DE2954634C2 - - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Informationsaufzeichnungs­ element, bei dem Information optisch eingeschrieben und ausgelesen werden kann und das eine Substratplatte enthält, die auf einer Seite mit einer Kunststoffschicht versehen ist, die ihrerseits mit einer Informations­ aufzeichnungsschicht versehen ist.

Aus DE 27 42 976 A1 ist ein Informationsträger bekannt, auf dem optisch aufgezeichnet und der optisch gelesen werden kann. Dieser Informationsträger weist eine glatte Spur auf, die in einer Hilfsschicht gebildet ist, die beispielsweise aus Chrom oder Wismut besteht. Ferner enthält der Informationsträger eine lichtempfindliche Schicht. Die Informationen sind auf demjenigen Teil der lichtempfindlichen Schicht, der mit der glatten Spur in Berührung ist, aufgezeichnet. Die glatte Spur ist in anderer Weise als die in der lichtempfindlichen Schicht aufgezeichneten Informationen optisch erfaßbar.

Aus DE 26 15 605 B1 ist ein Verfahren zur Herstellung eines zweiseitigen Informationsträgers bekannt, der einen Grundkörper aufweist. Ausgangsmaterial dieses Grundkörpers ist eine scheibenförmige, unprofilierte Grundplatte, die auf beiden Seiten je eine Schicht mit einer den Informa­ tionsinhalt abbildenden Oberflächenstruktur trägt. Die Abbildung der Oberflächenstruktur erfolgt z. B. mit Hilfe einer Prägematrize. Als Material für die Informations­ schichten werden vorzugsweise Lackschichten verwendet, die unter dem Einfluß einer Strahlungsenergie, beispielsweise UV-Licht, aushärtbar sind. Bei dieser Art der Herstellung wird zweckmäßig eine strahlungsdurchlässige Grundplatte verwendet, weil dann die Strahlungsquelle gleichzeitig auf beide Informationsflächen einwirken kann. Es kann aber auch eine strahlungsundurchlässige, z. B. aus Aluminium bestehende Grundplatte verwendet werden. In diesem Fall erfolgt dann die UV- bzw. sonstige Strahlungshärtung nicht durch die Grundplatte, sondern von beiden Seiten durch je eine Glasmatrize. Der weitere Herstellungsprozeß umfaßt eine Metallbeschichtung des Grundkörpers und ein Auftragen von transparenten Lackschichten.

Ein Aufzeichnungselement der eingangs genannten Art ist aus FR 22 66 933 A1 bekannt, nach der als Abschirmungs­ schicht eine Schicht aus plastischem Kunststoff zwischen einem Polyestersubstrat und einer Aufzeichnungsschicht aus Wismut oder aus Wismut und Selen angebracht ist. Nach der genannten Druckschrift bietet die Anwendung einer Schicht aus plastischem Kunststoff den Vorteil, daß Verunreini­ gungen des Substrats die Aufzeichnungsschicht nicht angreifen.

Ein Problem beim optischen Einschreiben und Auslesen von Information, d. h. Daten, in die bzw. aus der Aufzeich­ nungsschicht ist die Steuerung der Einschreib- und Abtastgeräte, z. B. die Steuerung der Geschwindigkeit des Aufzeichnens und des Auslesens und das Auffinden der genauen Stelle auf der Aufzeichnungsschicht, an der Information eingeschrieben bzw. ausgelesen werden soll. Für eine derartige Steuerung ist in FR 22 66 933 A1 keine Lösung angegeben.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Einschreiben und Auslesen von Information genau zu steuern.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß bei einem Informationsaufzeichnungselement der eingangs genannten Art die Kunststoffschicht an der von der Substratplatte abgekehrten Oberfläche eine optisch auslesbare Servospur enthält, die wenigstens teilweise eine Reliefstruktur von den gespeicherten Servodaten entsprechenden abwechselnd auf höherem und niedrigerem Niveau liegenden Servogebieten aufweist, wobei die Relief­ struktur der Servospur sich optisch detektierbar von den Daten in der Informationsspur unterscheidet.

Die Erfindung beruht im wesentlichen auf dem Gedanken, ein Steuersystem im Aufzeichnungselement selbst auf einfache Weise anzuordnen.

Die Servospur ist meistens spiralförmig oder aus konzentrischen Kreisen aufgebaut, wobei die abwechselnd auf höherem und niedrigerem Niveau liegenden Servogebiete, die auch als Blöcke bzw. Gruben bezeichnet werden, der Informationsspur ein rechteckförmiges Profil erteilen.

Die Längenabmessungen von Blöcken und Gruben betragen im großen ganzen 0,5 bis 3 µm. Der Höhenunterschied zwischen Blöcken und Gruben beträgt etwa eine Viertelwellenlänge des Laserlichts, mit dem die Servospur und die Servodaten optisch ausgelesen werden.

Die Servodaten enthalten Einzelheiten in bezug auf die Wirkung der Einschreib- und Abtastgeräte, wie z. B. Daten in bezug auf die Geschwindigkeit von Informations­ aufzeichnung und auf die Stelle auf der Aufzeichnungs­ schicht, an der Information eingeschrieben werden soll.

Das mit einer Servospur versehene Aufzeichnungs­ element nach der Erfindung weist den wesentlichen Vorteil auf, daß die Aufzeichnung von Daten in der Aufzeichnungs­ schicht von den in der Servospur vorhandenen Servodaten genau gesteuert wird. Der Laserlichtstrahl, der die Servospur abtastet (nachstehend auch als Servolaserlicht bezeichnet), gibt die Servodaten an einen Steuer­ mechanismus weiter, der den betreffenden Laser auf eine höhere Intensität schaltet, so daß die gewünschte Information in die Aufzeichnungsschicht eingeschrieben werden kann.

Die Aufzeichnung von Information erfolgt vorzugsweise in jenen Teilen der Aufzeichnungsschicht, die auf der Servospur zwischen den Servodaten liegen.

Die Informationsaufzeichnungsschicht ist beispielsweise eine sogenannte ablative Schicht, d. h. eine Schicht, die nach Bestrahlung mit Laserlicht, das gemäß der aufzu­ zeichnenden Information moduliert wird, an den bestrahlten Stellen schmilzt, wonach sich das geschmolzene Material unter der Einwirkung oberflächenaktiver Kräfte in Form eines Randes zurückzieht, wodurch sich in der Aufzeich­ nungsschicht ein Loch mit hochgezogenem Rand bildet. Ablative Aufzeichnungsschichten sind an sich bekannt, z. B. aus der NL-OS 76 07 997.

Eine geeignete Aufzeichnungsschicht zur Anwendung in dem Element nach der Erfindung ist eine dünne Schicht von etwa 10 bis 100 nm mit einem oder mehreren der Elemente, die aus der Gruppe gewählt sind, die aus Bi, Te, Se, Sn, As, Sb, Ge, Ga, In, Tl, S und Si besteht. Besonders geeignet sind Aufzeichnungsschichten mit Bi, Te oder einem Halogenidglas. Die Aufzeichnungsschicht kann z. B. durch einen Aufdampfvorgang auf der Kunststoffschicht angebracht werden. Die Aufzeichnungsschicht folgt der Kontur der Servospur gut.

Information wird in dem Element nach der Erfindung dadurch aufgezeichnet, daß auf die Aufzeichnungsschicht ein Laserlichtstrahl fokussiert wird, der gemäß der Informa­ tion pulsiert ist, und zwar mit einer Impulsdauer von 10⁻⁶ bis 10⁻⁸ Sekunden, und der von Servodaten gesteuert wird. Der Strahl wird von einem Laser geliefert, z. B. von einem AlGaAs- (Aluminium-Gallium-Arsen)Laser mit einer Emissionswellenlänge von 850 nm mit einer Höchst­ leistung von 25 mW auf der Aufzeichnungsschicht und im allgemeinen mit einer Leistung von 5 bis 10 mW. Infolge der impulsförmigen Bestrahlung werden Löcher mit einem Durchmesser von etwa 0,5 bis 1 µm in der Aufzeichnungs­ schicht gebildet. Durch die kurze Impulsdauer und den kleinen Durchmesser der Löcher kann eine sehr schnelle Aufzeichnung von Information mit einer hohen Dichte der Informationsspeicherung erhalten werden. Der Auslesestrahl und der Servolesestrahl sind Laserlichtstrahlen, die naturgemäß erheblich weniger energiereich als der Einschreiblaserlichtstrahl sind. Der beim Auslesen von eingeschriebenen Daten und von Servodaten verwendete Laser weist also eine niedrigere Leistung auf.

Sowohl das Einschreiben von Information als auch das Auslesen von eingeschriebener Information und Servodaten erfolgt vorzugsweise durch Bestrahlung der Aufzeichnungs­ schicht über das Substrat. Das Substrat und die Kunststoffschicht sind bei dieser bevorzugten Ausführungs­ form für das angewandte Laserlicht durchlässig. Das Substrat und die Kunststoffschicht bestehen vorzugsweise aus einem transparenten Kunststoff, wie Polymethylmeth­ acrylat, Polysulfon, Polycarbonat, Polyvinylchlorid und Copolymeren von Vinylchlorid und Vinylacetat. Auch Glas ist infolge seiner unendlich niedrigen Durchlässigkeit für Wasser ein sehr geeignetes durchlässiges Substrat­ material. Die Belichtung über das Substrat hat den Vorteil, daß auf der Oberfläche des Substrats entstandene Kratzer oder vorhandene Staubteilchen außerhalb der Tiefenschärfe des Objektivs liegen, das das Laserlicht auf die Aufzeichnungsschicht fokussiert. Das Auslesen eingeschriebener Information wird weiter vorzugsweise in Reflexion durchgeführt. Dadurch wird erreicht, daß der eingehende und der reflektierte Ausleselichtstrahl größtenteils demselben optischen Weg folgen, so daß eine geringere Anzahl optischer Elemente, wie Objektive, im Vergleich zu einer Auslesung in Durchsicht erforderlich sind. Die Materialien der Aufzeichnungsschicht, die oben erwähnt sind, weisen eine genügende Rückstrahlung auf, um eine befriedigende Auslesung in Reflexion zu erzielen.

Beim Einschreiben und Auslesen über das Substrat durchläuft der Laserlichtstrahl die Grenzfläche zwischen dem Substrat und der Kunststoffschicht. Diese Grenzfläche liegt innerhalb der Tiefenschärfe des Objektivs, ist aber optisch nicht wahrnehmbar infolge der Tatsache, daß die beim Aufzeichnungselement verwendete Kunststoffschicht völlig an dem Substratmaterial haftet und die gleiche oder nahezu die gleiche Brechungszahl wie das Substratmaterial aufweist, wodurch keine Doppelbrechung auftritt. Der letztere Aspekt ist von wesentlicher Bedeutung für das Auslesen in Reflexion, wobei polarisiertes Laserlicht angewandt wird.

Bei einer bevorzugten Ausführungsform des Aufzeichnungs­ elements nach der Erfindung ist die Kunststoffschicht an der von der Substratplatte abgekehrten Oberfläche mit einer Aktivierungsschicht versehen, die ihrerseits mit der Informationsaufzeichnungsschicht abgedeckt ist.

Die Aktivierungsschicht enthält einen Stoff, der die Bildung von Löchern oder das Auftreten anderer chemischer oder physikalischer Änderungen in der Aufzeichnungsschicht fördert. So kann die Aktivierungsschicht einen leicht verdampfbaren Stoff, wie Se oder Cd, oder eine organische Verbindung enthalten, die sich bei Einstrahlung von Laserlicht unter Bildung eines gasförmigen Produkts zersetzt. Die Aktivierungsschicht weist eine geringe Dicke von z. B. 30 bis 150 nm auf und kann durch einen Aufdampf­ vorgang auf der Kunststoffschicht angebracht werden.

Falls eine reflektierende Aktivierungsschicht, z. B. eine durch Aufdampfen angebrachte Cd-Schicht mit einer Dicke von 40 nm, zwischen der Kunststoffschicht und der Aufzeichnungsschicht vorhanden ist, kann die Servospur leicht öber das Substrat durch Reflexion des Servolaser­ lichtstrahls an der genannten Aktivierungsschicht ausge­ lesen werden.

Wenn eine strahlungsreflektierende Schicht größerer Dicke, z. B. von 0,2 µm, verwendet wird, muß die Servospur über das transparente Substrat ausgelesen werden.

Das Einschreiben von Information in die Aufzeichnungs­ schicht und die Aktivierungsschicht unter Bildung von Löchern wird unabhängig von der Dicke der Aufzeichnungsschicht und der Aktivierungsschicht über das Substrat durchgeführt.

Die Erfindung bezieht sich auch auf ein Verfahren zur Herstellung des Informationsaufzeichnungselements. Dieses Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß eine Matrizenoberfläche, die mit einer Servospur versehen ist, mit einer dünnen Schicht aus einem flüssigen durch Strahlung härtbaren Lack versehen wird, eine Substrat­ platte auf der Lackschicht angebracht wird, die Lackschicht über die Substratplatte oder über die Matrize durch Strahlung gehärtet wird und das Gebilde von Substratplatte und mit ihr verbundener gehärteter Lackschicht von der Matrize entfernt wird und auf der Seite der Lackschicht mit einer Informationsaufzeichnungs­ schicht versehen wird.

Durch dieses Verfahren wird erreicht, daß die von der Substratplatte abgekehrte Oberfläche der gehärteten Lackschicht, die völlig durch die Matrizenoberfläche bestimmt wird, auch die Genauigkeit der Matrizenoberfläche aufweist. Außerdem wird erreicht, daß die Lackschicht, die bei dem vorgenannten Verfahren zwischen Matrize und Substratplatte eingeschlossen ist, sehr gut mit Strahlung gehärtet wird, wobei eine homogene Härtung ohne die Gefahr einer O₂-Inhibition auftritt.

Die gehärtete Lackschicht bietet den weiteren Vorteil, daß sie thermostabil ist. Die eingebrachte Servospur behält daher ihre wesentliche Form auch nach Verwendung während längerer Zeit bei.

Die verwendete Matrize besteht vorzugsweise aus Metall oder Glas. Vor allem bei diesen Materialien kann durch mechanische Bearbeitungen eine sehr gut definierte Matrizenoberfläche erhalten werden. Aprotische gehärtete Lackschichten (der Ausdruck "aprotische Lacke" wird weiter unten erläutert) haften nicht oder nur in geringem Maße auf einer Matrizenoberfläche aus Metall oder Glas, so daß das vorgenannte Gebilde leicht von der Matrizenoberfläche abgezogen werden kann. Aprotische Lacke haften andererseits gut auf Kunststoff, so daß Kunststoffsubstratplatten für die Anwendung bei dem genannten Verfahren sehr gut geeignet sind. Auf Glassubstratplatten haften aprotische Lackschichten im allgemeinen in ungenügendem Maße. Bei einer günstigen Ausführungsform des obengenannten Verfahrens wird dennoch eine gute Haftung der aprotischen Lackschicht auf einer aus Glas bestehenden Substratplatte erhalten. Nach dieser Ausführungsform wird eine aus Glas bestehende Substratplatte verwendet, die an der mit der Lackschicht in Berührung kommenden Oberfläche in einer Vorbehandlung mit einer organischen Silanverbindung versehen wird.

Geeignete Silanverbindungen, die reaktive Gruppen enthalten, die mit dem durch Strahlung härtbaren Lack reagieren können, sind äthenisch ungesättigte Silane, insbesondere Methacryloxyalkylsilane, wie γ-Methacryloxypropyltrimethoxysilan.

Es sei bemerkt, daß bei der Bestrahlung der Lackschicht über die Substratplatte letztere für die angewandte Strahlung, wie ultraviolettes Licht, durchlässig sein muß. Ähnliches gilt auch für die Matrize, wenn die Lackschicht durch Strahlung über die Matrize ausgehärtet wird.

Der durch Strahlung härtbare Lack enthält kein Lösungs­ mittel, ist wenig viskos und ergibt gute Fließeigen­ schaften ohne Luftblaseneinschluß auf der Substrat­ oberfläche. Die Härtungszeit ist kurz und variiert im großen ganzen von einigen Sekunden bis zu einigen Minuten. Die Härtung kann bei Umgebungstemperatur durchgeführt werden. Die gehärtete Lackschicht weist eine gute Haftung an der Substratplatte auf, hat eine genau definierte Oberfläche und ist außerdem wegen der Vernetzungsstruktur ("cross-link") wenig oder gar nicht temperatur- und feuchtigkeitsempfindlich.

Ein geeigneter unter der Einwirkung von Strahlung härtbarer Lack enthält eine unter der Einwirkung von Strahlung verknüpfbare äthenisch ungesättigte Verbindung, die mindestens eine Äthengruppe (-CH = CH-) pro Molekül enthält. Der Lack enthält außerdem einen strahlungs­ empfindlichen Initiator. Als Beispiel für einen Initiator kann ein für ultraviolettes Licht empfindlicher Initiator, wie ein Benzoinderivat, z. B. Benzoin-isobutyläther, erwähnt werden, der in einer Gewichtsmenge von 0,5 bis 3 % in dem härtbaren Lack vorhanden ist.

Gut brauchbare Lacke sind namentlich dünnflüssige Gemische von Monomeren und/oder Oligomeren auf Basis von Mono-, Di-, Tri- und Tetraestern der Acrylsäure.

Dies trifft insbesondere für Lacke zu, die 40 bis 90 Gew.% eines Monoacrylats, 5 bis 50 Gew.% eines Di-, Tri­ und/oder Tetraacrylats sowie 0,5 bis 3 Gew.% eines Initiators enthalten.

Das mittlere Molekulargewicht der in einem Lack verarbei­ teten Acrylsäureester ist verhältnismäßig gering und beträgt vorzugsweise höchstens 500.

Beispiele für geeignete gut brauchbare Acrylsäureester sind Monoacrylate, wie Alkylacrylate, Alkoxyalkylacrylate, Phenoxyalkylacrylate und Phenylacrylate, z. B. Äthyl­ acrylate, n-Butylacrylat, Hexylacrylate, Octylacrylat, 2-Äthylhexylacrylate, Octadecylacrylate, Äthoxyäthyl­ acrylat, und Phenoxyäthylacrylate; Diacrylate, wie Alkandioldiacrylate und Alkenglykoldiacrylate, z. B. 1,3-Propandioldiacrylat, Diäthylenglykoldiacrylat und Tetraäthylenglykoldiacrylat; Triacrylate, wie Trimethylol­ propantriacrylate und Pentaerytritoltriacrylat; Tetra­ acrylate, wie Pentaerytritoltetraacrylat, sowie oligomere Acrylsäureester, wie Polyäthylenglykolacrylat und Epoxyacrylat.

Ebenfalls gut brauchbare Lacke sind diejenigen, die ein Gemisch einer durch Strahlung verknüpfbaren Polyen­ verbindung, die pro Molekül zwei oder mehrere Äthengruppen (-CH=CH-) enthält, und einer Polythiolverbindung, die pro Molekül zwei oder mehrere Thiolgruppen (-SH) enthält, enthalten.

Polythiolverbindungen und Polyenverbindungen sind allgemein aus der Literatur bekannt und käuflich erhältlich. Es sei z. B. auf die US-PS 36 97 395, 36 97 396, 36 97 397 und 40 08 341 verwiesen.

Nach der Erfindung werden vor allem mit verhältnismäßig niedrigviskosen flüssigen Gemischen von Polythiolen und Polyenen günstige Ergebnisse erzielt, deren Viskosität beispielsweise niedriger als 100 mPa s und vorzugsweise niedriger als 20 mPa s ist. Gemische von Polythiolen und Polyenen, die dieser Anforderung entsprechen, enthalten in der Regel niedrigmolekulare Verbindungen, wobei die Polythiolverbindung vorzugsweise ein maximales Molekular­ gewicht von 1000 und die Polyenverbindung ein maximales Molekulargewicht von 500 besitzt.

Sehr geeignete Lacke enthalten ein Gemisch einer Di-, Tri­ oder Tetrathiolverbindung und einer Dien-, Trien oder Tetraenverbindung.

Dies gilt insbesondere für ein Gemisch einer Dien­ verbindung und einer Trithiol- oder Tetrathiolverbindung in einem Äquivalentverhältnis von 2 : 1 bis 1 : 2 sowie für ein Gemisch einer Trienverbindung und einer Dithiol­ oder Trithiolverbindung in ebenfalls einem Äquivalent­ verhältnis von 2 : 1 bis 1 : 2.

Unter dem Ausdruck "Äquivalentverhältnis" ist das Verhältnis zwischen Grammäquivalenten der "En"-Verbindung (-CH = CH--Gruppe) und Grammäquivalenten der Thiol­ verbindung (-SH-Gruppe) zu verstehen.

Es hat sich herausgestellt, daß bei einem Äquivalent­ verhältnis "En-Thiol" von mehr als 2 : 1 oder weniger als 1 : 2 die Belichtungszeiten für die Aushärtung in dem Lack ziemlich lang werden und manchmal mehr als 30 Minuten betragen.

Vor allem bei Äquivalentverhältnissen "En-Thiol" von etwa 1 : 1 können kurze Belichtungszeiten von höchstens 5 Minuten angewandt werden.

Ein sehr gut brauchbarer durch Strahlung härtbarer Lack enthält ein Gemisch einer Trithiolverbindung und einer Trienverbindung. Auch bei Äquivalentverhältnissen "En-Thiol" von 2 : 1 oder von 1 : 2 reichen sehr kurze Belichtungszeiten von einigen Minuten aus.

Beispiele für brauchbare Polythiolverbindungen sind Ester von Thiolglykolsäure, 2-Mercaptopropionsäure oder 3-Mercaptopropionsäure und Polyhydroxyverbindungen. Besonders geeignete Polythiolverbindungen sind u. a. Pentaerytritoltetrathioglykolat, Pentaerytritol­ tetra (3-mercaptopropionat), Trimethylolpropantri(3-mer­ captopropionat), Trimethylolpropantrithioglykolat, Äthylenglykoldimercaptopropionat, Äthylenglykoldimercapto­ acetat und Äthylenglykoldithioglykolat.

Beispiele für geeignete Polyenverbindungen sind Ester von Polyhydroxyverbindungen und mehrbasischen Acrylsäuren und vor allem Allylester oder Allyläther von mehrbasischen Säuren bzw. Polyhydroxyverbindungen. Besonders geeignete Polyene sind Alkandioldiacrylate, wie 1,3-Butandiol­ diacrylat und 1,3-Hexandioldiacrylat, ferner Tetraäthylen­ glykoldiacrylat, Tripropylenglykoldiacrylat, Trimethylol­ propantriacrylat, Diallyloxalat, Diallyldiglykolcarbonat, Diallylmaleinat, Diallyldiglykolat, Diallylmalonat, Triallytrimellitat und Triallylisocyanurat.

Der durch Strahlung härtbare Lack enthält, wie oben bereits bemerkt wurde, neben den bereits genannten verknüpfbaren Verbindungen auch einen lichtempfindlichen Initiator oder Aktivator, der die gewünschte Radikal­ bildung und die sich daran anschließende Polymerisation in Gang setzt. Ein geeigneter Initiator ist ein Protonen­ absonderungsmittel, wie eine Phenon-, Chinon-, Xanthenon-, Anthracenon- oder Naphthonverbindung, z. B. Benzophenon oder Benzoin-isobutyläther. Die Initiatormenge beträgt etwa 0,5 bis 3 Gew.%. Der Lack kann außerdem die üblichen Zusatzmittel, wie Antioxidantien, z. B. 2,6-Ditert.-butyl-4-methylphenol, in einer Menge von 0,05 bis 0,5 Gew.%, sowie einen Stabilisator, wie eine 30%ige wässerige Lösung von phosphoriger Säure in einer Menge von 0,05 bis 0,5 Gew.% phosphoriger Säure, enthalten.

In bezug auf besondere Lackzusammensetzungen kann auf die DE-OS 27 44 479 und die NL-OS 78 04 036 verwiesen werden, deren Inhalt als in der vorliegenden Beschreibung enthal­ ten anzusehen ist.

Die oben angegebenen Lacke weisen eine Brechungszahl von etwa 1,5 auf, die der der vorgenannten transparenten Substratmaterialien entspricht.

Die Haftung der durch Strahlung gehärteten Lackschicht auf der Substratoberfläche hängt von der Lackart und der Substratart ab. Beide müssen aufeinander abgestimmt sein.

Dabei gilt, daß aprotische Lackschichten eine gute Haftung auf Kunststoffsubstraten ergeben. Lackschichten, die auf Basis der oben beschriebenen besonderen Verbindungen zusammengesetzt sind, sind nach Aushärtung aprotisch. Es sei bemerkt, daß Lacke, die verknüpfbare Polythiolverbindungen enthalten, in ungehärtetem Zustand wegen der protischen Thiolgruppen einen protischen Charakter aufweisen. Bei Aushärtung werden die Protonen von den Thiolgruppen abgespalten, wodurch die ausgehär­ teten Lacke einen aprotischen Charakter erhalten und daher gut auf Kunststoffsubstraten haften.

Im Gegensatz zu Kunststoffsubstraten wird bei Glassubstra­ ten eine gute Haftung mit gehärteten Lackschichten erhalten, die einen protischen Charakter aufweisen. Geeignete Lacke können aus verknüpfbaren Verbindungen der oben beschriebenen Art, modifiziert mit nichtreaktiven protischen Gruppen, wie Hydroxylgruppen oder Aminogruppen, zusammengesetzt sein. Ein Beispiel für eine derartige protische Verbindung ist ein mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituierter Acrylsäureester, wie ein Hydroxyalkylacrylat oder Aminoalkylacrylat.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in einer Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben.

Die einzige Figur der Zeichnung zeigt einen tangentialen Schnitt durch ein Aufzeichnungselement, das mit einer Servospur versehen ist. Darin ist mit 14 eine 1 mm dicke Substratplatte aus Glas bezeichnet, die auf einer Seite mit γ-Methacryloxypropyltrimethoxysilan (nicht dar­ gestellt) versehen ist und auf der Seite der Silanverbin­ dung mit einer unter der Einwirkung von ultraviolettem Licht gehärteten Lackschicht 15 versehen ist, die 60 Gew.% Äthylhexylacrylat, 20 Gew.% Trimethylolpropantriacrylat, 18 Gew.% Butandioldiacrylat und 2 Gew.% Benzoin-n­ butyläther enthält. Die Lackschicht weist eine Dicke von 10 µm auf. Die Lackschicht 15 ist an der von der Platte 14 abgekehrten Oberfläche mit einer Servospur 16 versehen, die teilweise mit Servodaten 17 in Form von Gruben 18 und Blöcken 19 mit Längenabmessungen von etwa 0,5 µm bis 3 µm versehen ist. Der Höhenunterschied zwischen Blöcken und Gruben beträgt etwa 0,2 bis 0,4 µm. Die Lackschicht 15 ist auf der Seite der Servospur 16 mit einer Aufzeichnungs­ schicht 20 aus Te₃₃Sb₃₃Se₃₄ mit einer Dicke von 0,04 µm abgedeckt. Das Element wird entweder über die Oberseite oder über das Substrat 14 mit impulsgesteuertem Laserlicht belichtet, wobei in dem Teil der Aufzeichnungsschicht 20, der den nicht mit Servodaten 17 versehenen Teil der Spur 16 abdeckt, Löcher 21 dadurch gebildet werden, daß die Aufzeichnungsschicht stellenweise schmilzt und verdampft, wobei die Löcher 21 einen Durchmesser von etwa 0,5 bis 1 µm aufweisen. Die nach der Belichtung verschwun­ denen Teile der Aufzeichnungsschicht sind gestrichelt dargestellt. Das Auslesen der Servodaten sowie der eingeschriebenen Information mit Hilfe von Laserlicht kann sowohl über die Oberseite als auch über das Substrat erfolgen. Es sei bemerkt, daß die Servodaten die Steuer­ aufträge des Einschreiblaserlichtstrahls enthalten, die u. a. die Geschwindigkeit und die Stelle des Einschreibens, also der Bildung von Löchern in der Aufzeichnungsschicht, bestimmen.

Claims (3)

1. Informationsaufzeichnungselement, bei dem Informa­ tion optisch eingeschrieben und ausgelesen werden kann und das eine Substratplatte enthält, die auf einer Seite mit einer Kunststoffschicht versehen ist, die ihrerseits mit einer Informationsaufzeichnungsschicht versehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Kunststoffschicht an der von der Substratplatte abgekehrten Oberfläche eine optisch auslesbare Servospur enthält, die wenigstens teilweise eine Reliefstruktur von den gespeicherten Servodaten entsprechenden abwechselnd auf höherem und niedrigerem Niveau liegenden Servogebieten aufweist, wobei die Relief­ struktur der Servospur sich optisch detektierbar von den Daten in der Informationsspur unterscheidet.

2. Informationsaufzeichnungselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Substratplatte und die Kunststoffschicht aus einem transparenten Kunststoff bestehen.

3. Verfahren zur Herstellung des Informations­ aufzeichnungselements nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Matrizenoberfläche, die mit einer Servospur versehen ist, mit einer dünnen Schicht aus einem flüssigen durch Strahlung härtbaren Lack verse­ hen wird, eine Substratplatte auf der Lackschicht ange­ bracht wird, die Lackschicht über die Substratplatte oder über die Matrize durch Strahlung gehärtet wird und das Gebilde von Substratplatte und mit ihr verbundener gehär­ teter Lackschicht von der Matrize entfernt wird und auf der Seite der Lackschicht mit einer Informations­ aufzeichnungsschicht versehen wird.