JPS62232924A - 反射型投影露光機のアライメント光学装置 - Google Patents
反射型投影露光機のアライメント光学装置Info
- Publication number
- JPS62232924A JPS62232924A JP61077144A JP7714486A JPS62232924A JP S62232924 A JPS62232924 A JP S62232924A JP 61077144 A JP61077144 A JP 61077144A JP 7714486 A JP7714486 A JP 7714486A JP S62232924 A JPS62232924 A JP S62232924A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- optical device
- substrate
- mask
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 84
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 34
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 abstract description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体その他の回路基板の製造に用いられる反
射型投影露光機におけるアライメント光学装置に関する
ものである。
射型投影露光機におけるアライメント光学装置に関する
ものである。
従来の技術
近年、反射型投影露光機は、半導体製造における露光装
置として多く用いられ、さらに液晶表示板等のパターン
の微細化に伴い大型の基板に対しても用いられようとし
ている。
置として多く用いられ、さらに液晶表示板等のパターン
の微細化に伴い大型の基板に対しても用いられようとし
ている。
以下図面を参照しながら、上述した従来の反射型投影露
光機のアライメント光学装置について説明する。
光機のアライメント光学装置について説明する。
第３図、第４図は従来の反射型投影露光機のアライメン
ト光学装置を示すものである。第３図。
ト光学装置を示すものである。第３図。
第４図において、１は凹面鏡、２は凸面鏡、３は２つの
平面鏡を有する台形ミラー、４はマスク、５は露光され
るべき基板、６はマスク４と基板５とを平行に保持し、
露光系の光軸７に平行に走査する走査枠、９，１０，１
１．１２は平面反射鏡、１３は対物レンズ、１４は双眼
接眼鏡筒、１６は観察者、１６は円孤形露光エリア、１
７＆、１７ｂはマスク４及び基板６の上にそれぞれ２個
ずつ描かれたアライメントマークである。
平面鏡を有する台形ミラー、４はマスク、５は露光され
るべき基板、６はマスク４と基板５とを平行に保持し、
露光系の光軸７に平行に走査する走査枠、９，１０，１
１．１２は平面反射鏡、１３は対物レンズ、１４は双眼
接眼鏡筒、１６は観察者、１６は円孤形露光エリア、１
７＆、１７ｂはマスク４及び基板６の上にそれぞれ２個
ずつ描かれたアライメントマークである。
以上のように構成された反射型投影露光機のアライメン
ト光学装置について、以下その動作を説明する。
ト光学装置について、以下その動作を説明する。
まずマスク４と基板６を取付けた走査枠６を光軸γに平
行に移動させ、その円孤形露光エリア１６内に、２つの
アライメントマーク１７ａ、１７ｂが入るようにする。
行に移動させ、その円孤形露光エリア１６内に、２つの
アライメントマーク１７ａ、１７ｂが入るようにする。
別のアライメント照明系（図示せず）により照明された
基板５上面のアライメントマークは、凹面鏡１、凸面鏡
２、平面鏡３より成る露光光学系により１：１に投影さ
れてマスク４の下面に投影される。観察者１５は、対物
し／ズ１３、平面反射鏡９，１０，１１．１２．双眼接
眼鏡筒１４全通してマスク４上のアライメントマークに
対する基板６上のアライメントマークのズレを見て、基
板５の取付位置全修正してアライメン）ｆ行い、次いで
露光操作を行う０またこのような位置ズレ修正動作は、
アライメント光学系に設けたＩＴＶカメラ、レーザー光
の走査検出装置、振動スリットその他を用いた位置ズレ
検出装置により自動でも行われている。
基板５上面のアライメントマークは、凹面鏡１、凸面鏡
２、平面鏡３より成る露光光学系により１：１に投影さ
れてマスク４の下面に投影される。観察者１５は、対物
し／ズ１３、平面反射鏡９，１０，１１．１２．双眼接
眼鏡筒１４全通してマスク４上のアライメントマークに
対する基板６上のアライメントマークのズレを見て、基
板５の取付位置全修正してアライメン）ｆ行い、次いで
露光操作を行う０またこのような位置ズレ修正動作は、
アライメント光学系に設けたＩＴＶカメラ、レーザー光
の走査検出装置、振動スリットその他を用いた位置ズレ
検出装置により自動でも行われている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成では、液晶表示板のよう
な、大型基板に対して長辺方向に露光走査を行う場合に
は、短辺方向でしか位置合わせができないので、位置合
わせ精度が悪いという問題点を有し、特に、長辺方向に
おけるマスクと基板パターンの寸法ズレを最小に按分す
ることができない欠点があり、また、これを解決するた
めに走査方向の２カ所でアライメントを行う場合には、
問題点を有していた。また大型基板においては露光機へ
の取付位置バラツキが大きいため、アライメントマーク
をアライメント光学系の視野に入れることが難かしいと
いう問題点があった。
な、大型基板に対して長辺方向に露光走査を行う場合に
は、短辺方向でしか位置合わせができないので、位置合
わせ精度が悪いという問題点を有し、特に、長辺方向に
おけるマスクと基板パターンの寸法ズレを最小に按分す
ることができない欠点があり、また、これを解決するた
めに走査方向の２カ所でアライメントを行う場合には、
問題点を有していた。また大型基板においては露光機へ
の取付位置バラツキが大きいため、アライメントマーク
をアライメント光学系の視野に入れることが難かしいと
いう問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑み、大型基板に対して高精度で
高能率な位置合わせを可能とする、反射型投影露光機の
アライメント光学装置を提供するものである。
高能率な位置合わせを可能とする、反射型投影露光機の
アライメント光学装置を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために、本発明の反射型投影露光
機のアライメント光学装置は、露光光学系の光路と一部
が重複する光路金偏えた２つの光学系より成る第一のア
ライメント光学装置と第一のアライメント光学装置に対
して露光機の走査方向に離れた位置に配置された２つの
光学系又は１つの光学系より成る第二のアライメント光
学装置を備えたものである。
機のアライメント光学装置は、露光光学系の光路と一部
が重複する光路金偏えた２つの光学系より成る第一のア
ライメント光学装置と第一のアライメント光学装置に対
して露光機の走査方向に離れた位置に配置された２つの
光学系又は１つの光学系より成る第二のアライメント光
学装置を備えたものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、第−又は第二のアライ
メント光学装置を用いて、マスクと基板の短辺方向の位
置合わせを行い、ついで第一と第二のアライメント光学
装置を同時に用いて、マスクと基板の長辺方向の精密な
位置合わせを行うことができるものである。
メント光学装置を用いて、マスクと基板の短辺方向の位
置合わせを行い、ついで第一と第二のアライメント光学
装置を同時に用いて、マスクと基板の長辺方向の精密な
位置合わせを行うことができるものである。
実施例
以下本発明の一実施例の反射型投影露光機のアライメン
ト光学装置について、図面を参照しながら説明する。第
１図及び第２図において、２１は凹面鏡、２２は凸面鏡
、２３は２つの平面鏡を有する台形ミラー、２４はマス
ク、２６は露光されるべき基板、２６はマスク２４と基
板２５を平行に保持し、露光系の光軸２７に平行に走査
する走査枠、２Ｓ＆、２８ｂ、２９ａ、２９ｂは対物レ
ンズ、３０ａ 、３０ｂ、３１ ａ 、３１ ｂはＩＴ
Ｖカメラ、３４ａ、３４ｂは結像レンズ、３５は２つの
平面鏡を有する三角ミラー、３６はガウス型レンズの半
分の構成のリレーレンズ、３７はリレーレンズ３６の中
心（ガウス型レンズの中心位置）に置いた平面鏡、３８
ａ 、３８ｂ［結像レンズである。結像レンズ３４ａ
、３４ｂ、三角ミラー３６、リレーレンズ３６、平面！
ｉ３７および結像レンズ３８ａ 、３８ｂ、対物レンズ
２９ａ、２９ｂ。
ト光学装置について、図面を参照しながら説明する。第
１図及び第２図において、２１は凹面鏡、２２は凸面鏡
、２３は２つの平面鏡を有する台形ミラー、２４はマス
ク、２６は露光されるべき基板、２６はマスク２４と基
板２５を平行に保持し、露光系の光軸２７に平行に走査
する走査枠、２Ｓ＆、２８ｂ、２９ａ、２９ｂは対物レ
ンズ、３０ａ 、３０ｂ、３１ ａ 、３１ ｂはＩＴ
Ｖカメラ、３４ａ、３４ｂは結像レンズ、３５は２つの
平面鏡を有する三角ミラー、３６はガウス型レンズの半
分の構成のリレーレンズ、３７はリレーレンズ３６の中
心（ガウス型レンズの中心位置）に置いた平面鏡、３８
ａ 、３８ｂ［結像レンズである。結像レンズ３４ａ
、３４ｂ、三角ミラー３６、リレーレンズ３６、平面！
ｉ３７および結像レンズ３８ａ 、３８ｂ、対物レンズ
２９ａ、２９ｂ。
ＩＴＶカメラ３１ ａ 、３１ｂは全体として２つの光
学系から成る第二のアライメント光学装置を形成し、凹
面鏡２１．凸面鏡２２および台形ミラー２３、対物レン
ズ２８ａ、２８ｂ、ＩＴＶカメラ３ｏａ、ｓｏｂからな
る第一のアライメント光学装置との間かくをマスク２４
及び基板２６上のアライメントマーク３９ ａ 、 ３
９ ｂ 、 ３９ ｃ、３ｓｄ及びａｏａ 、４ｏｂ
、４０Ｃ，４ｏｄｃ７）間隔に応じて調節できるように
支持されている。
学系から成る第二のアライメント光学装置を形成し、凹
面鏡２１．凸面鏡２２および台形ミラー２３、対物レン
ズ２８ａ、２８ｂ、ＩＴＶカメラ３ｏａ、ｓｏｂからな
る第一のアライメント光学装置との間かくをマスク２４
及び基板２６上のアライメントマーク３９ ａ 、 ３
９ ｂ 、 ３９ ｃ、３ｓｄ及びａｏａ 、４ｏｂ
、４０Ｃ，４ｏｄｃ７）間隔に応じて調節できるように
支持されている。
第二のアライメント光学装置は、テレ七ントリックに構
成され基板２５上のアライメントマーク４ｏｃ、４ｏｄ
をマスク２４の下面に１：１で投影する。第一のアライ
メント光学装置は露光光学系の光路と一部が重複する光
路を備えた２つの光学系より成ることは、従来例のアラ
イメント光学装置と同様である。
成され基板２５上のアライメントマーク４ｏｃ、４ｏｄ
をマスク２４の下面に１：１で投影する。第一のアライ
メント光学装置は露光光学系の光路と一部が重複する光
路を備えた２つの光学系より成ることは、従来例のアラ
イメント光学装置と同様である。
以上のように構成された反射型投影露光機のアライメン
ト光学装置について、第１図、第２図を用いてその動作
を説明する。第一のアライメント光学装置の動作はまず
基板２５上のアライメントマーク３ｓｃ、３ｓｄから出
た光線は、台形ミラー２３、凹面鏡２１、凸面鏡２２、
凹面鏡２１、台形ミラー２３で反射してマスク２４の下
面に結像する。ここで、マスク２４の７ライメントマー
ク３ｓａ、３９ｂの光線と共に、対物レンズ２８ａ。
ト光学装置について、第１図、第２図を用いてその動作
を説明する。第一のアライメント光学装置の動作はまず
基板２５上のアライメントマーク３ｓｃ、３ｓｄから出
た光線は、台形ミラー２３、凹面鏡２１、凸面鏡２２、
凹面鏡２１、台形ミラー２３で反射してマスク２４の下
面に結像する。ここで、マスク２４の７ライメントマー
ク３ｓａ、３９ｂの光線と共に、対物レンズ２８ａ。
２８ｂ’ｉｉ通してＩＴＶ力）う３０ａ、３０ｂに結嫁
し、モニターテレビ（図示せず）により観察者の目に２
つのアライメントマークの重なりとして観察される。
し、モニターテレビ（図示せず）により観察者の目に２
つのアライメントマークの重なりとして観察される。
次に第二のアライメント光学装置の動作は、基板２６上
のアライメントマーク４ｏｃ、４ｏｄから出た光線は結
像レンズ３４ａ、３４ｂ、三角ミラー３６．リレーレン
ズ３６．平面反射鏡３７゜リレーレンズ３６．三角ミラ
ー３６および結像レンズ３８ａ、３８ｂの順で通過し、
マスク２４の下面に結像する。ここでマスク２４のアラ
イメントマーク４ｏａ、４ｏｂの光線と共に、対物レン
ズ２９ａ 、２９ｂｉ通してＩＴＶカメラ３１ａ。
のアライメントマーク４ｏｃ、４ｏｄから出た光線は結
像レンズ３４ａ、３４ｂ、三角ミラー３６．リレーレン
ズ３６．平面反射鏡３７゜リレーレンズ３６．三角ミラ
ー３６および結像レンズ３８ａ、３８ｂの順で通過し、
マスク２４の下面に結像する。ここでマスク２４のアラ
イメントマーク４ｏａ、４ｏｂの光線と共に、対物レン
ズ２９ａ 、２９ｂｉ通してＩＴＶカメラ３１ａ。
３１ｂに結像し、モニターテレビ（図示せず）により観
察者の目に２つのアライメントマークの重なりとして観
察される。
察者の目に２つのアライメントマークの重なりとして観
察される。
ここで、第二のアライメント光学装置にその中心点に平
面反射鏡を置いたガウス型レンズを用いたテレ七ントリ
ック光学系を用いる理由は、基板２６上のアライメント
マーク４０ｃ 、 ４０ｄのマスク２４下面への結像の
方向性を、第一のアライメント光学装置による基板２６
上のアライメントマーク３９ｃ、３９ｄのマスク２４下
面への結像の方向と合わせるためである。また第二のア
ライメント光学装置の光軸合わせは次の方法によって行
う。調整作業者は、走査枠２６を走査させて、第一のア
ライメント光学装置にてアライメントマーク３９ａ、３
９ｂ、３９ｃ、３９ｄを視野に入れ、基板２５の位置を
調整して、アライメントマーク３９ａと３９ｃ 、３９
ｂと３９ｄの像を合致させる。次に走査枠を戻して第二
のアライメント光学系でアライメントマーク３９ａ、３
９ｂ、３９ｃ。
面反射鏡を置いたガウス型レンズを用いたテレ七ントリ
ック光学系を用いる理由は、基板２６上のアライメント
マーク４０ｃ 、 ４０ｄのマスク２４下面への結像の
方向性を、第一のアライメント光学装置による基板２６
上のアライメントマーク３９ｃ、３９ｄのマスク２４下
面への結像の方向と合わせるためである。また第二のア
ライメント光学装置の光軸合わせは次の方法によって行
う。調整作業者は、走査枠２６を走査させて、第一のア
ライメント光学装置にてアライメントマーク３９ａ、３
９ｂ、３９ｃ、３９ｄを視野に入れ、基板２５の位置を
調整して、アライメントマーク３９ａと３９ｃ 、３９
ｂと３９ｄの像を合致させる。次に走査枠を戻して第二
のアライメント光学系でアライメントマーク３９ａ、３
９ｂ、３９ｃ。
３９ｄを視野に入れ、第二のアライメント光学装置の光
軸を調整してアライメントマーク３９ａと３９０．３９
ｂとｓ９ｄの像を合致させる。以上で光軸合わせを完了
する。
軸を調整してアライメントマーク３９ａと３９０．３９
ｂとｓ９ｄの像を合致させる。以上で光軸合わせを完了
する。
実際の露光作業におけるアライメント操作は、マスク２
４と基板２５を走査枠２ｅに取付け、観察者はマスク２
４及び基板の４組のアライメントマークのうち、まず３
９ａと３９０，３ｓｂと３９ｄの２組のアライメントマ
ークを同時に２つのモニターテレビ見ながら基板２６の
位置を大まかに調整して合致させ、次いで４つのモニタ
ーテレビで３９ａと３ｇｃ、ａｓｂと３９ｄ、４０ａと
４０Ｃ１露光操作を行う。
４と基板２５を走査枠２ｅに取付け、観察者はマスク２
４及び基板の４組のアライメントマークのうち、まず３
９ａと３９０，３ｓｂと３９ｄの２組のアライメントマ
ークを同時に２つのモニターテレビ見ながら基板２６の
位置を大まかに調整して合致させ、次いで４つのモニタ
ーテレビで３９ａと３ｇｃ、ａｓｂと３９ｄ、４０ａと
４０Ｃ１露光操作を行う。
なお本実施例において、アライメントはＩＴＶカメラと
モニターテレビによる観察としたが、アライメント光学
系内に特に設けた、レーザー光の走査検出装置、振動ス
リットその他（図示せず）を用いた位置ズレ検出装置又
はＩＴＶカメラ画像の画像計測装置によって自動で行わ
せることが可能であり、また目視のための光学系を設け
て直接肉眼で観察可能であることは言うまでもない。ま
た本実施例において第二のアライメント光学装置は奇数
回の反射を含むガウス型レンズを用いたテレ七ントリッ
ク系としたが、第一のアライメント光学系と同じ反射投
影系でも可能である０さらに本実施例では第二のアライ
メント光学装置は、２組のアライメントマークに対し２
つの光学系を用意したが、１つを省略して１組のアライ
メントマークに対して位置合わせを行うように、１つの
光学系により構成してもよい。また対物レンズ２ａｂ、
２９ｂの１コ又は両方を特に低倍率としてマスク２４と
基板２５のアライメントの初期において、アライメント
マークをまず広い視野にとらえて位置合わせし、次いで
、第１のアライメント光学装置全体で３９ａと３９ｃ、
３９ｂと３９ｄのアライメントマーク位置合わせを大ま
かに行い、さらに第１と第２のアライメント光学装置を
用いて３９ａと３９ｃ 、３８ａとｓｓｃのアライメン
トマークの位置合わせ全精密に行うことができる。
モニターテレビによる観察としたが、アライメント光学
系内に特に設けた、レーザー光の走査検出装置、振動ス
リットその他（図示せず）を用いた位置ズレ検出装置又
はＩＴＶカメラ画像の画像計測装置によって自動で行わ
せることが可能であり、また目視のための光学系を設け
て直接肉眼で観察可能であることは言うまでもない。ま
た本実施例において第二のアライメント光学装置は奇数
回の反射を含むガウス型レンズを用いたテレ七ントリッ
ク系としたが、第一のアライメント光学系と同じ反射投
影系でも可能である０さらに本実施例では第二のアライ
メント光学装置は、２組のアライメントマークに対し２
つの光学系を用意したが、１つを省略して１組のアライ
メントマークに対して位置合わせを行うように、１つの
光学系により構成してもよい。また対物レンズ２ａｂ、
２９ｂの１コ又は両方を特に低倍率としてマスク２４と
基板２５のアライメントの初期において、アライメント
マークをまず広い視野にとらえて位置合わせし、次いで
、第１のアライメント光学装置全体で３９ａと３９ｃ、
３９ｂと３９ｄのアライメントマーク位置合わせを大ま
かに行い、さらに第１と第２のアライメント光学装置を
用いて３９ａと３９ｃ 、３８ａとｓｓｃのアライメン
トマークの位置合わせ全精密に行うことができる。
発明の効果
以上のように本発明は反射型投影露光機において、露光
光学系を使用する第一のアライメント光学装置に加えて
これと走査方向に離れた位置に第二のアライメント光学
装置を設けることにより、大型基板の露光においてマス
クと基板の位置合わせを精密に行うことができる。
光学系を使用する第一のアライメント光学装置に加えて
これと走査方向に離れた位置に第二のアライメント光学
装置を設けることにより、大型基板の露光においてマス
クと基板の位置合わせを精密に行うことができる。
第１図は本発明の一実施例における反射型投影露光機の
アライメント光学装置の斜視図、第２図は同正面断面図
、第３図は従来の反射型投影露光機のアライメント光学
系の正面断面図、第４図は同平面図である。 ２１・・・・・・凹面鏡、２２・・・凸面鏡、２３・・
・・・・台形ミラー、２４・・・・・・マスク、２６・
・雫・・・基板、２８゜２９・・・・・・対物レンズ、
３０，３１・・・・・・ＩＴＶカメラ、３９，４０・・
・・・・アライメントマーク、３４・・・・・・結像レ
ンズ、３５・・・・・・三角ミラー、３６・・・・・・
リレーレンズ、３了・・・・・・平面ｔＬ ３ｓ・・・
・・・結［象Ｖンズ０ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名２１
−凹Ｉ！ｌ跣 り２−Ｑ 伊 ２３・−δ脣Ｓラー ２４−７スフ ２５− 巻級 ＩＪ４９−−−オキ１リレ〉ス。 ３ｓ−−リｈラー ｊ６’−−！ルーし）ス゛ 、ｙｙ−＊ ＊ ｔｔ ３９．４０−一−アラ１ナンド７・り ２１− 凹面鏡 ２２−−一凸 ・・ ２ｊ−−−＠すミラー ２８．２９−−一力１Ｔ７Ｊしシス゛ ヵ、３ｆ−−−ｒＴＶガメラ ３６−−−嘗ルーしン入′ ｊ７− 子菌焼
アライメント光学装置の斜視図、第２図は同正面断面図
、第３図は従来の反射型投影露光機のアライメント光学
系の正面断面図、第４図は同平面図である。 ２１・・・・・・凹面鏡、２２・・・凸面鏡、２３・・
・・・・台形ミラー、２４・・・・・・マスク、２６・
・雫・・・基板、２８゜２９・・・・・・対物レンズ、
３０，３１・・・・・・ＩＴＶカメラ、３９，４０・・
・・・・アライメントマーク、３４・・・・・・結像レ
ンズ、３５・・・・・・三角ミラー、３６・・・・・・
リレーレンズ、３了・・・・・・平面ｔＬ ３ｓ・・・
・・・結［象Ｖンズ０ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名２１
−凹Ｉ！ｌ跣 り２−Ｑ 伊 ２３・−δ脣Ｓラー ２４−７スフ ２５− 巻級 ＩＪ４９−−−オキ１リレ〉ス。 ３ｓ−−リｈラー ｊ６’−−！ルーし）ス゛ 、ｙｙ−＊ ＊ ｔｔ ３９．４０−一−アラ１ナンド７・り ２１− 凹面鏡 ２２−−一凸 ・・ ２ｊ−−−＠すミラー ２８．２９−−一力１Ｔ７Ｊしシス゛ ヵ、３ｆ−−−ｒＴＶガメラ ３６−−−嘗ルーしン入′ ｊ７− 子菌焼
Claims (2)
- （１）走査型の露光光学系からなる反射型投影露光機に
おいて、前記露光光学系の光路と一部が重複する光路を
備えた２つの光学系より成る第一のアライメント光学装
置と、第一のアライメント光学装置に対して露光機の走
査方向に離れた位置に配置された２つの光学系又は１つ
の光学系より成る第二のアライメント光学装置を備えた
ことを特徴とする反射型投影露光機のアライメント光学
装置。 - （２）第一のアライメント光学装置及び第二のアライメ
ント光学装置の各光学系のうち少なくとも１つの光学系
が他の光学系より低倍率であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の反射型投影露光機のアライメント
光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077144A JPS62232924A (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 反射型投影露光機のアライメント光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077144A JPS62232924A (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 反射型投影露光機のアライメント光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62232924A true JPS62232924A (ja) | 1987-10-13 |
| JPH0528892B2 JPH0528892B2 (ja) | 1993-04-27 |
Family
ID=13625602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61077144A Granted JPS62232924A (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 反射型投影露光機のアライメント光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62232924A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6927861B2 (en) * | 2001-06-29 | 2005-08-09 | Xanoptix, Inc. | Simple deterministic method for array based optical component packaging |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5356975A (en) * | 1976-11-01 | 1978-05-23 | Hitachi Ltd | Exposure apparatus |
| JPS58108745A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-06-28 | Canon Inc | 転写装置 |
-
1986
- 1986-04-03 JP JP61077144A patent/JPS62232924A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5356975A (en) * | 1976-11-01 | 1978-05-23 | Hitachi Ltd | Exposure apparatus |
| JPS58108745A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-06-28 | Canon Inc | 転写装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6927861B2 (en) * | 2001-06-29 | 2005-08-09 | Xanoptix, Inc. | Simple deterministic method for array based optical component packaging |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0528892B2 (ja) | 1993-04-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100471524B1 (ko) | 노광방법 | |
| US3865483A (en) | Alignment illumination system | |
| US5914774A (en) | Projection exposure apparatus with function to measure imaging characteristics of projection optical system | |
| US4643579A (en) | Aligning method | |
| US6081320A (en) | Illumination apparatus and exposure apparatus | |
| US4655601A (en) | Observation device and an aligner using same | |
| JPH01295215A (ja) | 照明装置 | |
| JPH0878314A (ja) | 走査型露光装置 | |
| JPS62232924A (ja) | 反射型投影露光機のアライメント光学装置 | |
| CN100419504C (zh) | 光学装置的制造装置、其制造方法以及投影机 | |
| JPH07295229A (ja) | 拡大投影型露光装置における投影像のアライメント方法 | |
| JPH09312248A (ja) | 露光装置 | |
| JPH0528487B2 (ja) | ||
| JPH0259615B2 (ja) | ||
| JPH11231549A (ja) | 走査型露光装置および露光方法 | |
| JPH1064782A (ja) | 走査型露光装置 | |
| JPH08339959A (ja) | 位置合わせ方法 | |
| JPH086263A (ja) | 面位置検出装置 | |
| JPH0756183A (ja) | 位置合わせ方法 | |
| JP3604801B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
| JP4051204B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2986627B2 (ja) | プロキシミティ露光装置におけるマスクとワークの位置合わせ方法 | |
| KR20190109253A (ko) | 리소그래피 장치, 조명 장치 및 물품의 제조 방법 | |
| JP3584298B2 (ja) | アライメント装置 | |
| JP3584299B2 (ja) | アライメント装置 |