DE3047188A1 - Optoelektronischer schalter - Google Patents
Optoelektronischer schalterInfo
- Publication number
- DE3047188A1 DE3047188A1 DE19803047188 DE3047188A DE3047188A1 DE 3047188 A1 DE3047188 A1 DE 3047188A1 DE 19803047188 DE19803047188 DE 19803047188 DE 3047188 A DE3047188 A DE 3047188A DE 3047188 A1 DE3047188 A1 DE 3047188A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor element
- photodiode
- optoelectronic
- optoelectronic switch
- switch according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 title claims description 71
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 123
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 4
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 14
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 10
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100069818 Caenorhabditis elegans gur-3 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N [Ga].[As].[In] Chemical compound [Ga].[As].[In] KXNLCSXBJCPWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000011532 electronic conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004943 liquid phase epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
- H01L31/101—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H01L31/11—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by two potential barriers, e.g. bipolar phototransistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/12—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto
- H01L31/16—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources
- H01L31/167—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources the light sources and the devices sensitive to radiation all being semiconductor devices characterised by potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/78—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used using opto-electronic devices, i.e. light-emitting and photoelectric devices electrically- or optically-coupled
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
31547188
Diese Erfindung bezieht sich auf einen optoelektronischen Schalter zur Schaltung eines elektrischen Signals unter Anwendung |
von Licht als Medium oder Träger und insbesondere auf einen mit | einer Fotodiode ausgestatteten optoelektronischen Schalter. j
Im Vergleich zu anderen Schalterelementen ist ein optoelektronischer
Schalter, dem die Anwendung von Licht als Träger zugrundeliegt, durch eine hohe Trennwirkung, die einem hohen
Ein-Aus-Leistungsverhältnis (ca. 8OdB) entspricht, durch eine
hohe Übertragungsbandbreite (ca. 3GHz),durch die Fähigkeit, sowohl
analoge wie auch digitale Signale zu schalten, und, bei Anwendung in Mehrfachschalteranordnungen, durch geringes Nebensprechen
gekennzeichnet.
Es sind zwar optoelektronische Schalter in verschiedenen Ausführungen bekannt, ihre Entwicklung ist aber nicht zu dem
Punkt fortgeschritten» daß alle elektrischen Signale innerhalb des von Gleichstrom bis zu in dem Mikrowellenfrequenzband
liegenden Wechselströmen sich erstreckenden Bereichs bei hoher Geschwindigkeit geschaltet werden können.
Zur Schaltung von Telefonleitungen, zur Verteilung von
Fernsehsignalen oder zur Schaltung von Mikrowellenleitungen und digital Signalleitungen sollten optoelektronische Schalter folgende
Eigenschaften aufweisen;
(1) Int leitenden Zustand ist der Signalverlust möglichst
gering zu halten.
130047/0404
3Ö47188
(2) Im nichtleitenden Zustand igt der Signalleckpegel
niedrig zu halten.
(3) Hohe Schaltgeschwindigkeit
(4) Sowohl im leitenden wie auch im nichtleitenden Zustand eine geringe Leistungsaufnahme.
(5) Geringes Nebensprechen zwischen nebeneinander angeordneten Signalübertragungsleitungen.
Die bisher bekannten optoelektronischen Schalter erfüllen einige aber nicht alle dieser Bedingungen.
Ein typischer optoelektronischer Schalter ist dem Aufsatz "Optoelectronic Broadband Switching Array" Electronic Letters,
Vol. 14, Seiten 502 und 503, Aug. 1978 von E.H. Hara, einem Miterfinder der vorliegenden Erfindung, und R.I. MacDonald zu entnehmen.
Der in diesem Aufsatz beschriebene optoelektronische Schalter
besteht aus einer Einheit mit einem Elektrischoptischumwand—
lungselement wie z.B. einem LED sowie einem Optischelektrischumwandlungselement
wie z.B· einer p-i-n-Fotodiode.
Wie hinlänglich bekannt, hängt bei dieser Art von optoelektronischem
Schalter der Wirkungsgrad der Optischelektrischumwandlung und die Impedanz von der Größe und der Polung bzw. Polarität
der der Fotodiode zugeführten Vorspannung ab. Dabei wird bei Anwendung einer·- Vorspannung- in der Vorwärtsrichtung der
Wirkungsgrad der Umwandlung sowie die Impedanz der Diode gering,
130047/0404
3047183 !j
-40"
während andererseits bei Anlegung einer Vorspannung in der Rückwärtsrichtung
der Wirkungsgrad der Umwandlung sich verbessert.
Meist wird ein Anschluß der Optischelektrischumwandlungseinrichtung
über einen widerstand geerdet, während der andere Anschluß an eine von zwei Vorspannungsquellen entgegengesetzter
Polarität über einen Übertragungsschalter angelegt wird, der als mechanischer Schalter oder Halbleiterschalter ausgelegt werden
kann. Um den optoelektronischen Schalter an- bzw. in den leitenden Zustand zu schalten,wird dem Übertragungsschalter eine Vorspannung
zugeführt, so daß eine umgekehrte Vorspannung der Optischelektrischumwandlungseinrichtung
zugeführt wird. Um den Schalter aus- bzw. in den nichtleitenden Zustand zuschalten,
wird der übertragungsschalter mit einer Vorspannungsquelle verbunden,
so daß es zu einer Vorspannung in der Vorwärtsrichtung der Umwandlungseinrichtung kommt. Bei dieser Betriebsart des
Übertragungsschalters wird ein dem durch die Optischelektrischumwandlungseinrichtung
zur Verfügung gestellten Eingangslichtsignal entsprechendes. Ausgangssignal bei einem Verknüpfungspunkt
zwischen der Umwandlungseinheit und dem Widerstand aus Entsprechung erzeugt.
Es wurde gefunden, daß das Schalten des Signals durch Umschal
ten der Polarität der Vorspannung, die der Optischelektrischumwandlungseinheit
zugeführt wird, zu folgenden Problemen führt.
(1) Um den optoelektronischen Schalter durch Anlegen einer
Vorspannung in der Vorwärtsrichtung an die Optischelektrischum-
10
130047/0404
Wandlungseinrichtung in den nichtleitenden Zustand zu schalten, j
ist ein Stromwert in der Größenordnung von einigen Milliampere j
bis einigen10 Milliampere benötigt. Aus diesem Grund beträgt die !
elektrische Leistungsaufnahme der Umwandlungseinheit und des Wi- · !
derstands einige Milliwatt bis einige 10 Milliwatt,so daß zum Betrieb
der Optlschelektrischumwandlungseinheit eine, verhältnismäßig
große Stromversorgungseinheit benötigt wird. Werden übrigens mehrere optoelektronische Schalter verwendet oder liegen sie als
Teile einer integrierten Schaltung vor, so wird eine verhältnismäßig
große Wärmenenge erzeugt, was für die ümwandlungseinrichtungen und die mit ihnen in Zusammenhang stehende elektronische
Schaltungseinrichtung unerwünscht ist, weil ihr Wirkungsgrad
durch die Hitzeeinwirkung vermindert und ihre Standzeit verkürzt j
wird. i
(2) Wegen der Notwendigkeit, die Vorspannung umzuschalten j bzw. die Polarität zu ändern,ist die Konstruktion der Schaltung
kompliziert und ist es nötig, getrennte Vorspannungsquellen zu verwenden, die verschiedene Polaritäten aufweisen, so daß für
die Konstruktion, die Baugröße-des Produkts und die Wirtschaftlichkeit
der Herstellung ein Nachteil entsteht.
(3) Wegen der großen Abhängigkeit der Impedanz des Umwandlungselements
von der Polarität der Vorspannung (d.h. niedrig in der Vorwärtsrichtung der Vorspannung und hoch in der umgekehrten
Vorspannungsrichtung) läßt sich die Impedanzanpassung nicht am Ausgang des sich im nichtleitenden Zustand befindenden
Schalters aufrecht erhalten.
(4) Weil der nichtleitende Zustand des optoelektronischen
1T
13Q047/CU04
3Ü47183 jj
! Schalters teilweise durch Überbrücken des Lastwiderstandes durch
jj die Übergangskapazität der Fotodiode bei Vorwärtsvorspannung
wird das Trennwirkungsverhältnis frequenzabhängig,wobei es bei
niedrigen Frequenzen abnimmt.
(5) Bei bekannter Anwendung einer p-n-oder p-i-n-Übergangfotodiode
als Optischelektrischumwandlungseinrichtung bei überwechseln der Vorspannung v.on. der Vorwärts- auf die Rückwärtsrichtung
wird die Schaltgeschwindigkeit durch den Ladungsspeichereffekt im übrigen begrenzt. Bei solchen Fotodioden erstreckt
sich die Schaltgeschwindigkeit von mehreren Nanosekunden zu einigen Mikrosekunden,so daß solche Fotodioden nicht für Anwendungen
in Frage kommen, wo eine hohe Schaltgeschwindigkeit benötigt wird. Zur Lösung dieses Problems - zum Zweck der Erzielung einer
Abnahme im Ladungsspeichereffekt - ist vorgeschlagen worden, Gold in einer Siliziomfotodiode einzudiffundieren, was jedoch nicht
nur zu Schwierigkeiten bei. der Herstellung der Fotodiode sondern auch zu. einer Abnahme des Wirkungsgrades bei der Optischelektrisc
umwandlung führt. Im übrigen kann man mit dieser Methode die oben genannten Nachteile (1), (2) und (3) nicht überwinden.
Wegen dieser Nachteile ist das Anwendungsfeld bekannter opto·
elektronischer Schalter auf das Schalten in Schaltungen, wo die Schaltgeschwindigkeit nicht ausschlaggebend ist, begrenzt.
Aus diesen Gründen liegt der vorliegenden Erfindung als
Hauptziel die Aufgabe zugrunde, einen verbesserten optoelektronischen Schalter anzugeben.
12
1300A7/0A04
Gemäß einer noch weiteren Aufgabe soll die Erfindung einen optoelektronischen Schalter mit einer Leistungsaufnahme angeben,die
niedriger als die der bekannten Schalter ist. Eine noch weitere Aufgabe der Erfindung ist einen optoelektronischen Schalter anzugeben»
der bei höheren Geschwindigkeiten betreibbar ist.
Gemäß einem noch weiteren Ziel bzw. einer weiteren Aufgabe soll ein neuartiger optoelektronischer Schalter angegeben werden,
der zu einer Vereinfachung von elektronischen Peripherieschaltungen führt und der sich integrieren läßt bzw. als Teil einer
integrierten Schaltung verwendet werden kann.
ι Gemäß einem noch weiteren Ziel der Erfindung soll ein ver- ι
I besserter optoelektronischer Schalter während einer längeren !
Standzeit stabile Betriebseigenschaften aufweisen. ι
Der Erfindung liegt weiterhin das Ziel zugrunde,einen opto- ;
elektronischen Schalter anzugeben, der in bezug auf eine mit ihm verbundene Einrichtung eine leichte Impedanzanpassung zuläßt. j
Gemäß der Erfindung sind diese Aufgaben bzw. Ziele dadurch zu erreichen, daß· erfindungsgemäß ein optoelektronischer
Schalter" .- ' durch eine Lichtquelleneinrichtung zur Erzeugung eines zu schaltenden, durch ein elektrisches Signal-moduliertes
Lichtsignals; durch eine Optischelektrischumwandlungseinrichtung, die so angeordnet ist, daß sie das durch die Lichtquelleneinrichtung
ausgestrahlte Lichtsignal empfängt sowie durch eint Vorspannungsquelleneinrichtung, die dazu dient, der Optisch-
130047/0404
3047183
elektrischumwandlungseinrichtung eine umgekehrte Vorspannung zuzuführen, um die Vorrichtung in den leitenden bzw. nichtleitenden
Zustand zu überführen und wobei die Optischelelektrischumwandlungseinrichtung
eine aus einem ersten mit einem p-n-übergang ausgestatteten Halbleiterelement und aus einem zweiten einen
kleineren Bandabstand als das erste Halbleiterelement aufweisenden, mit der ersten Halbleiterelement unter Bildung eines HeteroÜbergangs
zusammengeschlossenen zweiten Halbleiterelement bestehende Fotodioden umfaßt gekennzeichnet ist.
Die Fotodiode kann eine Lawinendiode sein. Das erste Halbleiterelement
besteht aus einem III - V-Verbindungshalbleiter oder aus Si, während das zweite Halbleiterelement aus einem III
V-Verbindungshalbleiter oder Ge besteht.
Weitere Vorteile, Einzelheiten und Merkmale deir vorliegenden
Erfindung sind der nun folgenden Beschreibung einige Ausführungsbeispiele anhand der beiliegenden Zeichnungen zu entnehmen.
Es zeigen:
Figur 1 eine Schnittansicht einer Ausführungsform einer
erfindungsgemäßen Fotodiodeneinrichtung, die als optoelektronischer Schalter verwendet wird?
Figuren 2A und 2B Kurven ~ des Bandaufbaus zur Verdeutlichung
der Wirkungsweise der in Figur 1 dargestellten Fotodiode t
Figur 3 Strom-Spannungskurven der Fotodiode gemäß Figure 1;
Figur 4 das Verhältnis zwischen n-InP Fremdstoffkonzentration
und der Verarmungsschichtbreite der Fotodiode gemäß Figur 1 darstellende Kurven;
130047/0404
Figur 5 eine das Verhältnis zwischen der Energiesperre Δ." E und dem Trennverhältnis in dB darstellende Kurve;
Figur 6 ein Schaltungsschema einer Ausführungsform des
erfindungsg-,anäßen optoelektronischen Schalters unter Anwendung
des Schalters gemäß Figur 1;
Figur 7 ein Schaltungsschema einer abgeänderten Ausfüh—
rungsform des optoelektronischen Schalters gemäß der Erfindung;
Figuren 8 und 9 Schaltungsschemata -, die abgeänderte Ausführungsformen
der optoelektronischen Schalter darstellen;
Figuren 10 bis 12 Kurven der Meßwerte, die bei Versuche an
einen optoelektronischen erfindungsgemäßen Schalter entstanden; und
Figuren 13A mit 13D eine Ausführungsform der Herstellung
einer bei dem erfindungsgemäßen optoelektronischen Schalter zu
verwendenden Fotodiode.
Eine erfindungsgemäße Fotodiode (Figur 1) umfaßt einen Halbleiter
7 eines Leitfähigkeitstyps; und einen gleichartigen oder
verschiedenartigen.. Halbleiter 8 des entgegengesetzten Leitfähigkeits
typs, der auf dem Halbleiter 7 unter Bildung eines p-n-Übergangs zwischen den Halbleitern angeordnet ist. Diese Halbleiter
bilden das erste· Halbleiterelement. Am Halbleiter 8 ist ein zweiter
Halbleiter· 10 vorhanden, der denselben Leitfähigkeitstyps wie
der Halbleiter 8 besitzt. Er hat aber einen schmäleren Bandabstand
als der Bandabstand des Halbleiters 8. Die Grenze zwischen dem
Halbleitern 8 und 10 bildet einen HeteroÜbergang 11. Die Elektroden
10 und 13 sind an den Oberflächen der Halbleiter 10 bzw. 7
15
130047/0404
3C47188
angeordnet, um eine elektrische Verbindung zu ermöglichen. Das anfallende Licht wird auf eine oder beide Oberflächen der Halbleiter
10 und 7 (s. Bezugszeichen 2 und 2' in Figur 1) gerichtet. Im wesentlichen die gleiche Wirkung eintritt in beiden
Fortpflanzungsrichtungen des Lichtes.
Um die Fotodiode als optoelektronischen Schalter zu betreiben wird dem Anschluß 14, der mit der Elektrode 12 verbunden ist,
eine Spannung A mit einem gewünschtem Wert zwischen V1 and V2 zugeführt.
Dabei wird der Wert der Spannung V1 so ausgewählt, daß er bei OV liegen würde oder die Wirkung einer Rückwärtsvorspan- ·
nung haben würde, die in bezug auf die Fotodiode 16 unter einem
bestimmten Wert liegt, während der Spannungswert V2 so ausgewählt wird, daß er als eine Rückwärtsvorspannung wirken würde,
die oberhalb einem bestimmten Wert in bezug auf die Fotodiode 16
liegt. Die Wellenlänge des anfallenden Lichtes 2 oder 2' wird so ausgewählt, daß die Lichtenergie nicht durch den Halbleiter 8 ab-j
sorbiert wird, der einem breiten Bandabstand besitzt. Dagegen wird die Lichtenergie durch den einen schmalen Bandabstand aufweisenden
Halbleiter 10 absorbiert.
In. einer mit Rückwärtsvorspannung betriebenen Diode bereitet
sich bekanntlich eine Verarmungsschicht von dem p-n-übergang
über eine Breite aus, die der Vorspannung entspricht. Die Spannung V1 wird bei einem genügend niedrigen Spannungswert festgelegt,
der,wie oben erwähnt,OV mit einschließt, um zu verhindern,
daß die Verarmungsschicht den HeteroÜbergang 11 erreicht, während
—-der Spannungswert V2 so groß gewählt ist, daß die Verarmungsschicht
den HeteroÜbergang erreichen oder sich in den Halbeiter it>
16
130047/0404
3G47188 j
-st?-
ausbreiten kann. Sind die Spannungen V1 und V2 auf dieser Grundlage
festgelegt, so wird am Ausgangsanschluß 15 beim Anlegen
der Spannung V1 kein Signal B erscheinen. Ein Ausgangssignal B läßt sich nur dann erzeugen, wenn die Spannung V2 angelegt
wird. In anderen Worten: Es ist möglich, das dem anfallenden optischen Signal entsprechende Signal B in Abhängigkeit von der
Größe der zugeführten Vorspannung ein- und auszuschalten.
Es folgt nun eine nähere Beschreibung dieser Wirkungsweise der Fotodiode 16. Der Energiebandaufbau der Fotodiode 16 der
Figur 1 ist in Figur 2A abgebildet, bei der das" Bezugszeichen Kante des Leitungsbandes bezeichnet. 13 bezeichnet die Kante des
Wertigkeitsbandes und 19 das Fermi-Niveau. Der p-n-übergang 9
wird zwischen Halbleitern 7 und 8 gebildet, während der HeteroÜbergang 11 zwischen Halbleitern 8 und 10 gebildet wird. Der
Energiebandaufbau gemäß Figur 2A setzt voraus, daß der Halbleiter 7 die p-Leitfähigkeit und die Halbleiter 8 und 10 die
η-Leitfähigkeit besitzen. Aus dieser Beschreibung geht hervor, daß die p- und n-Leitfähigkeitstypen umgekehrt werden können, so
daß die Begriffe Löcher und Elektronen auch umzukehren wären.
Besitzt das anfallende Licht eine solche Wellenlänge, daß es nicht durch den Halbleiter 8 sondern durch den Halbleiter
absorbiert wird, so wird die Energie des auf die Fotodiode 16 gerichteten Lichtes nur durch den Halbleiter 10 unter Bildung
von Löchern 20 absorbiert. Ist die Vorspannung V1 genügend gering, so erreicht die Verarmungsschicht im Halbleiter 8 den
HeteroÜbergang 11 nicht, so daß die Löcher 20 nicht imstande sind, durch die am HeteroÜbergang 11 gebildete Energiesperre
durchzudringen, mit dem Ergebnis, daß das anfallende Licht nicht
130047/0404
>l zu einem Fließen von Strom von der Elektrode 12 in die Elektrode
': 13 führt und in anderen Worten der Schalter in dem nichtleiten-
;! den Zustand auch dann bleibt, wenn die Fotodiode 16 mit Licht bestrahlt wird.
Bei Erhöhung der Vorspannung, so daß die Verarmungsschicht sich ausbreitet und den HeteroÜbergang 11 erreicht wird der
Aufbau des Energiebandes die Form gemäß Figur 2B annehmen, wodurch die Löcher 20 über die Energiesperre 21 hinweg in den Halbleiter-
8 hineinfließen können. Aus diesem Grund kann ein Ausgangsstrom erzeugt werden, dessen Größe dem anfallenden Lichtsignal
entspricht, so daß der Schalter aus- bzw.■in den leitenden
Zustand geschaltet wird.
Es folgt nun eine Beschreibung einer Ausführungsform der
Erfindung. Der erste Halbleiter mit einem p-n-übergang 9 (d.h. j beide Halbleiter 7 und 8) kann- den Verbindungshalbleiter-InP
darstellen. Der zweite Halbleiter 10 kann einen III - V-Verbindungshalbleiter
wie z.B. InxGa, As1 P wo χ = 0,53 und y =
0 (d.h. In_ „Ga. 47As <^as unten als InGaAs der Kürze halber
bezeichnet wird) darstellen.
Die Meßwerte einer Versuchsfotodiode 16 sind als Kurve in
Figur 3 dargestellt, bei der die waagrechte Achse die umge- -kehrte Vorspannung bzw. Rückwärtsvorspannung Vi und die senkrechte
Achse den Fotostrom Ip und den Dunkelstrom I_ darstellen.
In diesem Fall besaß das anfallende Licht eine Wellenlänge λ.
= 1,15 μπι. Diese Fotodiode würde in einem kontinuierlichen
Flüssigphaseefcqefcaxie-Wachstumsverfahren erzeugt.
Die Dicke bzw. Stärke des ρ -Typ-InP des Halbleisters 7 beträgt
130047/0404
Ί3
ir -3
200 μΐη, während die Trägerkonzentration ca. 10 cm beträgt.
Die Stärke des n-Typ-InP (Halbleiter 8) und des n-Typ-InGaAs
(Halbleiter 10) beträgt in beiden Fällen 2 μ m bei einer Trägerkonzentration
in beiden Fällen von 10 cm~ . Beim Anlegen (Fi- l
gur 3) einer Vorspannung Vi mit dem Viert V1, die innerhalb eines ι
Bereiches von OV bis ca. 15V liegt, fließt, kein Fotostrom I ,wobei!
P i der durch die Fotodiode fließende Strom nur den Dunkelstrom Ip |
umfaßt. Liegt aber die Vorspannung Vi in einem Bereich (V2) zwischen 20 und 80 V so fließt der Fotostrom Ip gemäß Figur 3,
so daß die Fotodiode jetzt in angeschaltetem Zustand ist und auf das anfallende Licht anspricht.
Die bisherige Beschreibung beschränkt sich zwar auf den
Schaltvorgang, der optoelektronische Schalter läßt sich aber j
j ebenfalls als einstellbares Dämpfungsglied verwenden, das eine j
Richtungswirkung besitzt, da bei stufenloser bzw. .kontinuier- i
i licher Änderung der Rückwärtsvorspannung es zu einer kontinuier- i
liehen Änderung in der Größe des Ausgangssignals kommt (Figur 3).\
Aus dieser Beschreibung geht klar hervor, daß die Zustände EIN und AUS der Fotodiode davon abhängen, ob die Verarmungsschicht
den HeteroÜbergang 11 erreicht oder nicht erreicht, d.h.:
Die EIN— und AUS-Zustände hängen davon ab, ob die durch das Licht geschaffenen Löcher 20 die Energiesperre 21 überwinden
oder nicht. Aus diesem Grund ist die zum Abschalten benötigte Vorspannung VI eine geringe umgekehrte Vorspannung, die den
Wert OV mit einschließt, und die es nicht zuläßt, daß die Verarmungsschicht den HeteroÜbergang erreicht. Andererseits ist
die zum Anschalten des Schalters benötigte Vorspannung V2 eine umgekehrte Vorspannung, die ausreicht, um der Verarmungsschicht
das Erreichen des HeteroÜbergangs 11 zu ermöglichen. In anderen
19
130047/0404
3G47188 ;j
Worten kann man sagen: Der Schaltvorgang kann durch eine Spannung einschließlich OV gesteuert werden, die die Fotodiode in
den Rückwärtsvorspannungszustand oder in den Nullvorspannungszustand versetzt. Im Gegensatz zu bekannten optoelektronischen
Schaltern ist keine Vorwärtsvorspannung benötigt, um den Schalter zu betätigen.
Um die physikalische Grundlage zur Auslegung der Fotodioden einrichtung zu erklären, folgt nun eine Beschreibung des Zusammenhangs
zwischen der Zusammensetzung der Halbleiter und der Vorspannungen V1 und V2.
Figur 4 stellt das Verhältnis zwischen der Fremdstoffkonzentration
im n-Typ-InP-Halbleiter und der Verariaungsschichtbreite
dar, wenn die Fotodiode im Bereich der Lawinendurchbruchspannung vorgespannt wird. Die Größe E stellt die elektrische Feldstärke
ijam HeteroÜbergang dar. Ist z.B. die elektrische Feldstärke E
null und ist die Fremeltoffkonzentration des n-InP gleich 1 χ
16 —3
10 cm (siehe waagrechte Achse), so sieht man anhand der linken senkrechten Achse, daß die Breite der Verarmungsschicht 3,3 μ m beträgt.
10 cm (siehe waagrechte Achse), so sieht man anhand der linken senkrechten Achse, daß die Breite der Verarmungsschicht 3,3 μ m beträgt.
Um der Verarmungsschicht das überqueren des HeteroÜbergangs
zu ermöglichen und um den Schalter anzuschalten, ist eine Stelle bzw. ein Wert erwünscht wo die Größe von E etwa 1 χ 10 V/cm
entspricht. Dieser Wert wird unter entsprechender Berücksichtigung einer Zunahme im Dunkelstrom festgelegt, die stattfindet,
wenn größere Ε-Werte gewählt sind. In diesem Fall bei gegebener Brennstoffkonzentration von 1 χ 10 can" beträgt die Stärke der
Verarmungsschicht 2,5 μ,πι. Der Wert auf der senkrechten Achse
130047/040A
3Q4718
auf der rechten Seite der Figur 4 ist der Minimalwert der Vorspannung
V2 zur Anschaltung des Schalters eingetragen. Bei Zugrundelegung einer n-Typ-InP-Schicht mit einer Stärke von 2,5
μ, m. entspricht die Anschalt spannung (V2) für den Schalter 47 V
gemäß Figur 4. Deshalb läßt die Fotodiode sich aus-und einschal-
! ten wenn man die Vorspannungen V1 und V2 so einstellt, daß
ι
0 Svi < 47(V) , 47(V)
< V2
Das Trennverhältnis (Ein-Aus-Leistungsverhältnis) I wird durch
die Größe E der Energiesperre (siehe Figuren 2A und 2B) feststellen, die am HeteroÜbergang 11 zustandekommt. Der Wert entspricht
näherungsweise
Ir = exp (- ΔΕ/kT)
j wo k die Boltmann'sehe Konstante und T die absolute Temperatur
j wo k die Boltmann'sehe Konstante und T die absolute Temperatur
! bezeichnet. Die Energiesperre E entspricht der Differenz gemäß
einer ersten Näherung zwischen den zwei Bandabständen der zwei den HeteroÜbergang bildenden Halbleiter. Bestehen die HaIb-
'' leiter aus InP bzw. In„ c,Gan An ergibt sich
Q 5
ΔΕ « O,53eV.
ΔΕ « O,53eV.
Beim in Ga. As- P läßt sich der Bandabstand dadurch
ändern, daß man die Werte χ und y ändert, so daß die Energiesperre Δε geändert wird.
Figur 5 zeigt das Verhältnis zwischen der Energiesperre Δ Ε
und dem, Trennverhältnis I ♦ Anhand dieser Figur läßt sich die
benötigte Zusammensetzung des InGaAsP für einen gewünschten Wert des Trennverhältnisses feststellen.
21
130047/CU(H
304715b
Eine bevorzugte Ausfuhrungsform des erfindungsgemäßen optoelektronischen Schalters unter Anwendung der beschriebenen Fotodiode
16 ist in Figur 6 gezeigt und umfaßt eine LED oder einen Halbleiterlaser 22, der über die Vorspannungsschaltung 24 mit
Vorspannung 23 versorgt wird, wobei ein Signal S geschaltet und ein moduliertes Lichtsignal 2 ausgestrahlt wird. Diese Elemente
bilden eine Lichtquelle 30. Das durch die Lichtquelle 30 erzeugte Lichtsignal·2 wird durch die Fotodiode 16 empfangen, die
mit einer Rückwärtsspannung V2 oder VI von den Quellen 4 bzw.
unter Anwendung des tlbertragungs schalters 5, der durch ein
äußeres Steuersignal betätigt wird, selektiv versorgt wird. Wie oben erwähnt, schließt die Spannung V1 den Wert 0 V mit ein.
Die Kathodenelektrode der Fotodiode 16 wird über einen Widerstand 6 geerdet, wobei das Ausgangssignal an deren Verknüpfungspunkt abgezapft und dann eine Signalverarbeitungsschaltung 25
zugeleitet wird. Die in dieser Figur gezeigte Vorspannungsschaltung umfaßt die Vorspannungsquellen 4 und 4", wobei der
Übertragungsschalter 5, wie an sich bekannt., als mechanischer
oder elektromechanischer Schalter oder als elektronischer bzw. Halbleiterschalter ausgebildet sein kann. In diesem Fall steht
eine weitere Elektrode der Fotodiode 16 mit der elektronischen
Schaltung in Verbindung. Die oben genannten elektronischen Schaltungen umfassen Impuls-Typ-Schaltungen, die die Spannungen
V1 und V2 während einer gewünschten Zeit anlegen.
Eine Variante des optoelektronischen Schalters gemäß der Erfindung unter Anwendung der beschriebenen Fotodiode 16
ist in Figur 7 gezeigt. Wie vorher der Fall war, kann der Wert der der Fotodiode 16 zum Abschalten des optoelektronischen
Schalters zugeführten Vorspannung null sein. Aus diesem Grund kann, um den Schalter nichtleitend zu schalten, die
zugeführte Vorspannung abeschaltet werden, indem man den
130047/0404
3Q4718;
■j übertragungsschalter 5 (Figur 7) abschaltet. Aus diesem Grund
"I entspricht diese Schaltung der Schaltung gemäß Figur 6 mit Aus-';:
nähme der Wirkungsweise des übertragungsschalters 5.
Es ist zu bemerken, daß die Verbindung der Fotodiode 16
(Figur 6 und Figur 7) umgepolt werden kann, so daß die Anode mit dem Widerstand 6 verbunden ist. Bei einer solchen Anordnung
sollen die Vorspannungsquellen 4 und. 4' ebenfalls umgepolt werden, um die Zufuhr einer umgekehrten Vorspannung,
die 0 V mit einschließt, an die Fotodiode 16 aufrecht zu erhalten.
Figur 8 zeigt eine Einzelheit des optoelektronischen Schalters einschließlich des Übertragungsschalterkreises 5, wobei,
um die Fotodiode 16 abzuschalten, die Vorspannung durch einen Transistor 28 abgeschaltet und zum Anschalten der Transistor
durch einen Gatterimpuls 29 leitend geschaltet wird, wodurch eine umgekehrte Vorspannung der Fotodiode 16 zugeführt wird.
Die Figur 9 entspricht der Figur 7, bei der, um die Fotodiode
16 anzuschalten, ein Transistor 28* durch einen Gatterimpuls 29" angeschaltet wird, um die Vorspannung zu erhöhen und
der Fotodiode 16 eine umgekehrte Vorspannung zuzuführen. Um
die Fotodiode abzuschalten, wird der Transistor 28' nichtleitend
geschaltet.
Bei der in Figuren 6 bis 9 beschriebenen Anordnung unter
Anwendung der optoelektronischen Schalter ist die Leistungsaufnahme der Fotodiode 16 in abgeschaltetem Zustand vernachläßigbar
klein, weil die Versorgung der Fotodiode mit einer vorwärts gerichteten Vorspannung unnötig ist. Aus diesem Grund, weil eine
1300A7/0AO4
•Vorspann ing
Vorspannungsquelle einer Polarität angewandt werden kann, vereinfacht
sich die Konstruktion der"Schaltung. Im übrigen ist es nicht nötig, die Vorspannung für die Fotodiode zwischen vorwärts
gerichteten und umgekehrten Spannungspegeln umzuschalten, so daß 6in schnelles Schalten möglich ist, weil der Ladungsspeichereffekt
bei vorwärts gerichteter Vorspannung nicht in Erscheinung tritt. Die Schaltzeit wird in erster Linie durch die
Übergangskapazität der Fotodiode 16 bestimmt,die bei nullbei
ungefähr 4 pF liegt, so daß Schaltzeiten unter 10 Nanosekunden möglich sein dürften.
Um die.Übergangskapazität und aus diesem Grund auch die
Schaltzeit zu verkleinern, läßt sich, falls erwünscht, die Aus-Zustand Rückwärtsvorspannung V1 auf einen Pegel erhöhen, der
knapp unter dem Pegel liegt, bei dem die Verarmungsschicht in den HeteroÜbergang 11 der Fotodiode 16 hineindringt. Auch wenn
dies geschieht, wird der Aus-Zustand aufrecht erhalten, wobei
aber das Trennverhältnis etwas vergrößert wird, weil die Energiesperre 21 der Fotodiode 16 verkleinert wird und es zuläßt, daß
einige Löcher 20 über die Sperre hinwegfließen. Die Größe der Vorspannung VT wird aus diesem Grund mit einem Wert festgelegt,
um einen gewünschten minimalen Pegel des Trennverhältnisses ·»& ·
haben* während gleichzeitig die Schaltzeit möglichst verkürzt wird. Die Größe der Vorspannung V1 läßt sich durch Einstellung
der Werte der Bauteile und durch Änderung der Schaltung 5 für die Vorspannung unter Anwendung bekannter Prinzipien ändern.
Die Figuren 10 bis 12 zeigen die Versuchswerte eigener Fotodioden. Figur 10 zeigt das Verhältnis zwischen dem Trennverhältnis
und der Signalfrequenz S, die an der Ausführungsform
130047/0404
3Q47188
gemäß Figur 6 gemessen wurde. Ein Spektrumanalysator, der der i Signalverarbeitungsschaltung 25 entspricht, wurde zur Messung
herangezogen.
■j Die verwendete Fotodiode bestand aus Indiumphosphid InP
i j
'I sowie Indiumgalliumarsenid In roGa. ..As. Den Ergebnissen der
! O,-DOO,τ/
. Figur 10 entnimmt man, daß ein einen Wert von 80 dB überstei-
: gendes Trennverhältnis für Frequenzen bis 250 MHz und höhere
; Frequenzen halten wurde.
I
t
t
I Figur 11 zeigt ein Ileßergebnis in bezug auf die Änderung
! der Zeit im Schaltvorgang, wo die Vorspannung für die Fotodiode ■I von O V auf V2 geändert wurde, wobei das anfallende Licht nicht
;j moduliert wurde. Die obere Wellenform zeigt das Vorspannungs-1S
gattersignal, das zugeführt wurde, während die untere Wellenj form dem Ausgangssignal entspricht. Die Ergebnisse zeigen, daß
; die Schalteinschwingvorgänge,die durch das Gattersignal verursacht
werden, innerhalb von ungefähr 50 Nanosekunden abklingen.
Figur 12 zeigt das Ergebnis bei dem gattungsgemäßen Schalten,
eines 18 M Bit/s Digitalimpulssignals, das die Rolle des elektrischen Signals S spielte. Die Ergebnisse gemäß Figuren
11 und 12 wurden mit einem Oszilloskop erhalten,, das der
SignalVerarbeitungsschaltung 25 entspricht.
For den Elektronenfachmann ist ohne weiteres einzusehen,
daß Schaltgeschwindigkeiten von über 10 Nanosekunden erreicht werden können.
Ein Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Fotodiode wird nun anhand der Figuren 13A bis 13D erläutert.
1300A7/040A
Die Figur 13A zeigt eine Schnittansicht eines Halbleiterelementes,!
das durch den nacheinanderfolgenden Aufbau einer Schicht 8 aus \
n-Inp und einer Schicht 10 aus InGaAs auf einem Substrat 7 aus
P -InP unter Anwendung der bekannten FlussigphaseeXpfcaxiemethode ί
! aufgebaut wurde. Die Dicke von n-InP sowie n-InGaAs war 2,5 μ m l
bzw. 2,0 μ, ra. Dabei betragen die η-Typ Fremdstoffkonzentrationen
16 — 3
dieser Schichten 1 χ 10 cm . Wie früher hervorgehoben wurde, kann das Verhältnis zwischen der gewählten Dicke und der Fremstof!konzentration für die n-InP-Schicht anhand der Figur 4 ,
dieser Schichten 1 χ 10 cm . Wie früher hervorgehoben wurde, kann das Verhältnis zwischen der gewählten Dicke und der Fremstof!konzentration für die n-InP-Schicht anhand der Figur 4 ,
ermittelt werden. Danach wird, ein Fotolackfilm an die Oberfläche
der Schicht 10 aus n-InGaAs unter Anwendung einer herkömmlichen Technik aufgebracht. Danach wird die fotoempfindliche
Fotolackschicht durch eine geeignete Maske UV-Strahlung ausge- I
setzt und danach teilweise entwickelt, um den lichtempfind- !
liehen Fotolack 26 gemäß Figur 13B teilweise zu belassen. Danach j
wird eine Ätzflüssigkeit, die eine bekannte Mischung aus H0O, H0SO4
und H-O-- darstellt, angewandt, um· einen Teil, der Schicht 1O wegzuj·
ätzen, die aus n-InGaAs besteht, während ein aus einer bekannten I Mischung von Brom und Methylalkohol bestehendes Ätzmittel dazu
benutzt wird, einen Teil der aus n-InP bestehenden Schicht 8 und des. aus p+-InP bestehenden Substrats 7 abzutragen. Sodann ί
wird der Fotolack von der n-InGaAs-Schicht 10 entfernt, um einen Mesaaufbau zu ergeben, dessen Querschnitt der Figur 13C zu entnehmen
ist. Dieser Mesaaufbau besitzt einen Durchmesser von ca. 140 αm.
Letztlich wird eine Au-Zn-Legierung auf das aus P+-InP
bestehende Substrat 7 und eine Au-Ge-Ni-Legierung auf die
n-InGaAs-Schicht 10 aufgedampft. Danach wird die Anordnung bei ca. 4000C ca. 5 Minuten lange einer Legierungsbehandlung unterworfen,
um die Elektroden 12 und 13 zu bilden. Figur 13D zeigt
130047^0404
, einen Querschnitt der vollständigen Fotodiode.
'.; Obwohl eine Mesafotodiode beschrieben worden ist, ist es ohne
:: weiteres möglich,s ie als Planar anordnung herzustellen, wie dies
ti in der Halbleitertechnik bekannt ist. Ein solcher Aufbau kann
I.
eine sogenannte"Kappen"-Schicht aufweisen, um den Wirkungsgrad
der optisch-elektrisch-Umwandlung zu verbessern, d.h. es käme '.. eine einen großen ßandabstand aufweisende Halbleiterschicht in
'■'■■ Frage. Es ist <±>enf alls zu berücksichtigen, daß das Kristall-■
Kr-xs.tallwachst.um; sich nicht auf die Flüssigphasenepitaxie—
j Wachstumsmethode beschränkt und daß das Dampfphasenepitaxiever-,!
fahren oder ein Molekularstrahlepitaxieverfahren ebenfalls ;! anwendbar ist.; Die einzige Bedingung ist, daß der erste bzw.
:! der zweite Halbleiter mit einer relativen Größe der Bandabi
j
j
j stände gebildet wird. ., die die Bedingungen gemäß Figuren 2A und
! 2B erfüllen.
,1
'j Aus Gründen der Einfachheit ist eine aus InP und InGaAs
;i
■\ bestehende Fotodiode beschrieben worden, obwohl es klar sein
:i -
! dürfte, daß andere Halbleiter als die. beschriebenen, - - ■ .
in Frage kommen., , Es folgen nun nähere Einzelheiten über .
Weiterbildungen der Erfindung.
A. Der erste, einen p-n-Ubergang bildende Halbleiter besteht
aus Si während der zweite Halbleiter einen kleineren Bandabstand als der erste Halbleiter besitzt, mit dem er einen
HeteroÜbergang bildet. Der zweite Halbleiter besteht aus Ge,
1V3I-X^I-Y V AlxGa1-/s1-ySby' InxGa1-xAs1-ySby' ode'r. (AlxGa1-In1
Sb, wo O^x ^ 1 und 0.^ y ^ 1.
27'
130047/04
B. Der einen p-n-übergang aufweisende erste Halbleiter besteht aus Al Ga, xAs, Sb , In Ga1 As1 Sb , In Ga, As, E
oder (Al Ga1 ) In1 Sb, während der zweite Halbleiter, der
χ ι-x y i-y ^
ij e-inen kleineren Bandabstand als der erste Halbleiter besitzt,
• mit dem er einen HeteroÜbergang bildet, aus Al ,Ga1 ,As, ,Sb ,;
χι—χ ι—y y
rnx'Ga1-x'As1-y'SV<· Inx'Ga1-x'As1-y'Py oder (Alx'Ga1-x' )y''
,Sb, besteht, wo O ί χ S 1, O ^ y ^ 1, 0
und O- S"
C. Auf der selben Basis besteht der erste Halbleiter aus
AIP oder GaP während der zweite Halbleiter aus Si besteht, weil
die Gitteranpassung eher möglich ist und das Herstellen des Elementes erleichtert wird. Bei Anwendung einer solchen Fotodiode
Ij bei einem optoelektronischen Schalter läßt sich ein großes Trennverhältnis erzielen, weil die Bandabstanddifferenz einen großen
Wert hat.
D. Auf ähnliche Weise besteht der erste Halbleiter aus AlAs oder GaAs während der zweite Halbleiter aus' Ge, das eine
gute Gitteranpassung in bezug auf den Werkstoff des ersten Halbleiters gewährleistet, so daß die Herstellung der Fotodiode erleichtert
wird.
E. In der selben Weise besteht der erste Halbleiter aus
AlGa1 „As., Sb während der zweite Halbleiter aus Al ,Ga1 ,
ι —χ ι —y y χι —χ
As,-Sb , besteht, . das :-~ die gleiche Gitter konstante wie
der erste Halbleiter besitzt obwohl der Bandabstand kleiner ist. Insbesondere dann, wenn das erste Halbleiterelement aus
Alx,Ga1-x,Sb (d.h. y/1 = 1) oder GaSb (d.h. x1 = 0, y1 = 1) oder
InAs besteht, w±rdf das·. Kristallwachstum erleichtert.
tNSPECTfED
2f30047/0404
.; Besitzt die Fotodiode eine Lawinenmultiplikationseigen- : schaft, so läßt sich das Trennverhältnis sowie das Störspannungsverhalten
verbessern, was bekanntlich zu besseren Schalteigen-, schäften führt.
Wie oben erläutert, kann mit dem erfindungsgemäßen opto-
elektronischen Schalter ein elektrisches Signal bei hoher Ge-
j schwindigkeit und bei hohem Trennverhältnis dadurch geschaltet
werden, daß man den Pegel der der Fotodiode zugeführten Rückwärtsvorspannung ändert. Aus dem Ergebnis eines Vorversuchs
■ j geht hervor, daß es möglich ist, ein Hochfrequenz signal vom über
500 MHz innerhalb einer Schaltzeit von 50 Nanosekunden zu schalten und daß das Trennverhältnis des Signals zwischen dem ausgeschalteten
und dem angeschalteten Zustand besser als 80 dB ist.
.1 Unter Berücksichtigung der Modulationseigenschaft der Lichtquelle
und der Hochfrequenzeigenschaft der Fotodiode wird es möglich, elektrische Signale zwischen Gleichstrom und einer
hohen Frequenz von über 1 GHz zu schalten. Weil im übrigen die Schaltgeschwindigkeit in erster Linie vari der·- Übergangskapazität
der Fotodiode, ist leicht einzusehen, daß die Schaltzeit auf einen Wert unter 10 Nanosekunden vermindert werden kann._
Es ist ebenfalls möglich, Hochgeschwindigkeitsdigitalsignale zu schalten, weil die Basisbandübertragungsbandbreite hoch liegt
(über 500 MHz).
Wie oben erläutert, sieht die vorliegende Erfindung eine Fotodiode vor, die einer rtxedri ge Leistungsaufnahme. äufwei,str die
lediglich einer einfachen zugehörigen Schaltungsanordnung bedarf, und die bei hohen Geschwindigkeiten -geschaitiefc werden kann.
Sie kann in allen Fällen als ein Schaltungselement hoher Impedanz
130047/0404
ί betrieben werden, weil sie immer einer umgekehrten Vorspannung
1 oder OV-Vorspannung unterliegt. Es ist dann möglich, einen opto-
elektronischen Schalter aufzubauen, der ohne weiteres für eine Impedanzanpassung sorgt und der ein hohes Signaltrennverhältnis
besitzt, das mit den Werten der bekannten Anordnungen zu vergleichen
ist oder sie sogar übertrifft.
Infolgedessen eignet sich der optoelektronische Schalter der Erfindung für verschiedene Anwendungen, für die bekannte
optoelektronische Schalter nicht geeignet waren. Insbesondere wird es wegen der niedrigen Leistungsaufnahme möglich, den
optoelektronischen Schalter zur Herstellung einer Schalteranordnung (array) einzusetzen, wie dieser E.H. Hara und R.I.
MacDonald als Teil einer LSI in Vorschlag gebracht haben, so daß auch bei kompliziertem Schalteraufbau die Baugröße verkleinert
werden kann und aus diesem Grund die Wirtschaftlichkeit und Zuverlässigkeit erhöht.
Es ist hervorzuheben, daß wegen der Möglichkeit des Betreibens bei einer hohen Geschwindigkeit in' der Größenordnung
einer Nanosekunde der optoelektronische Schalter sich für das Hochgeschwindigkeitsschalten von Mikrowellenleitungen, zum
Schalten von ZF-Signalen, die Millimeterwellen entsprechen, zum
Schalten von Digitalleitungen, in Telefonämtern, zum Schalten von Signalen in einem ZeitmultiplexfcjaB^sjsystem (TDMA) , zur
Satellitenübertragung und zum Schalten von Mikrowellensignalen, ift verschiedenen Phasen, sowie.-· ■. ■ in Phasenanordnungradarsystemeii
(phased array radars) angewandt werden kann.
30.
130047/0404
ORIGINAL INSPECTED
Claims (20)
- Optoelektronischer SchalterAnsprücheu) Optoelektronischer Schalter gekennzeichnet durch eine Lichtquelleneinrichtung zur Erzeugung eines zu schaltenden, durch ein elektrisches Signal moduliertes Lichtsignals; durch eine Qptischelektrischumwandlungseinrichtung, die so angeordnet ist, daß s-ie das durch die Lichtquelleneinrichtung ausgestrahlte Lichtsignal empfängt, s,owie durch eine Vorspannungsquelleneinrichtung, die dazu dient, der Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine umgekehrte Vorspannung zuzuführen, um die Vorrichtung in den leitenden bzw. nichtleitenden Zustand zu überführen und wobei die Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine aus einem ersten mit einem p-n-tibergang ausgestatteten Halbleiterelement und aus einem zweiten einen kleineren Bandabstand als das erste Halbleiterelement aufweisenden, mit dem ersten Halbleiterelement unter Bildung eines HeteroÜbergangs zusammengeschlossenen zweiten Halbleiterelement bestehende Fotadi- ι ode umfaßt.
- 2 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1, dadurch ge- j kennzeichnet daß die Vorspannungsquellenexnrichtung mindestens \ eine Vorspannungsquelie und eine zwischen der Vorspannungsquelle und der Optischelektrisch Umwandlungseinrichtung angeordnete Steuereinrichtung umfaßt, um der Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine umgekehrte oder eine KfuÜvorspannung zuzuführen, so daß die Einrichtung in den leitenden bzw. nichtleitenden Zustand geschaltet wird»
- 3 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorspannungsquelle aus zwei verschiedene130047/0404Spannungen aufweisendenQuellen, besteht und das durch die Steuereinrichtung erste und zweite Steuervorgänge vollzogen werden, wobei im ersten Steuervorgang eine der Quellen zugeschaltet wird, die der Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine niedrige umgekehrte Vorspannung zuführt, um den Schalter nichtleitend zu schalten und wobei im zweiten Steuervorgang die andere Quelle zugeschaltet wird, die eine größere umgekehrte Vorspannung der Optischelektrischumwandlungseinrichtung zuführt, um den Schalter nichtleitend zu schalten.
- 4 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet ,daß die eine niedrige umgekehrte Vorspannung zuschaltende Quelle eine Spannung mit dem Wert Null erzeugt.
- 5 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet ,daß die Vorspannungsquelleneinrichtung eine eine einzelne Vorspannung erzeugende Spannungsquelle umfaßt, dag durch die Steuereinrichtung ein erster und ein zweiter Steuervorgang vollzogen wird, daß heim ersten Steuervorgang die genannte Steuerquelle mit der Optischelektrischumwandlungseinrichtung verbunden wird, um die Umwandlungseinrichtung leitend zu schalten, und daß· durch den zweiten Steuervorgang die Spannungsquelle -wan der Optisc^v elektrischumwandlungseinrichtung abgeschaltet wird, um diese nichtleitend zu schalten.
- 6 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungseinrichtung als Fotodiode ausgebildet ist, die ein erstes einen p-n-übergang aufweisendes, aus einem Ill-V-Verbindungshalbleitermaterial oder Si bestehendes Halbleiterelement und ein zweites1300A7/0A04Il ι,' Halbleiterelement aufweist, das aus einem Ill-V-Verbin- j■! '', dungshalbleitermaterial oder Ge besteht und die ein Gitterkon- !j stante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiter-elementes entspricht und einen Bandabstand aufweist, der schmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 7 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2 dadurch gekennzeichnet daß die Optischelektrischumwandlungsein- ! richtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-n-Übergang aufweisenden und aus InP bestehenden Halbleiterelement und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus In Ga1-As. P besteht, worin 0=bc^1 und O5=yi=1, und das eine Gitterkonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiterelementes entspricht,und einen Bandabstand aufweist, der schmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 8 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet daß die Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-nübergang aufweisenden und aus GaAs bestehenden. Halbleiterelement und. aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus Al Ga^_xAs.. Sb , besteht worin 0 ^x ^1 und cSv^A , und das eine Gitter-1-x ykonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiterelementes entspricht und einen Bandabstand aufweist, der schmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 9 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,daß die Optischelektrischumwandlungsein-130047/0404richtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-n-Übergang aufweisenden und aus Al-. Ga x AsSb, kestenenden Halbleiterelement (worin 0 ^ χ = 1 und 0 ^y ^ 1) und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus Al, ,Ga ,As ,P, , j besteht, worin 0 Sx1 ^ 1 und 0 = y1 =? 1, und das eine Gitterkonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiterelementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der schmälei ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 10 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungsein— richtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-n-Übergang aufweisenden und aus In1- Ga As Sb, bestehenden Halbleiterelement, (worin 0 ^x — 1 und 0 = y = 1)und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus Al1 ,Ga ,As ,Sb1 ,ι χ χ y ι —ybesteht, worin 0^x1 — 1 und 0— y1 ^ 1, und das eine Gitterkonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiterelementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der schmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 11 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-nübergang aufweisenden und aus In1- Ga As Sb1- (worin 0 ^ χ 5Γ1I ^3C Jt jY I *""jyund 0 S.y ^ 1) bestehenden Halbleiterelement und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus Al1 ,Ga ,As ,P1 , besteht, worin 0 ^x1 ^. 1 und 0^y1 ^ 1, und das eine Gitterkonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiterelementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der schmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes.130047/0404ou4 / Ί οο■j
- 12 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2,j dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungseinij
'j richtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-n-! übergang aufweisenden und aus In1 Ga As P1 (worin 0 S x S1.| ι ~x χ y ι ~y:J und 0 £ y =T I) bestehenden Halbleiterelement und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht,das aus Al Ga ,As ,Sb1 ,1-x' x y i~yj! besteht, worin 0 -=x' ^"1 und 0 = y' ^ 1, und das eine Gitter- ;j konstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiterelementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der schmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes. - 13 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-n-;j Übergang aufweisenden und aus In1 Ga As P1 (worin 0 ^ χ S 1 ; und 0 =y 2f1) bestehenden Halbleiterelement und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus Al1 ,Ga ,As ,P1 , :ι-χ χ y i-y ,besteht, worin 0 ==x' =i 1 und 0 = y1 ^ 1, und das eine Gitter- jj konstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiter- j elementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der schmä- ιI ler ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 14 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, ! dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-nübergang aufweisenden und aus (Al Ga1 ) In1- Sb (worin 0 S χ ^.1 und 0 ^y 5 1) bestehenden Halbleiterelement und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus (Al ,Ga1 ,) In1- ,Sb besteht, worin 0 =Tx' ^1 und 0 £ y1 ^ 1, und das eine Gitterkonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiter-1300^/0404elementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der scnmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 15 Optoelektronsicher Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-n-S übergang aufweisenden und aus In1 Ga As Sb1 (worin O = χ =ί 1 '! und O Sy S 1) bestehenden Halbleiterelement und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus (Al 1Ga1- ,) 1In1- ,Sb besteht, worin O 5" x' ^ 1 und O = y1 S 1, und das eine Gitterkonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiterelementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der schmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 16 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-niJbergang aufweisenden und aus In1-Ga As P., (worin θίχ^1 und O =2 y S" 1) bestehenden Halbleiterelement und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus In1- ,Ga ,As ,P, , besteht, worin O Sx1 ^I und O ="y' —1, und das eine Gitterkonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiterelementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der schmäler ist als der des ersten Halbleiterelementes.
- 17 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2 dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungseinrichtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-n-Übergang aufweisenden und aus GaAs or AlAs bestehenden Halbleiterelement und einem zweiten aus Ge bestehenden Halbleiterelement besteht.1300647/04043047186
- 18 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2,j dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungsein- ! richtung eine Fotodiode umfaßt, die aus einem ersten einen p-n- ! Übergang aufweisenden und aus Si bestehenden Halbleiterelement j und aus einem zweiten Halbleiterelement besteht, das aus In1 Ga jι —χ χ ιAsyPi-y' Al1-xGaxAsySb1-y' In1-xGaxAsySb1-y' oder (AlxGa1 -x^-^i-y Sb besteht, worin 0 sx Ä1 und 0 ~y — 1, und das eine Gitter- Jkonstante besitzt, die im wesentlichen der des ersten Halbleiter-j elementes entspricht, und einen Bandabstand aufweist, der schmä- ίler ist als der des ersten Halbleiterelementes. !
- 19 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2,j dadurch gekennzeichnet, daß die Optischelektrischumwandlungsein- j richtung eine eine Lawinenmultiplikationsfunktion aufweisende ι Fotodiode umfaßt. ι
- 20 Optoelektronischer Schalter nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, < dadurch; gekennzeichnet, daß, um der Optischelektrischumwandlungs-j einrichtung eine umgekehrte Vorspannung zuzuführen, eine stufen- j lose einstellbare Spannungsversorgungseinrichtung verwendet Iwird.138047/0404
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4147480A JPS56138333A (en) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Optoelectronic switch |
JP8131680A JPS577978A (en) | 1980-06-18 | 1980-06-18 | Opto-electronic switch |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3047188A1 true DE3047188A1 (de) | 1981-11-19 |
DE3047188C2 DE3047188C2 (de) | 1987-09-10 |
Family
ID=26381098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19803047188 Granted DE3047188A1 (de) | 1980-03-31 | 1980-12-15 | Optoelektronischer schalter |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4368385A (de) |
CA (1) | CA1153092A (de) |
DE (1) | DE3047188A1 (de) |
FR (1) | FR2482386B1 (de) |
GB (1) | GB2078440B (de) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3128498A1 (de) * | 1981-07-18 | 1983-02-03 | Kabel- und Metallwerke Gutehoffnungshütte AG, 3000 Hannover | "anordnung zur leitungsgebundenen uebertragung von signalen" |
JPS5894218A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-04 | Semiconductor Res Found | フオトカツプラ |
GB2127221B (en) * | 1982-09-06 | 1986-03-12 | Secr Defence | Radiation-controlled electrical switches |
EP0106514B1 (de) * | 1982-09-23 | 1989-03-15 | The Secretary of State for Defence in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and | Infrarotdetektor |
US4570079A (en) * | 1983-02-16 | 1986-02-11 | Varian Associates, Inc. | rf Switching apparatus utilizing optical control signals to reduce spurious output |
DE3677645D1 (de) * | 1985-07-05 | 1991-04-04 | Mitsubishi Electric Corp | Optischer signalabnehmer. |
US4891815A (en) * | 1987-10-13 | 1990-01-02 | Power Spectra, Inc. | Bulk avalanche semiconductor laser |
GB2212020B (en) * | 1987-11-03 | 1991-07-10 | Stc Plc | Optical detectors. |
US5061859A (en) * | 1989-09-13 | 1991-10-29 | Hewlett-Packard Company | Circuits for realizing an optical isolator |
US5134488A (en) * | 1990-12-28 | 1992-07-28 | David Sarnoff Research Center, Inc. | X-Y addressable imager with variable integration |
US5134489A (en) * | 1990-12-28 | 1992-07-28 | David Sarnoff Research Center, Inc. | X-Y addressable solid state imager for low noise operation |
DE10019089C1 (de) * | 2000-04-12 | 2001-11-22 | Epigap Optoelektronik Gmbh | Wellenlängenselektive pn-Übergangs-Photodiode |
US6859189B1 (en) | 2002-02-26 | 2005-02-22 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Broadband antennas |
JP5084379B2 (ja) * | 2007-07-12 | 2012-11-28 | 富士通コンポーネント株式会社 | 信号検出回路および信号検出方法、ならびに状態検出回路 |
DE102008053707B3 (de) * | 2008-10-29 | 2010-04-15 | Atmel Automotive Gmbh | Schaltung und Verfahren zum Betrieb einer Schaltung |
US8890272B2 (en) * | 2011-08-10 | 2014-11-18 | Bah Holdings Llc | Photodetector |
DE102017011643B4 (de) * | 2017-12-15 | 2020-05-14 | Azur Space Solar Power Gmbh | Optische Spannungsquelle |
JP7224823B2 (ja) | 2018-09-19 | 2023-02-20 | キヤノン株式会社 | 光検出装置 |
JP6641442B1 (ja) * | 2018-10-16 | 2020-02-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光検出素子及び光検出装置 |
CN112909118B (zh) * | 2021-01-28 | 2023-04-07 | 广州大学 | 一种微分转换型宽光谱光电探测器及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2052140A1 (de) * | 1969-10-24 | 1971-04-29 | Comp Generale Electricite | Photodetektor mit Heteroubergang, welcher im Durchbruchbetrieb arbeiten kann |
DE2748292A1 (de) * | 1976-10-30 | 1978-05-11 | Hitachi Ltd | Vorrichtung zum uebertragen von signalen |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3363155A (en) * | 1964-08-19 | 1968-01-09 | Philips Corp | Opto-electronic transistor with a base-collector junction spaced from the material heterojunction |
US3881113A (en) * | 1973-12-26 | 1975-04-29 | Ibm | Integrated optically coupled light emitter and sensor |
FR2273371B1 (de) * | 1974-05-28 | 1978-03-31 | Thomson Csf | |
JPS5513907A (en) * | 1978-07-17 | 1980-01-31 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | Avalnche photo diode with semiconductor hetero construction |
GB2029639A (en) * | 1978-09-07 | 1980-03-19 | Standard Telephones Cables Ltd | Infra-red photodetectors |
-
1980
- 1980-12-04 GB GB8038944A patent/GB2078440B/en not_active Expired
- 1980-12-05 CA CA000366261A patent/CA1153092A/en not_active Expired
- 1980-12-12 FR FR8026356A patent/FR2482386B1/fr not_active Expired
- 1980-12-12 US US06/215,614 patent/US4368385A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-12-15 DE DE19803047188 patent/DE3047188A1/de active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2052140A1 (de) * | 1969-10-24 | 1971-04-29 | Comp Generale Electricite | Photodetektor mit Heteroubergang, welcher im Durchbruchbetrieb arbeiten kann |
DE2748292A1 (de) * | 1976-10-30 | 1978-05-11 | Hitachi Ltd | Vorrichtung zum uebertragen von signalen |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
Electronics Letters, Vol. 14, 1978, S.502-502 * |
H.Kressel (ed.):"Semisonductor Devices for Optical Communication", Springer-Verlag, Berlin 1980, S.82-87 * |
M.A. Hermann (ed.):"Seminconductor Optoelectronics", Proceedings of the 2. International School on Semiconductor Optoelectronics, Warschau, Polen, 6.-13. Mai 1978, Wiley, Chichester 1980, S. 157-187 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1153092A (en) | 1983-08-30 |
GB2078440B (en) | 1984-04-18 |
DE3047188C2 (de) | 1987-09-10 |
FR2482386B1 (fr) | 1987-07-24 |
US4368385A (en) | 1983-01-11 |
GB2078440A (en) | 1982-01-06 |
FR2482386A1 (fr) | 1981-11-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3047188A1 (de) | Optoelektronischer schalter | |
DE2723414C2 (de) | Optisches Halbleiter-Wellenleiterbauelement | |
DE60027642T2 (de) | Photoleitfähiger Schalter mit verbesserter Halbleiterstruktur | |
DE3007809C2 (de) | Halbleiterlichtausstrahlungselement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE102019135282B4 (de) | Optoelektronische Komponente mit Strom, der auf Pfade mit hoher Verstärkung abgelenkt wird | |
EP0073889B1 (de) | Monolithische Eingangsstufe eines optischen Empfängers | |
DE2828195A1 (de) | Diode | |
DE3727177A1 (de) | Optische steuerschaltung und halbleitereinheit zur schaltungsausfuehrung | |
DE2608562A1 (de) | Halbleiteranordnung zum erzeugen inkohaerenter strahlung und verfahren zu deren herstellung | |
DE3006026A1 (de) | Optoelektrischer umformer | |
DE1950937C3 (de) | Halbleiterbauelement zur Erzeugung von in der Frequenz steuerbaren Mikrowellen | |
DE3222848C2 (de) | ||
DE2311646B2 (de) | Elektrolumineszierende Diodenanordnung | |
DE2906961A1 (de) | Feldgesteuerte thyristor-steueranordnung | |
EP0053742A1 (de) | Signalübertragungsverfahren, ein Halbleiter-Bauelement sowie ein elektro-optisches Bauelement zur Durchführung des Verfahrens | |
DE3910288A1 (de) | Verfahren zur herstellung monolithisch integrierter optoelektronischer module | |
EP0598855B1 (de) | Optisch steuerbarer halbleiterlaser | |
EP0173643A2 (de) | Halbleiterbauelement, das eine Schicht aus transparentem, n-leitenden Material aufweist, und Verwendung derartiger Bauelemente | |
DE2128083A1 (de) | Halbleiter-Bauteil | |
DE4100570C2 (de) | Halbleiter-Lichtmodulator | |
DE3632642C2 (de) | Halbleiter-Leistungs-Bauelement | |
DE2442834A1 (de) | Schaltkreis | |
DE4010823A1 (de) | Modensynchronisierter halbleiterlaser | |
EP0638940B1 (de) | Halbleiter-Photodetektor | |
DE2031444A1 (de) | Optoelektronische Anordnung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: H01L 31/10 |
|
8126 | Change of the secondary classification |
Ipc: H03K 17/78 |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORP., TOKIO/TOKYO, |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |