DE3322341C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung
von Werkstücken durch Glimmentladung, bei welchem
zwischen das in einem Rezipienten enthaltene Werkstück
und einer Gegenelektrode Spannungsimpulse zum
Zünden und Aufrechterhalten einer Glimmentladung gelegt
werden.
Es ist bekannt Oberflächenbehandlungen von Werkstücken
durch Glimmentladungen vorzunehmen. Auf diese Weise
können beispielsweise metallische Werkstücke einer
Oberflächenumwandlung durch Nitrieren u. dgl. ausgesetzt
werden. Auch Beschichten, Härten, Glühen u. dgl. sind
mit Glimmentladungen möglich. Dabei wird üblicherweise
das Werkstück als Kathode und die das Werkstück
umgebende Wandung eines Vakuumgefäßes als Anode an eine
Spannungsquelle von einigen 100 bis 1000 Volt geschaltet.
In der sich ausbildenden Glimmentladung, die sich
über die gesamte zu behandelnde Werkstückoberfläche
erstrecken soll, werden sogenannte aktive Spezies erzeugt,
die zu der gewünschten Oberflächenmodifikation
führen. Die Glimmentladung wird normalerweise mit
Gleichstrom gespeist.
Bei derartigen Glimmentladungen muß einerseits die
Spannung so hoch gewählt werden, daß die Glimmentladung
die gesamte zu behandelnde Werkstückoberfläche erfaßt
(vollständige Beglimmung), andererseits darf die Spannung
aber nicht so hoch sein, daß eine Bogenentladung
stattfindet, weil dann die Gefahr von Beschädigungen
des Werkstückes besteht. Wenn die Glimmentladungsstrecke
kontinuierlich mit Gleichspannung versorgt wird, ist
die Einhaltung der Glimmbedingungen kritisch. In der
Regel wird eine Schnellabschalteinrichtung verwendet,
die bei Gefahr von Bogenentladungen einen Kurzschluß
hervorruft und hierdurch das Werkstück schützt. Beim
Speisen der Entladung mit Gleichstrom ist die sich am
Werkstück einstellende Temperatur insbesondere abhängig
von der Spannung, dem Druck und der Gasart. Dies ist
ein grundsätzlicher Nachteil, da aus verfahrenstechnischen
Gründen insbesondere Druck und Temperatur entkoppelt
sein sollten. Die Werkstücktemperatur beeinflußt
aber andererseits auch den Übergang von der Glimmentladung
zur Bogenentladung.
Zur Entkopplung der Prozeßparameter und um die Gefahr
von Bogenentladungen zu vermeiden, ist es bekannt, die
Glimmentladung mit Rechteckimpulsen mit variablem Tastverhältnis
zu speisen. Werden die Impulspausen zu groß,
dann treten jedoch Wiederzündprobleme auf. Die Impulsspannung,
die ausreicht, um eine gezündete Glimmentladung
aufrechtzuerhalten, ist u. U. nicht in der Lage,
das neuerliche Zünden zu bewirken. Außerdem treten bei
dem bekannten Verfahren hohe Schaltverluste auf, da das
Einschalten und Abschalten während des Stromflusses
erfolgt. Aus diesen Gründen konnten sich die Impulsverfahren
bisher nicht durchsetzen.
Aus EP 00 62 550 A1 ist ein Behandlungsverfahren bekannt,
bei dem das Werkstück in einem beheizten Rezipienten
enthalten ist und bei dem zwischen einer Anode
und dem kathodisch geschalteten Werkstück eine Glimmentladung
dadurch erfolgt, daß ein kaltes Plasma erzeugt
wird. Die Glimmentladungsimpulse werden mit einer
relativ hohen Frequenz zwischen 100 Hz und 10 kHz erzeugt,
wobei die Pulsdauer 1-10 µS beträgt. Auch bei
diesem Verfahren können Wiederzündprobleme auftreten.
Das Problem der hohen Schaltverluste durch Ein- und
Abschalten eines hohen Stromflusses ist nicht gelöst.
Bei Lichtbogensteuerung, z. B. für Schweißgeräte, ist es
bekannt, Stromquellen, die zunächst eine sehr hohe Spannung
von z. B. mehreren 10 000 V zum lokalen Durchschlagen
der Atmosphäre liefern, zu verwenden, um dann
eine Bogenspannung von wenigen Volt zu liefern. Für die
Verhältnisse in einer Niederdruckentladung sind diese
Einrichtungen wegen der unterschiedlichen physikalischen
Bedingungen jedoch nicht geeignet.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
der eingangs genannten Art zu schaffen, mit dem einerseits
Bogenentladungen und damit Werkstückbeschädigungen
vermieden werden, andererseits aber keine Wiederzündprobleme
auftreten. Dabei soll das Verfahren gut
steuerbar sein und einen hohen Wirkungsgrad aufweisen.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist erfindungsgemäß vorgesehen,
daß die Spannungsimpulse jeweils im Anfangsbereich
eine Impulsspitze zum Zünden der Glimmentladung
aufweisen und anschließend in einen Bereich mit zum
Aufrechterhalten der Glimmentladung geeigneter Amplitude
übergehen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren weist jeder Impulse
im Anfangsbereich eine Impulsspitze auf, die größer ist
als die Zündspannung der Glimmentladung. Wenn mit dieser
kurzzeitigen Impulsspitze die Glimmentladung gezündet
ist, wird sie im weiteren Verlauf des Spannungsimpulses
durch eine Spannung mit niedrigerer Amplitude
aufrechterhalten. Durch diese niedrigere Spannung, die
unterhalb der Zündspannung liegt, werden Bogenentladungen
vermieden. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren
können unterschiedliche Tastverhältnisse realisiert
werden, wobei insbesondere auch große Impulsabstände
gewählt werden können, ohne daß Wiederzündprobleme auftreten.
Damit ist es möglich, für jede Behandlungsart
und Werkstücktemperatur geeignete Impulsspannungen und
Tastverhältnisse auszuwählen. Sowohl beim Ein- als auch
beim Ausschalten ist der Schalter weitgehend stromlos.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung
ist vorgesehen, daß die Spannungsimpulse vor der Impulsspitze
einen Abschnitt mit konstanter niedriger
Amplitude aufweisen. Hierbei beginnen die Spannungsimpulse
nicht unmittelbar mit der überhöhten Impulsspitze.
Die Impulsspitze wird vielmehr mit einer gewissen
Verzögerung erzeugt, nachdem der Ladestrom zur Vorbereitung
der Impulsspitze abgeklungen ist. Hierdurch
werden die Schaltverluste auf ein äußerst geringes Maß
reduziert.
Das Tastverhältnis von Spannungsimpulsen zu Impulspausen
ist vorzugsweise sehr klein und es liegt in der
Größenordnung von 1 : 10 bis 1 : 500.
Eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens ist dadurch gekennzeichnet, daß die Glimmentladungsstrecke
zwischen Werkstück und Gegenelektrode
in Reihe mit einem impulsgesteuerten ersten Schalter an
einer Versorgungsspannung liegt, daß eine Kondensatorschaltung,
die über die Glimmentladungsstrecke aufladbar
ist, beim Schließen des ersten Schalters mit ihrem
einen Pol an ein festes Bezugspotential gelegt wird,
derart, daß der andere Pol ein außerhalb des Bereichs
der Versorgungsspannung liegendes Potential annimmt,
und daß die Kondensatorschaltung über einen zweiten
Schalter bei dessem Schließen über die Glimmentladungsstrecke
entladbar ist. Hierbei erfolgt nach Beendigung
eines Spannungsimpulses eine Aufladung der Kondensatorschaltung
über die Glimmentladungsstrecke. Dabei wird
der Strom durch den ersten Schalter von der Kondensatorschaltung
übernommen, so daß das Ausschalten mit
sehr geringen Verlusten erfolgt.
Beim Schließen des ersten Schalters wird an der Kondensatorschaltung
eine Potentialänderung vorgenommen, indem
der eine Pol des Kondensators beispielsweise mit
einem Pol der Versorgungsspannung verbunden wird. Die
Kondensatorspannung wird hierdurch der Versorgungsspannung
hinzuaddiert. Die Entladung der Kondensatorschaltung
erfolgt anschließend durch Schließen des zweiten
Schalters in einem gewissen Zeitabstand zum Schließen
des ersten Schalters. Dabei wird das Werkstück kurzzeitig
an eine Spannung gelegt, die um den Betrag der
Ladespannung der Kondensatorschaltung höher ist als die
Versorgungsspannung. Hat sich die Kondensatorspannung
entladen, dann kann der zweite Schalter wieder geöffnet
werden, während die Glimmentladung durch die an der
Glimmentladungsstrecke anliegende Versorgungsspannung
aufrechterhalten wird. Der Spannungsimpuls wird durch
Öffnen des ersten Schalters beendet.
Die Kondensatorschaltung besteht im einfachsten Fall
aus einem einzigen Kondensator oder mehreren parallelgeschalteten
Kondensatoren. Eine derartige Kondensatorschaltung
wird nach dem Schließen des ersten Schalters
auf die volle Versorgungsspannung aufgeladen. Dies
bedeutet, daß die Impulsspitze eine Amplitude hat, die
annähernd doppelt so groß ist wie die Versorgungsspannung.
Für manche Anwendungen ist eine so hohe Impulsspitze
unerwünscht. Um niedrigere Impulsspitzen zu erzeugen,
ist gemäß einer bevorzugten Weiterbildung der
Erfindung vorgesehen, daß die Kondensatorschaltung
mehrere Kondensatoren enthält, die über Dioden derart
gekoppelt sind, daß sie während des Aufladens in Reihe
geschaltet sind und nach dem Schließen des ersten und
des zweiten Schalters eine sich über die Glimmentladungsstrecke
entladende Parallelschaltung bilden. Wenn
die einzelnen Kondensatoren einander gleich sind, wird
jeder Kondensator der Kondensatorschaltung auf den Wert
UV/N aufgeladen, wobei UV die Versorgungsspannung und N
die Anzahl der Kondensatoren ist. Die Größe der auf die
Versorgungsspannung aufgesetzte Impulsspitze ist hierbei
um den Faktor 1/N kleiner als die Versorgungsspannung.
Durch die Anzahl der Kondensatoren kann somit die
Größe der Impulsspitze beeinflußt werden.
Bei kurzen Impulspausen wird die Kondensatorschaltung
über die Glimmentladungsstrecke nicht voll aufgeladen
bis der nächste Impuls gezündet wird. Die Amplitude der
Impulsspitze des nächstfolgenden Impulses ist daher
annäherungsweise proportional zur Dauer der Impulspause.
Dieser Effekt ist erwünscht, weil bei kurzzeitig
aufeinanderfolgenden Spannungsimpulsen kleinere Impulsspitzen
zum Zünden der Glimmentladung benötigt werden
als bei großen Impulspausen.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren sind neuartige
Plasmaprozesse möglich, die jedoch andere als die bisherigen
Behandlungsgefäße erfordern. Die herkömmlichen
Rezipienten können nicht oder nur geringfügig thermisch
isoliert werden, da aus physikalischen Gründen bei der
zur Behandlung erforderlichen Glimmbedeckung je nach
Gasart und Druck eine minimale Leistung pro Werkstückfläche
zugeführt werden muß. Bei einigen Plasmaprozessen
können an den kalten Flächen Kondensate auftreten,
die die vorgesehene Behandlung verhindern. Gemäß einer
bevorzugten Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen,
daß der Rezipient aus einem mit einer Heizvorrichtung
versehenen geschlossenen Behälter besteht, der von
einem wärmeisolierenden Mantel mit variablem radialem
Abstand so umgeben ist und, daß der Raum zwischen dem
Behälter und dem Mantel von einem Kühlmittel durchströmt
werden kann. Durch entsprechende Wahl des Kühlmittelstroms
und der Heizung kann die Wand auf einer
für den Prozeß erforderlichen Temperatur gehalten werden.
Vorzugsweise ist der Mantel in mehrere schnell
entfernbare Segmente unterteilt, so daß nach Beendigung
des Prozesses eine schnelle Abkühlung des Werkstückes
möglich ist.
Im folgenden werden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen
Ausführungsbeispiele der Erfindung näher erläutert.
Es zeigt
Fig. 1 eine Schaltungsanordnung zur Durchführung des
Verfahrens,
Fig. 2 Spannungsdiagramme an verschiedenen Punkten der
Schaltung nach Fig. 1,
Fig. 3 eine weitere Ausführungsform der Schaltung,
Fig. 4 einen schematischen Längsschnitt durch ein
Behandlungsgefäß und
Fig. 5 eine Draufsicht von Fig. 4.
Gemäß Fig. 1 ist ein Rezipient R vorgesehen, in welchem
das zu behandelnde Werkstück W angeordnet ist. Das
Werkstück W ist an eine Elektrode 10 angeschlossen,
während der Rezipient R die Gegenelektrode bildet. Der
Raum zwischen dem Werkstück W und dem Rezipienten R
bildet die Glimmentladungsstrecke 11.
Die Gegenelektrode ist mit dem positiven Pol der Versorgungsspannung
UV und mit dem einen Ende eines Widerstandes
R1 verbunden, dessen anderes Ende an die Elektrode
10 angeschlossen ist. Die Elektrode 10 ist mit
der Anode einer Diode D1 verbunden, deren Kathode über
einen Schalter S1 und einen Stromfühler 12 mit dem negativen
Pol der Versorgungsspannung UV verbunden ist.
Von dem Verbindungspunkt A zwischen der Kathode der
Diode D1 und dem Schalter S2 führt eine Reihenschaltung
aus einem Kondensator C1 und einer Diode D2 zum negativen
Pol der Versorgungsspannung UV. Der Verbindungspunkt
zwischen dem Kondensator C1 und der Anode der
Diode D2 ist mit B bezeichnet.
Vom Punkt B führt eine Leitung über den zweiten Schalter
S2 und einen Widerstand R2 zur Elektrode 10 bzw.
zum Punkt C.
Die Schalter S1 und S2 sind aus Gründen der einfacheren
Darstellung als mechanische Schalter gezeichnet.
Zweckmäßigerweise verwendet man hierfür jedoch elektronische
Schalter, z. B. Transistoren oder Thyristoren.
Der Schalter S1 wird von einem zeitgesteuerten Impulsgenerator
13 gesteuert, während der Schalter S2 von
einer Steuerschaltung 14 in Abhängigkeit von dem Strom
des Stromfühlers 12 sowie der Spannung über C1 und der
Zeit gesteuert ist.
In Fig. 2 sind die Spannungen UA, UB und UC an den
Punkten A, B und C der Schaltung nach Fig. 1 dargestellt
und außerdem die Spannung UG, die an der Glimmentladungsstrecke
11 auftritt. Nach dem Einschalten der
Versorgungsspannung UV lädt sich der Kondensator C1
über den Widerstand R1 und die Diode D1 sowie über die
Diode D2 auf. Hierdurch bauen sich die Spannungen UA
und UC an den Punkten A und C auf. Gemäß Fig. 2 ist das
Minuspotential der Versorgungsspannung UV als Nullpotential
angenommen. Wird der Schalter S1 von dem Impulsgenerator
13 geschlossen, so wird die mit dem Punkt
A verbundene obere Platte des Kondensators C1 auf Nullpotential
gelegt. Da die untere Platte dieses Kondensators
um nahezu den Betrag UV negativer ist als die
obere Platte, entsteht am Punkt B ein Potential, das um
diesen Betrag negativer ist als das Nullpotential. Die
Spannung UA geht dagegen zu diesem Zeitpunkt (S1 ein)
auf Null.
Die Steuerschaltung 14 enthält eine Verzögerungsschaltung,
die eine bestimmte kurze Zeitspanne, nachdem der
Strom durch den Stromfühler 11 einen Schwellwert überschritten
hat, anspricht und den Schalter S2 schließt
(S2 ein). Hierdurch entlädt sich der Kondensator C1
über den geschlossenen Schalter S2 und den Widerstand
R2 sowie über die Glimmentladungsstrecke 11. Die Spannung
UB verringert sich nach einer e-Funktion langsam
auf Null, während die Spannung UC plötzlich negativ
wird, um dann anschließend langsam wieder auf Null zu
gehen. Nach einer vorbestimmten Zeitspanne öffnet die
Steuerschaltung 14 den Schalter S2 wieder (S2 aus),
wodurch die Spannung UC auf Nullpotential gehalten
wird, so daß an der Glimmentladungsstrecke 11 nun die
Versorgungsspannung UV ansteht.
Wird der Schalter S1 anschließend von dem Impulsgenerator
13 wieder geöffnet (S1 aus), dann lädt sich der
Kondensator C1 über die Glimmentladungsstrecke 11 und
den parallelgeschalteten Widerstand R1 sowie über die
Diode D1 wieder auf. Der Widerstand der Glimmentladungsstrecke
ist jedoch erheblich kleiner als der Wert
des Widerstandes R1, so daß diese Aufladung schneller
erfolgt als die anfängliche Aufladung beim Einschalten
der Versorgungsspannung UV.
Die Form des Spannungsimpulses 15, der an der Glimmentladungsstrecke
11 auftritt, ist in der letzten Zeile
von Fig. 2 dargestellt. Der Spannungsimpuls 15 weist
zunächst einen stufenförmigen Bereich 16 auf, in dem
die Spannung auf den Wert der Versorgungsspannung UV
ansteigt. Die Dauer TV des Bereichs 16 ist von dem
Steuergerät 14 vorgegeben. Im Anschluß an den Bereich
16 tritt die Impulsspitze 17 auf, deren Spitzenwert der
Zündspannung UZ entspricht und annähernd doppelt so
groß ist wie die Versorgungsspannung UV.
Von der kurzzeitigen Impulsspitze 17 fällt die Spannung
nach einer e-Funktion bis auf den Bereich 18 ab, der
zur Aufrechterhaltung der Glimmentladung dient und die
Größe von UV hat. Beim Öffnen des Schalters S1 wird der
Spannungsimpuls beendet.
Das Ausführungsbeispiel der Fig. 3 unterscheidet sich
von demjenigen der Fig. 1 nur dadurch, daß anstelle des
einzigen Kondensators C1 die Kondensatorschaltung 19
aus zwei Kondensatoren C1 N und C2 N besteht, die durch
Dioden miteinander verkoppelt sind. Der eine Pol des
Kondensators C1 N ist mit dem Punkt A verbunden und der
andere Pol dieses Kondensators ist mit der Anode einer
Diode D5 N verbunden. Die Reihenschaltung des Kondensators
C1 N und die Diode D5 N ist durch eine Diode D3 N
überbrückt, deren Anode mit der Kathode von D5 N verbunden
ist und deren Kathode mit dem Punkt A verbunden
ist. Die Kathode der Diode D5 N ist mit dem einen Pol
des Kondensators C2 N verbunden, dessen anderer Pol an
die Anode der Diode D2 angeschlossen ist. Die Anode
der Diode D2 ist mit der Anode einer Diode D4 N verbunden,
deren Kathode mit der Anode der Diode D5 N und dem
Schalter S2 verbunden ist.
Die Kondensatoren C1 N und C2 N bilden vor dem Schließen
des Schalters S1 eine Reihenschaltung. Beide Kondensatoren
sind einander gleich. Sie werden über die in
Durchlaßrichtung betriebenen Dioden D5 N und D2 auf jeweils
die halbe Versorgungsspanne UV/2 aufgeladen.
Nach dem Schließen der Schalter S1 und S2 werden die
Dioden D5 N und D2 in Sperrichtung betrieben und die
Dioden D3 N und D4 N werden in Öffnungsrichtung betrieben.
Daher sind die Kondensatoren C1 N und C2 N zum Entladen
in Parallelschaltung betrieben. Dies hat zur Folge,
daß bei dem Ausführungsbeispiel der Fig. 3 die
Spannungsspitze 17 nur die halbe Höhe (über dem Spannungsniveau
UV) hat, wie bei dem Ausführungsbeispiel
der Fig. 1. Die Schaltung nach Fig. 3 wählt man, wenn
die Spannungsspitze 17 einen geringeren Wert haben
soll. Anstelle der beiden Kondensatoren C1 N und C2 N
könnten auch drei oder mehr Kondensatoren benutzt werden,
die zum Aufladen in Reihe, zum Entladen aber parallelgeschaltet
sind. In diesem Fall würde die Höhe
der Spannungsspitze noch mehr verringert werden.
In Verbindung mit der Schaltung nach Fig. 1 oder derjenigen
nach Fig. 3 wird das in den Fig. 4 und 5 dargestellte
Behandlungsgefäß benutzt. Dieses Behandlungsgefäß
weist einen rohrförmigen Rezipienten R auf, in
dem das Werkstück W in Kontakt mit der Leitung 10 angeordnet
wird. Der Rezipient R weist einen thermisch isolierten
Boden 20 auf und er ist mit einem ebenfalls
thermisch isolierten Deckel 21 verschlossen. Der Rezipient
R ist mit einer Heizwendel 22 umwickelt, um durch
äußere Wärmeeinrichtung eine bestimmte Temperatur am
Werkstück W zu erzielen, wobei die zum Aufheizen des
Werkstücks erforderliche Energie durch die Heizwendel
22, also durch externe Fremdheizung aufgebracht wird.
Der Rezipient R ist mit variablem radialem Abstand A
von einem wärmeisolierenden Mantel 23 umgeben, der nach
oben hin offen ist. Durch den Ringraum 24 zwischen
Rezipient R und Mantel 23 wird ein Kühlmedium, z. B.
Luft, nach unten angesaugt. Der Abstand des Isoliermantels
von der Behälterwand ist variabel und wird je nach
gewünschter Ringspaltbreite eingestellt. Beim Aufheizen
liegt die Isolierung am Behälter an. Beim forcierten
Abkühlen wird durch den Ringspalt das Kühlmedium mit
hoher Geschwindigkeit abgesaugt. Zum Ansaugen dient ein
am unteren Ende des Behandlungsgefäßes angeordneter
ringförmiger Ansaugkanal 25, der mit einem Gebläse 26
in Verbindung steht. Das Gebläse 26 verursacht in dem
Ringraum 24 eine abwärts gerichtete Kühlluftströmung
(Pfeil 27). Durch diese Kühlluftströmung wird im Innern
des Rezipienten durch Wärmeaustausch durch die Wand
hindurch eine Konvektionsströmung (Pfeil 28) erzeugt,
die ebenfalls nach unten gerichtet ist. Das im Innern
des Rezipienten R enthaltene Gas strömt an der Außenwand
nach unten und entlang des Werkstücks nach oben.
Hierdurch wird das Werkstück gleichmäßig thermisch beaufschlagt.
Um das Werkstück W nach Beendigung der Glimmentladungsbehandlung
schnell abkühlen zu können, ist der ringförmige
Mantel 23 in mehrere Segmente 231, 232, 233 unterteilt,
zwischen denen Dichtungselemente 29 angeordnet
sind. Die Segmente können einzeln radial nach außen
bewegt bzw. abgeklappt werden, so daß der Rezipient R
dann frei steht und unter dem Einfluß der Außenluft
oder durch Gebläsekühlung schnell abkühlen kann.
Claims (10)
1. Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken
durch Glimmentladung, bei welchem zwischen
das in einem Rezipienten (R) enthaltene Werkstück
(W) und eine Gegenelektrode Spannungsimpulse (15)
zum Zünden und vorübergehenden Aufrechterhalten
einer Glimmentladung gelegt werden,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Spannungsimpulse (15) jeweils im Anfangsbereich
eine Impulsspitze (17) zum Zünden der
Glimmentladung aufweisen und anschließend in einen
Bereich (18) mit zum Aufrechterhalten der Glimmentladung
geeigneter Amplitude übergehen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Spannungsimpulse (15) vor der Impulsspitze
(17) einen Abschnitt (16) mit konstanter niedriger
Amplitude aufweisen.
3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach
einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Glimmentladungsstrecke (11) zwischen
Werkstück und Gegenelektrode in Reihe mit einem
impulsgesteuerten ersten Schalter (S1) an einer
Versorgungsspannung (UV) liegt, daß eine Kondensatorschaltung
(19), die über die Glimmentladungsstrecke
(11) aufladbar ist, beim Schließen des
ersten Schalter (S1) mit ihrem einen Pol an ein
festes Bezugspotential gelegt wird, derart, daß
der andere Pol ein außerhalb des Bereichs der Versorgungsspannung
(UV) liegendes Potential annimmt,
und daß die Kondensatorschaltung (19) über einen
zweiten Schalter (S2) bei dessem Schließen über
die Glimmentladungsstrecke (11) entladbar ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Glimmentladungsstrecke (11) mit einer
ersten diode (D1) und dem ersten Schalter (S1) in
Reihe geschaltet ist, daß dem ersten Schalter (S1)
eine Reihenschaltung aus der Kondensatorschaltung
(19) und einer zweiten Diode (D2) parallel geschaltet
ist und daß der Verbindungspunkt (B) zwischen
der Kondensatorschaltung (19) und der zweiten
Diode (D2) über den zweiten Schalter (S2) und
einen Widerstand (R2) mit dem Werkstück (E) verbunden
ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Glimmentladungsstrecke (11)
durch einen Widerstand (R1) überbrückt ist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß der erste Schalter (S1)
zeitabhängig getaktet ist und daß der zweite
Schalter (S2) in Abhängigkeit von dem durch den
ersten Schalter fließenden Strom der Zeit bzw. der
Spannung an der Kondensatorschaltung (19) gesteuert
ist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Kondensatorschaltung
(19) mehrere Kondensatoren (C1 N, C2 N) enthält, die
über Dioden (D3 N, D4 N, D5 N) derart gekoppelt sind,
daß sie während des Aufladens in Reihe geschaltet
sind und nach Schließen des ersten und des zweiten
Schalters eine sich über die Glimmentladungsstrecke
(11) entladende Parallelschaltung bilden.
8. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß der Widerstand (R1) derart bemessen ist,
daß die Spannung der Impulsspitze (17) dem zeitlichen
Abstand der Spannungsimpulse (15) proportional
ist.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß der Rezipient (R) aus
einem mit einer Heizvorrichtung (22) versehenen
geschlossenen Behälter besteht, der von einem
wärmeisolierenden Mantel (23) mit variablem
radialem Abstand umgeben ist und daß der Raum (24)
zwischen dem Behälter und dem Mantel von einem
Kühlmittel durchströmt ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß der Mantel (23) in mehrere schnell entfernbare
Segmente (231, 232, 233) unterteilt ist.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE29520685U1 (de) * | 1995-12-29 | 1997-04-24 | Straemke Siegfried Dr Ing | Schaltungsanordnung zum Betrieb einer Glimmentladungsstrecke |
WO1999031291A2 (de) * | 1997-12-15 | 1999-06-24 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Plasmaborierung |
EP1858056A1 (de) | 2006-05-17 | 2007-11-21 | Siegfried Dr. Strämke | Plasmaverfahren zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken |
DE10122598B4 (de) * | 2000-05-16 | 2012-12-27 | Rübig Ges.m.b.H. & Co. KG | Verfahren für die Ionisierung eines Arbeitsgases zur Oberflächenbehandlung eines Werkstückes |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4693869A (en) * | 1986-03-20 | 1987-09-15 | Pfaff Ernest H | Electrode arrangement for creating corona |
GB8625912D0 (en) * | 1986-10-29 | 1986-12-03 | Electricity Council | Thermochemical treatment |
DE3700633C2 (de) * | 1987-01-12 | 1997-02-20 | Reinar Dr Gruen | Verfahren und Vorrichtung zum schonenden Beschichten elektrisch leitender Gegenstände mittels Plasma |
DE4005956C1 (de) * | 1990-02-26 | 1991-06-06 | Siegfried Dipl.-Ing. Dr. 5135 Selfkant De Straemke | |
DE4007123A1 (de) * | 1990-03-07 | 1991-09-12 | Siegfried Dipl Ing Dr Straemke | Plasma-behandlungsvorrichtung |
DE4122452C2 (de) * | 1991-07-06 | 1993-10-28 | Schott Glaswerke | Verfahren und Vorrichtung zum Zünden von CVD-Plasmen |
CH689767A5 (de) * | 1992-03-24 | 1999-10-15 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Werkstueckbehandlung in einer Vakuumatmosphaere und Vakuumbehandlungsanlage. |
DE19601436A1 (de) * | 1996-01-17 | 1997-07-24 | Siegfried Dr Ing Straemke | Verfahren und Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken |
US6501232B1 (en) * | 2000-01-11 | 2002-12-31 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electric power unit for electric discharge surface treatment and method of electric discharge surface treatment |
TW511158B (en) * | 2000-08-11 | 2002-11-21 | Alps Electric Co Ltd | Plasma processing apparatus and system, performance validation system thereof |
FR2836157B1 (fr) * | 2002-02-19 | 2004-04-09 | Usinor | Procede de nettoyage de la surface d'un materiau enduit d'une susbstance organique, generateur et dispositif de mise en oeuvre |
US7471068B2 (en) * | 2006-11-03 | 2008-12-30 | Ivus Industries, Llc | Ultra-fast ultracapacitor charging method and charger |
DE102010038605B4 (de) * | 2010-07-29 | 2012-06-14 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Zündschaltung zum Zünden eines mit Wechselleistung gespeisten Plasmas |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2789242A (en) * | 1946-02-13 | 1957-04-16 | Friedman Herbert | Geiger-mueller counter |
US2951969A (en) * | 1957-12-12 | 1960-09-06 | Elox Corp Michigan | Edm pulsing circuit |
AT302636B (de) * | 1966-01-24 | 1972-10-25 | Dietrich Erben | Vorrichtung zur Behandlung der Oberfläche von dünnwandigen Kunststoff- oder Metallflächen od.dgl. |
US3365612A (en) * | 1965-08-12 | 1968-01-23 | Ingersol Milling Machine Compa | Dual source spark machining power supply |
US3376470A (en) * | 1965-08-12 | 1968-04-02 | Atomic Energy Commission Usa | Capacitor discharge circuit for starting and sustaining a welding arc |
US3504154A (en) * | 1966-08-03 | 1970-03-31 | Victor H Marcolini | Edm power supply with separate sources of gap ionizing potential and material eroding energy |
US3955118A (en) * | 1975-02-19 | 1976-05-04 | Western Electric Company, Inc. | Cold-cathode ion source |
JPS5315720A (en) * | 1976-07-28 | 1978-02-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Static shift register |
FR2501727A1 (fr) * | 1981-03-13 | 1982-09-17 | Vide Traitement | Procede de traitements thermochimiques de metaux par bombardement ionique |
-
1983
- 1983-06-22 DE DE19833322341 patent/DE3322341A1/de active Granted
-
1984
- 1984-06-15 US US06/620,919 patent/US4645981A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE29520685U1 (de) * | 1995-12-29 | 1997-04-24 | Straemke Siegfried Dr Ing | Schaltungsanordnung zum Betrieb einer Glimmentladungsstrecke |
EP0782171A2 (de) | 1995-12-29 | 1997-07-02 | Siegfried Dr. Strämke | Schaltungsanordnung zum Betrieb einer Glimmentladungsstrecke |
WO1999031291A2 (de) * | 1997-12-15 | 1999-06-24 | Volkswagen Aktiengesellschaft | Plasmaborierung |
WO1999031291A3 (de) * | 1997-12-15 | 1999-09-10 | Volkswagen Ag | Plasmaborierung |
DE10122598B4 (de) * | 2000-05-16 | 2012-12-27 | Rübig Ges.m.b.H. & Co. KG | Verfahren für die Ionisierung eines Arbeitsgases zur Oberflächenbehandlung eines Werkstückes |
EP1858056A1 (de) | 2006-05-17 | 2007-11-21 | Siegfried Dr. Strämke | Plasmaverfahren zur Oberflächenbehandlung von Werkstücken |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3322341A1 (de) | 1985-01-03 |
US4645981A (en) | 1987-02-24 |
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