DE3039110C2 - - Google Patents

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DE3039110C2
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monobutyl ether
glycol monobutyl
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Walter 8000 Muenchen De Glashauser
Grigore-Vlad Dipl.-Ing. 8026 Ebenhausen De Ghica
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Karlsruher Institut fuer Technologie KIT
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Siemens AG
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/143Electron beam
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S430/167X-ray

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  • Electron Beam Exposure (AREA)
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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DE19803039110 1980-10-16 1980-10-16 Verfahren fuer die spannungsfreie entwicklung von bestrahlten polymethylmetacrylatschichten Granted DE3039110A1 (de)

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US06/303,094 US4393129A (en) 1980-10-16 1981-09-17 Method of stress-free development of irradiated polymethylmetacrylate
EP81108142A EP0051166B1 (de) 1980-10-16 1981-10-09 Verfahren für die spannungsfreie Entwicklung von bestrahlten Polymethylmethacrylatschichten
JP56164893A JPS57100429A (en) 1980-10-16 1981-10-15 Manufacture of structural body

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