DE29601288U1 - Beschichtungskammer und Substratträger hierfür - Google Patents
Beschichtungskammer und Substratträger hierfürInfo
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Description
&igr; -
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beschichtungskammer
der im Oberbegriff von Anspruch 1 angegebenen Gattung, einen Substratträger hierfür nach Anspruch 9.
Die Erfindung betrifft damit einerseits die erwähnte Kammer, Substratträger und Verfahren für die Bedampfungsbeschichtung
von Substraten, worunter reaktives oder nichtreaktives Bedampfen mittels eines Elektronenstrahlverdampfers, eines Funkenverdampfers
oder mittels thermischen Tiegelverdampfens verstanden sei, ist aber insbesondere gerichtet auf reaktives
oder nichtreaktives Bedampfen durch thermisches Tiegelverdampfen, dabei vorzugsweise Elektronenstrahlverdampfen.
Unter einem allgemeineren Aspekt betrifft aber die vorliegende Erfindung auch die Beeinflussung der Schichtdickenverteilung
auch bei anderen Beschichtungsverfahren, wie bei Sputterbeschichten.
Anhand von Fig. 8 soll einerseits das bekannte Vorgehen beim Bedampfungsbeschichten planer Substrate mit dessen Nachteilen
erläutert werden und zudem die nachfolgend verwendeten Grossen definiert werden.
Eine Verdampfungsquelle 1 in einer Vakuumkammer, sei dies ein Elektronenstrahlverdampfer oder ein thermischer Tiegelverdampfer,
kann genähert als Punktquelle betrachtet werden, als Quelle im Punkt P, definiert durch den Fusspunkt der Zentrumsachse
A auf die zu verdampfende Materialneufläche.
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Es werden an einem bezüglich des Fusspunktes P beabstandeten planen Substrat 3 infinitesimal kleine Teilflächen AF betrachtet.
Als Einfallswinkel &agr; wird der Winkel zwischen der Flächennormalen
nF auf die Teilfläche F und der Verbindungslinie I zwischen
Fusspunkt der erwähnten Flächennormalen und dem Punkt P an der Quelle verstanden.
Der Einfallswinkel &agr; variiert an einem planen Substrat mit der Position des jeweils betrachteten Flächenelementes AF.
Als Zentrums-Einfallswinkel ao ist der Einfallswinkel eines
Flächenelementes ÄFO im Zentrum des Substrates bezeichnet.
Darunter wird an einer betrachteten Substrat/Quellen-Konfiguration
der Unterschied &Dgr;&agr; von minimalem Einfallswinkel und maximalem Einfallswinkel &agr; verstanden.
Darunter wird die pro Zeiteinheit an einem betrachteten Flächenelement
AF abgelegte Materialmenge verstanden. Sie ist umgekehrt proportional abhängig zum Quadrat der Länge der
Strecke 6 und variiert damit stark mit der Lage des betrachteten Flächenelementes gemäss Fig. 8. Sie ist weiter abhängig
von der - hier genähert als kugelförmig betrachteten - Cha-
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rakteristik K der Quelle sowie vom Einfallswinkel &agr;.
Beschichtungswirkungsgrad
Beschichtungswirkungsgrad
Darunter wird das Verhältnis pro Zeiteinheit am Substrat 3 gesamthaft abgelegten Materialmenge zu der pro Zeiteinheit an
der Quelle 1 verdampter Materialmenge verstanden. Dieses variiert quadratisch mit 1/42, wobei 4 dem mittleren Abstand
vom Substrat 3 zu Punkt P entspricht, nach Fig. 8.
Es besteht heute das Bedürfnis, immer grössere plane Substrate bedampfungszubeschichten.
Dabei ist oft sicherzustellen, dass die Einfallswinkelvariation &Dgr;&agr; entlang des Substrates einen vorgegebenen Winkel
nicht überschreitet.
Dies ist beispielsweise (s. WO 95/11517) und insbesondere der
Fall bei der Herstellung sogenannter Field Emission Displays (FED). Mit zunehmender Beschichtungszeit wachsen daran vorgesehene
zylindrische Vertiefungen bei geeigneten Bedampfungsbedingungen zu, und es bilden sich am Boden dieser Vertiefungen
spitze Kegel des Beschichtungsmaterials, an welchen die geforderte Feldemission möglich ist. Wenn nicht eine definierte,
maximal zulässige Auftreffwinkelabweichung Aamax entlang
des ganzen Substrates eingehalten wird, so wird das gleichförmige Wachsen dieser Spitzen entlang des Substrates
gestört, was zu einer Beeinträchtigung der Display-Qualität oder gar zu seiner Unbrauchbarkeit führen kann. Dabei wird in
diesem Falle, gemäss Fig. 8, ao zu Null gewählt.
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Mit Blick auf Fig. 8 sei nun ein rechteckförmiges Substrat der Dimension a &khgr; b durch Bedampfen zu beschichten. Durch
Wahl eines minimal einzuhaltenden mittleren Abstandes 4 kann erreicht werden, dass eine maximal vorgegebene Einfallswinkelabweichung
&Dgr;&agr; eingehalten wird. Wird gemäss Fig. 8 für das Substrat 3 ao = 0 gewählt und AF0 im Durchstosspunkt der
Achse A und weiter eine maximale Einfallswinkelabweichung Aamax vorgeschrieben, so ergibt sich für den minimal einzuhaltenden
mittleren Abstand 4
(1) 4 = ^ (a2 + b2)172 . cotgAamax
= H (a2 + b2)172 · cotgoci,
wobei im betrachteten Spezialfall zentrierten Substrates Aamax
dem Einfallswinkel am Flächenelement AF, das vom Substratzentrum AFo am weitesten entfernt ist, gemäss Fig. 8, dem Einfallswinkel
&agr;&idigr; entsprechen muss.
Wenn das Substrat 3 beispielsweise eine Grosse von 300mm &khgr;
400mm aufspannt und eine maximale Winkelabweichung Aamax von
7°, wie beispielsweise für die FED-Herstellung, gefordert ist, so ergibt sich nach (1) ein minimal einzuhaltender Abstand
4 von 2000mm.
Damit sind folgende Nachteile des in Fig. 8 schematisch dargestellten
bekannten Vorgehens offensichtlich:
a) Es sind ausserordentlich grosse Bedampfungskammern notwendig, welche lange Konditionierungszeiten, dabei ins-
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besondere lange Evakuierungszeiten, erfordern, womit die Prozesszeiten unerwünscht lang werden. Dabei sind, schon
konstruktiv bedingt, derartige Kammern aufwendig.
b) Die spezifische Beschichtungsrate variiert beim Einhalten des maximal tolerierbaren Äamax aufgrund der quadratischen
Beziehung zu Flächenelement/Quellenabstand i.
c) Aufgrund des grossen mittleren Quellen- zu Substratabstandes 4 ist der Beschichtungswirkungsgrad relativ
schlecht.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, an einer Beschichtungskammer
sowie einem Verfahren eingangs genannter Art, diese Nachteile zu beheben.
Aus der nachfolgend dargestellten Lösung dieser Aufgabe ergibt sich die generelle Möglichkeit, die Beschichtungsratenverteilung
und/oder die Einfallsrichtungsverteilung entlang eines Substrates, und dies nicht nur bei Bedampfungsverfahren,
in erfinderischer Weise zu beeinflussen.
Die erwähnte Aufgabe wird durch die Beschichtungskammer eingangs
genannter Art, welche sich nach dem Kennzeichen von Anspruch 1 auszeichnet, und/oder durch Vorsehen eines
Substratträgers nach Anspruch 7. Dies nicht nur bei Beschichtungsverfahren, in denen am Substrat 3 ein Zentrums-Auftreffwinkel
Ct0 = 0° auftritt und/oder die Quellenachse A durch das Substratzentrum ÄFO verläuft, sondern auch bei
Anordnungen, bei wel-
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- 6 —
chen &agr;&ogr; ^ O ist und/oder A das Zentrum ÄFO nicht durchstösst,
wie dies beispielsweise der Fall sein kann, wenn mehrere plane Substrate an der Peripherie einer Substratträgerkalotte
gegenüber der Quelle angeordnet werden, die sich um ihre Zentrumsachse dreht.
Dabei ist auch die Erfindung an solchen Anordnungen realisierbar und in gewissen Fällen vorteilhaft, bei denen die
Substrate auf Planetenträgern angeordnet sind, welche sich einerseits um die Planetenachse drehen und diese Planeten
sich um die Anlagenachse drehen. Damit kann die Schichtdikkenverteilung über die Substrate, verglichen mit Planetenträgeranordnungen
ohne Realisation der vorliegenden Erfindung, weiter verbessert werden. Die Planetenanordnung der Substrate
ist besonders für ein gleichzeitiges Beschichten mehrerer Substrate vorteilhaft, wobei zusätzlich der Beschichtungswirkungsgrad
erhöht wird.
Die Erfindung wird anschliessend beispielsweise anhand von Figuren erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 ausgehend von Fig. 8, am Spezialfall eines über der Quellenachse A zentrierten Substrates mit ao = 0,
schematisch, das an einer erfindungsgemässen Kammer bzw. dem Substratträger bzw. dem erfindungsgemässen
Verfahren gewählte Vorgehen;
Fig. 2a, ausgehend von einer Darstellung gemäss den Fig. 8
2b und 1, das erfindungsgemässe Vorgehen in verallge-
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meinerten Fällen, wo ein oder mehrere Substrate bezüglich
der Achse A nicht zentriert sind bzw. cco = 0
nicht eingehalten ist. Ebenfalls angedeutet ist die Rotation der Substrate mit coa und 1 oder &ohgr;&rgr;;
Fig. 3a schematisch, verschiedene Möglichkeiten der Konbis
3d struktion eines erfindungsgemässen Substratträgers;
3d struktion eines erfindungsgemässen Substratträgers;
Fig. 4 schematisch im Querschnitt, eine bevorzugte Ausführungsform
eines erfindungsgemässen Substratträgers, insbesondere für rechteckige oder quadratische
Substrate;
Fig. 5 in Darstellung analog zu Fig. 4, eine Querschnittdarstellung
gemäss Linie VI-VI von Fig. 4;
Fig. 6 schematisch eine weitere Ausführungsform eines erfindungsgemässen
Substratträgers;
Fig. 7 schematisch das Vorgehen bei Lineartransport eines erfindungsgemäss gebogenen Substrates über eine oder
mehrere Quellen mit Vorsehen eines Kollimators.
Gemäss Fig. 1 wird erfindungsgemäss das Substrat 3, nun bezüglich
der Achse A zentriert und mit ao = 0 gebogen, und
zwar bezüglich mindestens einer Biegeachse A5, welche bevorzugterweise
durch den Fusspunkt P der Quelle 1 verläuft. Sie liegt bevorzugterweise parallel zum kleinsten Substratdurchmesser,
also, gemäss Fig. 1, parallel zu den kleineren Rechteckseiten b. Wie unmittelbar ersichtlich, wird durch die erfindungsgemässe
Biegung generell die Einfallswinkelvariation
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• · ♦
&Dgr;&agr; am Substrat 3 verkleinert; liegt, wie bevorzugt, die Biegeachse
Ab tatsächlich im Fusspunkt P, so wird beim betrachteten Spezialfall der Biegeradius gleich 4 gewählt. Flächenelemente
ÄF entlang Grosskreislinien gemäss G des zylindrisch
gebogenen Substrates 3 haben alle gleiche Einfallswinkel &agr;. Die grösste Einfallswinkelabweichung &Dgr;&agr; tritt entlang
Mantellinien L der Zylinderfläche auf. Wird weiterhin, wie im Beispiel von Fig. 8, die maximal tolerierte Einfallswinkelvariation
AOmax zu F0 vorgeschrieben, so ergibt sich bei a &khgr; b =
300 &khgr; 400mm der minimal einzuhaltende Abstand 4 nun zu
(2) 4 = (b/2) · cotgAamax
= {b/2) " cotga2.
Es ergibt sich der nun einzuhaltende Minimalabstand 4 zu 1222mm, was einer Reduktion durch das erfindungsgemässe Vorgehen
von 40% entspricht. Dabei wird nun
A) die notwendige Beschichtungskammer massgeblich kleiner,
B) die spezifische Beschichtungsrate am Substrat wesentlich homogener verteilt,
C) der Beschichtungswirkungsgrad wesentlich verbessert.
Es ergibt sich aus Betrachtung von Fig. 1 für den Fachmann nun ohne weiteres, dass eine weitere Reduktion und Verbesserung
im obgenannten Sinne dadurch erzielt wird, dass das Substrat 3 nicht zylindrisch um eine Biegeachse A8, sondern
sphärisch, bevorzugterweise um den Punkt P, gebogen wird.
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Wie bezüglich Biegeradius sowie zylindrischer oder sphärischer Biegung fallspezifisch vorgegangen wird, bemisst sich
unter anderem auch an der Elastizität des Substrates und damit seinem Material und seiner Dimensionierung, berücksichtigend,
dass das Substrat keinerlei bleibende Deformationen aufweisen sollte.
Mit Blick auf die oben erläuterten Spezialfälle ist erkenntlich, dass immer dann, wenn das Zentrumsflächenelement ÄFO
eine Flächennormale no aufweist, welche durch P durchläuft
und in A liegt, bezüglich Einfallswinkelabweichungen &Dgr;&agr; am Substrat symmetrische Verhältnisse herrschen.
Wird, wie in Fig. 2a links schematisch dargestellt, das Substrat mit ao = 0 aber bezüglich A exzentrisch angeordnet,
so wird auch hier, bei erfindungsgemässer Biegung (rechts dargestellt), sei es zylindrisch oder sphärisch, die verbleibende
Einfallswinkelabweichung &Dgr;&agr; bis hin zu 0 verringert, was auch hier erlaubt, den mittleren Quellen- zu Substratabstand
to zu verringern.
Wird die Anordnung des planen Substrates zudem, gemäss Fig. 2b, bezüglich des Quellenpunktes P so gewählt, dass &agr;&ogr; Φ 0,
so wird auch dann durch erfindungsgemässe Biegung, wie rechts in Fig. 2b dargestellt, wiederum die erfindungsgemäss angestrebte
Verringerung von &Dgr;&agr; erzielt.
Weil in jedem Falle bei gegebenem tolerierbarem AoUax durch
erfindungsgemässes Vorgehen die minimal einzuhaltende Distanz
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- &iacgr;&ogr; -
zwischen Substrat 3 und Quellenpunkt P verringert wird, ergibt sich jedenfalls, so auch bei Kalottenträgern, eine massgebliche
Volumenreduktion der Beschichtungskammer. Damit geht auch eine Verbesserung des Beschichtungswirkungsgrades einher.
Weil weiter, wie sich aus allen Fig. 1 bis 2 ohne weiteres ergibt, sich die Abstandsverhältnisse I zwischen betrachteten
Flächenelementen ÄF und Quellenpunkt P durch erfindungsgemässe
Biegung grundsätzlich ändern lassen, ergibt sich durch das erfindungsgemässe Vorgehen weiter die Möglichkeit, die
Beschichtungsratenverteilung am Substrat grundsätzlich einzustellen, nämlich durch gezielt eingesetzte Biegung des
Substrates, gegebenenfalls auch während eines Prozesses variabel. Dies gilt auch für Beschichtungsverfahren, bei denen
die Quelle weit weniger als punktförmig betrachtet werden kann, wie beispielsweise bei Sputterbeschichtungsverfahren.
In Fig. 3a ist, schematisch, eine erste AusführungsVariante
eines erfindungsgemässen Substratträgers 10 dargestellt. Er weist Eingriffspartien 5 für den Rand des planen Substrates 3
auf, die sich mit einem Abstand gegenüberliegen, der geringer ist als der daran einzuspannende Durchmesser 05 des Substrates
3. Durch Vorsehen eines Mittendornes 7 wird bei Einlegen des Substrates 3, falls erwünscht, eine konvexe Nach-aussen-Biegung
des Substrates 3, wie bei 2a dargestellt, erreicht. Bei Vorsehen randständiger Anschläge 7a und Weglassen des
Mittendornes 7 wird, wie bevorzugt, ein konkaves Nach-innen-Biegen des Substrates 3 gemäss 2b erzielt.
In Fig. 3b, c und d sind, schematisch, beispielsweise Ausfüh-
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rungsformen eines erfindungsgemässen Substratträgers 10a dargestellt,
woran relativ zueinander bewegliche Spannorgane zum Biegen des Substrates vorgesehen sind.
Gemäss Fig. 3b sind die sich gegenüberliegenden Eingriffpartien
5 am Substratträger 10a relativ zueinander beweglich. Entweder sind sie mit mindestens einer Bewegungskomponente p,
beispielsweise entlang Bewegungsbahnen 8, die einen stumpfen Winkel &bgr; einschliessen, gegeneinander verschieblich, um das
in Fig. 3b noch plan dargestellte Substrat konkav zu biegen, oder sie sind, wie mit 0 dargestellt, verschwenkbar, um
diese Biegung zu erzielen, gegebenenfalls beides.
Gemäss Fig. 3c wird das Substrat an mindestens zwei sich gegenüberliegenden
Peripheriebereichen mittels Abstützorganen 9 abgestützt, und es greift ein Zugorgan 11 auf den Mittenbereich
des Substrates ein, um es bevorzugterweise konkav, wie gestrichelt dargestellt ist, zu biegen.
Letztere Ausführungsform eignet sich insbesondere für die
Biegung kreisscheibenförmiger Substrate mit Zentrumsöffnung
gemäss Fig. 3d, wo das Zugorgan 11a durch die Zentrumsöffnung 12 des kreisscheibenförmigen Substrates 3 eingreift, letzteres
an seiner Peripherie, beispielsweise an einer Kreisringfläche der Abstützung 9 anliegt, und welches Substrat durch
Hochziehen des Organs 11a kalottenförmig gebogen wird.
In Fig. 2b rechts ist im weiteren schematisch die Realisation der vorliegenden Erfindung an Planetensubstratträgern dargestellt.
Dabei werden die Substrate 3 um jeweilige Planetenachsen P, wie mit &ohgr;&rgr; dargestellt, gedreht und die Planeten
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mit den Substraten 3 gleichzeitig, wie mit oa angedeutet, um
die Anlagen- bzw. Kalottenachse A.
In den Fig. 4 und 5 ist eine heute bevorzugte Ausführungsform
eines erfindungsgemässen Substratträgers, insbesondere für
rechteckförmige bzw. quadratische Substrate, dargestellt. Der
Substratträger umfasst einen äusseren, rechteckförmigen Rahmen 20, welcher entlang der einen sich gegenüberliegenden Innenflächen,
vorzugsweise der kürzeren, entsprechend Seite b von Fig. 1, geneigte Auflageflächen 22 aufweist.
Gemäss Fig. 5 sind vorzugsweise an den längeren Rahmenseiten
nicht geneigte Auflageflächen 24 vorgesehen, welche, bevorzugterweise
gemäss Ansicht von Fig. 4 gebogen, entsprechend der maximal zu erstellenden Substratbiegung in die Rahmenschenkel
eingearbeitet sind. Das rechteckförmige Substrat 3 wird auf die Flächen 22 bzw. 24 gebogen aufgelegt und dort
mittels einer Spannvorrichtung 2 6,, wiederum rahmenartig, wie dargestellt ausgebildet, gebogen eingespannt.
Dabei werden die Substrate für das handling, bereits mindestens in den Aussenrahmen 20 eingelegt, gegebenenfalls bereits
mit den Spannrahmen 26 gespannt, um Beschädigungen zu vermeiden und um in der Behandlungskammer jegliche Kontamination
durch Abriebpartikel bei Einlegen des Substrates 3 in den Träger zu vermeiden.
Selbstverständlich kann, falls erwünscht, die analoge Trägeranordnung
für konvexe Nach-aussen-Krümmung des Substrates
ausgebildet werden.
Anhand der vorbeschriebenen erfindungsgemässen Substratträger
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wurde erläutert, wie das Substrat 3 mechanisch gebogen aufgenommen
werden kann.
In Fig. 6 ist schematisch ein weiterer erfindungsgemässer
Substratträger dargestellt, mittels welchem das Substrat elektromagnetisch gebogen gehaltert und mittels Vakuum in die
geforderte Biegeposition gezogen wird. Auch hier wird das Substrat vorzugsweise ausserhalb der Vakuumbeschichtungskammer
am Träger angeordnet.
Der Träger 28 umfasst wiederum einen Rahmen mit einer gebogenen inneren Haltefläche 35 für das Substrat 3. An der Haltefläche
35 münden, duschenartig, Saugleitungen 30 aus, welche gemeinsam mit einem Sauganschluss 32 für eine Vakuumpumpe
kommunizieren. Eine Isolationsschicht 34 deckt die Auflagefläche
für das gebogene Substrat 3 ab. Nach Einlegen eines noch planen Substrates 3 auf die Umfangdichtung 36 wird dieses
durch Saugwirkung der Saugleitungen 30 dicht an die Auflagefläche 35 des Trägers 28 hingezogen. Zwischen dem elektrisch
leitenden Substrat 3, oder mindestens dessen elektrisch leitender Oberflächenschicht und dem Träger 28, wird,
beispielsweise mittels eines Kontaktringes 40, vom übrigen Träger 28, wie bei 41 dargestellt, elektrisch isoliert, mittels
einer aufschaltbaren und vorzugsweise einstellbaren Spannungsquelle 38 eine elektrische Gleichspannung angelegt,
womit, über die Isolationsschicht 34, als Dielektrikum wirkend, die leitende Oberfläche des Substrates 3 dicht an der
gewölbten Auflagefläche 35 des Trägers 28 gehaltert wird. Das
Vakuum in den Leitungen 3 0 wird aufgehoben, womit der Träger mit dem gebogenen Substrat dem Vakuum für die Beschichtung
ausgesetzt werden kann.
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&Idigr; ; j *; IUU9 ·„:;··,
Insbesondere für sphärisches Biegen von Substraten können weiter auch die unterschiedliche thermische Ausdehnung oder
die Schichtspannungen von verschiedenen Substratmaterialien ausgenützt werden. Hierzu wird das Substrat aus zwei übereinanderliegenden,
verbundenen Schichten mit verschiedenen Ausdehnungskoeffizienten gebildet.. Die im allgemeinen unerwünschte
Verbiegung von beschichteten Substraten wird hier vorteilhaft im Sinne der Erfindung ausgenützt. Für die gewünschte
konkave Verformung wird beispielsweise auf die Substratrückseite eine Schicht mit höherem thermischen Ausdehnungskoeffizienten
aufgebracht, so dass sich das Substrat für die nachfolgende Beschichtung der Vorderseite bei höherer
Temperatur sphärisch verbiegt und nach dem Abkühlen wieder die ursprüngliche plane Form annimmt. Dabei kann die Schicht
auf der Substratrückseite permanent oder nur zum Zweck der Verformung während der Beschichtung der Vorderseite angebracht
werden. Zur Erzielung der geeigneten Krümmung (konkav oder konvex) können die Schichtdicken, die verwendeten Materialien
und die Beschichtungstemperatur geeignet gewählt werden.
In Fig. 7 ist ein rechteckförmiges Substrat schematisch dargestellt,
das linear, wie mit s dargestellt, über die Quelle 1 bewegt wird. Mittels Blenden 45, vorzugsweise symmetrisch
beidseitig der Quelle 1, wird als Kollimator der Bereich B am linear bewegten Substrat 3 abgegrenzt, welcher erfindungsgemäss
beschichtet wird. Selbstverständlich können auch mehrere Quellen 1 im Beschichtungsbereich vorgesehen sein, dies
grundsätzlich, d.h. auch ohne Linearbewegung und Kollimator. Durch Vorsehen und entsprechende Auslegung der Blenden 45
wird nicht nur der zur Wirkung gebrachte Einfallswinkelbereich &agr; festgelegt, sondern kann auch die ausgenützte spezi-
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fische Beschichtungsrate festgelegt werden und damit die Schichtdickenverteilung, insbesondere auch durch Steuerung
der Vorschubbewegungsgeschwindigkeit des Substrates bezüglich des durch die Blenden 45 abgegrenzten Bereiches B.
Dem Fachmann eröffnen sich aufgrund des Gesagten viele Möglichkeiten,
das Substrat zylindrisch oder kalottenförmig oder auch nur in gewissen Flächenbereichen gezielt zu biegen, einerseits,
um die Einfallswinkelabweichung Äamax zu reduzieren,
die Beschichtungsratenverteilung zu homogenisieren und den Beschichtungswirkungsgrad zu erhöhen, oder auch, um gegebenenfalls
eine gezielte Beschichtungsratenverteilung, die nicht homogen angestrebt zu werden braucht, zu erreichen.
PR 9505 CH
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Claims (9)
1. Beschichtungskammer für mindestens ein im wesentlichen planes Substrat (3) mit mindestens einer Bedampfungsquelle
(1) und einem davon beabstandeten Substratträger, dadurch gekennzeichnet, dass der Substratträger das Substrat gebogen
spannt.
2. Beschichtungskammer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Substratträger (10) das Substrat konkav gegen
die Quelle (1) gebogen spannt.
3. Beschichtungskammer nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Substratträger (5) so dimensioniert
ist, dass das Substrat nur gebogen aufgenommen werden kann oder dass am Substratträger relativ zueinander bewegliche
Spannorgane (5a) zum Spannen eines im Substratträger eingelegten planen Substrates angeordnet sind.
4. Beschichtungskammer nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Substratträger (5a) Fixierungsorgane
für mindestens zwei sich gegenüberliegende Peripheriebereiche des Substrates aufweist, welche zu- und voneinander
beweglich gelagert sind.
5. Beschichtungskammer nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Substratträger ein bezüglich
einer Aufnahme für ein Substrat im wesentlichen zentral gelagertes Spannorgan (11, lla) aufweist, welches im wesentlichen
senkrecht zur Aufnahmeebene für das plane Substrat verschieblich ist.
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6. Beschichtungskammer nach Anspruch 5 für Substrate mit einer
Zentrumsöffnung, dadurch gekennzeichnet, dass das zentrale
Spannorgan (lla) zum Eingriff in die Zentrumsöffnung des Substrates ausgebildet ist.
7. Beschichtungskammer nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, dass mehrere Substratträger entlang einer Trägerkalotte über der Quelle angeordnet sind, dass die
Trägerkalotte um eine Achse drehgetrieben ist und vorzugsweise die Substratträger als Planeten um je ihnen zugeordnete
Achsen (P).
8. Beschichtungskammer nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, dass die Quelle (1) zwischen Kollimationsblenden (45) angeordnet ist und vorzugsweise der Substratträger
getrieben über der Quelle und den Blenden linear verschieblich ist.
9. Substratträger für eine Beschichtungskammer nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass relativ
zueinander mechanisch, pneumatisch, thermisch und/oder elektrisch wirkverbundene Spannorgane (5a, 11) zum Biegen eines
am Substratträger aufgenommenen Substrates vorgesehen sind.
03.04.1996
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