DE2907648C2 - - Google Patents
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- DE2907648C2 DE2907648C2 DE2907648A DE2907648A DE2907648C2 DE 2907648 C2 DE2907648 C2 DE 2907648C2 DE 2907648 A DE2907648 A DE 2907648A DE 2907648 A DE2907648 A DE 2907648A DE 2907648 C2 DE2907648 C2 DE 2907648C2
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten
zweier Objekte gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Eine aus der US-PS 39 03 363 bekannte Vorrichtung dieser Art
dient beispielsweise dazu, ein Halbleiterplättchen als erstes
Objekt in eine vorbestimmte Lage in Bezug auf eine Maske als
zweites Objekt zu versetzen. Für diese Ausrichtung werden auf
dem Halbleiterplättchen und auf der Maske erste sowie zweite
Markierungen angebracht. Eine Recheneinrichtung ermittelt das
Ausmaß der Abweichung zwischen den ersten Markierungen und das
Ausmaß der Abweichung zwischen den zweiten Markierungen. Gemäß
den ermittelten Abweichungen wird von einer Diskriminatoreinrich
tung die durch das Ausrichten erreichte Lagebeziehung zwi
schen den beiden Objekten bewertet und der Ausrichtvorgang
beendet, wenn die Abweichungen innerhalb eines bestimmten
Toleranzbereiches liegen.
Bei diesem gegenseitigen Ausrichten der beiden Objekte ist
vorausgesetzt, daß die ersten und die zweiten Markierungen
sowohl auf dem ersten als auch auf dem zweiten Objekt genau an
der richtigen Stelle liegen und somit die ersten Markierungen
konstante Abstände zu den zweiten Markierungen haben. Infolge
von Herstellungsfehlern, Herstellungstoleranzen, Temperatur
änderungen und dergleichen können jedoch die Abstände zwischen
den Markierungen an jedem der Objekte verändert sein, so daß
sogenannte Teilungsfehler entstehen. Diese Teilungsfehler er
geben eine Grundabweichung zwischen den ersten oder zweiten
Markierungen, die das Bewerten der Lagebeziehung beeinträchtigt.
Es könnte in Betracht gezogen werden, den Toleranz
bereich für die Abweichungen entsprechend zu erweitern, was aber
dazu führen würde, daß dadurch die erreichbare Ausrichtegenauigkeit
verringert wäre.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Vorrichtung ge
mäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 derart auszugestal
ten, daß die beiden Objekte selbst bei auftretenden Teilungs
fehlern mit hoher Genauigkeit ausgerichtet werden können.
Die Aufgabe wird mit den im kennzeichnenden Teil des
Patentanspruchs 1 aufgeführten Merkmalen gelöst.
Demnach ermittelt die Recheneinrichtung der erfindungsgemäßen
Vorrichtung die Differenz zwischen dem Betrag der Abweichung
zwischen den ersten Markierungen und dem Betrag der Abweichung
zwischen den zweiten Markierungen. Diese Differenz stellt eine
durch einen Teilungsfehler hervorgerufene Grundabweichung dar,
welche dann von der Diskriminatoreinrichtung bei dem Beurteilen
des erreichten Ausrichtungszustands berücksichtigt wird.
Auf diese Weise wird erfindungsgemäß ein auftretender Tei
lungsfehler erfaßt und die durch diesen verursachte Abweichung
bei der Beurteilung des Ausrichtezustands mit einbezogen, bei
spielsweise dadurch, daß der Abweichung entsprechend die Tole
ranzbereichsfenster für die berechneten Markierungsabwei
chungsbeträge verschoben werden. Da hierbei der Toleranz
bereich nicht erweitert werden muß, können die beiden Objekte
immer mit hoher Genauigkeit ausgerichtet werden, selbst wenn
ggf. Teilungsfehler in Form von Abstandsveränderungen der Mar
kierungen an einem Objekt oder an beiden Objekten auftreten.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Vorrich
tung besteht gemäß Patentanspruch 2 darin, daß von der Diskri
minatoreinrichtung der Ausrichtvorgang beendet wird, wenn die
durch die ermittelte Differenz, also den Teilungsfehler, verur
sachte Abweichung innerhalb eines bestimmten Fehlerbereichs
liegt. Dadurch ist gewährleistet, daß das Auswertungsergebnis
der Diskriminatoreinrichtung nicht durch übermäßig große, auf
Teilungsfehler zurückzuführende Abweichungen verfälscht wird.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispie
len unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Es zeigt
Fig. 1 in schematischer Darstellung ein optisches
System, mit dem durch Punktlichtabtastung
ein Abtastsignal erhalten wird,
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines opti
schen Systems, mit dem Abtastsignale von
zwei Stellen gebildet werden,
Fig. 3 die Lage von Ausrichtmarkierungen
auf einer Maske,
Fig. 4 die Lage von Ausrichtmarkierungen
auf einem Halbleiterplättchen,
Fig. 5 Ausrichtmarkierungen auf der Maske und
dem Halbleiterplättchen,
Fig. 6 Abtastsignale eines Photodetektors,
Fig. 7 ein Blockschaltbild einer elektrischen
Steuereinheit,
Fig. 8 eine Diskriminator
schaltung, wie sie bei der elektrischen Steuer
einheit nach Fig. 7 verwendet wird,
Fig. 9 ein Ablaufdiagramm, das sich auf ein den
Teilungsfehler berück
sichtigendes Ausführungsbeispiel bezieht, und
Fig. 10 ein Blockschaltbild einer elektrischen
Steuereinheit für das den Teilungsfehler
berücksichtigende Aus
führungsbeispiel.
In Fig. 1 ist ein zur photoelektrischen Abtastung
dienendes optisches System der Ausrichtevorrichtung veran
schaulicht.
Mit 13 ist als eines von zwei Objekten ein Halbleiter
plättchen bezeichnet, das von einem mittels Schrittmotoren
in den Richtungen x, y und R bewegbaren
Plättchenträger gehalten wird. Mit 12 ist
eine von einem fest angeordneten Maskenträger gehaltene
Maske als zweites Objekt bezeichnet. An dem Plättchen 13 sind
Ausrichtmarkierungen in Form von winklig angeordneten
Schrägflächen in der durch 38 und 39
in Fig. 5 dargestellten Weise angebracht, die Bezugs
punkte auf dem Plättchen bilden.
An der Maske 12 sind Ausrichtmarkierungen in Form von
Schrägflächen in der durch 34, 35, 36 und
37 in Fig. 5 dargestellten Weise angeordnet, die
Richtpunkte an der Maske bilden.
Das optische System gemäß Fig. 1 enthält
eine Laserquelle 1, die in Bezug auf Licht
empfindlichkeit keine sensibilisierende Wirkung auf das
Halbleiterplättchen 13 ausübt, eine Sammellinse 2,
einen drehbaren Polygonspiegel 3,
Zwischenlinsen 4, 6 und 8 ein tele
zentrisches Objektiv 11. Die Zwischenlinsen 4, 6 und 8 kolli
mieren das von dem drehbaren Polygonspiegel 3 abgelenkte
Licht und bilden einen Ablenkausgangspunkt 33
des ab
gelenkten Lichtes in einer Blende 10 des Objektivs
11. Auf diese Weise erfolgt eine Punktlichtabtastung der
Maske 12 und des Halbleiterplättchens 13, die in einer
Brennebene 34 des Objektivs 11 angeordnet sind.
Mit 7 ist ein Strahlenteiler bezeich
net, durch den ein photoelektrisches Detektorsystem gebil
det wird. Linsen 14 und 15 wirken mit
der Zwischenlinse 8 zur Abbildung des Ablenk
ausgangspunktes 33 zusammen.
Ein räumliches Filter 16 ist in der Bildebene an
geordnet, in der das Bild des Ablenkausgangs
punktes 33 abgebildet wird. Das Filter 16 ist
mit einem Lichtabschirmteil versehen, der die gleiche Größe
wie das Bild des Ablenkausgangspunktes hat. Das
Filter 16 schirmt daher das von der senkrecht zu der opti
schen Achse des Objektivs 11 verlaufenden Ebene reflektierte
Licht ab und ermöglicht ein Hindurchtreten des von den
Schrägflächen reflektierten Lichtes. Das heißt, das Filter
16 läßt das von den Ausrichtmarkierungen ausgehende
Licht hindurchtreten. Mit 17 ist eine Kon
densorlinse bezeichnet, während mit 18 ein
Photodetektor bezeichnet ist. Durch diesen Photodetektor wird
mit der Bewegung des Lichtpunktes ein Abtastsignal für
die Ausrichtmarkierungen erhalten.
Ein weiterer Strahlenteiler 5 bildet
ein Beobachtungssystem. Linsen
22 und 23 wirken mit den Zwischenlinsen 6 und 8 sowie dem Objektiv
11 zur Abbildung der Maske 12 und des Halbleiter
plättchens 13 auf einer Feldlinse 24 zusammen.
Ein Halbspiegel 9 richtet das
von einer Lichtquelle 19 ausgehende Licht mit Hilfe der Linsen 20 und 21 auf die Maske
12 und das Halbleiterplättchen 13.
Das vorstehend beschriebene optische System
ist ein Abtastsystem für den Fall, daß nur eine Aus
richtmarkierung an einer Stelle vorgesehen ist, wird
jedoch gleichermaßen auch verwendet, wenn
Ausrichtmarkierungen an Stellen 30 und 31
auf der Oberfläche der Maske 12 in der in Fig. 3 darge
stellten Weise sowie an Stellen 32 und 33 auf der Ober
fläche des Halbleiterplättchens 13 in der in Fig. 4
dargestellten Weise vorgesehen sind, so daß jeweils eine
Ausrichtung in bezug auf die Stellen 30 und 32 sowie
in bezug auf die Stellen 31 und 33 durchgeführt wird.
Bei dem in Fig. 2 dargestellten optischen System
dient eine einzige Laserquelle 1 zur Abtastung der an zwei
Stellen angebrachten Ausrichtmarkierungen.
Da das von dem drehbaren Polygonspiegel 3
abgelenkte Licht zu verschiedenen Zeitpunkten auf
reflektierende Flächen eines Sichtfeld-Teilerspiegels 25
fällt, wird das Licht zur Abtastung von zwei Stellen
zeitlich aufgeteilt.
In Fig. 7 ist das Prinzip veranschaulicht, das dem
elektrischen System zur Messung des Betrages der Abweichung
von einer vorgegebenen Lagebeziehung zwischen der
Maske und dem Halbleiterplättchen mittels des von
dem Photodetektor erfaßten Abtastsignals sowie zur Steuerung
des Antriebs von Schrittmotoren für die Korrektur dieser
Abweichung zugrunde liegt.
Das System weist Photodetektoren 18-1 und 18-2,
Vorverstärker 50-1 und 50-2, Zeitsteuerschaltungen 51-1
und 51-2, Impulsregenerierschaltungen 52-1 und 52-2 sowie
Impulsintervall-Meßschaltungen 53-1 und 53-2 auf. Von die
sen Schaltungsanordnungen werden zwei Schaltungsgruppen
zur Verarbeitung der jeweiligen Abtastsignale der Aus
richtmarkierungen gebildet.
Die von den Photodetektoren 18 erfaßten Abtast
signale werden von den Vorverstärkern 50 verstärkt und
den Zeitsteuerschaltungen 51 sowie den Impulsregenerier
schaltungen 52 zugeführt.
Die Zeitsteuerschaltungen 51 erzeugen Zeitsteuer
signale, die den Beginn und das Ende der Messung fest
legen und die Impulsintervall-Meßschaltung 53 und
eine Diskriminatorschaltung 55
steuern.
Das Abtastsignal wird z. B. von der Impulsregene
rierschaltung 52-1 in ein Impulssignal umgeformt. In Fig. 6
sind derart umgeformte Signale dargestellt.
Signale 41, 42, 43, 44, 45 und 46 werden
an denjenigen Punkten erhalten, an denen die
Ausrichtungsmarkierungen 34, 38, 35, 36, 39 und 37 die
Abtastlinie 40 des Punktlichtes schneiden.
Die Intervalle ω₁, ω₂, ω₃, ω₄ und ω₅
zwischen den Impulssignalen werden von den Impuls
intervall-Meßschaltungen 53 gemessen.
Eine Schaltungsanordnung 54 enthält eine
Rechenschaltung zur Berechnung des Betrages der Ab
weichung an den Stellen der jeweiligen Ausricht
markierungen und des Betrages des über die jeweiligen
Schrittmotoren erfolgenden Antriebs aus den von den Impuls
intervall-Meßschaltungen 53-1 und 53-2 gemessenen Impuls
intervallen sowie ein Register zur Abspeicherung des Er
gebnisses dieser Berechnung.
Wenn z. B. eine vollständige Ausrichtung (bei der
der Betrag der Abweichung zwischen dem Richtpunkt an der
Maske und den Bezugspunkt auf dem Halbleiterplätt
chen 0 ist) dann erzielt ist, wenn die Ausricht
markierungen 38 und 39 auf dem Halbleiterplättchen
eine Lage einnehmen, bei der der Abstand zwischen den Aus
richtmarkierungen 36 und 37 auf der Maske halbiert ist,
sind die Beziehungen zwischen dem Betrag der Abweichung
zwischen den Ausrichtmarkierungen
und den Impulsintervallen durch folgende
Gleichungen gegeben:
wobei Δx der Betrag der Abweichung in Richtung der
x-Achse, d. h., der Betrag der Abweichung des Bezugspunktes
in der x-Richtung in bezug auf den Richtpunkt an der Maske,
und Δy der Betrag der Abweichung in der Richtung der
y-Achse, d. h. der Betrag der Abweichung des Bezugspunktes
in der y-Richtung in bezug auf den Richtpunkt an der Maske,
sind.
Die Beträge der von den Impulsmotoren bewirkten
Verstellung sind dann gegeben durch:
wobei Δx₁, Δx₂, Δy₁ und Δy₂ die Beträge der
an den Stellen der jeweiligen Ausrichtmarkierungen
gemessenen Abweichung, D der Abstand
zwischen den Ausrichtmarkierungen und X, Y und H die
Beträge des durch die Schrittmotoren erfolgenden Antriebs
in Richtung der x-Achse, in Richtung der y-Achse und in
der Drehrichtung sind.
Die Diskriminatorschaltung 55 nimmt eine Unterschei
dung dahingehend vor, ob der Betrag der von der Rechen
schaltung errechneten Abweichung innerhalb eines zu
lässigen Toleranzbereichs liegt oder nicht. Einzelheiten
der Diskriminatorschaltung 55 sind in Fig. 8 ver
anschaulicht.
Bei der Schaltungsanordnung gemäß Fig. 8 speichern
Register 61, 62, 63 und 64 jeweils den Wert
|Δx₁+Δy₁ |, |Δx₁-Δy₁ |, |Δx₂+Δy₂ | bzw. |Δx₂-Δy₂ |.
Mit 65, 66, 67 und 68 sind Vergleicher
bezeichnet, die positive Signale abgeben, wenn folgende
Bedingungen erfüllt sind:
|Δx₁ + Δy₁ | ≦ T (6)
|Δx₁ - Δy₁ | ≦ T (7)
|Δx₂ + Δy₂ | ≦ T (8)
|Δx₂ - Δy₂ | ≦ T (9)
wobei T ein zulässiger Toleranzwert in bezug auf die
Beträge der Abweichung in den Richtungen x und y unter
Einbeziehung des Richtpunktes an der Maske als Ausgangs
punkt ist.
Mit 69 ist ein UND-Glied
mit vier Eingängen bezeichnet, das ein positives Ausgangs
signal abgibt, wenn die Bedingungen (6) bis (9) sämtlich
erfüllt sind, wobei dieses Signal zur Einschaltung einer an
einem Bedienfeld 56 vorgesehenen Lampe dient.
Das Aufleuchten dieser Lampe zeigt der Bedienungsperson an,
daß die Maske und das Halbleiterplättchen korrekt
zueinander ausgerichtet sind.
Eine Zeitsteuerschaltung 70 gibt ein Zeitsteuer
signal an eine Steuerschaltung 57 an, über die die
Steuerung der Schrittmotoren erfolgt.
Die Steuerschaltung 57 steuert die Geschwindigkeiten,
die Antriebswege und die Anlauf
zeiten von Schrittmotoren 58, 59 und 60 zur Bewegung des
Halbleiterplättchens in Richtung der x-Achse, in
Richtung der y-Achse sowie in Drehrichtung jeweils um den
von der Rechenschaltung 54 errechneten Betrag X, Y bzw. H.
Nachstehend wird ein Ausführungsbeispiel für die
Ausrichtevorrichtung beschrieben, bei dem der eingangs genannte Teilungsfehler
berücksichtigt ist.
In Fig. 9 ist ein Ablauf veranschaulicht, gemäß dem
der Betrag der Abweichung errechnet und sodann eine Unter
scheidung dahingehend getroffen wird, ob der Abweichungs
betrag innerhalb eines zulässigen Toleranzwertes liegt
oder nicht.
In einem Schritt 200 errechnet die Rechenschaltung 54
den Betrag der Abweichung gemäß den Gleichungen (1) und
(2) aus den Impulsintervallen. In einem Schritt 201 berechnet sie den Teilungs
fehler aus dem Betrag der Abweichung
gemäß der Gleichung
In einem Schritt 202 nimmt sie eine Unter
scheidung dahingehend vor, ob der Teilungsfehler Ep inner
halb eines vorgegebenen zulässigen Toleranzbereichs liegt
oder nicht. In einem Schritt 203 wird ermittelt, ob die Be
dienungsperson eine Änderung in bezug auf den zulässigen
Teilungsfehler Ep erlaubt, und in einem Schritt 204 wird das den
Teilungsfehler Ep speichernde Register gelöscht, falls eine
solche Änderung nicht erlaubt wird.
In einem Schritt 205 führt die Rechenschaltung Rechenoperationen
gemäß folgenden Formeln (11) bis (14) durch:
|Δx₁ - Ep + Δy₁ | (11)
|Δx₁ - Ep - Δy₁ | (12)
|Δx₂ + Ep + Δy₂ | (13)
|Δx₂ + Ep - Δy₂ | (14)
In einem Schritt 206 nimmt sie eine Unter
scheidung dahingehend vor, ob die Werte der
Formeln (11) bis (14) sämtlich innerhalb der erlaubten
Toleranzbereiche liegen.
In einem Schritt 207 wird angezeigt, daß eine
Ausrichtung nicht möglich ist, weil der Teilungsfehler
seinen zulässigen Wert überschreitet. Ein Schritt 208 stellt die Be
endigung der Justierung bzw. Ausrichtung dar.
In einem Schritt 209 gibt die Rechenschaltung ein Signal an
die Abtriebsschaltung für die Schrittmotoren dahingehend
ab, daß die Ausrichtung unvollständig ist.
Nachstehend wird die in Fig. 10 gezeigte Schaltungsanordnung zur Aus
führung der Steuervorgänge gemäß dem Ablaufdiagramm nach
Fig. 9 näher beschrieben.
Der Signalverarbeitungsabschnitt zum Messen der Impuls
intervalle der von dem Photodetektor erfaßten Abtast
signale ist mit dem vorstehend beschriebenen
identisch.
Bei dem Ausführungsbeispiel berechnet die
Rechenschaltung 54 die Abweichungsbeträge Δx₁, Δy₁,
Δx₂ und Δy₂ an den Stellen, an denen jeweils Aus
richtmarkierungen angebracht sind, sowie die Beträge
X, Y und H der von den Schrittmotoren vorgenommenen Ver
stellung, den Teilungsfehler Ep sowie
dessen absoluten Betrag |Ep |, woraufhin der Betrag |Ep |
des Teilungsfehlers in einem Register 210 und der Wert Ep
des Teilungsfehlers in einem Register 211 abgespeichert
werden. Mit 212 ist ein Vergleicher bezeichnet,
der ein positives Signal abgibt, wenn der Teilungsfehler
betrag |Ep | unterhalb des zulässigen Wertes liegt.
Durch ein Ausgangssignal c eines Inverters 216 wird
an dem Bedienfeld 56 angezeigt, daß eine Ausrichtung
nicht möglich ist, weil der Teilungsfehler
größer als sein zulässiger Wert ist. Die Bedienungsperson
kann dann über einen an dem Bedienfeld vorgesehenen Schal
ter ein Signal b eingeben, das angibt, ob eine Änderung
des Toleranzwertes für die auf dem Teilungsfehler
beruhenden Abweichung erlaubt ist.
Wird keine Änderung des Toleranzwertes
erlaubt, so ist das Signal b ein positives Signal, und
das Ausgangssignal eines UND-Gliedes 215 ist nur
dann ein positives Signal, wenn der Teilungsfehler
innerhalb seines zulässigen Bereichs liegt
und keine Änderung des Toleranzbereichs erlaubt
ist, wobei der Inhalt des den Teilungsfehler Ep speichern
den Registers gelöscht wird.
Mit 214 ist eine Zeitsteuerschaltung
bezeichnet, die ein Zeitsteuersignal für eine Rechenschal
tung 217 erzeugt. Die Rechenschaltung 217 berechnet die
Ausdrücke (11), (12), (13) und (14) aus den von der Rechen
schaltung 54 errechneten Abweichungsbeträgen Δx₁, Δy₁,
Δx₂ und Δy₂ sowie aus dem von dem Register 211 ge
speicherten Wert und veranlaßt, daß die jeweiligen Rechen
werte in den Registern 61, 62, 63 und 64 gemäß Fig. 8 abge
speichert werden.
Der Vergleicher 55, die Schrittmotor-Steuerschaltung
57 sowie die Schrittmotoren 58, 59 und 60 entsprechen in
bezug auf Funktion und Wirkungsweise den üblichen Ausführungs
formen.
Der Vergleicher 55 bestimmt hierbei, ob die folgenden
Bedingungen erfüllt sind oder nicht:
|Δx₁ - Ep + Δy₁ | ≦ T′ (15)
|Δx₁ - Ep - Δy₁ | ≦ T′ (16)
|Δx₂ + Ep + Δy₂ | ≦ T′ (17)
|Δx₂ + Ep - Δy₂ | ≦ T′ (18)
Die Schrittmotor-Steuerschaltung 57 steuert die Ge
schwindigkeiten, die Antriebswege und
die Anlaufzeiten der Schrittmotoren 58, 59 und 60 zur Bewegung
des Halbleiterplättchens in Richtung der x-Achse, der
y-Achse sowie in Drehrichtung um die von der Rechen
schaltung 54 errechneten Beträge X, Y und H.
Mit der vorstehend beschriebenen Ausrichtevorrichtung werden
somit die Ausrichtmarkierungen auf einer Maske und einem
Halbleiterplättchen zur Herstellung eines Halbleiter-
Schaltungselementes auf photoelektrischer Weise abgetastet und
die Lageabweichungen zwischen den jeweiligen bei
den Markierungen ermittelt, woraufhin entweder die Maske oder
das Halbleiterplättchen entsprechend dem fest
gestellten Abweichungsbetrag zur Ausrichtung der Maske und
des Halbleiterplättchens auf eine vorgegebene Lage
beziehung parallel verstellt wird. Hierbei wird jeder Ab
standsfehler korrigiert, der zwischen
den Ausrichtmarkierungen auftreten kann.
Claims (2)
1. Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten zweier Objekte,
auf denen jeweils erste sowie zweite Ausrichtmarkierungen an
gebracht sind, mit einer Recheneinrichtung, die die Beträge
der Abweichungen der ersten und zweiten Markierungen auf dem
einen Objekt in bezug auf die ersten und zweiten Markierungen
auf dem anderen Objekt berechnet, und mit einer Diskriminator
einrichtung, die gemäß den berechneten Abweichungsbeträgen
die durch das Einbringen der beiden Objekte in eine vorbe
stimmte gegenseitige Lagebeziehung vorgenommene Ausrichtung
der beiden Objekte beurteilt und ggf. beendet, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Recheneinrichtung (54) als Teilungsfehler
die Differenz zwischen dem Abweichungsbetrag der ersten Mar
kierungen und dem Abweichungsbetrag der zweiten Markierungen
ermittelt und daß die Diskriminatoreinrichtung (55) bei dem
Beurteilen bzw. Beenden der Ausrichtung der beiden Objekte
(12, 13) die ermittelte Differenz berücksichtigt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Diskriminatoreinrichtung (55) ein Signal zum Beenden der
Ausrichtung der beiden Objekte (12, 13) abgibt, wenn das Aus
maß der durch die ermittelte Differenz hervorgerufene Abweichung
innerhalb eines vorgewählten zulässigen Fehlerbereichs
liegt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2176578A JPS54114182A (en) | 1978-02-27 | 1978-02-27 | Alingment device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2907648A1 DE2907648A1 (de) | 1979-09-06 |
DE2907648C2 true DE2907648C2 (de) | 1992-09-03 |
Family
ID=12064156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19792907648 Granted DE2907648A1 (de) | 1978-02-27 | 1979-02-27 | Justiergeraet |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4275306A (de) |
JP (1) | JPS54114182A (de) |
DE (1) | DE2907648A1 (de) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58108745A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-06-28 | Canon Inc | 転写装置 |
US4794648A (en) * | 1982-10-25 | 1988-12-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Mask aligner with a wafer position detecting device |
US4634876A (en) * | 1983-05-13 | 1987-01-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Object position detecting apparatus using accumulation type sensor |
JPS60186842A (ja) * | 1984-03-06 | 1985-09-24 | Canon Inc | 露光装置 |
JPH0723844B2 (ja) * | 1985-03-27 | 1995-03-15 | オリンパス光学工業株式会社 | 表面形状測定器 |
DE3837042A1 (de) * | 1988-10-31 | 1990-05-03 | Battelle Institut E V | Vorrichtung zum positionieren von materialien in einem kraftfeld |
JPH03232215A (ja) * | 1990-02-08 | 1991-10-16 | Toshiba Corp | 位置合せ方法 |
JPH0712019B2 (ja) * | 1992-03-13 | 1995-02-08 | 株式会社日立製作所 | 投影露光方法及び投影露光装置 |
US5764366A (en) * | 1995-11-30 | 1998-06-09 | Lucent Technologies Inc. | Method and apparatus for alignment and bonding |
JP4834947B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2011-12-14 | 株式会社トッパンNecサーキットソリューションズ | 位置合わせ方法 |
JP4476764B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2010-06-09 | 富士フイルム株式会社 | 基板接合装置及び方法 |
CN112298940B (zh) * | 2019-07-31 | 2021-09-17 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 柔性传动机构、往复运动机构及升降装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4070117A (en) * | 1972-06-12 | 1978-01-24 | Kasper Instruments, Inc. | Apparatus for the automatic alignment of two superimposed objects, e.g. a semiconductor wafer and mask |
US3903363A (en) * | 1974-05-31 | 1975-09-02 | Western Electric Co | Automatic positioning system and method |
DE2633297A1 (de) * | 1976-07-23 | 1978-01-26 | Siemens Ag | Verfahren zur automatischen justierung |
-
1978
- 1978-02-27 JP JP2176578A patent/JPS54114182A/ja active Granted
-
1979
- 1979-02-23 US US06/016,165 patent/US4275306A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-02-27 DE DE19792907648 patent/DE2907648A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2907648A1 (de) | 1979-09-06 |
JPS54114182A (en) | 1979-09-06 |
JPS6148250B2 (de) | 1986-10-23 |
US4275306A (en) | 1981-06-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8381 | Inventor (new situation) |
Free format text: KATO, YUZO OGINO, YASUO HIRAGA, RYZO YOSHINARI, HIDEKI, YOKOHAMA, KANAGAWA, JP TOZUKA, MASAO, OHMIYA, SAITAMA, JP KANO, ICHIRO, YOKOHAMA, KANAGAWA, JP SUZUKI, AKIYOSHI, TOKIO/TOKYO, JP |
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