JPS58161235A - 走査型電子線装置 - Google Patents

走査型電子線装置

Info

Publication number
JPS58161235A
JPS58161235A JP4293582A JP4293582A JPS58161235A JP S58161235 A JPS58161235 A JP S58161235A JP 4293582 A JP4293582 A JP 4293582A JP 4293582 A JP4293582 A JP 4293582A JP S58161235 A JPS58161235 A JP S58161235A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
magnetic pole
objective lens
electron beam
scanning electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4293582A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirotami Koike
紘民 小池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
INTERNATL PRECISION Inc
Original Assignee
INTERNATL PRECISION Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by INTERNATL PRECISION Inc filed Critical INTERNATL PRECISION Inc
Priority to JP4293582A priority Critical patent/JPS58161235A/ja
Priority to GB08307619A priority patent/GB2118361B/en
Publication of JPS58161235A publication Critical patent/JPS58161235A/ja
Priority to GB08530697A priority patent/GB2173945B/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は走査型電子線装置、特に対物レンズ部分に改良
を加えた走査型電子線装置に関するものである。
走査型電子線装置として例えば走査型電子顕微鏡につい
てみると、この走査型電子顕微鏡の従来例としては例え
ば第1図に示すようなものがある。これは、電子銃3と
、第1段、第2段の集束レンズ5,6と全内蔵し、集束
レンズ5゜6の下方に第1段、第2段の偏向コイル7.
8と対物レンズ9とを配置した顕微鏡本体1、及び顕微
鏡本体1の下方に当該顕微鏡本体1に固定して配置され
、内部に中空の室14を画成すると共に、この室14内
において対物レンズ9の下方に試料ステージ10t−上
下動可能に配置し、また対物レンズ9用の可動絞り12
や二次電子検出器13を取付固定した試料室2から成っ
ている。
対物レンズ9は上側磁極片9aと、上側磁極片9aから
所定の間隔分あけて設けられた下側磁極片9bとを有し
、この磁極片9a 、 9b間に可動絞り12の絞り操
作部が挿入されている一方、試料ステージ10け両磁極
片9a 、 9bの下方において試料ホルダ11及び試
料15を支持している。
なお、第1図中符号4は真空ポンプに接続された排気管
である。
このような構成を有する走査型電子顕微鏡にあっては、
試料15が対物レンズ9の外部に配置されるために、試
料ステージ10を下方へ移動させることにより当該試料
ステージ10と対物レンズ9との間隔を大きくとり、充
分大きな試料15を挿入することが出来るという利点が
ある。しかし、その反面、対物レンズ9の中心から試料
15までの距離、即ちワーキング・ディスタンス(W、
 D、)を大きくすると、対物レンズ9の収差が大きく
なるため、対物レンズ9の加速電圧を高くしないと高分
解能が得られないという不利益がある。
電子顕微鏡の対物レンズ90分解能とワーキング・ディ
スタンスにの関係は一般的に第2図に示すグラフのよう
になる。このグラフは、対物レンズ9の加速電圧が5キ
ロボルトのときの当該対物レンズ9の分解能を最小錯乱
円(試料面上における電子線の広がり)とワーキング・
ディスタンスとの関係で表わしたもので、縦軸に最小錯
乱円、横軸にワーキング・ディスタンスをとっである。
そして、ワーキング−ディスタンスが小さければ小さい
ほど対物レンズ9収差係数は小さくなり高分解能である
ということができる。このグラフからも明らかなように
、通常の走査型電子顕微鏡でけワーキング・ディスタン
スが短い方が収差係数が小さく高分解能に適しているこ
とがわかる。そのため、高分解能像と得るためにはワー
キング・ディスタンスを出来るだけ小さくする必要があ
る。
かかる要請に応じて、試料15を対物レンズ9の磁場の
中に挿入して観察し、対物レンズ9収差の小さい条件で
使用する試みが行われている。
この試みの結果実現された走査型電子顕微鏡が第3図に
示されている。これは、対物レンズ9の上側磁極片9a
と下側磁極片9bとの間に試料15を配置出来るように
し、当該試料15に偏向コイル7.8によって偏向した
走査電子線を照射し、試料15から発生する二次電子を
強い磁界中でトラップし、対物レンズ9の上部に配置さ
れた二次電子検出器13で検出するようにしたものであ
る。対物レンズ9の上部にはX線検出器16も又配置さ
れ、試料15から発生し72:X線を検出する一方、対
物レンズ9下方には、顕微鏡本体1にヒンジ19を介し
て回転可能に取付けられた螢光板18、及び走査透過電
子検出器17が配置され、透過電子線による試料像が得
られるようになっている。
しかし、このような構造の電子顕微鏡にあっては、従来
からの対物レンズ9の磁極片9a、9b間に試料15を
挿入するようにしているので、狭い磁極片9a 、 9
b間に試料15を挿入するために、当該試料15を小さ
くしなければならない。そして、従来の対物レンズ9で
は試料15の大きさはせいぜい直径が1 cm (セン
チメートル)止まりであった。したがって、直径が1側
より大きな試料15を観察するためには、第1図に示す
タイ7’ノi[子顕微鏡を用い、60人(オンダストロ
ーム)程度の分解能と、高分解能を犠牲にして観察して
いる。
このような背景の下において、最近では、集積回路即ち
ICの分野で直径が4インチ乃至5インチ(NIJち、
10〜12.5 cm )の大型のウェハーを観察した
いという要求が起きている。しかも、ウェハー上の集積
回路は、高加速電圧が照射される(これは高分解能を得
るための一条件である。)と電子線による損傷を起し、
集積回路として使用出来なくなることがわかって来た。
このため、IKV(キロボルト)程度の低加速電圧での
観察が必要である。ところが、走査型電子顕微鏡では、
第4図に示されているように、加速電圧が低くなると分
解能が低下し、上記の如きlK′vの加速電圧では分解
能は1000 A程度に劣化して実用的でないという不
合理があった。なお、この第4図は、対物レンズ9の分
解能を最小錯乱円と加速電圧との関係で表わしたもので
、縦軸に最小錯乱円、横軸に加速電圧をとっである。ま
た、第4図中、一点鎖線Fは色収差による分解能変化、
二点鎖線Gけ試料入射電流による分解能変化、点線Hは
球面収差による分解能変化、点線■は回折収差による分
解能変化と表わす。そして、実線Fは、上記グラフ線F
、G。
H,Iの全ての条件と総合した対物レンズの分解能変化
を表わしている。
このため、ウェハーを低加速電圧でしかも高分解能で観
察するためには、対物レンズ9の磁極間に挿入すること
が好ましいのであるが、上記したように、対物レンズ9
の磁極間にはウェハーを収容するだけのスペースを確保
することは出来ず、もし高分解能で観察したいのであれ
ば、ウェハーを小片に破壊して部分毎に観察する必要が
ある。しかし、ウェハーを破壊すれば製品としての価値
がなくなるから、とても容認できることではない。
このように、IKv程度の加速電圧で4インチ乃至5イ
ンチのウェハーを高分解能で観察することは、上記各種
要因のために極めて困難であるという問題があった。
本発明は、上記のような従来の問題点に着目してなされ
たもので、その目的は、4インチ乃至6インチの長さ寸
法を有するウェハー等の比較的大型の試料を破壊するこ
となく、I KV前後の低加速電圧の下において高分解
能で観察出来る走査型電子顕微鏡を提供することである
本発明は、走査型電子顕微鏡において、対物レンズの磁
極を上下対に分割して配置し、これらの磁極間に、磁極
配置方向に交差する方向に延びる即ち、光軸を横切って
延びる試料収容空間を形成して試料室となし、この収容
空間内に磁極面より大きな面積を有する試料ホルダを配
置できる様にしたことを特徴としている。試料ホルダは
、可動機構により、光軸と交差する任意の軸線を中心と
して傾斜回転し得る様支持されるのが好ましい。また、
磁極は、試料ホルダが出来る限り傾斜回転し得る様、そ
の磁極片頂部が先端から基部に向けて次第に拡開する截
頭円錐形状に形成されているのが好ましい。こうするこ
とにより、対物レンズは、一対の磁極片間に■Cウニ八
へを載置可能な程度の大面積を有する試料ホルダと配置
することが出来また、この試料ホルダを傾斜させること
により、試料の傾斜観察を行うことが可能となる。
以下本発明の実施例を添付の図面を参照して詳細に説明
する。
第5図は、本発明の第1の実施例を示す図である。この
実施例に係る走査型電子顕微鏡は、顕微鏡本体1に組込
まれた集束レンズ5,6及び偏向コイル7.8の下方に
おいて、上側磁極20と、当該上側磁極2oから下方へ
所定の間隔をあけて配置された下側磁極21とから成る
対物レンズ−9と備え、上側磁極2oと下側磁極21と
の間において、光軸30に交差する方向に延び且つ−L
上下側磁極0 、21を包囲する試料収容空間28を両
威し、上下側磁極20 、21全支持する試料室2と設
けて成る。
上側磁極加は、試料室2を形成する筐体の頂壁2aの略
中央部分において当該筐体と一体又は別体に設けられ、
その頂壁2aがら収容空間28内へ向けて垂下した′g
i極片22と、この磁極片22の外周に巻装された電磁
フィル24とから構成される。磁極片22は、先端が平
面形状をした略円筒形体から成り、内部には光軸30方
向に延びる中空腔29が形成される一方、先端面には開
口26が形成されている。下側磁極21もまた、上側磁
極冗と同様、試料室2と形成する筐体の底壁2bの略中
央部分において当該筐体と一体又は別体に設けられ、そ
の底壁2bから収容空間2B内へ向け、上記磁極片ηに
対向して突起した磁極片nと、この磁極片23の外周に
巻装された電磁コイルbとから構成される。磁極片nは
、先端が平面形状をした略円筒形体から成り、内部には
光軸凹方向に延びる中空腔31が形成される一方、先端
面には開口27が形成されている。そして磁極片nの先
端面と磁極片nの先端面との間には所定寸法の間隙32
が形成される。
収容空間28内では、間隙32を横断して試料ホルダ1
1が配置されている。この試料ホルダ11は、平板形状
を有し一側に強度部34が設けられた試料保持部材33
と、試料保持部材33の他側にビス36によって結合さ
れ、上記強度部34と同様の構造を有する補強部材35
とから成り、試料保持部材あの上面にはICウェハー等
の試料15が載置されている。試料ホルダ11け、上下
側磁極20 、21が略円筒形構造である点を考慮して
、収容空間28内で固定されていてもよいし、或は第5
図中実線と二点鎖線とで示すように、水平位置Aと比較
的緩やかな傾斜位置Pとの間で傾斜回転するように支持
されていてもよい。また試料ホルダを水平に保って水平
面内を移動可能としてもヨイ。なお対物レンズ上方にお
いて、顕微鏡本体1には二次電子検出器13が取付けら
れている。
かかる構成を有するから、本実施例に係る走査型電子顕
微鏡では、従来に比べて対物レンズ9の磁極間において
、横方向、即ち光軸30を横切る方向に広い収容空間が
形成される。したがって、試料ホルダ11の面積は対物
レンズ磁極面積よりも遥かに大きくすることが出来、こ
の試料ホルダ11上に例えば直径が4インチ乃至6イン
チのICウェハー?楽に載置することが出来る。
そして、−試料ホルダ11上の試料15には、電子銃3
から照射された電子線が照射すると共に走査し、試料面
から二次電子を発生させる。この二次電子は上側レンズ
20の磁極片n開口26から中空腔29内へと流れ二次
電子検出器13によって検出される。この試料15観察
中において、電子線の加速電圧けIKV程度と、比較的
低い電圧に設定される。このように電圧が低くても、試
料15は対物レンズ9の上下磁極片22 、23の間に
設置した構成になっているから、電子顕微鏡のワーキン
グ・ディスタンスを小さく設定することが出来、高分解
能像が得られる。
第6図及び第7図は、本発明の第2の実施例を示す図で
ある。この実施例において、電子顕微鏡の対物レンズ9
を構成する上側磁極20及び下側磁極21は、それぞれ
磁極片η、23の先端部が面とり成形されている。その
ため、各磁極片22 、23は、胴体部分は円筒形状に
形成されている一方、その頂部は先端から基端方向に向
けて次第に拡開する截頭円錐形状に形成されている。
この先端部の傾斜は、例えば開き角が60°程度になる
よう設定される。また、上側磁極部材冗の磁極片22の
中空腔29内にはコイルホルダ40が取付けられ、この
コイルホルダ40に第1段、第2段の走査コイル7.8
が固定されている。さらに、磁極片22の胴体部分には
取付孔が開設され、この取付孔には磁極片22の外側か
ら中空腔29内へと二次電子検出器13が挿入固定され
ている。なおこの実施例では、対物レンズ9の磁極面積
は第6図中りで表わされる。
したがって、試料ホルダ11け磁極片22 、23に対
して第7図に示すような位置関係になり、この試料ホル
ダ11を挿入した磁極片22 、23間隙内に磁場が形
成される。そして試料ホルダ11を水平に保ち、或は傾
斜させて試料15の観察が行われるが、磁極片22 、
 Z3は先端部分が面とりされ、截頭円錐形状に形成さ
れているため、試料ホルダ11け、収容空間28内にお
いて、水平位置Aから傾斜位置Cまで、上記第1の実施
例におけるよりは更に大きな角度まで傾斜することが出
来る。したがって、試料15の傾斜角を閉度又はそれ以
上にすることが可能となり、ICウェハーの製造に又は
該製造中における製品検査に完全を期することができる
。また本実施例では、電子線走査用の偏向コイル7.8
が対物レンズ9の中に組込まれた構造となっているため
、偏向コイル7.8から開口26までの距離を小さくす
ることが出来、試料15上での電子線走査用凹(ストロ
ーク)を拡大できる。そして、電子線照射により、試料
15から出た二次電子は二次電子検出器13によって検
出される。なお、この実施例において、対物レンズ9内
に組込まれた偏向コイル7.8は第1段、第2段とも二
次電子検出器13の上方に配置しであるが、必ずしもこ
のような構成に限られるものでなく、例えば第2段の偏
向コイル8を二次電子検出器13の下方へ配置するとか
、或は両偏向コイル7.8とも二次電子検出器13の下
方へ配置する等の変更を加えることもできる。
第8図及び第9図は、本発明の第3の実施例を示す図で
ある。この実施例においても、上記第2の実施例におけ
ると同様、上側磁tjfi20及び下側磁極21には先
端が面とりされた磁極片22゜nが用いられている。し
かし第2の実施例と異なり、対物レンズ9励磁用には上
側磁極20にのみ電磁コイル24が巻装され、下側磁極
21には電磁コイルが省略されている。一方、顕微鏡本
体1から上側磁極20にかけての部分では、顕微鏡本体
1の内部に第1段及び第2段の走査コイル7.8が取付
けられ、その下方位置において二次電子検出器13が顕
微鏡本体1に挿入固定され、更に上側磁極加の磁極片2
2の中空腔29内には第3 段(D 偏向コイル42が
コイルホルダ41ニよって取付固定されている。そして
、これらの偏向コイル7.8.42は、試料観察時にあ
っては三基のうちの任意の二基と作動させ、照射電子線
を偏向させるようになっている。また、試料ホルダ11
は、−側に強度部34を一体成形した試料保持部材33
を片持梁構造になる様に収容空間28内に支えて成る。
そして、この試料保持部材33上には試料15が載置さ
れる。
このように、下側磁極21には、対物レンズ9励磁用の
電磁コイルが省略されているが、このような構造の対物
レンズ9においても比較的低い加速電圧を発生させるこ
とはでき、例えばIKV程度の加速電圧は充分に発生さ
せることができる。また、電子線走査用の偏向コイル7
.8゜42を上記の如く設けたため、試料15の観察像
の収差を小さくすることが可能になる。例えば、電子線
走査についてみれば、従来の電子顕微鏡は、本実施例に
おいて偏向コイル7.8を作動させたものに相当する。
この作動条件の下で、試料15上の点Pft照射しよう
とするときは、電子銃3から発射された電子線は先ず点
Q位置で第1段の偏向コイル7によって軌道偏向され、
次いで点P位置にて第2段の偏向コイルによって軌道偏
向され、そして試料15上の点PK到達する。これに対
し、本実施例において、偏向コイル7.42を作動させ
、試料15上の点Pk照射しようとするときは、電子銃
3から発射された電子線は、上記の場合と同様に点Q位
置で第1段の偏向コイル7によって軌道偏向されるが、
この偏向された電子線は次に点S位置で第3段の偏向コ
イル42によって軌道偏向され、その後試料15上の点
Pに到達する。本実施例によって得られた後者の電子線
経路Q−8−Pは、従来におけるような前者の電子線経
路Q−R−Pに比較して光軸30に近い経路であるため
、電子線経路中で生じる軸外収差を低く抑えることが出
来、より一層鮮明な観察像が得られる。
なお、この第3の実施例を更にすすめ、下側磁極21の
磁極片22もまた取υ払ってしまうこともできる。第1
0図はかかる変更と加えた本発明の第4の実施例を示す
図である。この場合は、上側磁極20に対して下側磁極
21が無限遠の距離に置かれたものと考えることが出来
、対物レンズ9の励磁作動は上側磁極20において行わ
れる。
また、この場合におけるワーキング・ディスタンスは磁
極片ηの頂面と試料15との間の距離によって決まる。
これにより、収容空間28がより一層大きくなり、二次
電子検出器13以外の各種検出器を設置したり、或は試
料ホルダ11移動装置の取付自由度が増大する等の利点
が得られ、スペースの有効利用を図り得る。かかる対物
レンズ磁極に対する改良変更は上側磁極20に対して為
されてもよいし下側磁極21に対して為されてもよい。
更に、上記第1乃至第4の実施例において、上側磁極2
0と下側磁極21とのうちいずれか一方又は両方の磁極
片を、第11図に示すように、中心部分に軸方向に延び
る段状の孔58を形成した外部筒50とこの外部筒50
の孔58内に摺動可能に挿入された内部筒51とで組立
て、内部筒51を外部筒50の孔58の段部に回転可能
に配置したクラウンギア52によって係合支持する一方
、このクラウンギア52と軸受59により試料室2に回
転可能に取付けられた操作棒53に作動連結した構成に
することも出来る。内部筒51の外周にはねじ部54が
設けられ、/Jw、クラウンギア52の内周にはねじ部
54に螺合するねじ部55が形成される一方、クラウン
ギア52の側面にはギア歯56、操作棒53の先端部に
はギア歯56に噛合するギア歯57が形成されている。
そして、操作棒53のつまみ部60を回転させることに
より、クラウンギア52を水平面内で回転させ、この回
転運動に伴いクラウンギア52と内部筒51との間に牛
じるねじ送り作用により内部筒51を上下動させること
ができる。もちろん、クラウンギア52は図示外の支持
部材により孔58内で落下しない様に支持されており、
また内部筒51はクラウンギア52と一緒に回転しない
様規制されている。このように、対物レンズの上側磁極
又は下側磁極を可動タイプとすることにより、ワーキン
グeディスタンスを可変することが出来、例えば試料1
5を水平に保ち、ワーキング・ディスタンスを小さくし
て高分解能像を得、或はワーキング・ディスタンスを大
きくして試料15傾斜と大きくとる等各種の条件に即応
した観察態勢をとることが出来る。したがって走査型電
子顕微鏡としての利用度を向上させることが可能となる
以上説明したように、本発明によれば、走査型電子顕微
鏡をはじめとする各種走査型電子線装置において、対物
レンズの磁極を上下対に分割して配置し、これらの磁極
間において、当該磁極の配置方向即ち光軸に交差する方
向に延びる試別室と形成すると共に、磁極間隙内に対物
レンズ磁極面より大きな面積を有する試料ホルダを配置
したため、低加速電圧の下で大型の試料を大角度傾斜し
ても高分解能で観察することが出来るようになでた。ま
た、上下分割された磁極の磁極片先端を面とりすること
により、大型試料の傾斜を楽に行うことが出来るように
なった。ざらに、このように分割した磁極の内部に偏向
コイルを配置することにより、電子線の走査ストローク
分大きくしたり、或は試料に向けて照射された電子線の
経路を光軸により一層近い位置にし、収差を小さく抑え
ることが可能となる。さらにまた、上側磁極又は下側磁
極を光軸方向に可動型とすることにより、ワーキング・
ディスタンスを種々変更できるようにし、高分解能像を
得たり、試料傾斜を大きくしたりすることが出来る等、
種々の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の走査型電子顕微鏡の構造を示す断面図
である。 第2図は、走査型電子顕微鏡の分解能とワーキング・デ
ィスタンスとの関係を表わすグラフ図である。 第3図は、従来の走査型電子顕微鏡において、対物レン
ズ磁極間に試料を置くように試みた例を示す概略断面図
である。 第4図は、走査型電子顕微鏡の分解能と対物レンズ加速
電圧との関係を示すグラフ図である。 第5図は、本発明の第1の実施例に係る走査型電子顕微
鏡の断面図である。 第6図は、本発明の第2の実施例に係る走査型電子顕微
鏡の断面図である。 第7図は、上記第2の実施例における試料設置部分を示
す斜視図である。 第8図は、本発明の第3の実施例に係る走査型電子顕微
鏡の断面図である。 第9図は、上記第3の実施例における試料設置部分を示
す斜視図である。 第10図は、本発明の第4の実施例?示す断面図である
。 第11図は、対物レンズ磁極の構造と可動型にすべく変
更した例を示す断面図である。 1・・・顕微鏡本体    2・・・試料室3・・・電
子銃      5.6・・・集束レンズ7.8・・・
偏向コイル  9・・・対物レンズ10・・・試料ステ
ージ   15・・・試料冗・・・上側磁極     
21・・・下側磁極22 、23・・・磁極片    
24 、25・・・電磁コイル28・・・収容空間  
   (資)・・・光軸第1図 第2図 作¥117 &1111 cm m)□第3図 第5図 第6図 第8閃 第9図 n

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l)電子銃と、集束レンズと、試料上で電子線を二次元
    的に走査させる偏向コイルと、対物レンズと、試料から
    発生される二次電子を検出する二次電子検出器とを有す
    る電子線装置において、対物レンズの磁極を上下対に分
    割配置し、これらの磁極間において、当該磁極の配置方
    向に対して交差する方向に延びる試料収容空間を形成す
    ると共に、磁極間隙内に対物レンズ磁極面より大きな面
    積を有する試料ホルダを配置したことと特徴とする走査
    型電子線装置。 2)上側磁極及び下側磁極は截頭円錐形状に形成され、
    試料を高角度傾斜可能にしたことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の走査型電子線装置。 3)対物レンズの上下側磁極は、試料室の頂壁又は底壁
    から互いに対向して延びる磁極片とそれぞれ有し、これ
    らの磁極片のうち少なくとも一方には電磁コイルが巻装
    されていることを特徴とする特許請求の範囲第7項又は
    第2項記載の走査型電子線装置。 4)対物レンズの磁極は、試料室の頂壁又は底壁のうち
    いずれか一方から試料室内へ向けて突起する磁極片と、
    この磁極片に巻装された電磁コイルとから構成されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記
    載の走査型電子線装置。 5)対物レンズの−又は二つの磁極片は、試料室に固定
    された外部筒と、この外部筒内に摺動可能に嵌合された
    内部筒とから構成されていることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項乃至第4項のいずれかに記載の走査型電子
    線装置。
JP4293582A 1982-03-19 1982-03-19 走査型電子線装置 Pending JPS58161235A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4293582A JPS58161235A (ja) 1982-03-19 1982-03-19 走査型電子線装置
GB08307619A GB2118361B (en) 1982-03-19 1983-03-18 Scanning electron beam apparatus
GB08530697A GB2173945B (en) 1982-03-19 1985-12-13 Scanning electron beam apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4293582A JPS58161235A (ja) 1982-03-19 1982-03-19 走査型電子線装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58161235A true JPS58161235A (ja) 1983-09-24

Family

ID=12649865

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4293582A Pending JPS58161235A (ja) 1982-03-19 1982-03-19 走査型電子線装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS58161235A (ja)
GB (2) GB2118361B (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62291849A (ja) * 1986-06-11 1987-12-18 Hitachi Ltd 走査電子顕微鏡
JPH031432A (ja) * 1989-05-30 1991-01-08 Seiko Instr Inc 電子線装置
JPH04209454A (ja) * 1990-11-30 1992-07-30 Seiko Instr Inc 電子線装置
US5149967A (en) * 1989-10-13 1992-09-22 Hitachi, Ltd. Charged-particle beam apparatus
JPH05500132A (ja) * 1989-08-31 1993-01-14 ベル コミュニケーションズ リサーチ インコーポレーテッド 非対称界浸レンズ付き電子顕微鏡
WO1998013854A1 (fr) * 1996-09-24 1998-04-02 Hitachi, Ltd. Emetteur de faisceau a particules chargees
US6335530B1 (en) 1997-07-31 2002-01-01 Seiko Instruments Inc. Objective lens for scanning electron microscope

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH077654B2 (ja) * 1988-04-01 1995-01-30 株式会社日立製作所 走査型電子顕微鏡

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5548426A (en) * 1978-09-30 1980-04-07 Kubota Ltd Preparation of bent pipe of equal thickness
JPS55144638A (en) * 1979-04-28 1980-11-11 Jeol Ltd Objective lens for scanning electron microscopes
JPS573357A (en) * 1980-06-06 1982-01-08 Jeol Ltd Objective lens for scanning electron microscope

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL282644A (ja) * 1962-08-29 1964-12-28
DE1614126B1 (de) * 1967-02-27 1970-11-19 Max Planck Gesellschaft Korpuskularstrahlmikroskop,insbesondere Elektronenmikroskop,mit einer durch das Vorfeld einer Objektivlinse gebildeten Kondensorlinse und einer Bereichsblende
GB1238889A (ja) * 1968-11-26 1971-07-14
GB1420803A (en) * 1973-06-28 1976-01-14 Ass Elect Ind Electron microscopes
AU521225B2 (en) * 1977-04-19 1982-03-25 Delalande S.A. Alkylenedioxy phenyl derivatives
JPS5748274Y2 (ja) * 1977-07-11 1982-10-22
JPS5938701B2 (ja) * 1979-04-10 1984-09-18 株式会社国際精工 二段試料台を備えた走査型電子顕微鏡

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5548426A (en) * 1978-09-30 1980-04-07 Kubota Ltd Preparation of bent pipe of equal thickness
JPS55144638A (en) * 1979-04-28 1980-11-11 Jeol Ltd Objective lens for scanning electron microscopes
JPS573357A (en) * 1980-06-06 1982-01-08 Jeol Ltd Objective lens for scanning electron microscope

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62291849A (ja) * 1986-06-11 1987-12-18 Hitachi Ltd 走査電子顕微鏡
JPH031432A (ja) * 1989-05-30 1991-01-08 Seiko Instr Inc 電子線装置
JPH05500132A (ja) * 1989-08-31 1993-01-14 ベル コミュニケーションズ リサーチ インコーポレーテッド 非対称界浸レンズ付き電子顕微鏡
US5149967A (en) * 1989-10-13 1992-09-22 Hitachi, Ltd. Charged-particle beam apparatus
JPH04209454A (ja) * 1990-11-30 1992-07-30 Seiko Instr Inc 電子線装置
WO1998013854A1 (fr) * 1996-09-24 1998-04-02 Hitachi, Ltd. Emetteur de faisceau a particules chargees
US6335530B1 (en) 1997-07-31 2002-01-01 Seiko Instruments Inc. Objective lens for scanning electron microscope

Also Published As

Publication number Publication date
GB2118361A (en) 1983-10-26
GB2173945A (en) 1986-10-22
GB2173945B (en) 1987-04-15
GB8530697D0 (en) 1986-01-22
GB8307619D0 (en) 1983-04-27
GB2118361B (en) 1987-02-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0966752B1 (en) Correction device for correcting the lens defects in particle-optical apparatus
US5399860A (en) Electron optic column and scanning electron microscope
EP1566826B1 (en) Particle source with selectable beam current and energy spread
JP2009193963A (ja) 収差補正器及び位相板を備えたtem
JP2004214065A (ja) 電子線装置
JP4828433B2 (ja) 荷電粒子ビーム用の集束レンズ
JPH11148905A (ja) 電子ビーム検査方法及びその装置
EP0422655B1 (en) Charged-particle beam apparatus
US4978855A (en) Electron microscope for investigation of surfaces of solid bodies
US6600156B2 (en) Scanning electron microscope
JPS58161235A (ja) 走査型電子線装置
JP4354197B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPS5938701B2 (ja) 二段試料台を備えた走査型電子顕微鏡
JP2739485B2 (ja) 走査型電子線装置
KR20000034984A (ko) 하전입자 빔을 포커싱하는 자기 렌즈
JP2001236917A (ja) 照射用電子線を有する顕微鏡
JPH06215714A (ja) 電界放出型透過電子顕微鏡
JPS647456B2 (ja)
JP7174203B2 (ja) 光電子顕微鏡(peem)機能を備えた透過電子顕微鏡(tem)
JP2003346692A (ja) X線顕微鏡試料室
JPH0234144B2 (ja)
JP2006040768A (ja) 電子顕微鏡
JP2001243904A (ja) 走査形電子顕微鏡
JP4475613B2 (ja) 放射電子顕微鏡
JP2002075265A (ja) エミッション顕微鏡