JP2515722B2 - 走査型検査装置 - Google Patents
走査型検査装置Info
- Publication number
- JP2515722B2 JP2515722B2 JP60056117A JP5611785A JP2515722B2 JP 2515722 B2 JP2515722 B2 JP 2515722B2 JP 60056117 A JP60056117 A JP 60056117A JP 5611785 A JP5611785 A JP 5611785A JP 2515722 B2 JP2515722 B2 JP 2515722B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- scanning
- pupil
- objective lens
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はICデバイスの性能測定等に用いる走査型検査
装置に関するものである。
装置に関するものである。
ICデバイスの性能測定や故障解析等において、LSIの
微細化、高集積化に伴い機械的プローブの使用が、困難
になり、非接触測定が必要となつている。
微細化、高集積化に伴い機械的プローブの使用が、困難
になり、非接触測定が必要となつている。
そのため走査型電子顕微鏡を利用した電子ビームをプ
ローブとした測定法が研究されている。しかしこの測定
法は試料を真空中におく必要があることや、電子ビーム
によるチヤージアツプにより測定値が変化する欠点があ
りまた破壊的測定になる等の欠点もある。
ローブとした測定法が研究されている。しかしこの測定
法は試料を真空中におく必要があることや、電子ビーム
によるチヤージアツプにより測定値が変化する欠点があ
りまた破壊的測定になる等の欠点もある。
以上の欠点をさけるためにレーザー光でLSI表面を走
査して測定する方法が提案されている。この測定法は、
半導体デバイスの光伝導性を利用したもので、微細に絞
つたレーザービームにてIC上を２次元に走査し、光励起
電流を測定してCRT上に光電流像を表示するものでOBIC
法と呼ばれている。またレーザースポツトをある位置に
固定し、回路を動作させることにより、回路の動作状態
例えばFETのオン，オフの状態の検出等を行なうことが
出来る。これは走査型レーザー顕微鏡を半導体検査装置
に応用したものである。
査して測定する方法が提案されている。この測定法は、
半導体デバイスの光伝導性を利用したもので、微細に絞
つたレーザービームにてIC上を２次元に走査し、光励起
電流を測定してCRT上に光電流像を表示するものでOBIC
法と呼ばれている。またレーザースポツトをある位置に
固定し、回路を動作させることにより、回路の動作状態
例えばFETのオン，オフの状態の検出等を行なうことが
出来る。これは走査型レーザー顕微鏡を半導体検査装置
に応用したものである。
このような従来の走査型検査装置においては、レーザ
ープローブのスポツト径の大きさの変更を対物レンズの
変更によつて行なつていた。そのために前記スポツト径
の大きさを変更するには、対物レンズを他のものに変更
する必要があり、機構が複雑になり、変換に時間を要す
るなどの欠点があつた。また対物レンズの倍率により瞳
径が異なるので、対物レンズを変換した場合レーザープ
ローブの光量が変化する欠点もある。
ープローブのスポツト径の大きさの変更を対物レンズの
変更によつて行なつていた。そのために前記スポツト径
の大きさを変更するには、対物レンズを他のものに変更
する必要があり、機構が複雑になり、変換に時間を要す
るなどの欠点があつた。また対物レンズの倍率により瞳
径が異なるので、対物レンズを変換した場合レーザープ
ローブの光量が変化する欠点もある。
本発明において解決しようとする問題点は、走査型検
査装置による半導体検査において、検査したい領域に合
わせて光によつて励起させることのできる範囲を変える
ためのレーザープローブのスポツト径の大きさの変更を
対物レンズの変換によることなく行ない得てしかも光量
の変化が生じないようにすることにある。
査装置による半導体検査において、検査したい領域に合
わせて光によつて励起させることのできる範囲を変える
ためのレーザープローブのスポツト径の大きさの変更を
対物レンズの変換によることなく行ない得てしかも光量
の変化が生じないようにすることにある。
本発明においては、対物レンズの瞳に入射する光束の
大きさを変更することによつて対物レンズによつて絞ら
れるレーザースポツト径の大きさを変化させるようにし
て前記の問題点を解決するようにした。
大きさを変更することによつて対物レンズによつて絞ら
れるレーザースポツト径の大きさを変化させるようにし
て前記の問題点を解決するようにした。
一般に開口数NAのレンズに、一様分布の平行平面波を
入射した場合の回析によつて決まるスポツト径ψは次の
式（１）にて示すようになる。
入射した場合の回析によつて決まるスポツト径ψは次の
式（１）にて示すようになる。
ただしλは波長である。
この式（１）から明らかなようにNAが大きい程スポツ
ト径が小さくなる。したがつて対物レンズの瞳径が同じ
場合には、対物レンズの倍率が大きいとつまり焦点距離
ｆが短いとNAが大となり、スポツト径は小になる。その
ために一般にスポツト径を変化させる場合、倍率の異な
る対物レンズに交換することによつていた。
ト径が小さくなる。したがつて対物レンズの瞳径が同じ
場合には、対物レンズの倍率が大きいとつまり焦点距離
ｆが短いとNAが大となり、スポツト径は小になる。その
ために一般にスポツト径を変化させる場合、倍率の異な
る対物レンズに交換することによつていた。
本発明は、前述のように対物レンズの瞳に入射する光
束の径を変化させることによつて実質上のNAを変化させ
てスポツト径を変化させるようにしたものである。
束の径を変化させることによつて実質上のNAを変化させ
てスポツト径を変化させるようにしたものである。
レーザー光は一般にガウス分布をしている。第１図は
対物レンズ１にガウス分布をしたレーザービーム２を入
射させてスポツト径３を得た場合を示したものである。
入射ビーム２のビーム径に対して対物レンズ１の瞳径が
十分大きい（実際上は1.1倍以上であればよい）とする
と、入射するガウスビームの半径をω，波長をλ，対物
レンズの焦点距離をｆとした時、得られたスポツトの半
径ωｓは次の式（２）にて表わされる。
対物レンズ１にガウス分布をしたレーザービーム２を入
射させてスポツト径３を得た場合を示したものである。
入射ビーム２のビーム径に対して対物レンズ１の瞳径が
十分大きい（実際上は1.1倍以上であればよい）とする
と、入射するガウスビームの半径をω，波長をλ，対物
レンズの焦点距離をｆとした時、得られたスポツトの半
径ωｓは次の式（２）にて表わされる。
この式（２）から入射ガウスビームの半径ωを小さく
するとスポツトの半径ωｓを大きくできることがわか
る。例えば波長λ＝0.6μm,対物レンズの焦点距離ｆ＝
3.6mmの場合、入射ビームの半径が0.4mmであるとスポツ
トの半径は1.72μｍ、又入射ビームの半径が1.2mmであ
るとスポツトの半径は0.59μｍ、更に入射ビームの半径
が2mmであるとスポツトの半径は0.38μｍとなる。
するとスポツトの半径ωｓを大きくできることがわか
る。例えば波長λ＝0.6μm,対物レンズの焦点距離ｆ＝
3.6mmの場合、入射ビームの半径が0.4mmであるとスポツ
トの半径は1.72μｍ、又入射ビームの半径が1.2mmであ
るとスポツトの半径は0.59μｍ、更に入射ビームの半径
が2mmであるとスポツトの半径は0.38μｍとなる。
第２図は、第１図と同じ対物レンズ４に第１図に示す
ビーム２よりも光束の細い入射ガウスビーム５を入射し
た場合に得られるスポツト径を図示したものである。つ
まり第２図の場合第１図におけるよりも大きいスポツト
径になることを示している。
ビーム２よりも光束の細い入射ガウスビーム５を入射し
た場合に得られるスポツト径を図示したものである。つ
まり第２図の場合第１図におけるよりも大きいスポツト
径になることを示している。
このように同じ対物レンズを用いても瞳に入射する光
束の大きさを制御することによつてスポツト径を制御す
ることが可能である。
束の大きさを制御することによつてスポツト径を制御す
ることが可能である。
本発明は、光源よりの光ビームを対物レンズによつて
物体上に集光する走査型検査装置において対物レンズに
入射する光束の径を制御することによつてスポツト径を
変更するようにしたものである。
物体上に集光する走査型検査装置において対物レンズに
入射する光束の径を制御することによつてスポツト径を
変更するようにしたものである。
次に対物レンズの瞳に入射する光束を変化させること
によつてレーザープローブのスポツト径を変化させる本
発明の走査型検査装置の実施例を図面にもとづいて説明
する。
によつてレーザープローブのスポツト径を変化させる本
発明の走査型検査装置の実施例を図面にもとづいて説明
する。
第３図は本発明の走査型検査装置の実施例の光学系を
示す図である。この図において、７はレーザー光源、８
は集光レンズ、９は空間フイルター、10はコリメータ
ー、11はズームレンズ、12は、光学系の瞳位置におかれ
た水平方向の走査のための第１の光偏向部材（例えばガ
ルバノミラー）、13、14は瞳伝送レンズ、15は同様に瞳
位置におかれた垂直方向の走査のための第２の光偏向部
材、16は瞳投影レンズ、17は結像レンズ、18は対物レン
ズ、19は試料である。
示す図である。この図において、７はレーザー光源、８
は集光レンズ、９は空間フイルター、10はコリメータ
ー、11はズームレンズ、12は、光学系の瞳位置におかれ
た水平方向の走査のための第１の光偏向部材（例えばガ
ルバノミラー）、13、14は瞳伝送レンズ、15は同様に瞳
位置におかれた垂直方向の走査のための第２の光偏向部
材、16は瞳投影レンズ、17は結像レンズ、18は対物レン
ズ、19は試料である。
このような光学系において、レーザー光源７よりのレ
ーザービームは集光レンズ8,空間フイルター9,コリメー
ター10を通つてズームレンズ11に入射される。このズー
ムレンズ11は、入射するビーム径の大きさを任意の射出
するビーム径の大きさに変換するビームコンバーターを
なしている。このズームレンズ11より射出したレーザー
ビームは、第１の光偏向部材12によつて水平方向に走査
される。第１の光偏向部材12により走査されたビーム
は、瞳伝送レンズ13,14を通り第２の光偏向部材15に入
射されここで垂直方向の走査が行なわれる。このように
第１の光偏向部材12と、第２の光偏向部材15によりラス
ター走査される。２次元に走査されたレーザービームは
投影16,結像レンズ17を通り、対物レンズ18の瞳に入射
される。以上のようにレーザービームが通過した光学系
は、瞳伝送を考慮した走査光学系で、つまり走査を行な
う光偏向部材等が瞳位置におかれている光学系なので軸
外光においても瞳は保存されている。そのため走査光学
系の入射側にあるズームレンズ11即ちビーム径コンバー
ターによつて任意の大きさに変換されたレーザービーム
径はそのまま対物レンズ18の瞳に入射する光束になる。
つまり対物レンズ18の入射瞳に入射する光束径はズーム
レンズ11によつて任意に変換することが出来る。したが
つて試料19上に生ずるレーザープローブの径はズームレ
ンズ11によつて自由に調整し得る。また、コリメーター
10によつてズームレンズ11に入射した光は損失を受ける
ことなしにすべて利用されるのでレーザープローブの径
の変化に関係なく光量は一定である。このようにして試
料19上を走査しその透過光又は反射光を検出するか或は
光励起電流等を検出することにより試料の測定が行なわ
れる。
ーザービームは集光レンズ8,空間フイルター9,コリメー
ター10を通つてズームレンズ11に入射される。このズー
ムレンズ11は、入射するビーム径の大きさを任意の射出
するビーム径の大きさに変換するビームコンバーターを
なしている。このズームレンズ11より射出したレーザー
ビームは、第１の光偏向部材12によつて水平方向に走査
される。第１の光偏向部材12により走査されたビーム
は、瞳伝送レンズ13,14を通り第２の光偏向部材15に入
射されここで垂直方向の走査が行なわれる。このように
第１の光偏向部材12と、第２の光偏向部材15によりラス
ター走査される。２次元に走査されたレーザービームは
投影16,結像レンズ17を通り、対物レンズ18の瞳に入射
される。以上のようにレーザービームが通過した光学系
は、瞳伝送を考慮した走査光学系で、つまり走査を行な
う光偏向部材等が瞳位置におかれている光学系なので軸
外光においても瞳は保存されている。そのため走査光学
系の入射側にあるズームレンズ11即ちビーム径コンバー
ターによつて任意の大きさに変換されたレーザービーム
径はそのまま対物レンズ18の瞳に入射する光束になる。
つまり対物レンズ18の入射瞳に入射する光束径はズーム
レンズ11によつて任意に変換することが出来る。したが
つて試料19上に生ずるレーザープローブの径はズームレ
ンズ11によつて自由に調整し得る。また、コリメーター
10によつてズームレンズ11に入射した光は損失を受ける
ことなしにすべて利用されるのでレーザープローブの径
の変化に関係なく光量は一定である。このようにして試
料19上を走査しその透過光又は反射光を検出するか或は
光励起電流等を検出することにより試料の測定が行なわ
れる。
以上のようにこの実施例によれば、対物レンズを他の
ものに変換することなしに、レーザープローブのスポツ
ト径を変化させることが出来、その際光量は変化しな
い。また瞳伝送を考慮した走査光学系であるのでズーム
レンズを走査光学系の入射側におくことが可能であり、
ズームレンズ軸上収差のみ補正するだけでよい。
ものに変換することなしに、レーザープローブのスポツ
ト径を変化させることが出来、その際光量は変化しな
い。また瞳伝送を考慮した走査光学系であるのでズーム
レンズを走査光学系の入射側におくことが可能であり、
ズームレンズ軸上収差のみ補正するだけでよい。
又、第1,第２の光偏向部材12,15は図示するようなガ
ルバノミラーのほか、プリズム，ガラスブロツク，音響
光学素子等の他の光偏向器を用いてもよい。
ルバノミラーのほか、プリズム，ガラスブロツク，音響
光学素子等の他の光偏向器を用いてもよい。
次に以上述べた第３図に示す実施例のような光ビーム
を走査する方法による走査検査装置の場合、瞳位置を考
慮した光偏向部材を用いることによつて軸外光において
も瞳が保存されることについて説明する。
を走査する方法による走査検査装置の場合、瞳位置を考
慮した光偏向部材を用いることによつて軸外光において
も瞳が保存されることについて説明する。
第４図は、第３図に示す実施例において検出器を設け
て測定する場合の光偏向部材にて走査を行なつた時のビ
ームの進光状況を示す図であつて、光ビームのうち光学
系の光軸に沿つて進む光ビーム20（実線にて示す）と、
光偏向部材にて偏向された光ビーム21（破線にて示す）
とを示してある。尚各光学部材については第３図に示す
ものと実質的に同一であるので同一符号にて示してあり
個々の説明は省略する。又この図には後に述べるように
試料面よりの反射光を利用しての検出の場合についての
説明も合わせ行なうためにビームスプリツター24等が示
してある。
て測定する場合の光偏向部材にて走査を行なつた時のビ
ームの進光状況を示す図であつて、光ビームのうち光学
系の光軸に沿つて進む光ビーム20（実線にて示す）と、
光偏向部材にて偏向された光ビーム21（破線にて示す）
とを示してある。尚各光学部材については第３図に示す
ものと実質的に同一であるので同一符号にて示してあり
個々の説明は省略する。又この図には後に述べるように
試料面よりの反射光を利用しての検出の場合についての
説明も合わせ行なうためにビームスプリツター24等が示
してある。
この図に示すように等価的に点光源であると考えられ
るレーザー光源よりの光ビームは、ズームレンズ11に入
射する。このズームレンズ11は前述のように入射ビーム
径を任意の大きさの射出ビーム径に変換できるビーム径
コンバーターである。このビーム径コンバーターである
ズームレンズ11を射出したビームは、対物レンズ18の瞳
18aと共役な瞳位置に配置された第１の光偏向部材12に
入射する。光ビームがこの第１の光偏向部材12にて偏向
されない場合は、光軸に沿つて進む。又この光偏向部材
によつて偏向されつまり水平方向（ｘ方向）の走査が行
なわれる場合は、例えば破線に示すようにビーム21は進
行する。ここで第１の光偏光部材12は瞳位置に置かれて
いるので、偏向された光ビーム21は、軸外主光線と一致
する方向に進みまた光ビームの中心も一致する。これら
光ビームは瞳伝送レンズ13,14により瞳位置に配置され
ている第２の光偏向部材15に入射する。ここで垂直方向
（ｙ方向）の走査が行なわれる。この第２の光偏向部材
15も瞳位置に配置されているので第１の光偏向部材12と
同様に偏向されない光ビームは光軸方向に又偏向された
光ビームは軸外主光線の方向に進む。ただし第１の光偏
向部材による走査方向と直角方向の走査であるので第２
の光偏向部材15により偏向された光は図面には表われて
いない。尚ｘ−ｙ両方向の偏向を行なうことのできる光
偏向器を用いれば光偏向器は一つでよい。このようにし
て第１の光偏向部材12,第２の光偏向部材15により２次
元的に走査された光ビームは、瞳投影レンズ16および結
像レンズ17により対物レンズ18の瞳18aに入射する。こ
こで上記光偏向部材12,15により形成される光ビームも
方向およびその中心が軸外主光線に一致しているので軸
外光のビームも対物レンズ18の瞳18aに正確に入射す
る。更にこれら光ビームは、対物レンズ18によつて試料
19上に回折で制限されるスポツト光として形成される。
このスポツト光は、光ビームが第１の光偏向部材12およ
び第２の光偏向部材15によつてＸ−Y2次元走査すること
により試料19上を２次元走査する。
るレーザー光源よりの光ビームは、ズームレンズ11に入
射する。このズームレンズ11は前述のように入射ビーム
径を任意の大きさの射出ビーム径に変換できるビーム径
コンバーターである。このビーム径コンバーターである
ズームレンズ11を射出したビームは、対物レンズ18の瞳
18aと共役な瞳位置に配置された第１の光偏向部材12に
入射する。光ビームがこの第１の光偏向部材12にて偏向
されない場合は、光軸に沿つて進む。又この光偏向部材
によつて偏向されつまり水平方向（ｘ方向）の走査が行
なわれる場合は、例えば破線に示すようにビーム21は進
行する。ここで第１の光偏光部材12は瞳位置に置かれて
いるので、偏向された光ビーム21は、軸外主光線と一致
する方向に進みまた光ビームの中心も一致する。これら
光ビームは瞳伝送レンズ13,14により瞳位置に配置され
ている第２の光偏向部材15に入射する。ここで垂直方向
（ｙ方向）の走査が行なわれる。この第２の光偏向部材
15も瞳位置に配置されているので第１の光偏向部材12と
同様に偏向されない光ビームは光軸方向に又偏向された
光ビームは軸外主光線の方向に進む。ただし第１の光偏
向部材による走査方向と直角方向の走査であるので第２
の光偏向部材15により偏向された光は図面には表われて
いない。尚ｘ−ｙ両方向の偏向を行なうことのできる光
偏向器を用いれば光偏向器は一つでよい。このようにし
て第１の光偏向部材12,第２の光偏向部材15により２次
元的に走査された光ビームは、瞳投影レンズ16および結
像レンズ17により対物レンズ18の瞳18aに入射する。こ
こで上記光偏向部材12,15により形成される光ビームも
方向およびその中心が軸外主光線に一致しているので軸
外光のビームも対物レンズ18の瞳18aに正確に入射す
る。更にこれら光ビームは、対物レンズ18によつて試料
19上に回折で制限されるスポツト光として形成される。
このスポツト光は、光ビームが第１の光偏向部材12およ
び第２の光偏向部材15によつてＸ−Y2次元走査すること
により試料19上を２次元走査する。
ここで試料を透過した光により観察する場合には、図
示するような試料の後方に配置されたコンデンサ−レン
ズ22および検出器23を用いる。この検出器23も瞳位置に
配置されており、これによつて軸上光も軸外光も検出器
23上の同じ位置に生じ、検出器23の感度むら等の影響を
防ぐことができまた検出器の面積も小さくてすむ。さら
に微分型検出を行なう場合は、検出器23を図示するよう
に二つの検出器23a,23bにて構成しそれらを光軸に対し
対称に配置すればよい。この場合軸外光でもビームの中
心と軸外主光線が一致するように設定されているので検
出器、23a,23bは軸外主光線に対しても対称な配置とな
り正確に微分型検出を行なうことができる。
示するような試料の後方に配置されたコンデンサ−レン
ズ22および検出器23を用いる。この検出器23も瞳位置に
配置されており、これによつて軸上光も軸外光も検出器
23上の同じ位置に生じ、検出器23の感度むら等の影響を
防ぐことができまた検出器の面積も小さくてすむ。さら
に微分型検出を行なう場合は、検出器23を図示するよう
に二つの検出器23a,23bにて構成しそれらを光軸に対し
対称に配置すればよい。この場合軸外光でもビームの中
心と軸外主光線が一致するように設定されているので検
出器、23a,23bは軸外主光線に対しても対称な配置とな
り正確に微分型検出を行なうことができる。
次に試料からの反射光にて検出する場合について述べ
る。
る。
試料19により反射された光ビームは、対物レンズ18と
その瞳18aを通り更に結像レンズ17を通り一担結像す
る。この結像面は通常の光学顕微鏡で像を観測する面で
ある。さらに瞳投影レンズ16により第２の光偏向部材15
にもどり、同様に瞳伝送レンズ14,13,第１の光偏向部材
12,ズームレンズ11を順次入射時と反対方向に進みビー
ムスプリツター24にて反射されてとりだされ集光レンズ
25にて集光された後に検出器27にて検出される。
その瞳18aを通り更に結像レンズ17を通り一担結像す
る。この結像面は通常の光学顕微鏡で像を観測する面で
ある。さらに瞳投影レンズ16により第２の光偏向部材15
にもどり、同様に瞳伝送レンズ14,13,第１の光偏向部材
12,ズームレンズ11を順次入射時と反対方向に進みビー
ムスプリツター24にて反射されてとりだされ集光レンズ
25にて集光された後に検出器27にて検出される。
ここでビームスプリツター24にて反射されてとりださ
れたビーム28は、瞳位置におかれている光偏向器15,12
を通つてもどつているので軸外を走査しても検出ビーム
28は動かない。この検出ビーム28は、集光レンズ25によ
つて符号26に示す位置に絞られるので、ここにピンホー
ルを設けその後方に検出器を配置して検出すればフレア
ーのない、通常の顕微鏡より高解像の画像を得ることが
出来る。この場合ピンホールを設けなくともよくその場
合は通常の画像が得られることは言うまでもない。また
符号26の位置に黒点状の遮光物を設ければ暗視野像での
観測が出来る。また光ビームの拡がつた位置に検出器と
して二つの検出器27a,27bにて構成したものを光軸に対
称に設置することによつて微分型観察が可能になる。
れたビーム28は、瞳位置におかれている光偏向器15,12
を通つてもどつているので軸外を走査しても検出ビーム
28は動かない。この検出ビーム28は、集光レンズ25によ
つて符号26に示す位置に絞られるので、ここにピンホー
ルを設けその後方に検出器を配置して検出すればフレア
ーのない、通常の顕微鏡より高解像の画像を得ることが
出来る。この場合ピンホールを設けなくともよくその場
合は通常の画像が得られることは言うまでもない。また
符号26の位置に黒点状の遮光物を設ければ暗視野像での
観測が出来る。また光ビームの拡がつた位置に検出器と
して二つの検出器27a,27bにて構成したものを光軸に対
称に設置することによつて微分型観察が可能になる。
以上の説明から明らかなように図示する実施例では軸
外光においても瞳が保存されることがわかる。
外光においても瞳が保存されることがわかる。
第５図は、光束中に絞りを設けることによつて対物レ
ンズの瞳に入射する光束の径を変化させるようにした他
の実施例である。この実施例では、光源７より出て空間
フイルター9,コリメーター10を通つたビームは絞り30に
より絞られた後に第１の光偏向器12に入射する。その後
は第３図と同様にして対物レンズに入射する。この実施
例において絞り30の径を変化させればビームの径を変化
させ得るので、対物レンズに入射するビームの径を変え
ることが出来る。この実施例の場合、構造が簡単であつ
て制作が容易で安価であるが、レーザービームを遮ぎる
ので光量がスポツト径により変化する。
ンズの瞳に入射する光束の径を変化させるようにした他
の実施例である。この実施例では、光源７より出て空間
フイルター9,コリメーター10を通つたビームは絞り30に
より絞られた後に第１の光偏向器12に入射する。その後
は第３図と同様にして対物レンズに入射する。この実施
例において絞り30の径を変化させればビームの径を変化
させ得るので、対物レンズに入射するビームの径を変え
ることが出来る。この実施例の場合、構造が簡単であつ
て制作が容易で安価であるが、レーザービームを遮ぎる
ので光量がスポツト径により変化する。
以上の実施例はレーザービームを走査する方式の走査
検査装置であるが、レーザービームは固定しステージを
走査する方式の走査検査装置にも本発明を適用すること
が出来る。
検査装置であるが、レーザービームは固定しステージを
走査する方式の走査検査装置にも本発明を適用すること
が出来る。
本発明の走査型検査装置は、対物レンズを変換するこ
となしにスポット径を変え得るのでスポット径の調整，
変更が簡単に行い得る。この場合、実施態様に示すよう
にビームコンバータにズームレンズを採用することによ
り、光量の減少をともなわないスポット径の変更が可能
である。また、光束径を変化させる手段を走査光学系の
入射側に設けたので、走査に伴う光束の移動を考慮する
ことなく光束径を変化させる手段を構成することがで
き、この光学手段の構成が簡単になる。
となしにスポット径を変え得るのでスポット径の調整，
変更が簡単に行い得る。この場合、実施態様に示すよう
にビームコンバータにズームレンズを採用することによ
り、光量の減少をともなわないスポット径の変更が可能
である。また、光束径を変化させる手段を走査光学系の
入射側に設けたので、走査に伴う光束の移動を考慮する
ことなく光束径を変化させる手段を構成することがで
き、この光学手段の構成が簡単になる。
第１図，第２図は本発明におけるスポツト径の変更の原
理を示す図、第３図は本発明の実施例の光学系を示す
図、第４図は上記実施例で軸外光における瞳の保存を示
す図、第５図は他の実施例の光学系の一部を示す図であ
る。 ７……レーザー光源、８……集光レンズ、９……空間フ
イルター、10……コリメーター、11……ズームレンズ、
12……第１の光偏向部材、13,14……瞳伝送レンズ、15
……第２の光偏向部材、16……瞳投影レンズ、17……結
像レンズ、18……対物レンズ、19…試料。
理を示す図、第３図は本発明の実施例の光学系を示す
図、第４図は上記実施例で軸外光における瞳の保存を示
す図、第５図は他の実施例の光学系の一部を示す図であ
る。 ７……レーザー光源、８……集光レンズ、９……空間フ
イルター、10……コリメーター、11……ズームレンズ、
12……第１の光偏向部材、13,14……瞳伝送レンズ、15
……第２の光偏向部材、16……瞳投影レンズ、17……結
像レンズ、18……対物レンズ、19…試料。
Claims (4)
- 【請求項１】レーザー光源と、該光源から発した光を物
体上に集光する対物レンズと、該対物レンズと前記光源
との間に配置された光偏向器を含む走査光学系と、該光
学系で走査した試料上の検査信号を検出する検出器とを
備えた走査型検査装置において、前記光偏向器を前記対
物レンズの瞳と共役な瞳位置に配置し、該光偏向器と前
記光源との間の前記走査光学系の入射側に対物レンズに
入射する光束の径を変化させるビームコンバータを配置
したことを特徴とする走査型検査装置。 - 【請求項２】前記走査光学系は前記対物レンズの瞳と共
役な瞳位置に水平方向または垂直方向の走査を行う一対
の光偏向器を備えたことを特徴とする特許請求の範囲
（１）に記載の走査型検査装置。 - 【請求項３】前記走査光学系は瞳伝送系を構成すること
を特徴とする特許請求の範囲（１）に記載の走査型検査
装置。 - 【請求項４】前記ビームコンバータはズームレンズから
なることを特徴とする特許請求の範囲（１）に記載の走
査型検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60056117A JP2515722B2 (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 走査型検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60056117A JP2515722B2 (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 走査型検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61217014A JPS61217014A (ja) | 1986-09-26 |
| JP2515722B2 true JP2515722B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=13018125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60056117A Expired - Lifetime JP2515722B2 (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 走査型検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2515722B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5184012A (en) * | 1991-12-26 | 1993-02-02 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical scanning apparatus with axis deviation correction |
| GB0428185D0 (en) * | 2004-12-23 | 2005-01-26 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
| JP2012093695A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-05-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 描画装置 |
| JP2017090851A (ja) * | 2015-11-17 | 2017-05-25 | オリンパス株式会社 | シート照明顕微鏡、及び、シート照明方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6068317A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-18 | Canon Inc | レ−ザビ−ムプリンタの光学走査装置 |
| JPS6068318A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-04-18 | J S Shoko Kk | 眼鏡における枠又はつるに飾り用宝石類を取着する方法 |
| JPS60220309A (ja) * | 1984-04-18 | 1985-11-05 | Ricoh Co Ltd | 光走査光学系 |
-
1985
- 1985-03-22 JP JP60056117A patent/JP2515722B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61217014A (ja) | 1986-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4734578A (en) | Two-dimensional scanning photo-electric microscope | |
| JPS61219805A (ja) | 表面形状測定器 | |
| US6124924A (en) | Focus error correction method and apparatus | |
| US4477185A (en) | Optical imaging apparatus | |
| US4720191A (en) | Method and apparatus for light span microscopic dark-field display of objects | |
| US20230324667A1 (en) | Flying-over beam pattern scanning hologram microscope device using scan mirror and translation stage | |
| WO2017154895A1 (ja) | 測定装置、観察装置および測定方法 | |
| JP2928277B2 (ja) | 投影露光方法及びその装置 | |
| US4745270A (en) | Photoelectric microscope using position sensitive device | |
| JPS61219919A (ja) | 走査型光学顕微鏡 | |
| JP2515722B2 (ja) | 走査型検査装置 | |
| US6794625B2 (en) | Dynamic automatic focusing method and apparatus using interference patterns | |
| JP2537364B2 (ja) | 電圧検出装置 | |
| JPH07128596A (ja) | コンフォーカル顕微鏡 | |
| JP4028864B2 (ja) | パターン欠陥検査方法および検査装置 | |
| KR100519266B1 (ko) | 공초점 현미경 | |
| JPS61264314A (ja) | 走査型光学顕微鏡 | |
| JP2001153785A (ja) | 走査型近接場光学顕微鏡 | |
| JPS6335481Y2 (ja) | ||
| JPH10133117A (ja) | 焦点検出装置を備えた顕微鏡 | |
| JPS6255542A (ja) | 光学系検査装置 | |
| JP3542171B2 (ja) | 顕微鏡装置 | |
| JPH0843717A (ja) | 焦点検出装置 | |
| JP2578507Y2 (ja) | 走査型光学顕微鏡 | |
| JPS61219920A (ja) | 走査型光学顕微鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |