DE291704C - - Google Patents

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DE291704C DENDAT291704D DE291704DA DE291704C DE 291704 C DE291704 C DE 291704C DE NDAT291704 D DENDAT291704 D DE NDAT291704D DE 291704D A DE291704D A DE 291704DA DE 291704 C DE291704 C DE 291704C
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE1058268B (de) * 1957-07-19 1959-05-27 Dresden Feinmess Verfahren zum Herstellen von Bildtraegern

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DE4226156C1 (fr) * 1992-08-07 1993-07-22 Renker Gmbh & Co Kg, 5160 Dueren, De

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