DE1950937C3 - Halbleiterbauelement zur Erzeugung von in der Frequenz steuerbaren Mikrowellen - Google Patents
Halbleiterbauelement zur Erzeugung von in der Frequenz steuerbaren MikrowellenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Halbleiterbauelement zur Erzeugung von in der Frequenz steuerbaren
Mikrowellen.
Zur Erzeugung von Mikrowellen sind bereits Halbleiterbauelemente bekannt, die als grundlegenden
Bestandteil einen pn-übergang enthalten und den in dem Halbleiterkörper auftretenden Gunn-Effekt zeigen.
Alle derartigen bekannten Mikrowellen erzeugenden Halbleiterbauelemente haben jedoch nur zwei Elektroden,
so daß in dem Halbleiterbauelement lediglich die Stromdichte veränderbar ist. Deshalb stieß es bisher auf
Schwierigkeiten, eine Frequenzsteuerung, wie etwa eine Abstimmung, eine Modulation od. dgl. durch ein solches
Halbleiterbauelement selbst zu erreichen. So wurde bereits bei einer Oszillatorvorrichtung, in der als
Mikrowellen erzeugendes Element ein Halbleiterbauelement verwandt wurde, das schwingende Element, das
gewöhnlich in einem Hohlraumresonator angeordnet wird, in einem vorbestimmten Schwingungszustand
gehalten, und eine Frequenzsteuerung wurde durch eine mechanische Einrichtung durchgeführt, die z. B. aus
einer beweglichen Kurzschlußplatte bestand, die als Kurzschlußkolben bezeichnet wird und an einem Ende
des Hohlraumresonators angeordnet ist, oder die Frequenzsteuerung wurde durch eine Vorrichtung
ausgeführt, bei der ein abgestimmter Zustand mit Hilfe einer Abstimmvorrichtung erreicht wird, die als
EH-Abstimmvorrichtung (Höchstfrequenzabstimmvorrichtung)
bezeichnet wird, die in einem Wellenleiter angeordnet ist
In der Zeitschrift »IEEE Transactions on Electron Devices«, Januar 1966, ist in dem Artikel »Elektronik
Tuning Effects in the Read Microwave Avalanche-Diode« auf den Seiten 169 bis 175 sin Steuerverfahren unter
Anwendung der Stromabhängigkeit bei einem schwingenden Element wie etwa einer als Avalanche-Diode
bezeichneten Mikrowellen-Schwingdiode mit einem pn-übergang beschrieben, bei dem die Schwingfrequenz von einem ihm zugeführten Strom abhängt
Bei diesem Verfahren ist es jedoch wegen der nicht '5 gleichmäßigen Abhängigkeit der Frequenzänderung
von dem Strom sehr schwierig, die gewünschte Steuerung zu erreichen. Außerdem tritt der Nachteil
auf, daß lias schwingende Element selbst schnell durch das Auftreten des Dauerstroms zerstört wird, der dann
auftritt, wenn es eine bestimmte Temperatur-Frequenz-Charakteristik
aufweist
Neuerdings ist ein Mikrowellenmodulationssystem bekanntgeworden, bei dem ein veränderliches Reaktanzelement,
wie etwa eine veränderliche Kapazitäts-
diode od. dgl, in einen Übertragungskreis eingesetzt ist
und die Amplitudenmodulation durch die sogenannte Filterwirkung dieses Reaktanzelementes bewirkt wird.
Bei diesem System werden jedoch nicht nur die Verluste des Übe.tragungskreises erhöht sondern es ist gleich-
falls notwendig, das Rauschen eines Modulationssignals äußerst stark zu begrenzen. Aus diesem Grunde ist
dieses System auf eine schmale Bandbreite beschränkt weshalb die Anwendung dieses Systems auf technische
Schwierigkeiten stößt
Es ist auch bereits ein Halbleiterbauelement bekannt (»IEEE Transactions on Electron Devices«, Band ED-14
(1967) Nr. 9 (Sept) Seiten 535 bis 546, insbesondere Fig. 19 bis 21 auf Seite 545, Seite 546, linke Spalte,
Absatz 2 bis rechte Spalte Absatz 1), mit der zwar
Mikrowellen erzeugt werden können, jedoch ist eine Steuerung der Frequenz dieser Mikrowellen nicht
möglich. Bei diesem Halbleiterbauelement wird der Gunn-Effekt zur Erzeugung der Mikrowellen genutzt
Dabei wird eine Sperrschicht verwendet um einen
hohen ohmschen Widerstand herzustellen, über den ein Impuls abgeleitet wird, wenn der Hochfeld-Bereich
durch den betreffenden Kontaktierungsbereich läuft Eine Beeinflussung der Frequenz der erzeugten
Mikrowellen über die Kapazität der Sperrschicht ist bei
dieser Vorrichtung weder beabsichtigt noch findet sie in
irgend einer Weise statt
Weiterhin sind Schalter, Begrenzer und parametrische Verstärker bekannt (»Proceedings of the IEEE«
Band 52 (1964) Nr. 12 (Dez.) Seiten 1617 bis 1623,
insbesondere F i g. 5,6 und 8 auf Seite 1620, Seite 1619
rechte Spalte Absatz 2 und letzter Absatz, Seite 1621 linke Spalte bis rechte Spalte Absatz 4), die jedoch keine
Vorrichtungen zum Erzeugen von Mikrowellen darstellen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Halbleiterbauelement der eingangs genannten Art zu
schaffen, das bei einfachem Aufbau eine wirkungsvolle Frequenzsteuerung der von ihm abgegebenen Mikrowellen
durch einfache Spannungsänderungen ermög-
1)5 licht.
Diese Aufgabe ist dadurch gelöst daß das Halbleiterbauelement wie in dem kennzeichnenden Teil des
Anspruchs 1 angegeben ausgebildet ist
Bei dem erfindungsgemäßen Halbleiterbauelement wird der Effekt genutzt, daß die Frequenz von
Lawinendurchbrüchen in einem pn-Obergang durch die Reaktanz in einem angrenzenden Halbleiterbereich
beeinflußt werden kann. Ein solcher in seiner Reaktanz veränderlicher Bereich wird bei dem erfindungsgemäßen
Halbleiterbauelement durch eine Kapazitätsdiode gebildet Mit dem erfindungsgemäßen Halbleiterbauelement
kann somit eine Änderung der Frequenz der erzeugten Mikrowellen durch einfache Spannungsänderung
erreiche werden, wodurch eine schnell ansprechende Frequenzsteuerung erreicht wird, die für automatische
Abstimmungen und für Frequenzmodulationen geeignet ist Dabei kann das erfindungsgemäße
Halbleiterbauelement vorteilhafterweise in Miniaturform aufgebaut werden und ist auch zum Einbau in
integrierte Schaltkreise geeignet Das erfindungsgemäße Halbleiterbauelement ist in der Regel in einem
Hohlraumresonator eingebaut, der von ihm die Mikrowellenenergie abnimmt und weiterleitet Vorteilhafterweise
können bei dem erfindungsgemäßen Halbleiterbauelement jedoch auch galvanische Kopplungen
vorgesehen sein.
In einer vorteilhaften Ausführungsform des Halbleiterbauelements enthält die Kapazitätsdiode einen
pn-Übergang oder eine Schottky-Sperrschicht, oder sie
ist eine MIS-Kapazitätsdiode.
Eine weitere vorteilhafte Ausführungsform des Halbleiterbauelements besteht darin, daß die Lawinendiode
und die Kapazitätsdiode auf einander gegenüberliegenden Seiten des Halbleitersubstrates gebildet sind
und auf einer gemeinsamen Achse angeordnet sind.
In einer anderen vorteilhaften Ausführungsform des Halbleiterbauelements weisen die Lawinendiode und
die Kapazitätsdiode einen Mesa-Aufbau auf und sind auf der gleichen Seite des Halbleitersubstrates gebildet
Vorzugsweise sind die Mesa-Erhebungen der Lawinendiode und der Kapazitätsdiode konzentrisch zueinander
angeordnet Sie können jedoch auch nebeneinander angeordnet sein.
Das Halbleiterbauelement nach der Erfindung wird im folgenden anhand schematischer Zeichnungen an
Ausführungsbeispielen näher erläutert Es zeigt
F i g. 1 ein Schaltschema, aus dem das Prinzip des erfindungsgemäßen Halbleiterbauelementes hervorgeht,
Fig.2 und 3 Schnittansichten von Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Halbleiterbauelementes
und
Fig.4 eine grafische Darstellung zur Veranschauli- so
chung der Eigenschaften des erfindungsgemäßen Halbleiterbauelementes.
Gemäß F i g. 1 ist ein Halbleiterbauelement mit einem
ersten pn-Übergang 1 und einem zweiten pn-Übergang 2 in einem Hohlraumresonator 3 angeordnet wobei die
pn-Übergänge 1 und 2 mit Spannungsquellen 4 und 5 (£1 und £2) verbunden sind, durch die an diese pn-Übergänge
Vorspannungen in Sperrichtung angelegt werden.
Der erste pn-Übergang 1 ist so ausgebildet daß er einen negativen Widerstand aufweist, wenn an ihn durch
die Spannungsquelle 4 eine Vorspannung in Sperrrichtung angelegt wird, die über der Durchbruchsspannung
liegt Der zweite pn-Übergang 2 ist so ausgebildet daß
die pn-Übergangskapazität geändert wird, wenn an diesen pn-Übergang durch die Spannungsquelle 5 eine to
Null- oder negative Vorspannung angelegt wird. Somit wird mit Hilfe dieser beiden pn-Übergänge eine
vorbestimmte Mikrowellenschwingung erzeugt. Es wurde festgestellt daß, wenn eine Avalanche-Diode und
eine veränderliche Kapazitätsdiode nebeneinander in demselben Hohlraumresonator angeordnet werden, die
Schwingungsfrequenz in weitem Umfange dadurch geändert werden kann, daß man die Vorspannung
steuert, die an die Kapazitätsdiode angelegt ist Es hat sich ergeben, daß man durch das Schwingungselement
und das Reaktanzelement einen Resonanzkreis erhält, bei dem die Resonanzkreiskonstanten durch die
Kapazitätsdiode, die in einem Abstand von ein Viertel der Wellenlänge oder weniger als ein Viertel der
Wellenlänge der Mikrowellenschwingung angeordnet ist gesteuert werden können.
Mit dem Halbleiterbauelement nach der Erfindung kann die Abstimmung des Resonanzkreises leicht und
wirksam elektrisch durchgeführt werden, so daß sich eine wesentliche Erleichterung für die Frequenzmodulation
und die automatische Frequenzsteuerung ergibt
F i g. 2 zeigt ein Mikrowellen erzeugendes Halbleiterbauelement nach der Erfindung, bei dem die beiden
pn-Übergänge in Reihe angeordnet sind. Der erste und zweite pn-Übergang 1 bzw. 2 in F i g. 2 entsprechen den
beiden pn-Übergängen in F i g. 1. In F i g. 2 sind mit dem Bezugszeichen 6 ein z. B. p-leitendes Germaniumsubstrat
mit 7, T η-leitende Schichten, die auf dem Germaniumsubstrat durch ein Diffusionsverfahren
ausgebildet sind, 8, 8', 8" Metallelektroden, die einen
ohmischen Kontakt mit den p- und -leitenden Schichten bilden und mit 9 eine Wärme ableitende Metallplatte
oder Wärmesenke bezeichnet Bei diesem Halbleiterbauelement wird der pn-Übergang 1 als negatives
Widerstandselement verwendet an das eine Spannung E\. in Sperrichtung angelegt wird, die über der
Durchbruchsspannung liegt, um einen Avalanche-Strom (Lawinenstrom) durch den pn-Übergang 1 fließen zu
lassen, so daß ein negativer Widerstand geschaffen wird, und an den pn-Übergang 2 wird eine in Sperrichtung
geschaltete Gleichspannungsvorspannung £2 angelegt um die statische Kapazität dieses pn-Überganges
einzustellen, so daß durch dieses Halbleiterbauelement ein Ausgangssignal mit einer gewünschten Schwingungsfrequenz
erhalten werden kann. Eine Frequenzmodulation kann dadurch erreicht werden, daß der
Sperrspannung £2 an dem zweiten pn-Übergang 2 ein Modulationssignal überlagert wird.
Bei dem Halbleiterbauelement nach der Erfindung kann eine Mikrowellenabstimmung und eine Mikrowellenmodulation
durchgeführt werden, ohne daß dem Avalanche-Strom ein Signal überlagert bzw. aufmoduliert
zu werden braucht Deshalb kann der Avalanche-Strom ausreichend gesteuert werden, ohne daß das
Oszillatorelement durch Wärme zerstört wird.
Ein Halbleiterbauelement nach F i g. 2 wurde derart hergestellt, daß ein Siliziumdioxidfilm auf einer Oberfläche
eines Germaniumsubstrats gebildet wurde, das eine p-leitende Verunreinigungskonzentration von 5xlO16
Atomen pro Kubikzentimeter aufwies, und in diesem Siliziumdioxidfilm wurde ein Loch von ungefähr 20
Mikrometer Durchmesser gebildet, so daß ein Teil der Oberfläche des Germaniumsubstrats freilag, und hierauf
wurde von beiden Oberflächen dieses Substrats aus Antimon eindiffundieren gelassen, um in diesem Teil
einen pn-Planarübergang und auf der gesamten gegenüberliegenden Oberfläche des Substrats einen
pn-Übergang auszubilden. Sodann wurde aus dem Substrat, das die beiden pn-Übergänge aufwies und das
Schwingungselement bildete, ein Quadrat in der Größe von ungefähr 200 Mikrometer Seitenlänge, in dem der
pn-Planarübergang enthalten war, herausgeschnitten
und in einen Hohlraumresonator eingebaut. Ein derartig ausgebildetes Mikrowellen erzeugendes Halbleiterbauelement
zeigt in dem Fall, daß durch den ersten pn-Übergang 1 ein Avalanche-Strom von 35 mA floß
und daß an den zweiten pn-Übergang 2 eine Nullspannung angelegt wurde, am Ausgang eine
Schwingungsfrequenz von 10,5 GHz, deren Leistung 10
Milliwatt betrug, während die Schwingungsfrequenz in dem Fall, daß an den ersten pn-Übergang 1 ein Strom in
der gleichen Höhe wie oben angelegt und an den zweiten pn-Übergang eine Sperrspannung von 1 Volt
angelegt wurde, um etwa 0,2 GHz höher lag als in dem Fall, daß der zweite pn-Übergang 2 mit einer Spannung
Null vorgespannt war.
In F i g. 3 ist eine andere Ausführungsform des Halbleiterbauelements nach der Erfindung dargestellt,
bei der zwei pn-Übergänge elektrisch zueinander parallel angeordnet sind, wobei das Halbleitersubstrat
aus einer p-Ieitenden Schicht 6 mit einem hohen spezifischen Widerstand und einer anderen p-leitenden
Schicht 6' mit einem niedrigen spezifischen Widerstand besteht, auf dem zwei Mesa-Erhebungen ausgebildet
sind, die η-leitende Schichten 7 und 7' aufweisen. Bei diesem Ausführungsbeispiel eines Halbleiterbauelements
wurde Antimon (Sb) von der Oberfläche aus in ein Germaniumsubstrat eindiffundieren lassen, das eine
epitaktisch gewachsene Schicht aufwies, die eine p-leitende Verunreinigungskonzentration von 3xlO16
Atomen pro Kubikzentimeter aufwies, wobei diese epitaktische Schicht über einer Schicht mit einer
p-leitenden Verunreinigungskonzentration von 3 χ ΙΟ18
Atomen pro Kubikzentimeter angeordnet war, so daß eine η-leitende Schicht von ungefähr 3,5 Mikrometer
Dicke gebildet wurde; hiernach wurden auf dem Germaniumsubstrat Dioden mit einem kreisförmigen
Mesa-Aufbau, von jeweils 100 Mikrometer Durchmesser auf dem Germaniumsubstrat ausgebildet, wobei
diese Mesa-Erhebungen einen Abstand von 500 Mikrometer voneinander aufwiesen. Die mit diesem
Halbleiterbauelement durchgeführten Versuche zeig
ίο ten, daß dann, wenn auf den ersten pn-übergang 1 ein
Avalanche-Strom von 100 mA gegeben und an den zweiten pn-Übergang 2 eine Nullvorspannung angelegt
wurde, die Ausgangsschwingungsfrequenz 7,5 GHz mit einer Leistung von 80 Milliwatt aufwies, und daß dann,
wenn auf den ersten pn-übergang { ein Strom in der
gleichen Größe wie oben gegeben und an den zweiten pn-Übergang 2 eine Sperrspannung von 1 oder 2 Volt
angelegt wurde, die Schwingungsfrequenz um 2,5 MHz oder 4,5 MHz höher als in dem Fall lag, daß an den
zweiten pn-Übergang 2 eine Vorspannung Null angelegt wurde.
Mit einem Halbleiterbauelement nach der Erfindung, bei dem zwei Dioden, die den obenerwähnten
kreisförmigen Mesa-Aufbau aufwiesen, nebeneinander angeordnet sind, ist es möglich, Modulationscharakteristiken,
wie sie in F i g. 4 gezeigt sind, dadurch zu erhalten, daß man einen Avalanche-Strom von 50 mA
durch den ersten pn-Übergang 1 fließen läßt und daß man an den zweiten pn-Übergang 2 zusammen mit einer
Sperrvorspannung von minus 2 Volt ein Modulationssignal anlegt, das bei 200 kHz einen Abstand von Spitze
zu Spitze von 1 Volt aufweist.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Halbleiterbauelement zur Erzeugung von in der
Frequenz steuerbaren Mikrowellen, dadurch gekennzeichnet, daß an einem Halbleitersubstrat
(6) eines Leitfähigkeitstyps an einer Stelle mittels einer Halbleiterschicht (7) entgegengesetzten
Leitfähigkeittyps ein pn-Obergang einer Lawinendiode (1) gebildet ist, während an einer anderen
Stelle des Halbleitersubstrats (6) zusammen mit diesem eine Kapazitätsdiode (2) gebildet ist, und daß
an dem Halbleitersubstrat (6) und der den pn-Obergang
bildenden Halbleiterschicht (7) jeweils eine Elektrode (8,8') angebracht ist, die zusammen einen
Spannungseingang für die Lawinendiode (1) bilden, während die eine Elektrode (8") der Kapazitätsdiode
(2) zusammen mit der an dem Halbleitersubstrat (6) angebrachten Elektrode (8) einen Spannungseingang
für die Frequenzsteuerung bildet
2. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapazitätsdiode (2)
einen pn-Obergang oder eine Schottky-Sperrschicht enthält oder eine MIS-Kapazitätsdiode ist
3. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Lawinendiode (1)
und die Kapazitätsdiode (2) auf einander gegenüberliegenden Seiten des Halbleitersubstrates (6) gebildet
sind und auf einer gemeinsamen Achse angeordnet sind (F i g. 2).
4. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Lawinendiode (1)
und die Kapazitätsdiode (2) einen Mesaaufbau aufweisen und auf der gleichen Seite des Halbleitersubstrats
(6) gebildet sind (F i g. 3).
5. Halbleiterbauelement nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Mesa-Erhebungen
der Lawinendiode (1) und der Kapazitätsdiode (2)' konzentrisch zueinander angeordnet sind
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3829743A (en) * | 1969-09-18 | 1974-08-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Variable capacitance device |
US3755752A (en) * | 1971-04-26 | 1973-08-28 | Raytheon Co | Back-to-back semiconductor high frequency device |
US3875535A (en) * | 1973-05-24 | 1975-04-01 | Rca Corp | Enhanced efficiency diode circuit |
US4068255A (en) * | 1975-10-16 | 1978-01-10 | Dionics, Inc. | Mesa-type high voltage switching integrated circuit |
US4481487A (en) * | 1981-08-14 | 1984-11-06 | Texas Instruments Incorporated | Monolithic microwave wide-band VCO |
USRE33469E (en) * | 1981-08-14 | 1990-12-04 | Texas Instruments Incorporated | Monolithic microwave wide-band VCO |
US4458215A (en) * | 1981-08-17 | 1984-07-03 | Rca Corporation | Monolithic voltage controlled oscillator |
US4568889A (en) * | 1983-08-31 | 1986-02-04 | Texas Instruments Incorporated | Distributed diode VCO with stripline coupled output and distributed variable capacitor control |
FR2567325B1 (fr) * | 1984-07-03 | 1986-11-14 | Thomson Csf | Element a capacite variable, commandable par une tension continue |
US6667539B2 (en) * | 2001-11-08 | 2003-12-23 | International Business Machines Corporation | Method to increase the tuning voltage range of MOS varactors |
FR2911773B1 (fr) | 2007-01-30 | 2009-03-27 | Tornier Sas | Methode et ensemble d'instrumentation chirurgicale pour poser une prothese totale d'epaule inversee,et prothese correspondante |
WO2010136605A2 (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | Eth Zurich | Microwave circuit |
US9408652B2 (en) | 2010-04-27 | 2016-08-09 | Tornier Sas | Intra-articular joint replacement and method |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3141141A (en) * | 1961-12-29 | 1964-07-14 | Bell Telephone Labor Inc | Electronically tunable solid state oscillator |
US3518574A (en) * | 1964-05-01 | 1970-06-30 | Ibm | Injection laser device |
US3465265A (en) * | 1965-09-13 | 1969-09-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Frequency modulator using an n-type semiconductor oscillation device |
US3403306A (en) * | 1966-01-20 | 1968-09-24 | Itt | Semiconductor device having controllable noise characteristics |
US3524149A (en) * | 1968-02-23 | 1970-08-11 | Gen Telephone & Elect | Frequency modulated oscillator circuit utilizing avalanche diode |
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US3675161A (en) | 1972-07-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 | ||
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |