DE2933848A1

DE2933848A1 - Verfahren zum entwickeln latenter elektrostatischer bilder

Info

Publication number: DE2933848A1
Application number: DE19792933848
Authority: DE
Inventors: Tatsuo Aizawa; Nobuyoshi Hisao; Toshimitsu Ikeda; Toshikazu Matsui; Shoji Matsumoto; Kaoru Sakata; Akira Tushida
Original assignee: Mita Industrial Co Ltd
Current assignee: Kyocera Mita Industrial Co Ltd
Priority date: 1978-08-22
Filing date: 1979-08-21
Publication date: 1980-03-13
Also published as: GB2029279A; JPS6360390B2; JPS5529834A; FR2434414B1; FR2434414A1; GB2029279B; DE2933848C2

Description

-if -

Mita Industrial Co., Ltd, Osaka, Japan

Uerfahren zum Entwickeln latenter elektrostatischer Bilder

Die Erfindung betrifft ein l/erfahren zum Entwickeln latenter elektrostatischer Bilder mittels eines pulverfärmigen Entuicklers und insbesondere ein Uerfahren zum Entwickeln latenter elektrostatischer Bilder mittels eines relativ leitenden Einkornponenten-Entwicklers.

Beim Entwickeln eines latenten elektrostatischen Bildes mittels eines pulverförmigen Entwicklers wurde in jüngster Zeit die Verwendung eines Einkomponenten-Entwicklers, der lediglich Toner-Teilchen enthält, angeregt, und diese wurde vom Markt anstelle der V/erwendung eines Zweikomponenten-Entwicklers angenommen, der Toner-Teilchen und Träger-Teilchen enthält.

Der EinkompDnenten-Entwickler wird grob eingeteilt in Ca) einen Entwickler mit Toner-Teilchen, die auf eine bestimmte feste Polarität aufladbar und daher relativ nichtleitend sind, und

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m ' · 4

Cb) einen Entwickler mit relativ leitenden Taner-Teilchen.

Es gibt bereits ein l/erfahren mit der Verwendung des Entwicklers Ca) (vergleiche US-PS 3.D93.D39, 3.645.770 und JP-GS 45639/75). Bei diesem Verfahren werden die Toner-Teilchen zuerst auf eine bestimmte Polarität aufgeladen, indem sie an einem geeigneten Material gerieben werden oder indem eine Karanaentladung auf die Toner-Teilchen einwirkt. Dann werden die Toner-Teilchen mit der Oberfläche eines bildtragenden Materials in Berührung gebracht, das ein latentes elektrostatisches Bild mit einer Ladung der zur oben erwähnten Polarität entgegengesetzten Polarität aufweist. Auf diese Ueise werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des bildtragenden Materials durch die Coulombsche Anziehungskraft angezogen, die zwischen der Ladung der Taner-Teilchen und der Ladung des latenten elektrostatischen Bildes wirkt. Dieses Verfahren hat jedoch den Nachteil, daß sich der Ladungsgrad der Toner-Teilchen durch Reibung oder Karanaentladung stark abhängig von den Umgebungsbedingungen, wie z.B. der Temperatur oder der Feuchtigkeit, verändert, und daher hangt die Qualität der Entwicklung des latenten elektrostatischen Bildes stark von den Umgebungsbedingungen ab. Uenn die Taner-Teilchen durch Reibung aufzuladen sind, hat das Verfahren den Nachteil, daß sich der Ladungsgrad der Taner-Teilchen entsprechend dem Oberflächenzustand des Materials verändert, an dem die Toner-Teilchen zu reiben sind, wenn sa die Oberfläche dieses Materials verschmutzt oder ermüdet ist, verringert sich die Ladungsmenge der Toner-Teilchen stark. Uenn weiterhin die Toner-Teilchen durch Einwirken einer Koronaentladung zu laden sind, hat das Verfahren den Nachteil, daß die Toner-Teilchen an Entladungselektroden der Koronaentladungseinrichtung haften und diese verschmutzen, was den Entladungswirkungsgrad der Karonaentladungseinrichtung innerhalb kurzer Zeitdauer herabsetzt.

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-G-

Auch das Entwicklungsverfahren mit dem Entwickler (b) wurde bereits beschrieben (vergleiche z.B. JP-AS 491/62, 492/62 und 20695/63, JP-GS 5035/74 sowie US-PS 2.976.UA, 3.639.245, 3.909.258 und 4.081.571). Bei diesem Verfahren berühren die Toner-Teilchen direkt die Oberfläche eines bildtragenden Materials, das ein latentes elektrostatisches Bild aufweist, ahne die Toner-Teilchen auf eine bestimmte Polarität aufzuladen. Damit werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche angezogen, was weiter unten näher erläutert wird. Dieses Verfahren weist nicht die Nachteile des Verfahrens mit dem Entwickler (a) auf; es gibt aber noch verschiedene Probleme, die zu lösen sind.

Um den Entwickler mit der Oberfläche des bildtragenden Materials in Berührung zu bringen, ist es zunächst im allgemeinen erforderlich, den Entwickler auf der Oberfläche einer Entwickler-Rückhalteeinheit festzuhalten, die aus einem geeigneten Material besteht, wie z.B. auf einer Hülse oder einem Endlosband. Wenn die den Entwickler bildenden Toner-Teilchen magnetisch sind, kann der Entwickler einfach und sicher auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit durch die Wirkung eines Magnetfeldes festgehalten werden, das in üblicher Weise durch Magneten erzeugt ist. Jedoch verwenden die bestehenden Verfahren (vergleiche JP-AS 491/62, 492/62 und 20695/63 und US-PS 2.976.144) einen Entwickler aus unmagnetischen Toner-Teilchen, und daher kann der Entwickler nicht auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit durch die Wirkung eines Magnetfeldes festgehalten werden. Damit wird der Entwickler bei diesen Verfahren auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit durch van der liJaalssche Kräfte usw. festgehalten. Jedoch ist in diesem Fall das Festhalten des Entwicklers beträchtlich schwierig und weiterhin instabil, so daß derartige Verfahren in der Praxis noch nicht brauchbar sind.

Dagegen wird bei anderen bestehenden Verfahren (vergleiche US-PS 3.639.245, 3.909.258 und 4.081.571 sowie JP-OS 5035/74) ein Entwickler

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verwendet, der aus magnetischen Toner-Teilchen zusammengesetzt ist. Entsprechend kann der Entwickler magnetisch auf der Oberfläche der Entuickler-Rückhalteeinheit einfach und sicher durch die Wirkung eines Magnetfeldes festgehalten werden.

Infolge der obigen Tatsache ist das beste Entwicklungsverfahren unter den bisher angeregten Verfahren ein Verfahren, bei dem magnetisch ein Einkomponenten-Entwickler aus Toner-Teilchen, die relativ leitend und magnetisch sind, auf der Oberfläche einer Entwickler-Rückhalteeinheit festgehalten wird, und bei dem der Entwickler auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit mit der Oberfläche eines bildtragenden Materials in Berührung gebracht wird, das ein latentes elektrostatisches Bild trägt.

Dieses Entwicklungsverfahren, das unter den herkömmlichen Verfahren bevorzugt wird, hat noch zu lösende Probleme, die auf der Verwendung einer Entwickler-Rückhalteeinheit beruhen, die insgesamt leitend ist oder auf ihrer Oberfläche eine nichtleitende Beschichtung aufweist. ....

Bei dem einen bestehenden Entwicklungsverfahren (vergleiche US-PS 3.909.258) wird eine leitende Entwickler-Rückhalteeinheit verwendet. Wie aus der Figur h dieser US-PS folgt, beginnt bei diesem Entwicklungsverfahren, wenn relativ leitende Toner-Teilchen, die magnetisch auf der Oberfläche einer leitenden Entwickler-Rückhalteeinheit festgehalten sind, nahe zu einem latenten elektrostatischen Bild kommen, das auf der Oberfläche eines bildtragenden Materials geformt ist, eine elektrische Ladung entgegengesetzter Polarität zur Ladung des latenten elektrostatischen Bildes in die Toner-Teilchen von der Entwickler-Rückhalteeinheit injiziert zu werden. Wenn diese Toner-Teilchen auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit, die ganz außen liegen, die Ladung des latenten

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ORIGINAL INSPECTED

elektrostatischen Bildes berühren, wandert die Ladung, die in die Toner-Teilchen von der Entuiickler-Rückhalteeinheit injiziert ist, durch mehrere Toner-Teilchen und kommt an den Toner-Teilchen an, die die Ladung des latenten elektrostatischen Bildes berühren. Durch die Anziehungskraft der beiden Ladungen werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des bildtragenden Materials angezogen. Tatsächlich wandert die Ladung des latenten elektrostatischen Bildes zur Entuiickler-Rückhalteeinheit durch Toner-Teilchen in Berührung hiermit, und wenn daher die Berührungszeit zwischen den Toner-Teilchen und dem latenten elektrostatischen Bild verlängert wird, werden die beiden Ladungen neutralisiert, und die oben erwähnte Anziehungswirkung verschwindet.

lüenn insbesondere beim oben erläuterten Entwicklungsverfahren das Entwickeln mit hohen Geschwindigkeiten ausgeführt wird, wird die Ladung leicht in die Toner-Teilchen von der Entwickler-Rückhalteeinheit injiziert, selbst wenn die Ladung auf dem bildtragenden Material ein beträchtlich geringes Potential hat. Entsprechend werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des bildtragenden Materials und insbesondere zuverlässig zum Potential der Oberfläche des bildtragenden Materials sowie daher mit einer sehr hohen Entwicklungsempfindlichkeit angezogen. Diese merklich hohe Entwicklungsempfindlichkeit wird beim Entwickeln im üblichen elektrostatischen Hopierprozeß nicht angestrebt und ruft die folgenden Mängel hervor.

lilenn der elektrophotographische Kapierprozeß der sogenannte PPC-Prozeß (PPC « Kopieren mit ebenem Papier) ist, wird für das bildtragende Material im allgemeinen ein lichtempfindliches Material mit einer photoleitenden Selenschicht oder eine organische photoleitende Schicht aus Polyvinylcarbazol verwendet. Ein latentes elektrostatisches Bild wird auf der Oberfläche dieses lichtempfindlichen Materials gebildet und entwickelt, und dann wird das

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entwickelte Bild auf das ebene Papier übertragen. Dieses Verfahren ujird wiederholt durchgeführt. Bevor ein latentes elektrostatisches Bild auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials gebildet wird, ist es erforderlich, die Restladung und den vom vorhergehenden Kapierprozeß auf dem lichtempfindlichen Material zurückgelassenen Entwickler zu entfernen. Oa es bekanntlich sehr schmierig oder sogar unmöglich ist, die Restladung vollständig und allgemein zu entfernen, bleibt sogar nach dem Entfernungsschritt eine Ladung von ca. 50 V bis ca. 100 V noch zurück. In dem einen bestehenden Entwicklungsverfahren (vergleiche US-PS 3.909.258) ist die Entwicklungsempfindlichkeit extrem hoch. Selbst wenn so die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials ein niederes Potential von ca. 50 V bis ca. 100 U besitzt, werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des lichtempfindlichen Materials entsprechend dieser Ladung angezogen. Demgemäß werden die Toner-Teilchen zur Oberfläche des lichtempfindlichen Materials nicht nur durch die normale Ladung des latenten elektrostatischen Bildes, sondern auch durch die obige Restladung angezogen, was einen "Hintergrund-Schleier" hervorruft (dies ist die Erscheinung, daB Toner-Teilchen relativ dünn zu einer Nichtbild-Fläche angezogen sind, zu der die Toner-Teilchen nicht angezagen sein sollten).

Die Verwendung einer Entwickler-Rückhalteeinheit aus einem Hauptkärper aus einem leitenden Material, wie z.B. Aluminium, und aus einer Isolier-Beschichtung, wie z.B. Aluminiumoxid, die auf der Oberfläche des Hauptkörpers ausgeführt ist, wurde bereits angeregt (vergleiche US-PS if.081.571). Die Verwendung einer derartigen Entwickler-Rückhalteeinheit kann stark den Hintergrund-Schleier verringern (vergleiche Spalte 6, Zeilen 41 bis hk der US-PS if.081.571).

ülenn die Entwickler-Rückhalteeinheit mit einer Isolier-Beschichtung verwendet wird, hat sich gezeigt, daß ein "Nachlaufeffekt" (der

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- ίο - ■ -

weiter unten näher erläutert udrd) auftritt, wenn nicht die Oberfläche der Entuiickler-Rückhalteeinheit bewegt wird einerseits in der gleichen Richtung wie die Bewegungsrichtung der Oberfläche des bildtragenden Materials, auf dem ein zu entwickelndes latentes elektrostatisches Bild erzeugt wird, und andererseits im wesentlichen mit der gleichen ader einer höheren Geschwindigkeit wie bzw. als die Bewegungsgeschwindigkeit der Oberfläche des bildtragenden Materials in der Entwicklungszone (d.h., wenn die Entwickler-Rückhalteeinheit ortsfest bzw. stationär ist oder relativ langsam bewegt wird).

Um eine gute Entwicklung zu erreichen, ist es wichtig (vergleiche US-PS 4.081.571), genau den Abstand zwischen der Oberfläche des bildtragenden Materials und der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit auf einen relativ kleinen LJert (z.B. ca. D,15 bis ca. 0,5 mm) einzustellen, (denn jedoch gewünscht wird, daß zusätzlich zur genauen Einstellung des obigen Abstandes die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit mit einer relativ hohen Geschwindigkeit bewegt wird, sind die Toleranzen bei der Konstruktion der Maschine extrem klein. Um den obigen Abstand genau einzustellen, ohne drastisch die Maschinen-Konstruktionstoleranzen zu verringern, ist es erforderlich, die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit ortsfest oder stationär zu halten.

Es ist daher Aufgabe der Erfindung, ein Entwicklungsverfahren anzugeben, bei dem magnetisch ein relativ leitender Einkomponenten-Entwickler auf der Oberfläche einer Entwickler-Rückhalteeinheit festgehalten wird, und bei dem der Entwickler mit der Oberfläche eines bildtragenden Materials in Berührung gebracht wird, das darauf ein latentes elektrostatisches Bild aufweist, wobei dieses Verfahren das angestrebte hervorragende entwickelte Bild gewährleisten soll, ohne einen Hintergrund-Schleier und einen [Machlaufeffekt zu verursachen, selbst wenn die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit ortsfest gehalten wird.

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Ein Verfahren zum Entwickeln eines latenten elektrostatischen Bildes, das auf der Oberfläche eines bildtragenden Materials durch Auftragen eines pulverförmigen Entwicklers erzeugt ist,

bei dem magnetisch eine Schicht eines relativ leitenden Einkompanenten-

13 Entwicklers mit einem spezifischen Widerstand von nicht mehr als 10 Ohm-cm auf der Oberfläche einer Entuickler-Rückhalteeinheit festgehalten wird, und

bei dem der Entwickler auf der Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit in Berührung mit der Oberfläche des bildtragenden Materials gebracht wird,

zeichnet sich erfindungsgemäß dadurch aus,

7 daß die Entwickler-Rückhalteeinheit einen lüiderstandsuert von 3 ·

10
bis 1 · 10 Ohm aufweist -

gemessen durch eine Punkt/Ebene-üJiderstands-Meßmethode in einer bei einer Temperatur von 20° C und einer Feuchte von 50 % gehaltenen Umgebung.

Die Erfindung sieht also ein Verfahren zum Entwickeln eines latenten elektrostatischen Bildes vor, das auf der Oberfläche eines bildtragenden Materials erzeugt ist, indem dort ein pulverförmiger Entwickler aufgetragen ist. Dabei wird magnetisch eine Schicht eines relativ leitenden Einkompanenten-Entwicklers mit einem

13

spezifischen Widerstand nicht höher als 10 Ohm«cm auf der Oberfläche einer Entwickler-Rückhalteeinheit festgehalten. Weiterhin wird der Entwickler auf der Oberfläche der Entuickler-Rückhalteeinheit in Berührung mit der Oberfläche des bildtragenden Materials gebracht. Erfindungsgemäß hat die Entwickler-Rückhalteeinheit einen

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7 10

liliderstandswert von 3 · 10 Ohm bis 1 · 10 Ohm - gemessen durch eine Punkt/Ebsne-QJiderstands-MeBmethade in einer Umgebung, die auf einer Temperatur von 20° C und einer Feuchte von 50 % gehalten ist. Durch dieses l/erfahren ist eine gute Entwicklung ohne Hintergrund-Schleier oder Nachlaufeffekt möglich.

Anhand der Zeichnung wird die Erfindung nachfolgend beispielsweise näher erläutert.

Es zeigen:

Figur 1 einen vereinfachten Schnitt zur Erläuterung des erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahrens,

Figur 2 einen vereinfachten Schnitt zur Erläuterung einer Methode zum Messen des Punkt/Ebena-kliderstandsuertes einer Entwickler-Rückhalteeinheit,

Figuren 3A und 3B vergrößerte Schnitte einer Entuicklungszone, um die Ursache eines "IVachlaufeffektes" zu erläutern, Figur 4A eine vereinfachte Draufsicht mit einem entwickelten Bild, in dem der Nachlaufeffekt auftritt, und

Figur **B ein Diagramm mit der Bilddichte des in Figur 4A gezeigten entwickelten Bildes.

Anhand der Zeichnung wird das erfindungsgemäße Entwicklungsverfahren näher erläutert.

In Figur 1 ist das bildtragende Material im dargestellten Ausführungsbeispiel ein zylinderförmiges lichtempfindliches Material 2, das in der Richtung eines Pfeiles B drehbar ist und aus einer leitenden Grundschicht if und einer photoüeitenden Schicht 6 besteht, die auf der Grundschicht h ausgeführt ist. Die photoleitende Schicht 6 kann jede übliche Schicht sein, wie z.B. eine photoleitende Schicht aus ZnD und einem Harz-Bindemittel, eine anorganische photojLeitendE

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Schicht aus hauptsächlich Se oder eine organische photoleitende Schicht aus hauptsächlich Polyvinylcarbazol. Gegebenenfalls kann eine (nicht gezeigte) isolierende dünne Schicht aus z.B. Mylar außerdem auf der Oberfläche der photo leitenden Schicht 6 vorgesehen sein.

Ein latentes elektrostatisches Bild wird auf der Oberfläche des photoleitenden Materials 2 durch geeignete, an sich bekannte Methoden gebildet, die das Einwirken einer Koronaentladung und das bildweise Belichten des Materials umfassen. Das latente elektrostatische Bild luird mit einem pulverförmigen Entwickler durch die Wirkung einer Entwicklungseinrichtung 1G entwickelt.

Die Entwicklungseinrichtung 10, die zur Durchführung des erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahrens in geeigneter Weise verwendet wird, besteht aus einer Entwickler-Rückhalteeinheit und einem Entwickler-Zufuhr-Behälter M* zum Zuführen eines Einkomponenten-Entwicklers 16 aus lediglich Toner-Teilchen auf die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit. Die Entwickler-Rückhalteeinheit besteht im dargestellten Ausführungsbeispiel aus einer ortsfesten oder stationären Hülse 20, die so angeordnet ist, daß sich deren Oberfläche der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 in einer Entwicklungszone 1B nähert. Innerhalb der Hülse 20 ist ein Drehmagnet 22 angeordnet, der in der Richtung eines Pfeiles 2k drehbar ist. Vorzugsweise ist der Magnet 22 ein ualzenähnlicher Dauermagnet mit zahlreichen Polen (10 Pole in der Zeichnung) entgegengesetzter Polaritäten, die abwechselnd auf dessen Rand vorgesehen sind.

Der Entwickler-Zufuhr-Behälter 1*f besteht aus einer V/orderwand 26, einer Rückwand 28 und zwei (nicht gezeigten) Seitenwänden, und eine AuslaBöffnung für den Entwickler 16 im Behälter U ist zwischen dem unteren Ende der Uorderwand 26 und dem unteren Ende der Rückwand 2B

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vorgesehen. Am unteren Endteil der Rückwand 28 liegt ein Vorsprung 30, der sich im wesentlichen waagrecht zur Uarderujand 26 erstreckt. Der Vorsprung 30 dient zur Einstellung der durch die Auslaßöffnung fließenden Entwicklermenge auf einen gewünschten Uert und verhindert, daß eine große Menge an Entwickler aus dem Zufuhr-Behälter 14 strömt. Dagegen nähert sich das untere Ende der Vorderwand 26 der Oberfläche der Hülse 20 mit einem vorbestimmten Abstand dazwischen und wirkt als Abstreifmesser zur Einstellung der Dicke der auf der Oberfläche der Hülse 20 festgehaltenen Entwicklerschicht auf einen vorbestimmten Uert.

In der oben erläuterten Entwicklungseinrichtung 10 wird eine gesteuerte Menge an Entwickler 16 auf die Oberfläche der Hülse 20 von der Auslaßäff nung des Zufuhr-Behälters 14 gespeist und magnetisch auf der Oberfläche der Hülse 20 durch die Wirkung eines durch den Magneten gebildeten Magnetfeldes festgehalten. Der magnetisch auf der Oberfläche der Hülse 20 festgehaltene Entwickler 16 wird auf der Oberfläche der Hülse 20 in der Richtung des Pfeiles 32 gedreht, die entgegengesetzt zur Drehrichtung des Magneten 22 durch die Drehung des Magneten 22 in der Richtung des Pfeiles 24 ist. Auf diese titeise berührt der Entwickler 16 nacheinander die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials, das in der Richtung eines Pfeiles 8 gedreht ist, um das auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 gebildete latente elektrostatische Bild nacheinander mit dem Entwickler 16 zu entwickeln.

Versuche der Erfinder zeigten, daß im allgemeinen der Abstand zwischen der Oberfläche der Hülse 20 und dem unteren Ende der Vorderwand 26 des Behälters 14, das als Abstreifermesser in der in Figur 1 gezeigten Entwicklungseinrichtung 10 dient, vorzugsweise 0,2 bis 0,5 mm beträgt, obwohl er sich abhängig entsprechend dem spezifischen Widerstand, der Fließfähigkeit, der Größe usw. der Toner-Teilchen

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ändert, die den Entwickler 16 bilden. Die Drehzahl des Magneten 22 beträgt vorzugsweise ca. 5OD bis ca. 1.5Q0 U/min, uienn z.S. die Stärke des Magnetfeldes auf der Oberfläche der Hülse 20 1000 Gauss ist. Der Abstand zwischen der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials und der Oberfläche der Hülse beträgt vorzugsweise ca. 0,3 bis ca. 0,7 mm in einem Punkt, in dem beide Oberflächen am nächsten beieinander sind, wenn alle obigen Bedingungen erfüllt sind, berührt der auf der Oberfläche der Hülse 20 festgehaltene Entwickler 16 die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials relativ leicht.

Entsprechend dem erfindungsgemäflen Entwicklungsverfahren ist der in der Entwicklungseinrichtung 10 verwendete Entwickler 16 ein Einkomponenten-Entuickler aus lediglich magnetischen Toner-Teilchen, die magnetisch auf der Oberfläche der Hülse 20 durch die Wirkung eines durch den Magneten 22 erzeugten Magnetfeldes festgehalten werden können. Der Entwickler 16 - und damit die Toner-Teilchen ist relativ leitend und hat einen spezifischen Uliderstand von nicht

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mehr als 10 0hm«cm und vorzugsweise von nicht mehr als 5 · 10 Ohm-cm. Der beim erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahren verwendete Entwickler 16 ist von üblicher Art und kann auf herkömmliche Weise erzeugt werden (vergleiche z.B. die l/erfahren in US-PS 3.639.245, JP-OS 5035/74 oder 52639/77).

Beim erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahren ist es von Bedeutung, daß die Entwickler-Rückhalteeinheit, die im dargestellten Ausführungsbeispiel die Hülse 20 ist, einen Uiderstandswert - gemessen durch eine Punkt/Ebene-üJiderstands-Meßmethode, die weiter unten näher anhand der Figur 2 erläutert wird - von 3 · 10 Ohm bis 1 · 10 Ohm, vorzugsweise von 5 · 10 Ohm bis 5 · 10 Ohm, in einer Umgebung besitzt, die auf einer Temperatur von 20° C und einer Feuchte von 50 % gehalten ist.

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Eine derartige Entwickler-Rückhalteeinheit kann erzeugt u/erden, indem eine Oberflächenschicht mit einem geeigneten Uiderstandsuiert auf einer Hülse erzeugt wird, die aus einem Hauptkörper aus Aluminium und einer Aluminiumoxidsnhicht darauf zusammengesetzt ist.

Kohlenstoff-Die Oberflächenschicht kann einfach hergestellt werden, indem'RuB-Pulver in einem geeigneten Kunstharz-Material dispergiert oder zerstreut wird, indem die sich ergebende viskose Zusammensetzung auf die Aluminiumoxidschicht aufgetragen wird, und indem die Beschichtung getrocknet wird. Der Widerstand der Entwickler-Rückhalteeinheit, der durch die obige Punkt/Ebene-üliderstands-Meßmethode gemessen ist, kann genau gesteuert werden, indem z.B. die Menge des im Kunstharz-Material dispergieren Rußes verändert uiird.

Die im erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahren verwendete Entwiokler-Rückhalteeinheit kann auch hergestellt werden, indem direkt eine Oberflächenschicht mit einem geeigneten Widerstandswert, z.B. eine

Kohlenstoff

einem geeigneter
CohlenstofT-chicht, dielRuß-F

Kunstharz-Oberflächenschicht, diel Ruß-Pulver dispergiert enthält (vergleiche oben), auf der Oberflüche des Hauptkörpers aus Aluminium, rostfreiem Stahl oder dergleichen hergestellt wird.

Im folgenden wird anhand der Figur 2 die Punkt/Ebene-ldiderstands-Meßmethode für die Entwickler-Rückhalteeinheit näher erläutert.

Um z.B. den Punkt/Ebene-Ldiderstandswert einer Entwickler-Rückhalteeinheit 20 zu messen, die zusammengesetzt ist aus einem Hauptkörper 34, der aus einem leitenden Material, wie z.B. Aluminium, hergestellt ist, aus einer isolierenden Zwischenschicht 36, die z.B. aus Aluminiumoxid hergestellt ist, und aus einer Kunstharz-Oberflächen-

üßhlenstoffschicht 38, in oer\Ruß-Pulver dispergiert ist, muß zunächst eine Elektrode 40 aus einer Stahlkugel mit einem Durchmesser von ca. 0,5 mm die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit 20 berühren.

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Die Elektrode 40 ist in einer Halbkugel-Uertiefung angeordnet, die am unteren Ende eines leitenden Stahlstabes 42 vorgesehen ist. Der leitende Stab 42 ist in einen allgemein zylinderförmigen Isolator eingepaßt, so daB er vertikal oder senkrecht nach oben und unten bewegt werden kann. Eine Spiralfeder 50 liegt zuiischen einer Unterlagscheibe 46, die am leitenden Stab 42 befestigt ist, und einem Absatz 4B, der in der Innenfläche des Isolators 44 ausgeführt ist. Die Spiralfeder 50 treibt den leitenden Stab 42 elastisch zur Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit 40 und stößt so die Elektrode gegen die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit 20 mit einer Kraft von ca. 300 ρ Cg). Die Seitenwände und das obere Ende des Isolators 44 sind durch ein Schirmgehäuse 52 umgeben, um eine Instabilität der Messung zu verhindern, die durch elektrische Störoder Rauschsignale hervorgerufen werden kann. Der leitende Stab 42 ist mit einem Gleichstrom-Amperemeter 60 über ein Koaxialkabel 5Θ verbunden, und das Gleichstrom-Amperemeter 60 ist an den leitenden Hauptkörper 34 der Entuiickler-Rückhalteeinheit 20 über eine Gleichstromquelle 62 von 100 \l angeschlossen.

In der in Figur 2 gezeigten Schaltung uürd der durch das Gleichstram-Amperemeter erfaßte Stromtüert i gemessen, und aus diesem Wert uiird R = 100/i berechnet. Der so berechnete üJert R stellt den Widerstand zwischen der Elektrode 40 aus einer Stahlkugel mit einem Durchmesser von 0,5 mm, die gegen die Oberfläche der Entwickler-Rückhalteeinheit mit einer Kraft von 300 ρ gestoßen ist, und dem leitenden Hauptkörper 34 der Entwickler-Rückhalteeinheit 20 zu einer Zeit dar, wenn eine Spannung von 100 V an der Elektrode 40 und dem Hauptkörper liegt. Der erhaltene üJiderstandswert ist der liiert der Entwickler-Rückhalteeinheit 20, gemessen durch die Punkt/Ebene-üJiderstands-Meßmethode, auf die oben Bezug genommen wurde.

üJie bereits weiter oben erläutert wurde, ist es beim erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahren van Bedeutung, daß die Entwickler-Rückhalteeinheit

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- ia -

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einen üJiderstandsujert - gemessen durch die obige Punkt/Ebene-ülider-

7 1D

stands-Meßmethode - von 3 · 10 Ohm bis 1 · 10 Ohm, vorzugsweise

7 R

von 5 · 10 Ohm bis 5 · 10 Ohm, in einer Umgebung aufweisen sollte, die bei einer Temperatur von 20° C und einer Feuchte von 50 % gehalten ist.

Lüenn eine Entwickler-Rückhalteeinheit mit einem Lüiderstandswert

•η

kleiner als 3 · 10 0hm verwendet wird, ist die Entwicklungsempfindlichkeit zu hoch, und es werden daher leicht "Hintergrund-Schleier" wie in einem bestehenden Entwicklungsverfahren (vergleiche US-PS 3.909.258) hervorgerufen, bei dem eine leitende Entwickler-Rückhalteeinheit aus lediglich einem leitenden Hauptkörper verwendet wird.

Lüenn dagegen eine Entwickler-Rückhalteeinheit mit einem Idideratands-

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wert größer als 1 · 10 0hm verwendet wird, tritt leicht ein ' "Nachlaufeffekt" auf, wenn die Entwickler-Einheit wie in einem bestehenden Entwicklungsverfahren (vergleiche US-PS 4.081.517) artsfest gehalten oder relativ langsam bewegt wird, wobei bei diesem Verfahren eine Entwickler-Rückhalteeinheit aus einem leitenden Hauptkörper und einer isolierenden Beschichtung verwendet wird.

Entsprechend dem erfindungsgemäßen Verfahren kann eine gute und gewünschte Entwicklung erzielt werden, ohne einen Hintergrund-Schleier und einen Nachlaufeffekt hervorzurufen, indem eine Entwickler-Rückhalteeinheit verwendet wird, die einen Lüiderstandswert in einem bestimmten Bereich besitzt, der zwischen dem Widerstand der öinen bestehenden Entwickler-Rückhalteeinheit (vergleiche US-PS 3.909.258) und dem Ldiderstandswert der anderen bestehenden Entwickler-Rückhalteeinheit (vergleiche US-PS 4.081.517) liegt.

Zum besseren Verständnis der mit dem erfindungsgemäßen Entwicklungsverfahren zu erzielenden Vorteile wird der "IMachlaufeffekt", der

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auftritt, wenn eine Entwickler-Rückhalteeinheit aus einem leitenden Hauptkörper und einer isolierenden Beschichtung wie in einer bestehenden Entwickler-Rückhalteeinheit (vergleiche US-PS /4.081.517) verwendet wird, weiter untan anhand der Figuren 3A und 3B näher erläutert, die eins vergrößerte Darstellung einer Entwicklungszone zeigen.

In den Figuren 3A und 3B wird ein lichtempfindliches Material 2, das aus einer geerdeten leitenden Grund- oder Basisschicht k und einer photoleitenden Schicht 6 darauf zusammengesetzt ist, in der Richtung des Pfeiles 8 bewegt. In der Zwischenzeit wird die Hülse aus einem geerdeten leitenden Hauptkörper 3t und einer darauf gebildeten isolierenden Beschichtung 36 ortsfest gehalten. Der magnetisch auf der Oberfläche der Hülse 20 festgehaltene Entwickler wird in der Richtung des Pfeiles 32 auf der Oberfläche der Hülse durch die Wirkung des Magneten 22 bewegt, der in der Richtung des Pfeiles 2k umläuft.

tüenn als Ergebnis der Bewegung des lichtempfindlichen Materials in der Richtung des Pfeiles 8 eine Ladung S^ eines auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 gebildeten latenten elektrostatischen Bildes - wie in der Figur 3A gezeigt - eine Entwicklungszone 18 erreicht und den Entwickler 16 berührt, beginnt ein Teil der Ladung 6*» zur Hülse 20 über den Entwickler 16 zu wandern. Das Wandern der Ladung schreitet schrittweise fort, während die Ladung 6k in Berührung mit dem Entwickler 16 ist. Die Ladung, die die Oberfläche der Hülse 20 erreicht hat, wird dort gesammelt. Die Ladung 66, die auf der Oberfläche der Hülse 20 gesammelt ist (vergleiche Figur 3B), bleibt für eine Zeitdauer auf der Oberfläche der Hülse 20, selbst nachdem sich die Ladung 64, die die Erzeugung der Ladung 66 hervorgerufen hat, hinter Öle Entwicklungszone 18 bewegt hat und nicht länger in Berührung mit

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dem Entwickler 16 ist. In dieser Situation bewirkt ein durch die gesammelte Ladung 66 erzeugtes elektrisches Feld, daß der Entwickler zu der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 selbst an einem Teil stromauf oder hinter einer normalen Bildfläche angezogen wird, ωό die Ladung Sk des latenten elektrostatischen Bildes vorliegt, wodurch so ein Bild ähnlich dem Nachlauf oder "Schwanz" der normalen Bildfläche erzeugt wird. Diese Erscheinung wird als "Nachlaufeffekt" bezeichnet.

Die angesammelte Ladung 66 zerfällt oder neutralisiert sich mit der Zeit (die IMeutralisierungsgeschwindigkeit hängt von der Impedanz der isolierenden Beschichtung 36, die auf der Oberfläche der Hülse 20 vorgesehen ist, und der Impedanz des Entwicklers 16 ab), und daher ist der Nachlaufeffekt schwächer an einem Teil, der weiter von der normalen Bildfläche entfernt ist.

Wenn dagegen (vergleiche Figur 3B) die nächste Ladung 68 des latenten elektrostatischen Bildes an der Entwicklungszane 18 ankommt und den Entwickler 16 berührt, bevor sich die angesammelte Ladung 66 ausreichend neutralisiert hat, fällt die Potentialdifferenz zwischen der Oberfläche der Hülse 20 und der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials 2 entsprechend der angesammelten Ladung 66 ab. Folglich wird die Dichte des zur Bildfläche mit der Ladung 68 auf dem lichtempfindlichen Material 2 angezogenen Entwicklers geringer. Diese Erscheinung, die eine Abnahme in der Dichte der normalen Bildfläche verursacht, kann auch als eine Art eines Nachlaufeffektes angesehen werden.

Wenn der oben erläuterte Nachlaufeffekt auftritt, entstehen dünn entwickelte Teile, die durch Punkte stromauf der normal entwickelten Bildflächen X und Y gezeigt sind, wie dies in Figur *tA dargestellt ist. Gleichzeitig wird die Dichte der entwickelten Bildfläche Y

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auf der stromauf gelegenen Seite verringert. Auf diese Weise uird aus der Entwickelten Bilddichte, die gewöhnlich den durch eine Zweipunkt-Strichlinie in Figur *tB gezeigten V/erlauf haben sollte, die entwickelte Bilddichte mit dem durch eine Uollinie in Figur ^B dargestellten Verlauf.

Da der Nachlaufeffekt durch die oben erläuterten Ursachen auftritt, kann er vermieden werden, wenn in der EntwicklungszDne 18 die Hülse bewegt wird in der gleichen Richtung wie die Bewegungsrichtung des lichtempfindlichen Materials 2 und mit im wesentlichen der gleichen oder einer etwas höheren Geschwindigkeit wie bzw. als die Laufgeschwindigkeit des lichtempfindlichen Materials 2, um die gesammelte Ladung 66 zusammen mit der Ladung 64 zu bewegen, die die Bildung der Ladung 66 hervorgerufen hat. üJenn jedoch die Hülse 20 mit einer relativ hohen Geschwindigkeit bewegt wird, sind die Toleranzen in der Maschinenkonstruktion extrem verringert, wie dies oben erläutert wurde. Entsprechend sollte in zahlreichen Fällen die Hülse 20 ortsfest oder stationär gehalten werden.

Um den Nachlaufeffekt zu vermeiden, während die Hülse 20 ortsfest gehalten wird, ist es wichtig, daß sich die angesammelte Ladung 66 rasch neutralisiert. üJenn nun die Hülse 20 lediglich aus einem leitenden Hauptkörper 3*t besteht, während die isolierende Beschichtung 36 weggelassen ist, baut sich die Ladung 36, die zur Oberfläche der Hülse 2D gewandert ist, niemals dort auf, und der oben erläuterte Nachlaufeffekt tritt nicht auf. Dies ruft jedoch Hintergrund-Schleier hervor, wie dies oben erläutert wurde.

Die Erfinder haben erkannt, daß, wenn der durch die obige Punkt/EbeneüJiderstands-Meßmethode gemessene Widerstand in einer auf einer Temperatur von 20° C und einer Feuchte oder Feuchtigkeit von 50 % gehaltenen Uragebungdsr Hülse 20 auf 3 · 10 0hm bis 1 · 10 0hm,

7 S

vorzugsweise auf 5 · 10 0hm bis 5 · 10 0hm, eingestellt wird,

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Kohlenstoffindern z.B. eine Kunstharz-Oberflächenschicht, die darin dispergiert \ Ruß-Teilchen enthält, auf der isolierenden Beschichtung 36 der Hülse 20 gebildet uiird, ader indem die Hunstharzschicht direkt auf den leitenden Hauptkörper 34 der Hülse 20 ohne die isolierende Beschichtung 36 aufgetragen uiird, eine rasche Neutralisation der angesammelten Ladung 56 erzielbar und der Nachlaufeffekt vermeidbar sowie außerdem der Hintergrund-Schleier verhinderbar ist.

Eine rasche Neutralisation der angesammelten elektrischen Ladung SS kann auch bewirkt werden, indem merklich der spezifische Widerstand des Entwicklers verringert wird. Idenn jedoch der spezifische Widerstand des Entwicklers stark herabgesetzt ist, tuird es extrem schwierig, ein entwickeltes Bild mit dem Entwickler zu übertragen, worauf bereits hingewiesen wurde. Entsprechend ist die Uerwendung eines Entwicklers mit einem sehr kleinen spezifischen elektrischen widerstand während der Entwicklung in einem elektrophDtographischen KopierprazeS einschließlich der Übertragung eines entwickelten Bildes unerwünscht.

Spezielle Beispiele werden weiter unten angegeben, um die Erfindung weiter zu erläutern.

Beispiel I

Fünf Hülsen werden vorgesehen, deren jede aus einem Hauptkörper aus Aluminium und einer durch Anodisierung auf dem Hauptkörper gebildeten Aluminiumoxidschicht besteht. Die Oberfläche jeder der fünf Hülsen wird gleichmäßig mit jeder viskosen Zusammensetzung IMr. 1 bis Nr. 5 beschichtet, die die unten in Tabelle 1 angegebenen Substanzen enthalten, und dann bei 60° C für mehr als 30 Minuten in einem Heißluft-Umwälzofen getrocknet, um Hülsen Nr. 1 bis Nr. 5 zu bilden, deren jede eine Oberflächenschicht auf der Oberseite der Aluminium-Dxidschicht aufweist.

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Tabelle 1

	viskose Zusammensetzung (Gemisch)	to. 2	Nr. 3	IMr. t*	Nr. 5
Spezial-Ruß Wr. U	Nr. 1	0,5 g	0,5 g	0,5 g	0 G
Ül-RuB HBB	0,5 g	0,05 g	0,05 g	0,05 g	0,05 g
T.H.F. (insgesamt)	0,05 g	20 g	20 g	20 g	20 g
Denka-Lack 21 K	20 g	10 g	B g	6 g	5 g
12,5 g

Jede der viskosen Zusammensetzungen oder Gemische Nr. 1 bis Nr. 5 wird auf die folgende Weise vorbereitet.

-Pulver. Zunächst werden Spezial-Ruß Nr. if (Kohlenstoff-Ruß/ hergestellt von der Firma Denunsa) und Ül-KuB HOB (ein öllöslicher Farbstoff, hergestallt van der Firma Orient Chemical Co. Ltd.) in einen 500 ml-Hunststoffbehälter eingewogen. Dann wird T.H.F. (Tetrahydrofuran) zugesetzt. Die Materialien werden für ca. 3 Minuten mittels eines Ultraschall-Dispergierers dispergiert. Denka-Lack 21 K (ein Uinylchlorid-Copolymer mit einem Feststoffanteil von 40 %, ein Produkt der Firma Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) wird in die Dispersion gegeben und durch Ultraschall-Schwingung für weitere 3 Minuten oder dergleichen dispergiert. Nach der Dispersion wird T.H.F. in einer Menge von ca. 60 % des ursprünglich zugesetzten T.H.F. zugesetzt, und die Mischung wird umgerührt. Auf diese Weise wird jede der viskosen Zusammensetzungen Nr. 1 bis Nr. 5 vorbereitet.

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Die LJiderstandswerte der Hülsen Nr. 1 bis Nr. 5 werden durch die oben anhand der Figur 2 erläuterte Punkt/Ebene-Uiderstands-Meßmethode gemessen. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle 2 angegeben.

Tabelle 2

Meßumgebung (Temperatur, Feuchtigkeit)	üJiderstandswerte (1"ϊ.) der Hülsen	Nr. 1	Nr. 2	Nr. 3	Nr. k	Nr. 5
23° C, B5 %	5 - 10⁹	5 · 10⁸	1,2 · 10⁸	1 . 10⁷	1? 2 · 10
28° C, 50 %	1 · 1Q^1D	7 · 1D⁸	1,5 · 10⁸	1,3 · 10⁷	9 · 10¹¹
36° C, 2k %	2 - 10^1D	1 · 10⁹	2 · 10°	3 · 10⁷	B - 10¹⁰

Jede der Hülsen Nr. 1 bis Nr. 5 iuird als Entuiickler-Rückhalteeinheit in einer EntuJicklungseinrichtung der in Figur 1 gezeigten Art verwendet, und es uird ein latentes elektrostatisches Bild, das auf der Oberfläche eines bildtragenden Materials ausgeführt ist, das aus einer Unterlage aus Aluminium und einer photoleitenden Schicht besteht, die ZnO und ein Harz-Bindemittel enthält, entwickelt. Der verwendete Entwickler ist ein relativ leitender Einkomponenten-Entwickler, der lediglich aus Toner-Teilchen mit einem spezifischen

10

Widerstand von ca. 5 · 10 0hm cm zusammengesetzt ist.

Wenn die Hülse Nr. 5 verwendet wird, tritt ein Nachlaufeffekt bei geringer Feuchtigkeit und bei hoher Feuchtigkeit auf.

Wenn die Hülse Nr. 1 verwendet wird, tritt kein Nachlaufeffekt in der Anfangsstufe bei einer Feuchtigkeit von 50 % auf; nachdem jedoch

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kontinuierlich die Entuiicklung einige zehn Mal uiederholt wird, beginnt ein geringer Grad eines Nachlaufeffektes aufzutreten. Dies beruht vermutlich auf einem Temperaturanstieg der Hülse mährend des miederhalten Entwickeins und ruft eine Steigerung im üJiderstandsujert der Hülse hervor.

üJenn die Hülse Nr. 2 verwendet wird, tritt ein sehr geringer Grad eines Nachlaufeffektes bei einer kleinen Feuchtigkeit von weniger als ca. 20 % auf, nachdem das Entwickeln ca. 500-mal kontinuierlich wiederholt wurde.

Wenn die Hülse IMr. 3 verwendet wird, tritt weder der Nachlaufeffekt noch der Hintergrund-Schleier auf, nachdem selbst das Entwickeln einige 1000-mal in verschiedenen Umgebungen wiederholt wurde.

Wenn die Hülse f\lr. k verwendet wird, tritt kein Nachlaufeffekt auf. In anderen Umgebungen als Umgebungen mit geringer Feuchtigkeit tritt jedoch der Hintergrund-Schleier auf, nachdem das Entwickeln ca. 100-mal wiederholt wurde.

Wenn eine Entwickler-Rückhalteeinheit mit einem Widerstand von 3 · 10⁷ Ohm bis 1 · 10^1D Ohm, vorzugsweise 5 · 10⁷ Ohm bis 5 · 1D⁸ Ohm, in einer Umgebung verwendet wird, die auf einer Temperatur von 20° C und einer Feuchtigkeit von 50 % gehalten ist, was als eine mittlere Umgebung in einem elektrostatischen Kopiergerät angesehen wird, kann eine gute Entwicklung ohne Nachlaufeffekt oder Hintergrund-Schleier erzielt werden, wie aus den obigen Ergebnissen zu ersehen ist.

Beispiel II

Es werden Hülsen vorgesehen, die lediglich aus einem Hauptkörper aus Aluminium zusammengesetzt sind. Die folgenden Bestandteile

- 2G -

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werden in der gleichen lüeise uie im Beispiel I verarbeitet, um viskose Zusammensetzungen zu bilden:

Spezial-Ruß IMr. 4 1g

Gl-RuB HBB D,1 g

T.H.F. 45 bis 50 g

Denka-Lack 21 H 40 g

Die viskosen Zusammensetzungen werden jeweils auf die Oberfläche jeder Hülse aufgetragen, um eine Oberflächenschicht zu bilden. Die üJiderstandsuerte der so hergestellten Hülsen betragen 1 · 1Π Dhm bis 3 · 10 Ohm unter den in Tabelle 2 angegebenen drei Umgebungen. Mittels jeder dieser Hülsen als eine Entwickler-Rückhalteeinheit wird ein latentes elektrostatisches Bild in der gleichen LJeise wie im Beispiel I entwickelt. Gute Ergebnisse werden erhalten.

Beispiel III

Es werden Hülsen vorgesehen, die lediglich aus einem Hauptkörper aus rostfreiem Stahl zusammengesetzt sind. Die folgenden Bestandteile werden in der gleichen Lüeise wie im Beispiel I bearbeitet, um viskose Zusammensetzungen zu bilden:

Spezial-Ruß IMr. 4 1g

Öl-Ruß 0,1 g

T.H.F. 45 bis 50 g

AROTAP 3211

(Feststaffgehalt 50 %) 32 g

Dis viskosen Zusammensetzungen werden jeweils auf die Oberfläche jeder Hülse aufgetragen, um eine Oberflächenschicht zu bilden. Der Stoff AROTAP 3211 wird anstelle von Denka-Lack H 21 verwendet, um ein gutes Haften am Hauptkörper aus rostfreiem Stahl zu gewährleisten.

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Die üJiderstandswerte der sich ergebenden Hülsen betragen unter den drei in Tabelle 2 angegebenen Umgebungen 1 · 10 Ohm bis 3 · 10 Ohm.

wenn ein latentes elektrostatisches Bild in der gleichen Weise wie im Beispiel I mittels jeder dieser Hülsen als eine Entwickler-Rückhalteeinheit entwickelt wird, uierden gute Ergebnisse erhalten.

Es hat sich gezeigt, daß der Temperaturanstieg während wiederholten Entuickelns kleiner ist in Hülsen, die aus rastfreiem Stahl als Hauptkörper zusammengesetzt sind, als in Hülsen, die aus Aluminium als Hauptkörper zusammengesetzt sind. Dies beruht vermutlich darauf, daß der Grad eines Ldirbelstromes, der aufgrund eines wechselnden Magnetfeldes hervorgerufen ist, das durch die Drehung eines Magneten erzeugt ist, in einem Hauptkörper aus rostfreiem Stahl kleiner ist als in einem Aluminium-Hauptkörper.

Entsprechend wird die Verwendung einer Hülse aua rostfreiem Stahl als Hauptkörper bevorzugt, wenn das bildtragende Material oder der Entwickler leicht nachteilhaft selbst bei relativ kleinen Temperaturen von z.B. ca. iiQ^a C beeinflußt wird.

Beispiel IV

Zwei Hülsen werden vorgesehen, deren jede aus einem Hauptkörper aus Aluminium und einer darauf durch Anodisierung gebildeten Aluminiumoxidschicht besteht. Kohlenstoff-Ruß wird auf die Oberflächen dieser Hülsen geschichtet, indem die Kerne von handelsüblichen Schreibstiften verwendet werden. Dann wird die Oberfläche jeder Hülse mit Watte gerieben, die mit Alkohol imprägniert ist, um Beschichtungs-Unebenheiten zu entfernen und die Menge des geschichteten Kohlenstoff-Rußes einzustellen. Auf diese Weise werden eine erste Hülse mit einem LJiderstandswert von 1 · 10 Ohm bei einer Temperatur von 20 C

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und einer Feuchtigkeit von 5G % und eine zweite Hülse mit einem

7
Ididerstandswert vün 0,5 · 10 Ghm bei einer ^: und einer Feuchtigkeit von 50 % hergestellt.

Ididerstandswert VDn 0,5 · 1Ü Ghm bei einer Temperatur von 20^D C

Mittels der ersten Hülse als eine Entwickler-Rückhalteeinheit uiird ein latentes elektrostatisches Bild in der gleichen LUeise wie im Beispiel I entwickelt. Nachdem das Entwickeln einige zehn Mal wiederholt ist, tritt ein beträchtlicher Schleier in der Hintergrund-Fläche auf.

Wenn ein latentes elektrostatisches Bild in der gleichen Weise wie im Beispiel I mit der zweiten Hülse als eine Entuickler-Rückhalteeinheit entwickelt wird, tritt einiger Hintergrund auf, nachdem das Entwickeln ca. 100-mal bei einer hohen Feuchtigkeit (Temperatur 20° C, Feuchtigkeit 82 %) wiederholt ist.

Beispiel \J

Ein latentes elektrostatisches Bild wird in der gleichen Weise utie in Beispiel I mit einer Hülse aus einem Hauptkörper aus Aluminium und einer darauf durch Anodlsierung gebildeten Aluminiumoxidschinht als Entwickler-Rückhalteeinheit entwickelt. Es zeigt sich folglich, daß bei geringen Feuchtigkeiten ein beträchtlicher Nachlaufeffekt auftritt.

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Claims

BEETZ-LAMPRECHT-BEETZ 8000 München 22 - 8teJnedorfetr. 10

ol52-3»o.o6iP(3o.o62H) 21. Aug. 1979

Ansprüche

Verfahren zum Entwickeln latenter elektrostatischer Bilder, die auf der Oberfläche eines bildtragenden Materials ausgeführt sind, indem dort ein pulverförmiger Entwickler aufgetragen uiird,

bei dem magnetisch eine Schicht eines relativ leitenden Einkomponenten-Entuiicklers mit einem spezifischen Widerstand von nicht mehr als

13
10 Ohm«cm auf der Oberfläche einer Entuickler-Rückhalteeinheit . festgehalten luird, und

bei dem der Entwickler auf der Oberfläche der Entuiickler-Rückhalteeinheit in Berührung mit der Oberfläche des bildtragenden Materials gebracht wird,

dadurch gekennzeichnet,

daß die Entuickler-Rückhalteeinheit (20) einen Lliderstandsuiert -

0152-CF-1) - 2 -

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gemessen durch eine Punkt/Ebene-üJiderstands-Meßmethode - in einer Umgebung, die auf einer Temperatur von 20 C und einer Feuchtigkeit

7 10

von 50 % gehalten ist, von 3 · 10 Ohm bis 1 · 10 Ohm aufweist.

2. l/erfahren nach Anspruch 1,

dadurch gekennzeichnet,

daß der LJiderstandsiuert 5 · 10⁷ bis 5 · 10^B Ohm beträgt.

3. l/erfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,

daß die Entwickler-Rückhalteeinheit aus einer ortsfesten Hülse besteht, in der ein Dreh-Dauermagnet (22) mit zahlreichen Polen entgegengesetzter Polarität angeordnet sind, die abwechselnd auf dem Rand vorgesehen sind, so daß der Entwickler auf der Oberfläche der Hülse durch die Lüirkung des durch den Magneten (22) erzeugten Magnetfeldes festgehalten ist.

U. Verfahren nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,

daß in einer Entwicklungszone, in der der Entwickler die Oberfläche des bildtragenden Materials berührt, die Oberfläche des bildtragenden Materials kontinuierlich in einer vorbestimmten Richtung bewegt wird, während der Magnet (22) in einer Richtung entgegengesetzt zur vorbestimmten Richtung bewegt wird, wodurch der Entwickler auf der Oberfläche der Hülse in der vorbestimmten Richtung bewegt wird.

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¹J. l/erfahren nach Anspruch 3 oder U,
dadurch gekennzeichnet,

daß die Hülse (20) besteht aus einem Hauptkörper aus Aluminium, einer auf den Hauptkörper aufgetragenen AluminiumDXidschicht und aus einer Oberflächenschicht aus einem Kunstharz, in dem Kohlenstoff-Ruß-Pulver dispergiert ist.

6. Verfahren nach Anspruch 3 oder h,
dadurch gekennzeichnet,

daß die Hülse besteht aus einem Hauptkörper aus Aluminium und einer Oberflächenschicht aus einem Kunstharz, in dem Kohlenstaff-Ruß-Pulver dispergiert ist.

7. l/erfahren nach Anspruch 3 oder U,
dadurch gekennzeichnet,

daß die Hülse (20) besteht aus einem Hauptkürper aus rostfreiem Stahl und einer Oberflächenschicht aus einem Kunstharz, in dem Kahlenstaff-Ruß dispergiert ist.

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet,

daß der Entwickler einen spezifischen Widerstand nicht größer als 5 · 10 Ohm«cm aufmeist.

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