Plattieren, im Kathodensputterverfahren, durch Vakuumaufdampen oder im chemischen Aufdampfverfahren aufgebracht ist, oder ein Metallkeramikwiderstand, der durch Brennen einer Mischung aus Metall und Keramik aufgebracht ist, sein. Die Schutzwiderstandsschicht besteht aus einem elektrischen Widerstandsmaterial mit einer Dicke von 10 bis 30 ßm und einem Schichtwiderstand von 100 Ohm je Flächeneinheit bis 300 Kiloohm je Flächeneinheit. Vorzugsweise wird die Schutzwiderstandsschicht aus einem .abriebfesten Material hergestellt, z.B. aus einer Paste, die ein elektrisch leitfähiges Pulver, wie Kohlenstoffpulver, Silberpulver oder Nickelpulver und ein thermisch aushärtendes Harz, wie Epoxidharz oder Polyimidharz, enthält, oder aus einer Paste, in der ein Edelmetall, wie Gold, Silber oder Palladium, ein Grundmetall, wie Nickel und Glasstaub enthalten sind. Das abriebfeste Material wird durch Aufdrucken und Aushärten oder Backen aufgebracht.
  • Es ist nötig, daß der Flächenwiderstand der Schutzwiderstandsschicht größer als der der Hauptwiderstandsschicht ist. Vorzugsweise ist der erstere Widerstandswert das 5- bis 300fache des letzteren. Bei dem mit drei Schichten aufgebauten Schiebewiderstand wird vorteilhaft ein Metalldünnfilmwiderstand, insbesondere ein durch Elektroplattieren erhaltener, als Hauptwiderstandsschicht 31 verwendet, während als Schutzwiderstandsschicht 32 eine gedruckte Widerstandsschicht verwendet wird, die durch Aufdrucken einer Kohlenstoff-Harz-Paste und thermisches Aushärten dieser aufgebrachten Paste erhalten wird.
  • Der Widerstandswert des Schiebewiderstandes gemäß der Erfindung bildet sich aus der Summe der Widerstandswerte der Hauptwiderstandsschicht 31 und der Schutzwiderstandsschicht 32. In einer Schichtenkombination, in der der Schichtwiderstandswert der Schutzwiderstandsschicht das 100-fache desjenigen der Hauptwiderstandsschicht beträgt, ist der Unterschied zwischen dem Gesamtwiderstandswert und dem Widerstandswert der Hauptwiderstandsschicht etwa 1 %. Der Widerstandswert der Hauptwiderstandsschicht bestimmt also praktisch den Widerstandswert.des Schiebewiderstandes.
  • Die Eigenschaften der Schutzwiderstandsschicht, wie ihr Widerstandstemperaturkoeffizient, die Lebensdauer, die Feuchtigkeitssicherheit, ihre Festigkeit bezüglich Wärmeschocks, beeinflussen die Eigenschaften des Schiebewiderstandes vernachlässigbar, so daß die äußeren Eigenschaften des Schiebewiderstandes praktisch durch die Eigenschaften der Hauptwiderstandsschicht bestimmt sind. Damit können durch geeignete Auswahl der Materialien der Hauptwiderstands schichten der Schutzwiderstandsschicht Teile für Schiebewiderstände hergestellt werden, die die gewünschten elektrischen Widerstands eigenschaften haben und dem Abgriffgleiter sehr gute mechanische Widerstandsfähigkeit entgegensetzen.
  • Nachfolgend wird die Erfindung an ausgeführten Beispielen in Verbindung mit typischen Herstellungsverfahren näher erläutert.
  • Beispiel 1 Eine Seite einer Kupferfolie, die in vorgeschriebenen Abmessungen zugeschnitten wurde, wurde mit einer maskierenden Klebeschicht bedeckt (Produkt der Nitto Electric Industrial Co., Ltd. unter der Markenbezeichnung SPV Nr. 224: Polyvinylchloridfolie mit druckempfindlichem Kleber auf Acrylbasis). Die so beschichtete Kupferfolie wurde dann in eine Reinigungslösung getaucht (neutrale Oberflächenreinigungslösung aus einer 1:1-Mischung aus Neutra-Clean 68-Konzentrat von Shipley mit Wasser) und 3 min lang bei 400C darin gehalten. Daran schloß sich ein Wasserbad an. Als Nächstes wurde die beschichtete Kupferfolie 3 min lang in eine 20%ige wässrige Salzsäurelösung getaucht, mit deionisiertem Wasser gewaschen und in einem Plattierungsbad folgender Zusammensetzung behandelt: 19,0 g/l SnCl2 2H2O, 30,o g/l NiCl2-6H2O, 200 g/l- K4P2O73H2O, 20 20 g/l Nitroethan, 10 g/l Ammoniumzitrat, eine geringe Menge einer 28%igen wässrigen Ammoniaklösung zur pH-Werteinstellung (pH 8,2 bei 25°C), und zwar bei 50°C mit einer Stromdichte von 0,1 A/dm² unter Verwendung einer Nickelplatte als Anode und während 20 s -im ruhig belassenen Bad. Bei dieser Elektroplattierung ergab sich einseitig auf der Kupferfolie eine Widerstandsschicht von 0,02 Am Stärke. Die abgelagerte Widerstandsschicht der Sn-Ni-Legierung hatte einen Schichtwiderstand von 100 Ohm/Flächeneinheit.
  • Als Nächstes wurde über die Widerstandsschicht ein mit Epoxidharz imprägniertes Glasgewebe gedeckt und unter Druck- und Wärmeanwendung in einer Presse zu einem Isolierstoffträger gepreßt. Damit war ein Substrat in Form einer gedruckten Schaltung mit einer Widerstandsschicht erhalten. Dieses Substrat wurde auf der Seite der Kupferfolie mit einem Photowiderstandsfilm abgedeckt (z.B. Liston 16S der Firma DuPont) und in üblicher Weise so belichtet und entwickelt, daß nur die Teile der Kupferfolie belichtet wurden, die den Kupferelektroden 2 in Fig. 1 entsprechen. Die freiliegenden Flächen der Kupferfolie wurden dann mit einer Lötschicht von etwa 5 ßm Stärke beschichtet. In herkömmlichen Verfahren wurde der Photowiderstand danach beseitigt. Anschließend wurde die gesamte Oberfläche der Kupferfolie erneut mit dem Photowiderstand überzogen, belichtet und entwickelt, so daß nur die Bereiche des Photowiderstandes bestehen blieben, die der Widerstandsfilmschicht 3 in Fig. 1 entsprechen, während die übrigen Bereiche des Photowiderstandes weggeätzt wurden.
  • Die Oberfläche der so behandelten Kupferfolie wurden mit einer ammoniakhaltigen Kupferätzlösung behandelt ("Alkali Etch" der Firma Yamatoya Shokai), wodurch die freiliegenden Bereiche der Kupferfolie weggeätzt wurden.
  • Als Nächstes wurde die durch den Atzvorgang freigelegte Widerstandsschicht mit einer Ätzlösung behandelt, die 12,5 Mol/l Phosphorsäure, 4x103 Mol/l Kupferphosphat, Rest Wasser, enthielt, und darin bei 850C während 10 min der Isolierstoffträger freigeätzt.
  • Der noch auf dem Substrat verbliebene Photowiderstand wurde danach abgezogen und die auf dem Widerstandsmuster befindliche Kupferfolie durch Ätzen in oben beschriebener Weise entfernt. Während dieser Ätzbehandlung wurde der Elektrodenteil der Kupferfolie gegen den Ätzvorgang durch die Lotbeschichtung, die bereits vorher aufplattiert war, geschützt. In der Widerstandsschicht, die so zwischen den Kupferelektroden 2 gebildet worden war (diese Widerstands schicht entspricht der Hauptwiderstandsschicht 31 gemäß der Erfindung), betrug der Widerstandswert 20 Kiloohm.
  • Schließlich wurde die freiliegende Widerstandsschicht zwischen den Kupferelektroden 2 mit einer Karbonharzpaste (z.B. "LTR 2103" der Firma Method Development Corp., einer Graphit-Epoxidharz-Paste) durch Bedrucken mit einer Siebmaske von 200 Mesh Siebfeinheit überdeckt und dann bei 1630C während 2,5 h gebacken, so daß eine 20 am starke Schutzwiderstandsschicht erhalten wurde.
  • Dieselbe Schutzwiderstandsschicht allein in einem gesondert gefahrenen Versuch zeigte einen Schichtwiderstandswert von 10000 Ohm je Flächeneinheit, während das nach dem obigen Verfahren erhaltene Schiebewiderstandsteil einen Widerstandswert von 19,9 Kiloohm je Flächeneinheit zwischen den beiden Elektroden hatte.
  • Anschließend wurde ein Vielfachkontakt-Abgriffgleiter mit einem Gesamtkontaktdruck von 35 g mit 100.000 Gesamtbewegungsspielen (je ein Hin- und Hergang) und einer Geschwindigkeit von 2000 Bewegungsspielen pro h über das Widerstandselement geführt. Zwischen den Messungen vor und nach der Dauerbeanspruchung wurde eine Widerstandserhöhung um 3,2 % festgestellt.
  • In einem Vergleichsversuch auf einem ohne die Schutzwiderstandsschicht nur mit der freiliegenden Hauptwiderstandsschicht versehenen Schiebewiderstandsteil stieg der Widerstandswert auf das 5-fache des Anfangswertes, nachdem der Abgriffgleiter 50 Bewegungsspiele (90 s lang) mit einer Geschwindigkeit von 200 Bewegungsspielen pro h ausgeführt hatte. In der nachfolgenden Tabelle 1 bei in det sich ein Ergebnisvergleich von Prüfungen dreier Widerstände hinsichtlich ihres Widerstandstemperaturkoeffizienten, ihrer Widerstandsfähigkeit gegenüber hohen Temperaturen, gegenüber hoher Feuchtigkeit, gegenüber Feuchtigkeit unter Belastung und gegenüber thermischen Schocks zusätzlich zu den Gleiteigenschaften, wobei ein Widerstand gemäß der Erfindung nach vorliegendem Beispiel, ein Widerstand, der nicht mit der Schutzwiderstandsschicht beschichtet war (Vergleichswiderstand 1) und ein gedruckter Widerstand (Vergleichswiderstand 2) gegenübergestellt sind, der durch Drucken und Aushärten der als Überzugsmittel verwendeten Karbonpaste hergestellt wurde.
  • Tabelle 1 Untersuchung Bedingungen des Versuchs Widerstand gemäß Vergleichs- Vergleichs-Erfindung widerstand 1 widerstand 2 Widerstands- Temperaturbereich : +50 PPM/°C +50 PPM/°C +450 PPM/°C temperatur- -55°C bis +155°C koeffizient Gleiteigenschaft* Mehrfachkontaktgleiter (gesamter +3,2% +500% + 2,7% Kontaktdruck 35 g) 100.000-mal 50-mal 100.000-mal Gleitergeschwindigkeit 2000 Spiele/h Widerstandsfähig- 240 h ohne Belastung in normaler +0,5% +2,3% +7,4% keit gegenüber Atmosphäre bei 100°C hoher Temperatur* Widerstandsfähigkeit 500 h ohne Belastung bei 85°C und +1,2% +14,3% +10,7% gegenüber hoher Feuchtig- 85 % relative Feuchte keit * Widerstandsfähigkeit bei 40°C und 90 % rel. Feuchte +0,3% +7,5% +13,4% gegenüber Feuchtigkeit während 1000 h und 1 W/cm² der unter Belastung* Widerstandsfläche Widerstandsfähigkeit 100 Zyklen von abrupten Temperagegenüber thermischem tursprüngen zwischen -55°C x 30 min +0,3% +1,2% +15,0% Schock* auf +125°C x 30 min.
  • *Die angegebenen %-Angaben sind Widerstandswertänderungen zwischen Anfang und Ende der Behandlung.
  • Beispiel 2 Auf einem Glasplättchen von 40 mm Länge, 15 mm Breite und 0,5 mm Stärke ("1723" der Firma Corning; Kalk-Tonerde-Silikat) wurde im Vakuum ein Keramikmetall (Cr-SiO) aufgebracht. Vor der Vakuumablagerung wurde das Substrat bei 3000C für 30 min für die Entgasung thermisch behandelt.
  • Die Vakuumablagerung vollzog sich bei 3000C und 1 bis 5 2x10 Torr. Nach der Vakuumablagerung wurde das Substrat 60 min lang bei 3000C einer Wärmebehandlung unterzogen, und es wurde eine Filmstärke von 300 Ä und eine Mustergestalt von 5 mm x 100 mm erreicht.
  • Der so erhaltene abgelagerte Film hatte einen Schichtwiderstand von 300 Ohm pro Flächeneinheit und einen Widerstandswert von 6 Kiloohm pro Flächeneinheit zwischen den Elektroden.
  • Auf der im Vakuum abgelagerten Schicht der Metallkeramik wurde dann eine dickschichtige Widerstandspaste aus Rutheniumoxid (Thermalloy 600" der Thermatronics Trading Co., Ltd.) mittels einer Siebmaske von 200 Mesh aus rostfreiem Stahl aufgedruckt. Die aufgedruckte Paste konnte sich während 20 min bei 200C im Niveau ausgleichen und wurde dann 20 min lang bei 1200C getrocknet und anschließend 10 min lang bei 600 bis 6300C gebacken, womit eine 20 ßm starke Schutzwiderstandsschicht hergestellt war. Der Schichtwiderstand der Schutzwiderstandsschicht allein betrug 8700 Ohm/Flächeneinheit und der Widerstand zwischen den beiden Elektroden des Stellwiderstandes betrug 8,5 Kiloohm je Flächeneinheit.
  • Ein Mehrkontaktabgriffgleiter mit einem Gesamtkontaktdruck von 35 g wurde in 100.000 Spielen mit 2000 Spielen/h über den Widerstand geführt. Ein Vergleich der Messungen vor und nach dem Verschleißversuch ergab eine Widerstandserhöhung von etwa 1 %.
  • In einem Vergleichsversuch wurde ein Filmwiderstand aus der oben beschriebenen Metallkeramik (Flächenwiderstand von 300 Ohm je Flächeneinheit) ohne die dicke Schicht der beschriebenen Paste Abriebsversuchen unter denselben Bedingungen unterzogen. Von 10 Versuchsobjekten endeten 2 mit vorzeitiger Unterbrechung, während in 8 Fällen nach 10.000 Bewegungsspielen der Widerstandswert nach Ende des Versuches um mehr als 30 % zugenommen hatte. Mit Ausnahme der vorstehend erwähnten Gleitabriebeigenschaften wurden die sonstigen Eigenschaften einschließlich Widerstandstemperaturkoeffizient als nicht erwähnenswert durch die Beschichtung mit der dicken Schicht beeinflußt.

Claims (6)

  1. Widerstandsteil eines Schiebewiderstandes Patentansprüche 1.Widerstandsteil eines Schiebewiderstandes, bei welchem eine Filmwiderstandsschicht auf einem Isolierstoffträger angeordnet ist, auf der ein Abgriffgleiter gleitet, dadurch gek e n n z e ich n e t daß die Filmwiderstandsschicht (3) eine Hauptwiderstandsschicht (31) aufweist, die mit dem Isolierstoffträger (1) verklebt ist und von einer Schutzwiderstandsschicht (32) überdeckt ist, wobei die Schutzwiderstandsschicht (32) einen größeren Schichtwiderstandswert als die Hauptwiderstandsschicht (31) hat.
  2. 2. Widerstandsteil nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß die Schutzwiderstandsschicht (32) aus einem abriebfesten Material mit einer Dicke von 10 bis 30 ßm und einem Schichtwiderstand von 100 Ohm/Flächeneinheit bis 300 Kiloohm/Flächeneinheit besteht.
  3. 3. Widerstandsteil nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß der Schichtwiderstandswert der Schutzwiderstandsschicht (32) 5- bis 300mal so groß wie derjenige der Hauptwiderstandsschicht (31) ist.
  4. 4. Widerstandsteil nach Anspruch 2, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß das abriebfeste Material aus (1) einer Paste von (a) elektrisch leitfähigem Kohlenstoffpulver, Silberpulver oder Nickelpulver und (b) einem thermisch aushärtbaren Harz oder (2) einer Paste von (a) von Gold, Palladium oder Silber, (b) einem Basismetall, wie Kupfer oder Nickel und (c) einer Glasschmelzmasse besteht.
  5. 5. Widerstandsteil nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß die Hauptwiderstandsschicht (31) einen metallischen Dünnfilmwiderstand oder einen Keramikmetallwiderstand in einer Dicke von 0,01 bis 7 Am und mit einem Schichtwiderstandswert von 5 Ohm je Flächeneinheit bis 30 Kiloohm je Flächeneinheit aufweist.
  6. 6. Widerstandsteil nach Anspruch 5, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß die Hauptwiderstandsschicht (31) durch Elektroplattierung eines metallischen Dünnfilmwiderstandes hergestellt ist.
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