DE3126575A1 - Vorrichtung zur erfassung der sekundaerelektronen in einem rasterelektronenmikroskop - Google Patents
Vorrichtung zur erfassung der sekundaerelektronen in einem rasterelektronenmikroskopInfo
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Description
e lektr onenm ikr oskop
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erfassung der Sekundärelektronen
einer Probe in einem Rasterelektronenmikroskop. In neuerer Zeit sind Durchstrahlungselektronenmikroskope bekanntgeworden, welche mit
einer Zusatzeinrichtung ausgerüstet sind, die die Beobachtung des aus den Sekundärelektronen gewonnenen Rastermikroskopbildes ermöglicht. Bei
einem derart ausgebildeten Rasterelektronenmikroskop verbleibt bei der Beobachtung des Rasterbildes die Probe in einem Spalt zwischen den
Magnetpolstücken der Objektivlinse, wie das auch bei der Beobachtung des Durchstrahlungsmikroskopbildes der Fall ist. Eine bekannte, derart kombinierte
Mikroskopanordnung ist in der beiliegenden Fig. 1 dargestellt. Diese Anordnung besitzt ein Bestrahlungssystem 1 zum Bestrahlen einer Probe
4 mit einem Elektronenstrahl. Dieses System enthält eine Elektronenstrahlquelle zur Erzeugung des primären Elektronenstrahls entlang einer
optischen Achse 2 und eine Kondensorlinse zum Konvergieren des Elektronenstrahls.
Die Probe 4 befindet sich im wesentlichen in der Mitte eines Spaltes zwischen den Magnetpoistücken einer Objektivlinse 3. Der Elektronenstrahl
zum Bestrahlen der Probe entlang der optischen Achse wird auf die Probenoberfläche mit Hilfe eines Magnetfeldes fokussiert, das in Richtung
des primären Elektronenstrahls gesehen,vor der Probe erzeugt wird.
Das Objektivlinsenmagnetfeld vor der Probe wirkt insofern als letzte Stufe einer Kondensor linse und dient gleichzeitig zusammen mit einer Ablenkspule
5 über dem oberen Magnetpolstück der Objektivlinse als Ablenkmittel derart, daß der Elektronenstrahl zweidimensional die Oberfläche der Probe
abrastert. Ferner dient dieses vor der Probe aufgebaute Magnetfeld zur Fokussierung in Richtung zur optischen Achse hin von Sekundäre lektr onen 6,
welche zunächst in allen Richtungen von der Probenoberfläche ausgesendet werden. Über der Objektivlinse ist eine Detektor einrichtung zur Erfassung
der Sekundärelektronen angeordnet. Diese besitzt eine Lichtleitung 7 mit
: -I S 7
einem Szintillator, der am vorderen Ende,von der optischen Achse aus
gesehen, an der Lichtleitung vorgesehen ist, sowie einen Photomultiplier8
am hinderen Ende der Lichtleitung, sow ie andere Bauteile. Der Szintillator am vorderen Ende der Lichtleitung 7 ist an seiner Vorderseite (von der
optischen Achse aus gesehen) mit einer dünnen leitfähigen Schicht versehen. Diese leitfähige Schicht sowie eine Beschleunigungsringelektrode 9
um diese leitfähige Schicht herum besitzen ein Potential in der Größenordnung von +10 kV, welche von einer Gleichspannungsquelle 10 geliefert
wird. Um den vorderen Teil der Lichtleitung ist eine geerdete Abschirmhülse
11 angeordnet. . " ■
Bei der in der Fig. 1 dargestellten Anordnung besitzen die von der Probe
4 ausgesendeten Sekundärelektronen eine relativ geringe Energie, welche
von einigen eV bis zu einigen 10 eV reicht. Diese Sekundäre lektronen
werden daher bevorzugt in Richtung der optischen Achse 2 fokussiert und folgen einer spiralförmigen Bahn. Sobald die Sekundär elektronen das von
den Magnetpolstücken der Objektivlinse vor der Probe gebildete Magnetfeld verlassen, haben sie das Bestreben,, von der optischen Achse 2 zu
divergieren. Die Beschleunigungsringeiektrode 9 jedoch bildet ein elektrisches Feld oberhalb der Objektivlinse und beschleunigt die Sekundärelektronen
in Richtung auf den Szintillator. Beim Auftreffen der Sekundärelektronen
auf den Szintillator wird Licht erzeugt, das über die Lichtleitung 7 übertragen wird und vom Photomultiplier 8 in elektrische Signale umgewandelt
wird. Da der primäre Elektronenstrahl, welcher auf die Probe fokussiert wird, eine relativ hohe Energie von normalerweise 20 keV oder
höher aufweist, ist der Grad der Ablenkung des Elektronenstrahls durch die Beschleunigungsringeiektrode 9 vernachlässigbar klein.
Bevorzugterweise besitzt der primäre Elektronenstrahl, welcher die Probe
bestrahlt, eine hohe Energie, so daß er mit erhöhter Durchstrahlungsleistung
durch die Probe hindurchtritt. Bei der Erzeugung eines Rasterbildes mit Sekundärelektronen benötigt man jedoch keine derart hohe Ener-
gie. In manchen Fällen ist es sogar erwünscht, einen Elektronenstrahl
mit geringer Energie zu verwenden, um eine Zerstörung der Probe durch den die Probe bestrahlenden Elektronenstrahl zu vermeiden. In derartigen
Anwendungsfällen wird ein primärer Elektronenstrahl verwendet, der durch
eine niedrige Spannung, beispielsweise durch einige kV, beschleunigt wird. Das Magnetfeld der Objektivlinse wird durch eine relativ geringe Erregung
dabei erzeugt. Ein Elektronenstrahl mit einer derart geringen Energie ist jedoch der Gefahr ausgesetzt, daß er beeinträchtigt wird bzw. abgelenkt
wird durch das elektrische Feld der Beschleunigungsringelektrode. 9. Außerdem besteht die Gefahr, daß die Sekundäre lektr one n nicht ausreichend
durch das relativ schwache Magnetfeld der Objektiv linse gesammelt
werden. Man erhält dann kein hochqualitatives Rastermikroskopbild.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Vorrichtung zur Erfassung der
Sekundär elektronen in einem Rasterelektronenmikroskop zu schaffen, bei
dem aus den Sekundäre lektr one η ein Signal mit ausreichender Intensität auch dann gewonnen wird, wenn die Probe mit einem Elektronenstrahl
niedriger Energie bestrahlt wird und die Probe in einem schwachen Magnetfeld
der Objektivlinse angeordnet ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch die im Anspruch 1 angegebenen
Merkmale.
Bei der Erfindung befindet sich die Probe im Spalt zwischen den Magnetpolstücken
der Objektivlinse des Rastere lektr one nmikroskops und die Sekundärelektronen, welche von der Probe ausgesendet werden, werden mit Hilfe
eines Detektors erfaßt, der oberhalb der Elektronenlinse angeordnet ist.
Entlang der optischen Achse der Objektivlinse ist bei der Erfindung zwischen der Objektivlinse und dem Detektor für die Sekundärelektronen eine
rohrförmige Elektrode derart vorgesehen, daß der Primärelektronenstrahi, der zur Bestrahlung der Probe dient, durch den Detektor nicht beeinflußt
wird. Außerdem befindet sich eine Gitterelektrode, die gegeiiiber der Pro-
be ein positives Potential aufweist, am Boden der rohrförmigen Elektrode,
so daß im wesentlichen alle Sekundärelektronen, welche von der Probe
ausgesendet werden, zum Detektor gezogen werden.
In vorteilhafter Weise wird bei der Erfindung erzielt, daß das elektrische
Feld, welches zur Beschleunigung der von der Probe ausgesendeten Sekundärelektronen
in Richtung auf den Detektor hin dient, den primären Elektronenstrahl, welcher die Probe bestrahlt, nicht ablenkt.
Bei der Erfindung wird der Elektronenstrahl, der zur Bestrahlung der
Probe dient und eine geringe Energie aufweist, durch eine rohrförmige
Elektrode hindurchgeschickt, die um die optische Achse angeordnet ist. Auf
diese Weise wird verhindert, daß der niederenergetische Elektronenstrahl durch das elektrische Feld, welches vom Szintillator und der Beschleunigungselektrode
am Szintillator erzeugt wird, abgelenkt wird. Eine Gitterelektrode,
befindet sich zwischen der rohrförmigen Elektrode und einer
äußeren diese umgebenden rohrförmigen Elektrode, so daß die Sekundärelektronen, welche von der Probe ausgesendet werden, zunächst in Richtung
zur Elektronenstrahlquelle gezogen werden durch das elektrische Feld, welches
von der gegenüber der Probe auf positivem Potential gehaltenen Gitterelektrode
erzeugt wird. Anschließend werden'die Sekundärelektronen durch
das elektrische Feld, welches von der am Detektor vorgesehenen Beschleunigungselektrode
erzeugt wird, zum Detektor hin beschleunigt.
Anhand der beiliegenden Figuren wird die Erfindung noch näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer herkömmlichen Vorrichtung
zur Erfassung der Sekundärelektronen und
und 3 schematische Darstellungen von Ausführungsbeispielen der Er-
findung.
Bei dem in der Fig. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel sind für gleichwirkende
Teile die gleichen Bezugszeichen verwendet wie bei der Vorrichtung der Fig. 1. Das Ausführungsbeispiel der Fig. 2 besitzt außerdem
eine dünne und elektrisch leitfähige rohrförmige Elektrode 12, welche verhindert,
daß der primäre Elektronenstrahl, welcher mit nur geringer Energie zur Bestrahlung der Probe beschleunigt wird, abgelenkt wird. Diese
rohrförmige Elektrode 12 ist geerdet und wird von einer äußeren rohrförmigen
Elektrode 13 umgeben. Eine ringförmige Gitterelektrode 15 befindet sich zwischen der rohrförmigen Elektrode 12 und der äußeren rohrförmigen
Elektrode 13 an einer unteren Stelle der Rohrelektrodenanordnung. Zur Befestigung dient ein Isolierring 18. Die Ausgangsklemme einer Gleichspannungsquelle
14 mit z. B. etwa 500 V ist mit der äußeren Elektrode 13 und der Gitterelektrode 15 verbunden. Die äußere rohrförmige Elektrode 13 besitzt
eine Öffnung 13a, die gerichtet ist auf das vordere Ende des Detektors. Selbst wenn bei diesem Ausführungsbeispiel die Intensität des Objektivlinsenmagnetfeldes
nicht ausreicht, um die Sekundärelektronen zu sammeln, werden die Sekundärelektronen durch das elektrische Beschleunigungsfeld,
welches von der Gitterelektrode 15 erzeugt wird, nach oben gezogen in einen Bereich, wo sie in den Einflußbereich des elektrischen Beschleunigungsfeldes
kommen, das von der Beschleunigungsringelektrode 9 erzeugt wird,und gelangen somit zum Szintillator. Der primäre Elektronenstrahl
wird, selbst wenn er durch eine nur niedrige Spannung beschleunigt wird,
durch das elektrische Beschleunigungsfeid, welches von der Beschleunigungsringelektrode
9 erzeugt wird, nicht abgelenkt, weil er von der ringförmigen Elektrode 12 umgeben wird. Der Strahlweg des primären Elektronenstrahls
befindet sich innerhalb der rohrförmigen Elektrode 19 und innerhalb der Reichweite des elektrischen Beschleunigungsfeldes der Beschleunigungselektrode
.
Demgemäß ist es mit der Erfindung möglich, Rasterbilder, welche aus
10139
Elektronenstrahlen, die mit geringen Spannungen beschleunigt sind, resultieren,
zu. beobachten, ohne daß die beim Stand der Technik vorhandenen Nachteile in Kauf genommen werden müssen. Die Erfindung beschränkt
sich nicht nur auf das in der Fig. 2 dargestellte Ausführungsbeispiel, sondern kann z. B. auch bei einer Ausführungsform der Fig. 3 mit den gleichen
Vorteilen zur Anwendung kommen.
Die Fig. 3 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung, dessen
Aufbau sich gegenüber dem Aufbau der Fig. 2 unterscheidet. Eine rohrförmige
Elektrode 16 und eine äußere rohrförmige Elektrode 17 sind, wie die
abschirmende Hülse 11, für die Lichtleitung 7 geerdet. Eine ringförmige Gitterelektrode 20 erstreckt sich zwischen einem Isolierring 18 an der rohrförmigen
Elektrode 16 am unteren Ende derselben, und einem isolierring 19 am unteren Ende der äußeren ringförmigen Elektrode 17. Die Gitterelektrode
20 befindet sich auf einem Potential in der Größenordnung von einigen hundert Volt, welche von einer Gleichspannungsquelle 14 geliefert
werden. Die Gitterelektrode dient zum Sammeln der Sekundärelektronen,
welche von der Probe ausgesendet werden, und wirkt in der gleichen Weise
wie die Gitterelektrode des Ausführungsbeispiels der Fig. 2. Ferner ist beim Ausführungsbeispiel der Fig. 3 der Detektor seitlich in der äußeren
rohrförmigen Elektrode 17 angeordnet und an dieser befestigt.
Leerseite
Claims (3)
- UEDL, 'Mf-H] 1ZEItLERPatentanwälte
Steinsdorfstr. 21-22 · D-8000 München 22 ■ Td. 089/229441 ■· Telex: 05/22208KIHON DENSHI KABUSHIKI KAISHA 1418 Nakagamicho, Akishimashi, Tokyo, 196 JapanVorrichtung zur Erfassung der Sekundärelektronen in einem Rasterelektro-nenmikroskopPatentansprüche:(IJ Vorrichtung zum Erfassen der Sekundärelektronen in einem Rasterelektronenmikroskop, bei dem ein primärer Elektronenstrahl einer Elektronenstrahlquelle auf eine Probe gerichtet wird, die im wesentlichen in der Mitte zwischen Magnetpolstticken einer Objektivlinse angeordnet ist und von der durch den primären Elektronenstrahl Sekundärelektronen ausgelöst werden, die von einem mit einer Beschleunigungselektrode versehenen Detektor, der außerhalb der Objektivlinse zwischen dieser und der Elektronenstrahlquelle angeordnet ist, erfaßt werden, dadurch gekennzeichnet, daß eine rohrförmige Elektrode (12; 16) um die optische Achse, längs der der primäre Elektronenstrahl verläuft, angeordnet ist, daß um diese rohr-10139 - N/wsförnüge Elektrode (12; 16) eine äußere rohrförmige Elektrode (13, 17) angeordnet ist und daß eine ringförmige Gitterelektrode (15, 20), welche gegenüber der Probe (4) ein positives Potential aufweist, !zwischen den der Probe (4) nächstiiegenden Enden der rohrförmigen Elektroden (12, 13; 16, 17) angeordnet ist und die Sekundärelektronen von der Probe (4) zum Detektor zieht. - 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die rohrförmige Elektrode (16) und die äußere rohrförmige Elektrode (17) geerdet sind.
- 3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die äußere rohrförmige Elektrode (13) das gleiche Potential aufweist wie die ringförmige Gitterelektrode (15).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
AU48510/79A AU521225B2 (en) | 1977-04-19 | 1979-06-28 | Alkylenedioxy phenyl derivatives |
JP10551680A JPS5730253A (en) | 1979-06-28 | 1980-07-31 | Secondary electron detector for scan type electron microscope |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3126575A1 true DE3126575A1 (de) | 1982-04-22 |
DE3126575C2 DE3126575C2 (de) | 1984-07-26 |
Family
ID=25628249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3126575A Expired DE3126575C2 (de) | 1979-06-28 | 1981-07-06 | Vorrichtung zur Erfassung der Sekundärelektronen in einem Rasterelektronenmikroskop |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5730253A (de) |
AU (1) | AU521225B2 (de) |
DE (1) | DE3126575C2 (de) |
FR (1) | FR2488044A1 (de) |
GB (1) | GB2081501B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3590146C2 (de) * | 1984-04-06 | 1990-06-07 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo, Jp |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58161235A (ja) * | 1982-03-19 | 1983-09-24 | Internatl Precision Inc | 走査型電子線装置 |
JPS58148867U (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-06 | 株式会社島津製作所 | 2次電子検出装置 |
GB8327737D0 (en) * | 1983-10-17 | 1983-11-16 | Texas Instruments Ltd | Electron detector |
JPS60154416A (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-14 | 昭和電線電纜株式会社 | 高発泡ポリエチレン絶縁電線の製造方法 |
JPH0452888Y2 (de) * | 1985-08-23 | 1992-12-11 | ||
DE3766092D1 (de) * | 1986-12-12 | 1990-12-13 | Integrated Circuit Testing | Detektoranordnung mit einem detektorobjektiv fuer korpuskularstrahlgeraete. |
JP2620370B2 (ja) * | 1989-05-01 | 1997-06-11 | 住友電気工業株式会社 | 絶縁電線とその製造方法並びに同軸の絶縁電線 |
JPH0755990B2 (ja) * | 1989-11-02 | 1995-06-14 | 宇部興産株式会社 | 電線被覆用の発泡性ポリオレフィン樹脂組成物 |
JP3081393B2 (ja) * | 1992-10-15 | 2000-08-28 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
DE19729526C2 (de) * | 1997-07-10 | 1999-07-22 | Frank Siegelin | Beheizbarer Probentisch zur in-situ Abbildung in Rasterelektronenmikroskopen bei hihen Temperaturen |
BR9913405A (pt) | 1998-09-03 | 2001-10-02 | Kyowa Hakko Kogyo Kk | Composto heterocìclico que contenha oxigênio, e, inibidor de fosfodiesterase (pde) iv. |
GB2367686B (en) * | 2000-08-10 | 2002-12-11 | Leo Electron Microscopy Ltd | Improvements in or relating to particle detectors |
GB2442027B (en) * | 2006-09-23 | 2009-08-26 | Zeiss Carl Smt Ltd | Charged particle beam instrument and method of detecting charged particles |
CN115662866B (zh) * | 2022-11-29 | 2023-03-14 | 北京中科科仪股份有限公司 | 一种二次电子探测装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2116289B2 (de) * | 1970-04-18 | 1974-05-09 | Nihon Denshi K.K., Akishima, Tokio (Japan) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1128107A (en) * | 1965-06-23 | 1968-09-25 | Hitachi Ltd | Scanning electron microscope |
GB1304344A (de) * | 1969-02-01 | 1973-01-24 |
-
1979
- 1979-06-28 AU AU48510/79A patent/AU521225B2/en not_active Expired
-
1980
- 1980-07-31 JP JP10551680A patent/JPS5730253A/ja active Pending
-
1981
- 1981-07-06 DE DE3126575A patent/DE3126575C2/de not_active Expired
- 1981-07-21 GB GB8122416A patent/GB2081501B/en not_active Expired
- 1981-07-30 FR FR8114891A patent/FR2488044A1/fr active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2116289B2 (de) * | 1970-04-18 | 1974-05-09 | Nihon Denshi K.K., Akishima, Tokio (Japan) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3590146C2 (de) * | 1984-04-06 | 1990-06-07 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo, Jp |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2488044A1 (fr) | 1982-02-05 |
AU4851079A (en) | 1979-10-25 |
JPS5730253A (en) | 1982-02-18 |
GB2081501A (en) | 1982-02-17 |
AU521225B2 (en) | 1982-03-25 |
FR2488044B1 (de) | 1985-01-04 |
DE3126575C2 (de) | 1984-07-26 |
GB2081501B (en) | 1984-05-31 |
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