DE3201889C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3201889C2
DE3201889C2 DE3201889A DE3201889A DE3201889C2 DE 3201889 C2 DE3201889 C2 DE 3201889C2 DE 3201889 A DE3201889 A DE 3201889A DE 3201889 A DE3201889 A DE 3201889A DE 3201889 C2 DE3201889 C2 DE 3201889C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
electron microscope
detector
screen
lens
electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE3201889A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3201889A1 (de
Inventor
Hendricus Cornelus Johanna Marien
Michael Neil Eindhoven Nl Thompson
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE3201889A1 publication Critical patent/DE3201889A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3201889C2 publication Critical patent/DE3201889C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2441Semiconductor detectors, e.g. diodes
    • H01J2237/24415X-ray
    • H01J2237/2442Energy-dispersive (Si-Li type) spectrometer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2445Photon detectors for X-rays, light, e.g. photomultipliers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/245Detection characterised by the variable being measured
    • H01J2237/24571Measurements of non-electric or non-magnetic variables
    • H01J2237/24585Other variables, e.g. energy, mass, velocity, time, temperature

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Elektronenmikroskop mit einem nahe bei einer elektromagnetischen Linse angeordneten Detektor zum Detektieren von aus einem Objekt mittels ei­ nes Elektronenstrahles freizumachender elektromagnetischer Strahlung.
Ein derartiges Elektronenmikroskop ist aus der GB-PS 14 20 803 bekannt. Wenn gemäß der Beschreibung in dieser Patentschrift ein in der Nähe einer Objektivlinse angeord­ neter Detektor zum Detektieren aus dem Objekt austretender elektromagnetischer Strahlung, wie Röntgenstrahlung, ein­ gerichtet ist, können bei bestimmten Meßeinstellungen, z. B. bei der in der US-PS 36 29 575 beschriebenen niedri­ gen Vergrößerungseinstellung, aus dem Objekt austretende sekundäre oder auch reflektierte Elektronen einen ungün­ stigen Einfluß auf die Messung oder auf den Detektor als solchen ausüben. Bei Einstellungen für im üblichen Bereich liegende Vergrößerungen wird dies häufig dadurch vermie­ den, daß diese Elektronen durch das verhältnismäßig kräf­ tige Magnetfeld der betreffenden Linse eingefangen werden und daher den Detektor nicht erreichen. Für eine optimale Messung ist es dabei erwünscht, daß der Detektor möglichst nahe beim Objekt angeordnet wird und eine hohe Empfind­ lichkeit für die zu messende Strahlung hat. Gerade in die­ ser optimalen Position ist der Detektor für das Einfangen von Streuelektronen in einer Meßanordnung mit einer schwach erregten Linse empfindlich, wie sie bei der er­ wähnten niedrigen Vergrößerungseinstellung benutzt wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem Elek­ tronenmikroskop der eingangs genannten Art den nahe beim Objekt angeordneten Detektor so auszurüsten, daß das Ein­ fangen von Streuelektronen beseitigbar ist.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist ein Elektronenmikroskop ein­ gangs erwähnter Art dadurch gekennzeichnet, daß der Detek­ tor mit einem elektronenabsorbierenden Schirm ausgerüstet ist, der ohne Öffnung des Elektronenmikroskops in einen Strahlenweg für die vom Detektor zu messende Strahlung eingeführt und aus diesem Strahlungsweg heraus­ geführt werden kann.
In einem erfindungsgemäßen Elektronenmikroskop kann so bei einer nicht zu schwach erregten Linse mit einer optimalen Position und einem optimalen Aufbau des Detektors gemessen werden und wird vom Schirm bei einer schwach erregten Lin­ se nachteiliger Einfluß auf den Detektor durch Elektronen­ einfall vermieden. Hierbei braucht das Elektronenmikroskop nicht geöffnet zu werden.
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachstehend an­ hand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 ein Elektronenmikroskop mit einem einstellbaren Detektor nahe der Objektivlinse, und
Fig. 2 einen skizzierten Schnitt durch einen Teil der Objektivlinse mit einem Detektor.
Ein Elektronenmikroskop nach Fig. 1 enthält eine Elektro­ nenquelle 1 mit einer Anode 2, einem Bündelrichtsystem 3 und einer Blende 4, einem Kondensorsystem mit einer ersten Kondensorlinse 5, einer zweiten Kondensorlinse 6 und einer Kondensorlinse 7, einem Objektiv mit einer er­ sten Objektivlinsenspule 8 und einer zweiten Objektiv­ linsenspule 9, einem Ablenkspulensystem 10, einem Objekt­ raum 11, einer Diffraktionslinse 12 mit einer Diffrak­ tionsblende 13, einer Zwischenlinse 14, einem Projektions­ system mit einer ersten Projektionslinse 15 und einer zweiten Projektionslinse 16, einer Filmkamera 17 und einem Schaufeld 18. Alle diese Teile sind in ein Gehäuse 20 mit einer elektrischen Zuleitung 21 für die Elektronenquelle und mit einem Schaufenster 22 aufgenommen. An das Gehäuse sind ein Binokular 23, eine Vakuumpumpvorrichtung 24 und eine Plattenkamera 25 angeschlossen. Im Objektivraum 11 befinden sich ein Objekt 26 und ein Strahlungsdetektor 27 mit einer Signalableitung 28 zum Detektieren einer aus dem Objekt durch einen Elektronenstrahl 29 freizumachender Strahlung.
In Fig. 2 ist der Detektor 27 zusammen mit dem Objekt 26 und Objektivlinsenpolschuhen 30 und 31 dargestellt. Der Elektronenstrahl 29 trifft auf das Objekt 26 und kann an­ schließend eine Abtastbewegung mit Hilfe des Ablenkspulen­ systems 10 ausführen. Über einen Strahlenweg 32 kann im Objekt 26 freigemachte Strahlung den Detektor 27 errei­ chen. Zur Messung beispielsweise von Röntgenstrahlung ent­ hält der Detektor 27 hinter einem Eintrittsfenster 33 bei­ spielsweise einen möglicherweise gekühlten Halbleiter­ detektor mit einer Signalableitung 35, die über die Lei­ tung 28 an eine Signalverarbeitungsanordnung 36 ange­ schlossen ist. Vor dem Eintrittsfenster, das für einen guten Strahlungsdurchgang verhältnismäßig dünn ausgeführt ist und beispielsweise aus Beryllium besteht, befindet sich ein Schirm 37, der hier über einen ersten Hebelarm 38 mit einer Scharniervorrichtung 49 und mit einem zweiten Hebelarm 50 verbunden ist, an dem ein Block aus magneti­ schem Werkstoff 51 angebracht ist.
Bei Erregung der Linsenspule 8 wird das Element 51 von dem Polschub 30 angezogen und wird der Schirm 37 aus dem Strahlungsweg 32 herausgenommen. Bei der Beseitigung der Erregung kehrt der Schirm in die Abschirmposition zurück. Für eine Außensteuerung, die übrigens auch mit Hilfe eines Schalters 52 durch Handbedienung erfolgen kann, kann der Scharniermechanismus mit einem Steuerelement 53 verbunden sein, das über die Signalverarbeitungsanordnung 36 auch mit einer Steueranordnung 54 für die Spule 8 verbunden ist. Hierdurch können eine Erregung der Spule und die Ver­ schiebung des Schirms einfach synchronisiert werden, wobei gleichfalls eine Verbindung mit dem Meßsignalverarbei­ tungssystem hergestellt werden kann. Bei der Ausführungs­ form mit einem von außen zu verschiebenden Schirm brauchen der zweite Hebelarm 50 und das Element 51 nicht vorhanden zu sein.
Diese Ausführung ist insbesondere vorteilhaft an der Stelle, an der die Magnetfeldstärkeänderung in einem gut erreichbaren Raum für eine autonome Schirmsteuerung unge­ nügend ist. Die über das Magnetfeld selbst einwirkende Schirmverschiebung kann, wenn dafür ein Bedarf besteht, selbstverständlich auch so ausgeführt werden, daß gerade bei kräftig erregter Spule eine Detektorabschirmung auf­ tritt. Eine gute Synchronisation zwischen Meßeinstellung und Schirmposition kann auch durch eine Zentralsteuerung aus einem üblicherweise einem Elektronenmikroskop zugeord­ neten Zentralcomputer 55 erreicht werden.

Claims (5)

1. Elektronenmikroskop mit einem nahe bei einer elektro­ nenmagnetischen Linse (8, 9) angeordneten Detektor (27) zum Detektieren von aus einem Objekt (26) mittels eines Elek­ tronenstrahles (29) freizumachender elektromagnetischer Strahlung, dadurch gekennzeichnet, daß der Detektor mit einem elektronenabsorbierenden Schirm (37) ausgerüstet ist, der ohne Öffnung des Elektronen­ mikroskops in einen Strahlenweg für die vom Detektor zu messende Strahlung eingeführt und aus einem Strahlenweg herausgeführt werden kann.
2. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Schirm von einem Steuerelement (53) aus verschieb­ bar ist, das für eine automatische Verbindung mit einer Steueranordnung (54) für die Erregung einer zum Durch­ führen der Meßeinstellung des Elektronenmikroskops dienenden elektromagnetischen Linse verbunden ist.
3. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirmverschiebung durch eine bei der Umschaltung zwischen verschiedenen Meßeinstellungen auftretende Magnetfeldstärkeänderung der zum Durchführen der Meßein­ stellung dienenden elektromagnetischen Linse als solche bewirkt wird.
4. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es für die Schirmverschiebung mit einem handbetätigbaren Schaltmechanismus (52) versehen ist.
5. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1 oder 2, da­ durch gekennzeichnet, daß in einen Zentralcomputer (55) eine Steuereinheit für die Schirmverschiebung aufgenommen ist.
DE19823201889 1981-01-30 1982-01-22 Elektronenmikroskop mit roentgendetektor Granted DE3201889A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8100449A NL8100449A (nl) 1981-01-30 1981-01-30 Elektronenmikroskoop met roentgendetektor.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3201889A1 DE3201889A1 (de) 1982-08-26
DE3201889C2 true DE3201889C2 (de) 1990-10-25

Family

ID=19836946

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19823201889 Granted DE3201889A1 (de) 1981-01-30 1982-01-22 Elektronenmikroskop mit roentgendetektor

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4450355A (de)
JP (1) JPS57143252A (de)
CA (1) CA1190329A (de)
DE (1) DE3201889A1 (de)
FR (1) FR2499313A1 (de)
GB (1) GB2092367B (de)
NL (1) NL8100449A (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3442207A1 (de) * 1984-11-19 1986-05-28 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Elektronenstrahl-istpositionsgeber
JPS6417366A (en) * 1987-07-01 1989-01-20 Rinku Anariteikaru Ltd Electron beam and x-ray detector
AT392857B (de) * 1987-07-13 1991-06-25 Ims Ionen Mikrofab Syst Vorrichtung und verfahren zur inspektion einer maske
JPH02231708A (ja) * 1989-03-06 1990-09-13 Fujitsu Ltd 半導体装置の位置合わせマーク検出方法及び装置
US5079428A (en) * 1989-08-31 1992-01-07 Bell Communications Research, Inc. Electron microscope with an asymmetrical immersion lens
US4962306A (en) * 1989-12-04 1990-10-09 Intenational Business Machines Corporation Magnetically filtered low loss scanning electron microscopy
JPH07294460A (ja) * 1994-04-28 1995-11-10 Hitachi Ltd X線分析方法および装置
US5569925A (en) * 1994-06-23 1996-10-29 Philips Electronics North America Corporation Mechanical shutter for protecting an x-ray detector against high-energy electron or x-ray damage
DE102009046211B4 (de) * 2009-10-30 2017-08-24 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Detektionsvorrichtung und Teilchenstrahlgerät mit Detektionsvorrichtung

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1066583A (en) * 1963-05-01 1967-04-26 Ass Elect Ind Improvements relating to electronic bombardment apparatus
US3359418A (en) * 1964-12-11 1967-12-19 Gunter F Bahr Electromagnetic actuating means for a shutter mechanism in an electron microscope
GB1183571A (en) * 1966-03-28 1970-03-11 Ass Elect Ind Improvements relating to X-Ray Apparatus
NL154050B (nl) * 1966-08-13 1977-07-15 Philips Nv Elektronenmicroscoop.
GB1295084A (de) * 1969-06-17 1972-11-01
FR2203509A5 (de) * 1972-10-16 1974-05-10 Anvar
GB1420803A (en) * 1973-06-28 1976-01-14 Ass Elect Ind Electron microscopes
NL7904044A (nl) * 1978-05-31 1979-12-04 Unilever Nv Werkwijze ter bereiding van homogene, vloeibare compo- sities.
JPS56153656A (en) * 1980-04-28 1981-11-27 Hitachi Ltd Electron microscope equipped with x-ray analyzing device
JPS6111885Y2 (de) * 1980-10-08 1986-04-14

Also Published As

Publication number Publication date
GB2092367B (en) 1985-01-23
JPH0465490B2 (de) 1992-10-20
DE3201889A1 (de) 1982-08-26
NL8100449A (nl) 1982-08-16
FR2499313A1 (fr) 1982-08-06
US4450355A (en) 1984-05-22
JPS57143252A (en) 1982-09-04
CA1190329A (en) 1985-07-09
FR2499313B1 (de) 1985-03-08
GB2092367A (en) 1982-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3924605C2 (de) Rasterelektronenmikroskop
DE3689490T2 (de) Elektronenstrahlprüfsonde zur Untersuchung integrierter Schaltungen.
DE3201889C2 (de)
DE3904032C2 (de)
DE2331091C3 (de) Einrichtung zur Bestimmung der Energie geladener Teilchen
EP0415484A2 (de) Röntgenaufnahmevorrichtung
EP1898208A1 (de) Röntgen-CT-Prüfanlage sowie CT-Verfahren zur Prüfung von Objekten
DE2646472B2 (de) Durchstrahlungs-Abtastelektronenmikroskop
DE69115589T2 (de) Mehrkanal-Ladungsteilchen-Analysator
DE2929911C2 (de)
DE4041297A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum waehlen der aufloesung eines ladungsteilchenstrahl-analysators
DE2702444C3 (de) Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Abbildung einer Maske auf ein Präparat
DE2555781C3 (de) Elektronenstrahlapparat
DE3438987C2 (de)
DE69601576T2 (de) Vorrichtung zur Analyse eines Ernergiespektrums
DE3824820A1 (de) Geraet zum beruehrungslosen optischen bestimmen von geometrischen abmessungen eines objektes
DE1096061B (de) Elektronenlinse
DE102009041993A1 (de) Beobachtungs- und Analysegerät
DE2740183A1 (de) Einrichtung zur fokussierung elektromagnetischer strahlung auf eine probe
DE2016753C3 (de) Vorrichtung zur Justierung des Objektfeldes in Elektronenmikroskopen
DE1204350B (de) Elektronenmikroskop
DE1146670B (de) In einem evakuierten Raum schwenkbarer Halter fuer mit einem Elektronenstrahl und visuell zu pruefende Praeparate
DE3921179C2 (de) Korpuskularstrahlgerät
DE102008035163B4 (de) Elektronenmikroskop
EP0004064B1 (de) Einrichtung an einer Ionenmikrosonde zur Bündelung des Primärionenstrahls

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8363 Opposition against the patent
8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: KUNZE, K., DIPL.-ING., PAT.-ASS., 2000 HAMBURG

8365 Fully valid after opposition proceedings
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL

8339 Ceased/non-payment of the annual fee