JPH0723844B2 - 表面形状測定器 - Google Patents
表面形状測定器Info
- Publication number
- JPH0723844B2 JPH0723844B2 JP60062265A JP6226585A JPH0723844B2 JP H0723844 B2 JPH0723844 B2 JP H0723844B2 JP 60062265 A JP60062265 A JP 60062265A JP 6226585 A JP6226585 A JP 6226585A JP H0723844 B2 JPH0723844 B2 JP H0723844B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- pupil
- objective lens
- sample
- optical system
- Prior art date
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- Expired - Fee Related
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は表面形状測定器に関するものである。
従来技術 最近、表面形状測定に非接触の光学式測定法が用いられ
るようになってきているが、その光学式の断面曲線測定
法の中でも測定精度の向上，装置の小型化の可能性を有
するものとして焦点検出方式を応用した方法が注目され
ている。その中で、現在提案されているものとして、臨
界角法，非点収差法，瞳分割法等の焦点検出法を利用し
たものがある。
るようになってきているが、その光学式の断面曲線測定
法の中でも測定精度の向上，装置の小型化の可能性を有
するものとして焦点検出方式を応用した方法が注目され
ている。その中で、現在提案されているものとして、臨
界角法，非点収差法，瞳分割法等の焦点検出法を利用し
たものがある。
まず、臨界角法を用いたものについて説明すれば、第５
図は臨界角法の原理を示す図であって、測定面が対物レ
ンズ１の焦点位置２にある場合、測定面で反射された光
５は対物レンズ１によって平行光６となり、臨界角プリ
ズム７に入射する。この時入射光が全て全反射するよう
にプリズム７を設定しておくと、二個のフォトダイオー
ド8,9に同一光量の光が到達する。又、測定面が焦点位
置２より対物レンズ１に近い位置３にある場合、反射光
は対物レンズ１を通った後発散光10となり臨界角プリズ
ム７に入射する。この時、光軸の両側で光の入射角が異
なるため、全反射の条件を満たさない側の光はプリズム
７の外へ光11となって出てしまい、全反射の条件を満た
す側の光は全反射されて主としてフォトダイオード９に
到達する。従って、この場合、フォトダイオード８には
少量の光しか到達しない。又、測定面が焦点位置２より
対物レンズ１から遠い位置４にある場合は、位置３にあ
る場合と逆になり、フォトダイオード９には少量の光し
か到達しない。従って、二個のフォトダイオード8,9の
出力を作動増幅器12で読み出すと、第６図に示した如き
変位−出力特性が得られる。
図は臨界角法の原理を示す図であって、測定面が対物レ
ンズ１の焦点位置２にある場合、測定面で反射された光
５は対物レンズ１によって平行光６となり、臨界角プリ
ズム７に入射する。この時入射光が全て全反射するよう
にプリズム７を設定しておくと、二個のフォトダイオー
ド8,9に同一光量の光が到達する。又、測定面が焦点位
置２より対物レンズ１に近い位置３にある場合、反射光
は対物レンズ１を通った後発散光10となり臨界角プリズ
ム７に入射する。この時、光軸の両側で光の入射角が異
なるため、全反射の条件を満たさない側の光はプリズム
７の外へ光11となって出てしまい、全反射の条件を満た
す側の光は全反射されて主としてフォトダイオード９に
到達する。従って、この場合、フォトダイオード８には
少量の光しか到達しない。又、測定面が焦点位置２より
対物レンズ１から遠い位置４にある場合は、位置３にあ
る場合と逆になり、フォトダイオード９には少量の光し
か到達しない。従って、二個のフォトダイオード8,9の
出力を作動増幅器12で読み出すと、第６図に示した如き
変位−出力特性が得られる。
第７図はこの臨界角法の原理を用いた表面形状測定器の
一例として株式会社小坂研究所製のHIPOS−ET10（商品
名）の光学系を示している。レーザダイオード13からの
赤外レーザ光は、コリメータレンズ14,偏光ビームスプ
リッタ15,λ/4板16,対物レンズ17を通って試料18上に照
射される。反射された光は対物レンズ17,λ/4板16,偏光
ビームスプリッタ15,ビームスプリッタ19を通って臨界
角プリズム20又は21に入射する。臨界角プリズム20,21
の後方には夫々二つのフォトダイオード22,23及び24,25
が設けられており、夫々の出力から試料18の光軸方向の
位置を検出する。そして、試料18を機械的に移動させて
走査することにより表面形状が測定できる。
一例として株式会社小坂研究所製のHIPOS−ET10（商品
名）の光学系を示している。レーザダイオード13からの
赤外レーザ光は、コリメータレンズ14,偏光ビームスプ
リッタ15,λ/4板16,対物レンズ17を通って試料18上に照
射される。反射された光は対物レンズ17,λ/4板16,偏光
ビームスプリッタ15,ビームスプリッタ19を通って臨界
角プリズム20又は21に入射する。臨界角プリズム20,21
の後方には夫々二つのフォトダイオード22,23及び24,25
が設けられており、夫々の出力から試料18の光軸方向の
位置を検出する。そして、試料18を機械的に移動させて
走査することにより表面形状が測定できる。
第８図は非点収差法の原理を示す図であって、これは図
示しない対物レンズの後方にシリンドリカルレンズを配
置して光学系に非点収差を与え、測定面の焦点位置から
のズレによる光束の断面の形状変化を検出器によってと
らえる方法である。即ち、光学系に非点収差があると、
レーザ等の点光源からの点像を入射した場合、その点像
の形状は焦点の前後で第８図（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に
示した如く形状26から形状27,28へと変化する。その像
を四分割検出器29,30,31,32で検出し、演算（V29＋
V31）−（V30＋V32）を行うと、第６図と同様な出力−
変位特性が得られ、焦点が検出できる。但し、Ｖｉは検
出器の出力を示し、ｉは各検出器の符号を指す。
示しない対物レンズの後方にシリンドリカルレンズを配
置して光学系に非点収差を与え、測定面の焦点位置から
のズレによる光束の断面の形状変化を検出器によってと
らえる方法である。即ち、光学系に非点収差があると、
レーザ等の点光源からの点像を入射した場合、その点像
の形状は焦点の前後で第８図（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に
示した如く形状26から形状27,28へと変化する。その像
を四分割検出器29,30,31,32で検出し、演算（V29＋
V31）−（V30＋V32）を行うと、第６図と同様な出力−
変位特性が得られ、焦点が検出できる。但し、Ｖｉは検
出器の出力を示し、ｉは各検出器の符号を指す。
第９図（Ａ）はこの非点収差法の原理を用いた表面形状
測定器の一例の光学系を示している。レーザ光源33から
のレーザ光は、空間フィルター34を通り偏光ビームスプ
リッタ35に入射し、続いてλ/4板36及び対物レンズ37を
通って試料38上に照射される。反射された光は、対物レ
ンズ37,λ/4板36,偏光ビームスプリッタ35,ビームスプ
リッタ39を通ってシリンドリカルレンズ40,41に入射す
る。このシリンドリカルレンズ40,41は夫々非点収差を
生じさせるために設けられている。シリンドリカルレン
ズ40,41の後方には検出器42,43が設けられており、これ
らはいずれも第９図（Ｂ）に示した如く四個のフォトダ
イオード44,45,46,47から構成されており、第８図で説
明した原理に従って焦点位置を検出する。そして、試料
38を機械的に走査することによりその表面形状に従って
それに対応するデフォーカス量が検出器42,43により検
出され、その出力を第６図に示した関係に従って変位量
に変換することにより表面形状が測定される。焦点検出
装置においては、その焦点位置検出信号を誤差信号とし
てフィードバック回路によりステージ或いは対物レンズ
を駆動することにより焦点を合せているが、表面形状測
定法では焦点位置検出信号そのものを表面形状の変化と
してとらえて測定するようになっている。
測定器の一例の光学系を示している。レーザ光源33から
のレーザ光は、空間フィルター34を通り偏光ビームスプ
リッタ35に入射し、続いてλ/4板36及び対物レンズ37を
通って試料38上に照射される。反射された光は、対物レ
ンズ37,λ/4板36,偏光ビームスプリッタ35,ビームスプ
リッタ39を通ってシリンドリカルレンズ40,41に入射す
る。このシリンドリカルレンズ40,41は夫々非点収差を
生じさせるために設けられている。シリンドリカルレン
ズ40,41の後方には検出器42,43が設けられており、これ
らはいずれも第９図（Ｂ）に示した如く四個のフォトダ
イオード44,45,46,47から構成されており、第８図で説
明した原理に従って焦点位置を検出する。そして、試料
38を機械的に走査することによりその表面形状に従って
それに対応するデフォーカス量が検出器42,43により検
出され、その出力を第６図に示した関係に従って変位量
に変換することにより表面形状が測定される。焦点検出
装置においては、その焦点位置検出信号を誤差信号とし
てフィードバック回路によりステージ或いは対物レンズ
を駆動することにより焦点を合せているが、表面形状測
定法では焦点位置検出信号そのものを表面形状の変化と
してとらえて測定するようになっている。
第10図は瞳分割法の原理を示す図である。第10図（ｂ）
は焦点が合っている場合を示している。物点51からの光
は、対物レンズ48を通った後、その瞳の半分を遮光して
いる遮光板49によって光束が半分にされる。この時検出
器50の中心に像が生じる。第10図（ａ）は物点52が対物
レンズ48に近い方へ焦点位置よりずれている場合を示し
ており、遮光板49によって半分にされた光束によって検
出器50の中心より上方に像が生じる。第10図（ｃ）は物
点53が対物レンズ48から遠い方へ焦点位置よりずれてい
る場合を示しており、遮光板49によって半分にされた光
束によって検出器50の中心より下方に像が生じる。この
ように瞳の半分をさえぎることにより、焦点位置のずれ
を像位置の移動に変換できるので、検出器50を分割検出
器或いは位置検出器で構成すれば焦点検出が可能とな
る。尚、この原理は特開昭58−194007号公報に開示され
ている。
は焦点が合っている場合を示している。物点51からの光
は、対物レンズ48を通った後、その瞳の半分を遮光して
いる遮光板49によって光束が半分にされる。この時検出
器50の中心に像が生じる。第10図（ａ）は物点52が対物
レンズ48に近い方へ焦点位置よりずれている場合を示し
ており、遮光板49によって半分にされた光束によって検
出器50の中心より上方に像が生じる。第10図（ｃ）は物
点53が対物レンズ48から遠い方へ焦点位置よりずれてい
る場合を示しており、遮光板49によって半分にされた光
束によって検出器50の中心より下方に像が生じる。この
ように瞳の半分をさえぎることにより、焦点位置のずれ
を像位置の移動に変換できるので、検出器50を分割検出
器或いは位置検出器で構成すれば焦点検出が可能とな
る。尚、この原理は特開昭58−194007号公報に開示され
ている。
第11図はこの瞳分割法の原理を用いた表面形状測定器の
一例の光学系を示している。レーザ光源54から出たレー
ザビームは、空間フィルター55,コリメータレンズ56,偏
光ビームスプリッタ57,λ/4板58,対物レンズ59を通って
試料60上に照射される。試料60で反射せしめられた光
は、対物レンズ59,λ/4板58,偏光ビームスプリッタ57を
通って瞳分割ミラー61に入射する。瞳分割ミラー61によ
って光束の半分を失った光束は結像レンズ62によってフ
ォトダイオード63,64に入射する。又、瞳分割ミラー61
によって光束の半分だけ反射された光束は結像レンズ65
によってフォトダイオード66,67に入射する。よって、
演算（V63−V64）＋（V66−V67）を行えば、第10図で説
明した原理に従って焦点位置を検出できる。そして、試
料60を機械的に走査すると焦点検出信号が変化するが、
第６図に示した関係からその値が表面形状を示している
ことになる。
一例の光学系を示している。レーザ光源54から出たレー
ザビームは、空間フィルター55,コリメータレンズ56,偏
光ビームスプリッタ57,λ/4板58,対物レンズ59を通って
試料60上に照射される。試料60で反射せしめられた光
は、対物レンズ59,λ/4板58,偏光ビームスプリッタ57を
通って瞳分割ミラー61に入射する。瞳分割ミラー61によ
って光束の半分を失った光束は結像レンズ62によってフ
ォトダイオード63,64に入射する。又、瞳分割ミラー61
によって光束の半分だけ反射された光束は結像レンズ65
によってフォトダイオード66,67に入射する。よって、
演算（V63−V64）＋（V66−V67）を行えば、第10図で説
明した原理に従って焦点位置を検出できる。そして、試
料60を機械的に走査すると焦点検出信号が変化するが、
第６図に示した関係からその値が表面形状を示している
ことになる。
尚、測定面の反射率の変化によって各フォトダイオード
に生じる出力Ｖｉが変化するが、 のように信号の和で規格化すれば、反射率の変化による
光量変動は補正することができる。又、二分割のフォト
ダイオードでなくても半導体位置検出器等を用いても良
い。又、第７図，第９図，第11図において検出光学系が
夫々二組ずつ設けられているのは、試料の傾きによる誤
差をキャンセルするためである。
に生じる出力Ｖｉが変化するが、 のように信号の和で規格化すれば、反射率の変化による
光量変動は補正することができる。又、二分割のフォト
ダイオードでなくても半導体位置検出器等を用いても良
い。又、第７図，第９図，第11図において検出光学系が
夫々二組ずつ設けられているのは、試料の傾きによる誤
差をキャンセルするためである。
ところが、上記従来例はいずれもレーザビームを光学系
の軸上のみで用い、走査は試料を機械的に移動させるこ
とにより行っていたため、測定速度が遅く、試料の形
状，重さ等に制限があり、測定面を観察することができ
ない等の欠点があった。
の軸上のみで用い、走査は試料を機械的に移動させるこ
とにより行っていたため、測定速度が遅く、試料の形
状，重さ等に制限があり、測定面を観察することができ
ない等の欠点があった。
目 的 本発明は、上記問題点に鑑み、高速測定が可能であり、
試料の形状，重さ等の許容範囲が飛躍的に向上し、測定
面の観察も可能である表面形状測定器を提供せんとする
ものである。
試料の形状，重さ等の許容範囲が飛躍的に向上し、測定
面の観察も可能である表面形状測定器を提供せんとする
ものである。
概 要 本発明による表面形状測定器は、光源と、前記光源から
発した光を試料上に集光する対物レンズと、前記光源と
対物レンズとの間にあって前記対物レンズの瞳の共役像
を前記光源側に生ぜしめる投影光学系と、前記共役像の
位置に配置されていて前記対物レンズに入射する光の入
射角を変えることにより前記光源から発した光を前記試
料面上で走査させる光偏向部材と、試料面で反射した光
を受けて試料面の所定の合焦位置からのズレを検出する
焦点検出光学系とを具備して成ることにより、試料を動
かすことなく走査が行えるようにしたものである。
発した光を試料上に集光する対物レンズと、前記光源と
対物レンズとの間にあって前記対物レンズの瞳の共役像
を前記光源側に生ぜしめる投影光学系と、前記共役像の
位置に配置されていて前記対物レンズに入射する光の入
射角を変えることにより前記光源から発した光を前記試
料面上で走査させる光偏向部材と、試料面で反射した光
を受けて試料面の所定の合焦位置からのズレを検出する
焦点検出光学系とを具備して成ることにより、試料を動
かすことなく走査が行えるようにしたものである。
又、特に瞳を考慮した光学系を採用することにより、誤
差が生じないようにしたものである。即ち、光偏向器に
よって光ビームを走査した場合でも走査系において光軸
が一定に保たれるように、光偏向器を光学系の瞳位置に
設定している。従って、光ビームを走査しているにも拘
らず、等価的に定常的な系とみなせる。
差が生じないようにしたものである。即ち、光偏向器に
よって光ビームを走査した場合でも走査系において光軸
が一定に保たれるように、光偏向器を光学系の瞳位置に
設定している。従って、光ビームを走査しているにも拘
らず、等価的に定常的な系とみなせる。
実施例 以下、図示した一実施例に基づき本発明を詳細に説明す
れば、第１図において68は第７図，第９図，第11図で示
したようなレーザ光源と試料から戻ってきた光を検出測
定する光学系とを含んでいる表面形状測定光学系であ
る。表面形状測定光学系68からのレーザビームは、対物
レンズ69の瞳70と共役な位置に配置された光偏向器71に
入射する。光偏向器71は、回転多面鏡，振動ミラー，音
響素子等である。偏向を行っていない場合はレーザビー
ムは光軸72に沿って進む。偏向を行う場合即ちレーザビ
ームを走査する場合は、光偏向器71が瞳位置に設けられ
ているので、レーザビームの方向は軸外主光線73と一致
し、レーザビームの中心も軸外主光線73と一致する。こ
れらのレーザビームは瞳伝送レンズ74,75を通って同じ
く瞳位置に設けられた光偏向器76に入射する。この光偏
向器76が二次元走査のうちのＸ方向走査を行うとする
と、先の光偏向器71はＹ方向の走査を行うことになる。
尚、Ｘ−Ｙ両方向の偏向を行うことのできる光偏向器で
あれば一個で良い。又、一次元の走査しか行わない場合
も一個で良い。光偏向器71,76で二次元的に走査された
レーザビームは、瞳投影レンズ77及び結像レンズ78によ
り対物レンズ69の瞳に入射する。光偏向器71,76によっ
て形成される軸外のレーザビームも対物レンズ69の瞳70
に正確に入射する。そして、これらのレーザビームは、
対物レンズ69によって試料79上に回折で制限されるスポ
ットを生じる。試料79で反射されたレーザビームは試料
への入射経路を逆に通って表面形状測定光学系68に戻
る。このように同じ光路を戻ってくるので、軸外を走査
したレーザビームでも戻ってきた検出ビームは動かな
い。従って、表面形状測定光学系68は全く定常的な系で
良い。この場合、瞳投影レンズ77と結像レンズ78は、対
物レンズ69の瞳70の共役像を光源側即ち表面形状測定光
学系68側に生ぜしめる投影光学系を構成している。
れば、第１図において68は第７図，第９図，第11図で示
したようなレーザ光源と試料から戻ってきた光を検出測
定する光学系とを含んでいる表面形状測定光学系であ
る。表面形状測定光学系68からのレーザビームは、対物
レンズ69の瞳70と共役な位置に配置された光偏向器71に
入射する。光偏向器71は、回転多面鏡，振動ミラー，音
響素子等である。偏向を行っていない場合はレーザビー
ムは光軸72に沿って進む。偏向を行う場合即ちレーザビ
ームを走査する場合は、光偏向器71が瞳位置に設けられ
ているので、レーザビームの方向は軸外主光線73と一致
し、レーザビームの中心も軸外主光線73と一致する。こ
れらのレーザビームは瞳伝送レンズ74,75を通って同じ
く瞳位置に設けられた光偏向器76に入射する。この光偏
向器76が二次元走査のうちのＸ方向走査を行うとする
と、先の光偏向器71はＹ方向の走査を行うことになる。
尚、Ｘ−Ｙ両方向の偏向を行うことのできる光偏向器で
あれば一個で良い。又、一次元の走査しか行わない場合
も一個で良い。光偏向器71,76で二次元的に走査された
レーザビームは、瞳投影レンズ77及び結像レンズ78によ
り対物レンズ69の瞳に入射する。光偏向器71,76によっ
て形成される軸外のレーザビームも対物レンズ69の瞳70
に正確に入射する。そして、これらのレーザビームは、
対物レンズ69によって試料79上に回折で制限されるスポ
ットを生じる。試料79で反射されたレーザビームは試料
への入射経路を逆に通って表面形状測定光学系68に戻
る。このように同じ光路を戻ってくるので、軸外を走査
したレーザビームでも戻ってきた検出ビームは動かな
い。従って、表面形状測定光学系68は全く定常的な系で
良い。この場合、瞳投影レンズ77と結像レンズ78は、対
物レンズ69の瞳70の共役像を光源側即ち表面形状測定光
学系68側に生ぜしめる投影光学系を構成している。
第２図は第１図における光偏向器71と瞳伝送レンズ74の
部分に関し、光偏向器71が瞳位置80に無い場合を示して
いる。入射レーザビームが光偏向器71で偏向されると、
そのレーザビームの中心は81となり、対物レンズの瞳に
よって決まる軸外主光線73と一致しない。このことは軸
外のレーザビームが対物レンズの瞳に正確に入射しない
ことを示している。第３図はそれを光軸と直交する平面
上で表わしたものであって、82が対物レンズの瞳で、そ
の中心が光軸72或いは軸外主光線73であることを示して
いる。この場合、上記提案のように光偏向器71を瞳位置
80即ち瞳と共役な位置に設けておくと、走査されたレー
ザビームは軸外主光線73に一致し、対物レンズの瞳82に
正確に入射するが、第２図のように光偏向器71が瞳位置
80にないと、レーザビームの中心81と軸外主光線73が一
致しないのでレーザビームの拡がり83は瞳82に正確に入
射せず、けられることになる。
部分に関し、光偏向器71が瞳位置80に無い場合を示して
いる。入射レーザビームが光偏向器71で偏向されると、
そのレーザビームの中心は81となり、対物レンズの瞳に
よって決まる軸外主光線73と一致しない。このことは軸
外のレーザビームが対物レンズの瞳に正確に入射しない
ことを示している。第３図はそれを光軸と直交する平面
上で表わしたものであって、82が対物レンズの瞳で、そ
の中心が光軸72或いは軸外主光線73であることを示して
いる。この場合、上記提案のように光偏向器71を瞳位置
80即ち瞳と共役な位置に設けておくと、走査されたレー
ザビームは軸外主光線73に一致し、対物レンズの瞳82に
正確に入射するが、第２図のように光偏向器71が瞳位置
80にないと、レーザビームの中心81と軸外主光線73が一
致しないのでレーザビームの拡がり83は瞳82に正確に入
射せず、けられることになる。
このように瞳を考慮しない光学系では瞳情報を維持でき
ないので、瞳情報を直接的に利用している臨界角法によ
る焦点検出法，瞳分割法による焦点検出法は軸外では使
えず、非点収差法も誤差を生じるが、本発明による表面
形状測定器は、瞳を考慮した走査光学系を採用したの
で、上記焦点検出法による表面形状測定を光ビーム走査
方式により実現することができた。
ないので、瞳情報を直接的に利用している臨界角法によ
る焦点検出法，瞳分割法による焦点検出法は軸外では使
えず、非点収差法も誤差を生じるが、本発明による表面
形状測定器は、瞳を考慮した走査光学系を採用したの
で、上記焦点検出法による表面形状測定を光ビーム走査
方式により実現することができた。
第４図は一実施例として瞳分割法を用いた表面形状測定
器の光学系及び処理回路を示している。レーザ光源84か
らのレーザビームは空間フィルター85,コリメータレン
ズ86,偏光ビームスプリッタ87,λ/4板88を通って瞳位置
に置かれた垂直走査用のガルバノメータ89に入射し、続
いて瞳伝送レンズ90,91を通って瞳位置に置かれた水平
走査用のポリゴンミラー92に入射する。更に瞳投影レン
ズ93,結像レンズ94を通って対物レンズ95に入射し、回
折により制限されるスポット即ち光触針子を試料96上に
形成する。ここで、プリズム97,アイピース98,コンデン
サレンズ99,ランプ100は、試料96を眼視観測するために
設けられている。これにより試料96の被測定部の様子を
目で確認できる。対物レンズ95は夫々の目的に従って種
類，倍率を変更することができる。
器の光学系及び処理回路を示している。レーザ光源84か
らのレーザビームは空間フィルター85,コリメータレン
ズ86,偏光ビームスプリッタ87,λ/4板88を通って瞳位置
に置かれた垂直走査用のガルバノメータ89に入射し、続
いて瞳伝送レンズ90,91を通って瞳位置に置かれた水平
走査用のポリゴンミラー92に入射する。更に瞳投影レン
ズ93,結像レンズ94を通って対物レンズ95に入射し、回
折により制限されるスポット即ち光触針子を試料96上に
形成する。ここで、プリズム97,アイピース98,コンデン
サレンズ99,ランプ100は、試料96を眼視観測するために
設けられている。これにより試料96の被測定部の様子を
目で確認できる。対物レンズ95は夫々の目的に従って種
類，倍率を変更することができる。
試料96からの反射光は入射時と同じ経路を逆に通って偏
光ビームスプリッタ87に戻ってくる。更に、瞳分割ミラ
ー101によって光束が分割され、夫々結像レンズ102,103
を通って半導体位置検出器104,105に入射する。半導体
位置検出器104,105によって夫々測定されたスポット位
置は、夫々プリアンプ106,107,108,109と加算器110,111
を通って差動増幅器112に入力される。差動増幅器112か
ら出力されたアナログ的な検出信号113はサンプルホー
ルド・A/D変換回路114に入力されデジタル化される。こ
の回路114はガルバノメータ89及びポリゴンミラー92の
駆動回路115の同期信号と同期して、デジタル化された
検出信号113をフレームメモリ116に格納し、該フレーム
メモリ116内に二次元画像を形成する。117は画像処理コ
ンピューターであって、鳥瞰図等の各種の処理をして表
面形状測定の結果をCRT118に表示したり或はプリントア
ウトしたりする。
光ビームスプリッタ87に戻ってくる。更に、瞳分割ミラ
ー101によって光束が分割され、夫々結像レンズ102,103
を通って半導体位置検出器104,105に入射する。半導体
位置検出器104,105によって夫々測定されたスポット位
置は、夫々プリアンプ106,107,108,109と加算器110,111
を通って差動増幅器112に入力される。差動増幅器112か
ら出力されたアナログ的な検出信号113はサンプルホー
ルド・A/D変換回路114に入力されデジタル化される。こ
の回路114はガルバノメータ89及びポリゴンミラー92の
駆動回路115の同期信号と同期して、デジタル化された
検出信号113をフレームメモリ116に格納し、該フレーム
メモリ116内に二次元画像を形成する。117は画像処理コ
ンピューターであって、鳥瞰図等の各種の処理をして表
面形状測定の結果をCRT118に表示したり或はプリントア
ウトしたりする。
又、コリメータレンズ86をズームレンズで構成しビーム
径を調整するようにすれば、対物レンズ95の倍率を変更
しなくても光触針子の径を変更することができる。
径を調整するようにすれば、対物レンズ95の倍率を変更
しなくても光触針子の径を変更することができる。
尚、検出系には第７図及び第９図で夫々示した臨界角法
及び非点収差法を用いることもできる。
及び非点収差法を用いることもできる。
発明の効果 上述の如く、本発明による表面形状測定器は、光ビーム
を走査する方式にしたので試料を動かすことなく走査す
ることができ、その結果高速測定が可能であり、試料の
形状，重さ等の許容範囲が飛躍的に向上し、測定面の観
察も可能である。
を走査する方式にしたので試料を動かすことなく走査す
ることができ、その結果高速測定が可能であり、試料の
形状，重さ等の許容範囲が飛躍的に向上し、測定面の観
察も可能である。
第１図は本発明による表面形状測定器の表面形状測定光
学系を示す図、第２図は上記光学系において光偏向器が
瞳位置に無い場合を示す図、第３図と第２図の状態を光
軸と直交する平面上で表わした図、第４図は瞳分割法を
用いて成る本発明表面形状測定器の一実施例の光学系及
び処理回路を示す図、第５図は臨界角法の原理を示す
図、第６図は上記方法におけるフォトダイオードの変位
出力特性を示す図、第７図は臨界角法を用いた従来の表
面形状測定器の光学系を示す図、第８図は非点収差法の
原理を示す図、第９図は非点収差法を用いた従来の表面
形状測定器の光学系を示す図、第10図は瞳分割法の原理
を示す図、第11図は瞳分割法を用いた従来の表面形状測
定器の光学系を示す図である。 68……表面形状測定光学系、69……対物レンズ、70……
瞳、71……光偏向器、72……光軸、73……軸外主光線、
74,75……瞳伝送レンズ、76……光偏向器、77……瞳投
影レンズ、78……結像レンズ、79……試料。
学系を示す図、第２図は上記光学系において光偏向器が
瞳位置に無い場合を示す図、第３図と第２図の状態を光
軸と直交する平面上で表わした図、第４図は瞳分割法を
用いて成る本発明表面形状測定器の一実施例の光学系及
び処理回路を示す図、第５図は臨界角法の原理を示す
図、第６図は上記方法におけるフォトダイオードの変位
出力特性を示す図、第７図は臨界角法を用いた従来の表
面形状測定器の光学系を示す図、第８図は非点収差法の
原理を示す図、第９図は非点収差法を用いた従来の表面
形状測定器の光学系を示す図、第10図は瞳分割法の原理
を示す図、第11図は瞳分割法を用いた従来の表面形状測
定器の光学系を示す図である。 68……表面形状測定光学系、69……対物レンズ、70……
瞳、71……光偏向器、72……光軸、73……軸外主光線、
74,75……瞳伝送レンズ、76……光偏向器、77……瞳投
影レンズ、78……結像レンズ、79……試料。
Claims (1)
- 【請求項１】光源と、該光源から発した光を試料面上に
集光させる対物レンズと、前記光源と前記対物レンズと
の間にあって前記対物レンズの瞳の共役像を前記光源側
に生ぜしめる投影光学系と、前記共役像の位置に配置さ
れていて前記対物レンズに入射する光の入射角を変える
ことにより前記光源から発した光を前記試料上で走査さ
せる光偏向部材と、前記試料面で反射した光を受けて該
試料面の所定の合焦位置からのズレを検出する焦点検出
光学系とを備えた表面形状測定器。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60062265A JPH0723844B2 (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | 表面形状測定器 |
| DE19863610530 DE3610530A1 (de) | 1985-03-27 | 1986-03-27 | Oberflaechenstrukturmessgeraet |
| US07/320,850 US4930896A (en) | 1985-03-27 | 1989-03-02 | Surface structure measuring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60062265A JPH0723844B2 (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | 表面形状測定器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219805A JPS61219805A (ja) | 1986-09-30 |
| JPH0723844B2 true JPH0723844B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=13195142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60062265A Expired - Fee Related JPH0723844B2 (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | 表面形状測定器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4930896A (ja) |
| JP (1) | JPH0723844B2 (ja) |
| DE (1) | DE3610530A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| DE3720079A1 (de) * | 1987-06-16 | 1988-12-29 | Breitmeier Ulrich | Optischer abtastkopf |
| DE3840820A1 (de) * | 1988-12-03 | 1990-06-07 | Breitmeier Ulrich | Messkopf |
| DE4015893C2 (de) * | 1990-05-17 | 1994-06-16 | Phototherm Dr Petry Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung der inneren Struktur eines absorptionsfähigen Prüflings |
| EP0503111A1 (en) * | 1991-03-13 | 1992-09-16 | Toyohiko Kashiwagi | Aspherical lens, method of producing the lens and apparatus for producing the lens |
| DE4109696A1 (de) * | 1991-03-23 | 1992-09-24 | Parker Praedifa Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum bestimmen des vulkanisationsgrades von elastomeren |
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| DE19522201A1 (de) * | 1994-06-21 | 1996-01-04 | Rodenstock Optik G | Vorrichtung zur berührungslosen Messung des Abstandes einer reflektierenden Oberfläche von einer Referenzebene |
| DE29715904U1 (de) * | 1997-09-01 | 1997-10-23 | Omeca Messtechnik Gmbh | Interferenzoptische Meßeinrichtung |
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| DE19930628A1 (de) * | 1999-07-02 | 2001-02-01 | Graul Renate | Topographiemeßgerät |
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| US6882415B1 (en) | 2001-07-16 | 2005-04-19 | August Technology Corp. | Confocal 3D inspection system and process |
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| US4088408A (en) * | 1976-11-08 | 1978-05-09 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Device for measuring the contour of a surface |
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| JPS54114182A (en) * | 1978-02-27 | 1979-09-06 | Canon Inc | Alingment device |
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| US4576479A (en) * | 1982-05-17 | 1986-03-18 | Downs Michael J | Apparatus and method for investigation of a surface |
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1985
- 1985-03-27 JP JP60062265A patent/JPH0723844B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-03-27 DE DE19863610530 patent/DE3610530A1/de active Granted
-
1989
- 1989-03-02 US US07/320,850 patent/US4930896A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4930896A (en) | 1990-06-05 |
| DE3610530C2 (ja) | 1989-10-26 |
| JPS61219805A (ja) | 1986-09-30 |
| DE3610530A1 (de) | 1986-10-02 |
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|---|---|---|---|
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