DE3024751C2 - Trägerhorde aus Quarzglas - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Trägerhorde aus; Quarzglas, die wannenartig ausgebildet und zur Aufnahme von scheibenförmigen Halbleitersubstraten im Boden mit schlitzförmigen Einschnitten sowie am oberen Rand der Seitenwände mit Schlitzen versehen ist, deren Endbereiche schlitz- und einschnittfrei und deren Stirnflächen offen sind.

Trägerhorden der vorstehend charakterisierten Art sind aus der Zeitschrift »Industrie· Diamanten-Rundschau«, Heft 12/1978, Nr. 3, Seite 161, Bild 5 bekannt. Diese Trägerhorden weisen an den ungeschlitzten Endbereichen jeweils einen oberen Quersteg auf und eine durch den Quersteg und den Boden hindurchgehende koaxiale Bohrung, die zum Verschieben der mit Halbleiterscheiben beschickten rohrförmigen Trägerhorden in den Diffusionsrohrtn dienen. Die symmetrische Dreipunktstützung der Halbleitersubstrate hat sich sehr bewährt. Allerdings ist die Herstellung solcher Trägerhorden relativ arbeitsaufwendig.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Trägerhorde aus Quarzglas zu schaffen, die die bewährte Dreipunkt-Stützung der Halbleitersubstrate beibehält, jedoch in materialsparender und einen geringen Arbeitsaufwand erfordernder Weise herstellbar ist sowie leicht und sicher zu handhaben und zu transportieren ist und die Umladung der Halbleitersubstrate aus standardisierten Magazinen wesentlich erleichtert.

Gelöst wird diese Aufgabe für eine Trägerhorde der eingangs charakterisierten Art erfindungsgemäß dadurch, daß die Endbereiche nach oben offen sind, die Seitenwände dieser Endbereiche vertikal ausgerichtete Justierausnehmungen und Bohrungen aufweisen und im Boden jedes Endbereichs eine sich quer zur Längsachse des Bodens erstreckende Aussparung vorgesehen ist.

In vorteilhafter Weise ist der untere Seitenwandbereich der Trägerhorde zum Boden hin eingezogen.

Die erfindungsgemäße Ausbildung der Trägerhorde kann in materialsparender Weise einfach dadurch hergestellt werden, daß ein vorgeformtes Profiirohr zunächst in zwei Haibschaien geteilt wird und danach in den Boden die schlitzförmigen Einschnitte, am oberen Rand der Seitenwände die Schlitze, die Justierausnehmungen, die Bohrungen und die Aussparungen am

ίο Boden eingebracht werden. Anstelle einer einzigen Trägerhorde, wie sie aus der eingangs erwähnten Veröffentlichung bekannt ist, können nunmehr aus dem gleichen Rohr zwei Trägerhorden hergestellt werden.

In der Figur ist ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Trägerhorde in Ansicht dargestellt.

Die Trägerhorde besteht aus einem einstückigen

wannenartigen Quarzglaskörper, der einen Boden 1 und Seitenwände 2 aufweist Am oberen Rand sind die Seitenwände mit Schlitzen 3 versehen. Der untere Seitenwandbereich 4 ist zum Boden 1 hin eingezogen, im Boden I sind zum Wanneninneren offene, schlitzförmige Einschnitte 5 angebracht, deren tiefste Stelle etwa die Hälfte der Dicke des Bodens erreicht. Die Schlitze 3 sind durchgehend ausgebildet, d. h. sie durchsetzen die gesamte Seitenwandslärke, und erstrecken sich vom oberen Rand her in die Seitenwand bis höchstens etwa V₄ der Höhe zwischen oberem Seitenwandrand und Boden ?.. In den schlitz- und einschnittfreien Endbereichen sind in den Seitenwänden vertikal ausgerichtete Justierungsausnehmungen 6 vorgesehen, die zur Justierung der Trägerhorde beim Beladen mit Halbleiterscheiben aus Standardmagazinen dienen. Außerdem sind in Nähe der offenen Trägerhordenenden noch Bohrungen 7 vorgesehen, in die beispielsweise die Zinken eines gabelförmigen Werkzeugs 8 zum Transportieren und Hantieren der Trägerhorde eingeschoben werden. In den beiden Endbereichen des Bodens 1 ist jeweils eine Aussparung 9 vorgesehen, die sich quer zur Längsachse des Hordenbodens erstreckt und für die Anordnung der Trägerhorden auf mit Rollen versehenen Transportvorrichtungen vorgesehen ist, mit denen die beladene Trägerhorde in das Diffusionsrohr zur Behandlung der Halbleitersubstrate befördert wird.
Wie sich aus der Figur ersehen läßt, ist die Trägerhorde leicht zu fertigen. In eine Quarzglashalbschale, die gegebenenfalls wannenartig verformt ist, werden die Schlitze 3 am oberen Rand der Seiteriwände eingeschnitten und die schlitzförmigen Einschnitte 5 in den Boden 1 eingebracht. Außerdem werden die Justierausnehmungen 6 eingefräst und die Bohrungen 7 sowie die Aussparungen 9 angebracht. Der Arbeitsaufwand hierfür ist sehr gering. Außerdem zeigt die Figur. daß bei den Trägerhorden soweit als möglich Quarzglas eingespart wurde, ohne daß die Stützung der Halbleiter-Substrate in den Trägerhorden verschlechtert ist, und daß durch einfache Mittel, wie die Justierausnehmungen und die Bohrungen, die Handhabung der Trägerhorden wesentlich vereinfacht wird.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:

1. Trägerhorde aus Quarzglas, die wannenartig ausgebildet und zur Aufnahme von scheibenförmigen Halbleitersubstraten im Boden mit schlitzförmigen Einschnitten sowie am oberen Rand der Seitenwände mit Schlitzen versehen ist, deren Endbereiche schlitz- und einschnittfrei und deren Stirnflächen offen sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Endbereiche nach oben hin offen sind, die Seitenwände dieser Endbereiche vertikal ausgerichtete Justierausnehrr.ungen (6) und Bohrungen (7) aufweisen und im Boden (1) jedes Endbereichs eine sich quer zur Längsachse des Bodens erstreckende Aussparung (9) vorgesehen ist.

2. Trägerhorde nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichntt, daß der untere Seitenwandbereich (4) zum Boden (1) hin eingezogen ist.