DE3247560A1 - Uebertragungseinrichtung zur kompensation eines uebertragungsfehlers - Google Patents

Uebertragungseinrichtung zur kompensation eines uebertragungsfehlers

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Description

Übertragungseinrichtung zur Kompensation eines
Übertragungsfehlers
Die Erfindung bezieht sich auf eine Einrichtung zum Projizieren und Übertragen eines Negativs auf einen Informationsauf zeichnungsträger und insbesondere auf eine Übertragungseinrichtung, bei der ein durch ein optisches Projektionssystem verursachter Übertragungsfehler kompensiert wird.
Bei der Herstellung von Halbleitern wie integrierten Schaltungen ist das Übertragen eines Maskenbildmusters auf ein Halbleiterplättchen erforderlich; als Markierungen für das Ausrichten einer Maske und eines Halbleiterplättchens für die Übertragung werden Masken-Richtmarkierungen 1 gemäß der Darstellung in Fig. IA der Zeichnung sowie Halbleiterplättchen-Richtmarkierungen 2 gemäß der Darstellung in Fig. IB der Zeichnung verwendet. Die Masken-Richtmarkierungen 1 und die Halbleiterplättchen-Richtmarkierungen 2 werden gemäß der Darstellung in Fig.
A/22
Dresdner Bank (München) Kto. 3939844
Postscheck (München) Kto. 670-43-804
• ·
"6-" DE 2680
IC ausgerichtet. D.h., diese Richtmarkierungen müssen so ausgerichtet werden, daß die Halbleiterplättchen-Richtmarkierungen 2 unter gleichen Abständen zwischen den Richtmarkierungen 1 liegen. Diese Überdeckung bzw. Ausrichtung muß äußerst genau sein, damit Übertragungsverformungen auf der ganzen Fläche des Halbleiterplättchens verringert werden; daher ist die Einstellung der Übertragungseinrichtung außerordentlich schwierig.
Wenn ferner eine Übertragungsverformung dem optischen Projektionssystem für die Übertragung zuzuschreiben ist, werden durch die Übertragungsverformung die Eigenschaften der Produkte beeinträchtigt, so daß daher unbrauchbare Produkte in großen Mengen hergestellt werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, irgendwelche Übertragungsfehler einer optischen Übertragungseinrichtung zu kompensieren.
Ferner soll mit der Erfindung die Vorlagengetreue projizierter Bilder verbessert werden.
Weiterhin soll erfindungsgemäß die Leistungsfähigkeit eines optischen Systems verbessert werden, das einen ersten Körper mit einem zweiten Körper in Verbindung bringt, und dadurch die Ausrichtungsgenauigkeit der beiden Körper verbessert werden.
Ferner soll erfindungsgemäß an einem ersten und einem zweiten Normal-Körper eine Vielzahl genau angeordneter Richtmarkierungen angebracht und aus einem Satz von Ausrichtungsfehlern der Markierungen der beiden Körper bei der Ausrichtung ein Projektionsfehler berechnet werden.
Weiterhin soll erfindungsgemäß aufgrund eines Funktionsfehlers automatisch ein optisches Projektionssystem bzw.
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eine optische Projektionsvorrichtung korrigiert werden.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Fig„ IA zeigt bekannte Richtmarkierungen, die auf einer Maske ausgebildet sind.
Fig. IB zeigt bekannte Richtmarkierungen, die auf einem Halbleiterplättchen ausgebildet sind.
Fig„ IC zeigt die Richtmarkierungen bei deren Ausrichtung.
Fig. 2 ist eine schematische Darstellung, die als ein Ausführungsbeispiel der Übertragungseinrichtung eine Kombination aus einem optischen System und einem Kompensationssystem zeigt.
Fig. 3 zeigt ein bestimmtes Lageverhältnis zwischen zwei Richtmarkierungen während eines Ausrichtvorgangs sowie ein dementsprechendes elektrisches Ausgangssignal.
Fig. 4 zeigt die Beziehungen zwischen Richtmarkierungen bei der gegenseitigen Überdeckung einer Normal-Maske und eines Normal-Halbleiterplättchens.
30
Fig. 5 ist eine schematische Darstellung, die als zweites Ausführungsbeispiel der Übertragungseinrichtung eine Kombination aus einem optischen System und einem Kompensationssystem zeigt.
35
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Fig. 6 veranschaulicht einen Übertragungsfehler.
Fig. 7A zeigt ein Bildmuster an einer Maske.
Fig. 7B zeigt eine Abbildung des Bildmusters, die einen Übertragungsfehler enthält.
In der Fig. 2 ist 16 eine Normal-Maske, auf der in der Richtung senkrecht zur- Zeichnungsebene unter vorbestimm-"ten Abständen Richtmarkiei"ungen gemäß der Darstellung in der Fig. IA angebracht sind. 18 ist ein Normal-Halbleiterplättchen, auf dem in der Richtung senkrecht zur Zeichnungsebene unter Abständen, bei denen die Vergrößerung eines optischen Projektionssystems berücksichtigt
Ig ist, Richtmarkierungen gemäß der Darstellung in der Fig. IB ausgebildet sind. Die Bezeichnung "Normal" bedeutet, daß die Maske und das Halbleiterplättchen nicht für die Herstellung von Produkten verwendet werden, sondern besonders- sorgfältig für den Einstellungsvorgang bearbeitet wurden. In der zur Zeichnungsebene senkrechten Richtung sind zwei Abtastvorrichtungen angebracht, die jeweils Teile 10 bis 15, 19 und 20 aufweisen. Längs des Lichtwegs von aus einer Laserlichtquelle 10 abgegebenen Laserlicht 1 sind aufeinanderfolgend eine Sammellinse 11, ein PoIygonalspiegel 12 zum Ablenken des Lichts aus der Laserlichtquelle 10, eine f- β -Linse 13, ein Halbspiegel 14, ein Objektiv 15, die Normal-Maske 16, die an mehreren Stellen die genauen Richtmarkierungen 1 trägt, eine Projektionslinse 17 und das Normal-Halbleiterplättchen 18 angeordnet, das an mehreren Stellen die genauen Richtmarkierungen 2 trägt. Das von der Maske 16 usw. reflektierte Licht wird von dem Halbspiegel 14 reflektiert, wobei längs des Lichtwegs dieses Reflexionslichts eine Sammellinse 19 und ein fotoelektrisches Wandlerelement 20 angeordnet sind, dessen Ausgangssignal über eine Rechenverar-
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beitungsschaltung 21, mit der eine gemessene Größe nach einer vorbestimmten Rechenformel rechnerisch behandelt und ein Steuersignal ausgegeben wird, an einen Einstellungsantriebs- bzw. Stellmechanismus 22 zur Vergrößerungseinstellung des optischen Übertragungssystems bzw. Projektionslinsensystems 17 angelegt ist. Der Stellmechanismus 22 verändert die Lage des Projektionslinsensystems
17 an dessen optischer Achse oder Abstände zwischen Linsen, die das Projektiönslinsensystem 17 bilden; in manchen Fällen bewegt der Stellmechanismus 22 eine Einspannvorrichtung auf oder ab, die das Halbleiterplättchen
18 trägt=
Die Normal-Maske 16 und das Normal-Halbleiterplättchen 18 werden zur Einstellung an der Übertragungseinrichtung angebracht und zur tatsächlichen Übertragung durch eine andere Maske bzw. ein anderes Halbleiterplättchen ersetzt.
Das von der Laserlichtquelle 10 abgegebene Laserlicht 1 wird von dem Polygonalspiegel 12 abgelenkt, tritt durch den Halbspiegel 14 hindurch und gelangt zu der Normal-Maske 16 usw.. Mit dem Laserlicht 1 werden die Richtmarkierungen 1 der Normal-Maske 16 und über das optische Übertragungs- bzw. Projektionslinsensystem 17 die Markierungen 2 des Normal-Halbleiterplättchens 18 abgetastet bzw. überstrichen, wonach das Licht wieder den Halbspiegel 14 erreicht, an dem ein Teil des Lichts zu dem fotoelektrischen Wandlerelement 20 hin reflektiert wird.
Dabei werden die Richtmarkierungen 1 der Normal-Maske 16 und die Richtmarkierungen 2 des Normal-Halbleiterplättchens 18 miteinander gemäß der Darstellung in Fig. 3 (a) überlagert. Zwischen Richtmarkierungen la und Ib der Normal-Maske 16 liegen Richtmarkierungen 2a des Normal-Halbleiterplättchens 18, während zwischen Richtmar-
kierungen lc und ld Richtmarkierungen 2b liegen; das Laserlicht 1 überstreicht die Markierungen von links nach rechts in einer Abtastrichtung A. Das fotoelektrische Wandlerelement 20 ergibt an den Stellen, an denen das Laserlicht 1 nach Fig. 3(a) die Richtmarkierungen 1 und 2 schneidet bzw. überstreicht, impulsartige Ausgangssignale, so daß eine Ausgangsspannungs-Kurvenform gemäß der Darstellung in der Fig. 3(b) erzielt wird. W1, Wp, ...., Wp- sind 'Zeitabstände zwischen Impulssignalen, durch deren Messung eine Ausrichtungs-Abweichung ermittelt werden kann. Falls nämlich nach Fig. 3(a) eine Abweichung in der x-Richtung gleich Δ χ ist, und eine Abweichung in der y-Richtung gleich Ay ist, so gilt
Ax = (W1 - W2 + W4 - W5)/4 (1)
£y = (-W1 + W2 + W4 - W5)/4 (2)
Im ausgerichteten Zustand gilt W1 = W„ = W4 = Wp., so
daß daher beide Abweichungen Ax und Ay gleich 0 sind.
Wenn die Richtmarkierungen 1 und 2 gemäß der Darstellung in Fig. 4 an zwei Stellen gemessen werden, die in der x-Richtung der Normal-Maske 16 und des Normal-Halbleiterplättchens 18 um eine Strecke C voneinander entfernt sind, und aus den Gleichungen (1) und (2) die Ausrichtungs-Abweichungsgrößen ermittelt werden, wobei Werte R (für die rechte Seite) dieser Größen ( AxR1, AyR1)
sind und Werte L1 dieser Größen ( AxL1 , /IyL1 ) sind, dann
ist eine Quervergrößerung Mx durch die folgende Gleichung gegeben:
Mx = (1/C) · \/(C+ ^xL1- AxR1 )2+( AyL1- AyR1)2 (3)
35
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Falls ferner die Richtmarkierungen 1 und 2 an zwei um eine Strecke D in der y-Richtung voneinander entfernt liegenden Stellen gemessen werden und dabei Ausrichtungs-Abweichungsgrößen R_ gleich ( AxR„, /iyR?) und L? gleich ( AxLp, ÄyL„) sind, dann ergibt sich eine Längsvergrößerung My durch die folgende Gleichung":
My= (l/D) \/( AxL1- ÄxL2)2+(D+ AyL1- AyL2)2 (4)
Diese Rechenvorgänge werden in der Rechenverarbeitungsschaltung 21 ausgeführt, wonach aufgrund der durch die Gleichungen (3) und (4) gegebenen Vergrößerungen Mx und My mittels des Stellmechanismus 22 die Vergrößerung des optischen Übertragungs- bzw. Projektionslinsensystems 17 automatisch eingestellt wird. Dadurch kann ein sich aus der Vergrößerung ergebender Übertragungsfehler ausgeschaltet werden j jedoch ist es in der Praxis vorzuziehen, die Einstellung unter mehrfachem Ausführen dieser Rechenvorgänge und darauffolgendem Überprüfen vorzunehmen.
Bei der Abtastung der voneinander um die Strecke D entfernten oberen und unteren Richtmarkierungen bestehen keine Schwierigkeiten, wenn das Bildfeld des Objektivs 15 ausreichend breit ist und die Abtastlinie A parallel verschiebbar ist. Wenn dies jedoch nicht bewerkstelligt werden kann, wird die Abtasteinrichtung zusammen mit dem Objektiv 15 um die Strecke D versetzt.
Falls andererseits für das Schaltungsmuster einer HaIbleitervorrichtung die Übertragungsgenauigkeit übermäßig hoch ist, ist nur die Korrektur bzw. Kompensation der Quervergrößerung erforderlich, so daß es dabei nicht notwendig ist, die Abtastvorrichtung zu bewegen.
Es wird nun ein zweites Ausführungsbeispiel der Übertragungseinrichtung beschrieben. Die Fig. 5 zeigt die opti-
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sehe Anordnung der Übertragungseinrichtung, bei der als optisches Übertragungssystem ein Spiegelprojektionssystem eingesetzt ist. In der Fig. 5 sind gleiche Elemente wie in Fig. 2 mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet. Die Normal-Maske 16 und das Normal-Halbleiterplättchen 18 sind miteinander über einen Träger 30 verbunden, wobei das optische Übertragungssystem 17 zwischengesetzt ist. Dieses optische Übertragungssystem 17 weist einen Trapezoidspiegel 31, einen "Konkavspiegel 32 und einen Konvexspiegel 33 auf und ist parallel zu den Flächen der Normal-Maske 16 und des Normal-Halbleiterplättchens 18 mittels eines Spiegelstellmechanismus 34 drehbar. Der Konkavspiegel 32 ist Spiegelflächen 31a und 31b des Trapezoidspiegels 31 gegenübergesetzt, während der Konvexspiegel 33 so zwischen den Trapezoidspiegel 31 und den Konkavspiegel 36 gesetzt ist, daß er zu dem Konkavspiegel 32 hin gewandt ist. Das von der Laserlichtquelle 10 abgegebene Laserlicht 1 wird mittels des Polygonalspiegels 12 abgelenkt, wonach zwischen die f- Q -Linse 13 und den Halbspiegel 14 ein Teilungsprisma 35 für das Zweiteilen des Laserlichts 1 eingesetzt ist, wodurch Messungen an den Richtmarkierungen 1 und 2 gleichzeitig an zwei voneinander um die Strecke C in Abstand stehenden Stellen herbeigeführt werden. Das Objektiv 15, die Sammellinse 19 und das fotoelektrische Wandlerelement 20 sind paarweise vorgesehen, wobei die Ausgangssignale der beiden fotoelektrischen Wandlerelemente 20 der Verarbeitungsschaltung 21 zugeführt werden, deren Ausgangssignal dem Spiegelstellmechanismus bzw. Spiegelkippmechanismus 34 sowie einem Trägerstellmechanismus 36 zum Bewegen des Trägers 30 in der Richtung eines Pfeils B zugeführt wird.
Folglich trifft ein Lichtstrahlenbündel des durch das Teilungsprisma 35 aufgeteilten Laserlichts 1 über den Halbspiegel 14, das Objektiv 15 und die Normal-Maske
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16 auf die eine Spiegelfläche 31a .des Trapezoidspiegels 31, wonach es unter aufeinanderfolgendem Reflektieren durch den Konkavspiegel 32, den Konkavspiegel 33, den Konkavspiegel 32 und die anders Spiegelfläche 31b des Trapezoidspiegels 31 zu dem Normal-Halbleiterplättchen 18 gelangt. Das Laserlicht 1, das die Information bezüglich der Richtmarkierungen 1 und 2 der Normal-Maske 16 und des Normal-Halbleiterplättchens 18 enthält, kehrt längs seines ursprünglichen Lichtwegs zurück und wird mittels des Halbspiegels 14 dem fotoelektrischen Wandlerelement 20 zugeführt. Dieser Lichtweg liegt gemäß den vorangehenden Ausführungen paarweise bzw. doppelt vor, so daß daher an die Rechenverarbeitungsschaltung 21
gleichzeitig die Ausgangssignale von zwei fotoelektrisehen Wandlerelementen 20 angelegt werden.
Die Fig. 6 zeigt die Zusammenhänge zwischen Achsen χ' und y1 des optischen Übertragungssystems 17 in der Horizontalebene und der Abtast- bzw. Bewegungsrichtung B des Trägers 30, nämlich einer Achse y sowie einer Achse x. In diesem Fall entsteht als Ergebnis der Bildumkehrung durch das optische Übertragungssystem sowie einer dabei hervorgerufenen Bildebenenverzeichnung zwischen den Achsen x1 und y1 des optischen Übertragungssystems 17 und den Abtastungs-Achsen χ und y ein Winkel von 2 Q . In Abständen von 10 mm in Fig. 6 gezeigte Pfeile 37 geben die Richtung und die Größe der Übertragungsverformung an. Dabei wird ein L-förmiges Muster 38 gemäß der Darstellung in Fig. 7A als Bild des optischen Übertragungssystems 17 auf dem Halbleiterplättchen unter Vertauschung von links und rechts umgekehrt gemäß der Darstellung in der Fig. 7B abgebildet, wobei ferner die Achse y um 26 geneigt ist.
Falls die Anordnung so getroffen ist, daß zwei Sätze
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von Richtmarkierungen 1 und 2 in der x-Richtung auf den optischen Achsen der beiden Objektive 15 angeordnet sind, wird der Ausrichtungszustand mittels der fotoelektrischen Wandlerelemente 20 und der Rechenverarbeitungsschaltung 21 erfaßt, wobei die Größen AxL1 und 4yL-, der linksseitigen Ausrichtungsabweichung und die Größen AxR1 und ^yR1 der rechtsseitigen Ausrichtungsabweichung ermittelt werden können. Darauffolgend wird durch einen Befehl der Rechenverarbeitungsschaltung 21 über den Trägerstellmechanismus 36 der Träger 30 um die Strecke D in der Richtung x1 gemäß dem PfeilB versetzt und der Ausrichtungszustand anderer Richtmarkierungen 1 und 2 gemessen, um auf gleichartige Weise die Abweichungsgrößen
, AxRp und ^yR zu ermitteln. Ein Horizontalabweichungswinkel Θχ. der von einander in dem Abstand C in der x-Richtung entfernten Richtmarkierungen 1 und 2 der Normal-Maske 16 bzw. des Normal-Halbleiterplättchens 18 kann annähernd durch die folgende Gleichung ausgedrückt werden:
20
Qx = (1/2C) (AyL1-AyR1+AyL2-AyR2) (5)
während ein Vertikalabweichungswinkel 6y der jeweils um die Strecke D in der y-Richtung in Abstand stehenden Richtmarkierungen 1 und 2 annähernd durch die folgende Gleichung gegeben ist:
= (1/2D) ( AxR1+^xL1- AxR2- AxL2) (6)
Zur Verkleinerung dieser Abweichungswinkel und damit zum Unterdrücken irgendwelcher Übertragungsverformungsfehler werden mittels der Rechenverarbeitungsschaltung 21 diese Berechnungen ausgeführt, wonach mit dem Spiegelstellmechanismus 34 das optische Übertragungssystem 17 gedreht wird. Der Winkel, um den das optische Übertra-
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gungssystem zu verstellen ist, beträgt
B= ( ßy - Θχ)/2 (7)
wobei Sx eine Komponente ist, bei der die Fehlausrichtung, die optische Achse und die Abtastungsachse in der Horizontalebene nicht parallel sind. Für eine etwas billigere Einrichtung ist ein Verfahren geeignet, bei dem das Rechenergebnis der Rechenverarbeitungsschaitung 21 angezeigt und entsprechend dem Anzeigewert der Spiegelkipp- bzw. Spiegelstellmechanismus 34 von Hand eingestellt wird.
Gemäß der vorangehenden Beschreibung ist die Übertragungseinrichtung mit der Fehlereinstellung so gestaltet, daß
, _ das zwischen der Maske und dem Halbleiterplättchen einge-15
setzte optische Übertragungssystem mittels eines auf einem vorbestimmten Rechenvorgang beruhenden Einstellsignals verstellbar ist, so daß sich der Vorteil ergibt, daß die Maske und das Halbleiterplättchen schnell mit on einem sehr hohen Genauigkeitsgrad ausgerichtet werden können„
Es wird eine Übertragungseinrichtung angegeben, die einen ersten Körper mit mehreren Richtmarkierungen, einen zwei-
__ ten Körper mit mehreren Richtmarkierungen, ein optisches Ab
Projektionssystem zum Projizieren des Bilds des ersten Körpers auf den zweiten Körper, eine Abtastvorrichtung zum Abtasten der Richtmarkierungen des ersten Körpers sowie über das optische Projektionssystem der Richtmar-
OQ kierungen des zweiten Körpers, eine elektrisch mit der Abtastvorrichtung verbundene Recheneinrichtung zum Berechnen eines Übertragungsfehlers aus dem Ausrichtungsfehler der Richtmarkierungen und eine an dde Recheneinrichtung angeschlossene Kompensationsvorrichtung zum
O5 Ausschalten des Übertragungsfehlers und Korrigieren des optischen Projektionssystems aufweist.

Claims (14)

DTCE - DOHLING m KlMME SSÄÜwSeS tf Dipl.-lng. H. Tiedtke I Dipl.-Chem. G. Bühling Dipl.-lng. R. Kinne Ο) L 7 C C p) Dipl.-lng. R Grupe ο L· ** I o u u Dipi.-ing. B. Pellmann Dipl.-lng. K Grams Bavariaring 4, Postfach 202402 8000 München 2 Tel.: 089-539653 Telex: 5-24845 tipat Telecopier: 0 89 / 537377 cable: Germaniapatent München 22. Dezember 1982 DE 2680 Patentansprüche
1. Übertragungseinrichtung, gekennzeichnet durch eine erste Haltevorrichtung (30) zum Halten eines ersten Körpers (16), der mehrere Richtmarkierungen (1) hat, eine zweite Haltevorrichtung zum Halten eines zweiten Körpers (18), der mehrere Richtmarkierungen (2) hat, eine optische Abbildungsvorrichtung (17), mit der der erste und zweite Körper in im wesentlichen konjugierte Beziehung gesetzt sind, eine Ausrichtungs-Abtastvorrichtung (10 bis 15, 19 bis 21) zum Abtasten der Richtmarkierungen des ersten Körpers sowie,, über die optische Abbildungsvorrichtung, der Richtmarkierungen des zweiten Körpers und zum Erzeugen eines Ubertragungsfehlersignals, das irgendeinem Ausrichtungsfehler der Richtmarkierungen entspricht, und eine auf das Übertragungsfehlersignal ansprechende Korrekturvorrichtung (22;34) zum Ausschalten des Übertragungsfehlers und Kompensieren der optischen Abbildungsvorrichtung.
2. Übertragungseinrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Stellvorrichtung (36) zum Bewegen der ersten und der zweiten Haltevorrichtung (30) um eine vorbestimmte Strecke»
A/22
Dresdner Bank (München) Kto. 3 939 844 Bayer. Vereinsbank (München) Kto. 508 941 Postscheck (München) Kto. 670-43-804
• β · ·
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3. Übertragungseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch eine Bewegungsvorrichtung zum Bewegen zumindest eines Teils der Ausrichtungs-Abtastvorrichtung um eine vorbestimmte Strecke.
4. Übertragungseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Körper (16) vier in Abstand angeordnete Richtmarken (1) hat und der zweite Körper" (18) vier in Abstand angeordnete Richtmarken (2) hat.
5. Übertragungseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Übertragungsfehler ein Vergrößerungsfehler der optischen Abbildungsvorrichtung (17) ist.
6. Übertragungseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Übertragungsfehler ein Anordnungsfehler der optischen Abbildungsvorrichtung (17) ist.
7. Übertragungseinrichtung, gekennzeichnet durch einen ersten Körper (16) mit mehreren Richtmarkierungen (1), einen zweiten Körper (18) mit mehreren Richtmarkierungen (2), ein optisches Abbildungssystem (17), das den ersten und den zweiten Körper in im wesentlichen konjugierte Beziehung setzt, eine Abbildungsvorrichtung mit einer Haltevorrichtung (30) zum Festhalten des ersten und des zweiten Körpers, eine Abtastvorrichtung (1 bis 15, 19, 20) zum Abtasten der Richtmarkierungen des ersten Körpers und, über das optische Abbildungssystem, der Richtmarkierungen des zweiten Körpers, eine elektrisch mit der Abtastvorrichtung verbundene Recheneinrichtung (21) zum Berechnen eines Übertragungsfehlerwerts aus einem Ausrichtungsfehler der Richtmarkierungen und eine
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Korrekturvorrichtung (22; 34) zum Ausschalten des Übertragungsfehlers und Kompensieren der Abbildungsvorrichtung entsprechend dem Übertragungsfehlerwert.
8 ο Übertragungseinrichtung nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch eine Stellvorrichtung (36) zum Bewegen der Haltevorrichtung (30) um eine vorbestimmte Strecke.
9. Übertragungseinrichtung nach Anspruch 7 oder 8s dadurch gekennzeichnet, daß mit der Korrekturvorrichtung (22;34) das optische Abbildungssystem (17) axial bewegbar ist.
10ο Übertragungseinrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9s dadurch gekennzeichnet, daß mit der Korrekturvorrichtung (22,34) das optische Abbildungssystem (17) kippbar ist,
11. Übertragungseinrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Abbildungssystem (17) ein optisches Spiegelsystem ist.
12 ο Übertragungseinrichtung, gekennzeichnet durch einer Einstellvorrichtung (16) zum Einstellen mehrerer Richtnormalien (1), einen Körper (18) mit mehreren Richtmarkierungen (2), eine optische Projektionsvorrichtung (17) zum Projizieren eines Negativs auf ein fotoempfindliches Material, eine Abtastvorrichtung (1 bis 15, 19, 20) zum Abtasten von Bildern der Richtnormalien und der Richtmarkierungen mittels der optischen Projektionsvorrichtung und zum Erzeugen eines Ausrichtungsfehlersignals, eine Recheneinrichtung (21) zum Berechnen eines Übertragungsfehlers aus dem Ausrichtungsfehlersignal und eine Korrekturvorrichtung (22,34) zum Kompensieren der optischen Projektionsvorrichtung mittels des Ausgangssignals der Recheneinrichtung.
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13. Übertragungseinrichtung nach Anspruch 12, gekennzeichnet durch eine Stellvorrichtung (22,36) zum Bewegen des Körpers (18) um eine vorbestimmte Strecke.
14. Übertragungseinrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper (18) vier in Abstand angeordnete Richtmarkierungen (2) hat.
DE3247560A 1981-12-23 1982-12-22 Verfahren zur Einstellung einer Abtastungsbelichtungsvorrichtung Expired - Lifetime DE3247560C2 (de)

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