DE2832150A1 - Verfahren und vorrichtung zum herstellen von kristallinen saphirrohren - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zum herstellen von kristallinen saphirrohrenInfo
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Description
SCHIFF ν. FONER STREHL SCHOBEL-HOPF EBBINGHAUS FINCK
Be s ehre ibung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Herstellen von kristallinen Saphirrohren durch Züchtung
aus einer Schmelze.
Bekannt sind verschiedene Verfahren zum Herstellen von Saphirrohren
mittels Züchtung auf einem Stabimpfkristall aus einem flüssigen ringförmigen Film, der an der Stirnfläche
einer die Form gebenden Einrichtung gebildet v/ird. Der Film wird kontinuierlich aus einem Tiegel durch Haarrohre in
den im Tiegel befindlichen Formgeber mit der Schmelze eingespeist. Eines der bei der Rohrzüchtung auftauchenden
Probleme, das mit einer Störung der mechanischen Festigkeit und Transparenz der Rohre in Verbindung steht, ist
durch die Besonderheiten der Temperaturverteilung im wachsenden Rohr bedingt. Das hängt damit zusammen, daß die im
rohrförmigen Saphirkristall auftretenden wärmeelastischen Spannungen zur Versetzung, Blockstrukturbildung und letztlich
zur Beeinträchtigung von mechanischen Eigenschaften des Kristalls führen.
Das bekannte Verfahren wird mit Hilfe einer Vorrichtung durchgeführt, die eine hermetisch abgeschlossene Kammer
mit einer Induktionsheizung für indirekte Erhitzung aufweist, die aus einem elektrisch leitenden runden Becher
mit einer um dessen Mantelfläche herum angeordneten Induktionsspule besteht.
Innerhalb dieses runden Bechers ist ein Tiegel mit Formgebern
angeordnet, die sich unterhalb der oberen Stirnfläche des runden Bechers befinden, der mit waagerechten Wärme-
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isοlierungsSchilden versehen ist, welche in dem runden Becher
über dem Tiegel angeordnet sind und Bohrungen zum Durchgang von dem zu ziehenden Rohr bzw. den zu ziehenden
Rohren aufweisen. Die Vorrichtung hat wie das Verfahren den Nachteil, daß die Temperaturverteilung im zu ziehenden
Rohr nicht berücksichtigt wird. Es ist außerdem zu beachten, daß eine Überhitzung des Tiegels eintritt, was zur
Bildung von Gasbläschen führt, die in den flüssigen Film und dadurch in den wachsenden Kristall gelangen, was dessen
mechanische Festigkeit verringert. Dieser Nachteil macht sich besonders bei der Fertigung von dünnwandigen Saphirrohren
bemerkbar.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei dem Verfahren
und mit der Vorrichtung für eine solche Temperaturführung
bei der Herstellung von kristallinen Saphirrohren zu sorgen, bei der eine hohe mechanische Festigkeit und Transparenz
der Rohre gewährleistet wird.
Die gestellte Aufgabe wird dadurch gelöst, daß bei der Herstellung
von kristallinen Saphirrohren durch Ziehen aus der Schmelze auf einen Impfkristall unter Verwendung eines benetzbaren
Formgebers in einer Inertgasatmosphäre erfindungsgemäß auf dem Ziehabschnitt zwischen der Kristallisationsfront
und dem Ziehabschnitt des Rohres, der eine Temperatur von 1850 bis 19000C aufweist, ein Temperaturgradient von
nicht über 30°C/cm in der Wand des zu ziehenden Rohres aufrechterhalten
und das gezüchtete Saphirrohr bei einer Temperatur von 1950 bis 20000C bei einem Temperaturanstieg von
30 bis 40°C/min getempert, bei der erwähnten Tempertemperatur gehalten und auf die erforderliche Temperatur bei einer
Temperatursenkung von 30 bis 40°C/min abgekühlt wird.
Ein Vorteil dieses Verfahrens besteht darin, daß die Saphirrohre unter solchen Wärmeverhältnissen gezüchtet werden, bei
denen im Züchtrohr keine Wärmespannungen auftreten, die zur
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Versetzung und Blockbildung führen, was hohe Festigkeitswerte des Rohres und eine gute Lichdurchlässigkeit ergibt.
Die relativ engen Temperaturbereiche der Bearbeitungszustände
sind dadurch bedingt, daß sich mechanische und optische Eigenschaften der Rohre außerhalb ihrer Grenzen stark
verschlechtern.
Die besten Ergebnisse können erreicht werden, wenn der erwähnte Temperaturgradient 10 bis 200C/cm beträgt.
Das Tempern hat 3 bis 4 Stunden lang zu erfolgen.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann mit Hilfe einer Vorrichtung
verwirklicht werden, die eine in einer"hermetisch abgeschlossenen Kammer angeordnete Induktionsheizung für die
indirekte Erhitzung in Form einer Induktionsspule um einen elektrisch leitenden runden Becher herum aufweist, in dem
ein Tiegel mit Formgebern unterhalb des oberen Randes des runden Bechers angeordnet ist, der mit waagerecht angeordneten
Wärmeisolierungsschilden versehen ist, die in dem runden Becher über dem Tiegel angeordnet sind und eine
Durchgangsbohrung zum Durchgang des zu ziehenden Rohres aufweisen, in der erfindungsgemaß der über dem Tiegel befindliche
Teil des runden Bechers ungefähr der Tiegelhöhe gleich ist, wobei seine Seitenwand auf diesem Abschnitt
eine Querschnittsverringerung hat, so daß die aus einem elektrisch leitenden Werkstoff ausgeführten Schilde sich
im Magnetfeld der Induktionsheizung befinden und am Oberteil
des Formgebers fluchtend damit ein Stab aus einem wärmeleitenden Werkstoff angeordnet ist, dessen Schmelzpunkt
über 21000C liegt.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung ermöglicht es, die nach dem Verfahren vorgesehene Temperaturverteilung und folglich
hohe mechanische Eigenschaften der hergestellten Saphirrohre zu gewährleisten,
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Noch günstigere Wärmeverhältnisse können geschaffen werden, wenn in den Schilden Zusatzkanäle zum Durchgang von konvektiven
Gasströmen ausgebildet werden, die im mittleren Teil der Schilde und auf ihrem Umfang angeordnet sind und flächenmäßig
über den Spalt zwischen dem Rohr und der in den Schilden angebrachten Bohrung für den Durchgang hinausgehen.
Es ist zweckmäßig, die Bohrungen in den benachbarten Schilden nicht fluchtend anzuordnen, so daß ein gewundener Kanal
gebildet wird.
Anhand der Zeichnungen wird die Erfindung beispxelsweise näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens im Querschnitt und
Fig. 2 die Temperaturverteilung auf dem Abschnitt
des Rohres von der Kristallisationsfront bis zu seinem Querschnitt mit einer Temperatur von
1850 bis 19000C.
Die Vorrichtung von Fig. 1 hat eine hermetisch abgeschlossene Kammer 1, in der sich eine von einem runden Becher 3
und einer Induktionsspule 31 gebildete Induktionsheizung 2
für die indirekte Erhitzung befindet. Innerhalb des runden Bechers 3 befindet sich ein Tiegel 4 mit einer Schmelze 5,
der Formgeber 6 aufweist, die mit Haarrohren 7 für die Zuführung mit ringförmigen Oberkanten 8 versehen sind. In der
Höhe entspricht der runde Becher 3 mindestens der dreifachen Höhe des Tiegels 4, wobei der Abstand vom Boden des runden
Bechers bis zum Tiegelboden nicht kleiner als die Höhe des
Tiegels 4 ist. Der über dem Tiegel befindliche Teil des runden Bechers ist in der Stärke reduziert und besitzt auf
diesem Abschnitt eine Wanddicke von 1/4 bis 1/2 der Bindringtiefe Δ des Induktionsströmes in den Werkstoff des
runden Bechers, die sich aus
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Δ= 5030 γ -^
/ cm /
ergibt, worin
S der spezifische Widerstand des Werkstoffes des runden Bechers in A cm, und
f die Frequenz des den Induktor durchfließenden Stromes in Hz
sind.
sind.
Die Höhe des in der Stärke reduzierten Teils entspricht ungefähr der Höhe des Tiegels.
Über dem Tiegel sind sechzehn ortsfeste waagerechte Schilde 9 angeordnet. Davon bestehen acht untere Schilde aus einem
elektrisch leitenden Werkstoff, die im Hohlraum des runden Bechers auf dem Abschnitt mit reduzierter Wandstärke angeordnet
sind.
Dadurch, daß auf diesem Abschnitt eine relativ dünne, (1/4 bis 1/2) Δ betragende Wanddicke des runden Bechers 3 gewählt
worden ist, werden diese Schilde unmittelbar durch den darin induzierten Strom erhitzt und weisen eine höhere Temperatur
als im Falle der Verwendung von "passiven" Schilden auf. Die Schilde 9 weisen der Höhe nach nicht fluchtend untereinander
angeordnete Bohrungen 11 zum Durchgang von konvektiven Gasströmen 12 auf. Die Bohrungen 11 sind sowohl
auf dem Mittenabschnitt als auch auf den Umfangsabschnitten der Schilde angeordnet. Durch diese Bohrungen wird die Temperaturverteilung
in den wachsenden Rohren 10 beträchtlich verbessert. Die sich daran ablagernde Teilchenmenge, die
durch diese Ströme gefördert wird, wird verringert. Damit die erwähnte Neuverteilung des Gasstromes wirksam wird,
ist der Querschnitt jeder Bohrung in den Schilden flächenmäßig mindestens nicht kleiner als die Spielraumfläche
zwischen den Schilden und den Wänden der wachsenden Rohre. Um hinreichende Wärmeisolierungskennlinien der Schildsysteme
aufrechtzuerhalten, sind die genannten Bohrungen nicht
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fluchtend in den benachbarten Schilden angeordnet. Infolge
der hohen optischen Eigenschaften stellt das gezüchtete Saphirrohr einen guten Lichtleiter dar, der eine gute intensive
Wärmeabführung von der Kristallisationsfront 13 nach oben durch Strahlung begünstigt. Zur Verminderung der Größe
der senkrechten Wärmestrahlung und dementsprechend zur Verminderung des Temperaturgradienten im wachsenden Rohr in
Längsrichtung sind an den Impfkristallhaltern 14 mindestens drei starr damit verbundene Schilde 15 angeordnet.
Zur zusätzlichen Verminderung des Temperaturgradienten im
Rohr in Längsrichtung sind unweit der Kristallisationsfront
an der Stirnfläche der Formgeber Stäbe 16 angeordnet, die um eine Größe, die zumindest dem Innendurchmesser der Kante gleich ist, über die ringförmigen Kanten der Formgeber
vorstehen. Diese Stäbe bestehen aus einem wärmeleitenden Werkstoff mit einem Schmelzpunkt von über 21000C. Um Verschiebungen
des Saphirimpfkristalls relativ zu der Ziehstange während der Züchtung auszuschalten, sind der Impfkristallhalter
und die Befestigungsteile des Impfkristalls,
insbesondere der zusammenziehende Draht 17 aus Niob ausgeführt, das einen dem Saphir nahen Wärmeausdehnungskoeffizienten
aufweist.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung arbeitet folgendermaßen:
Der Hohlraum des Tiegels 4 wird durch die Bohrungen in dem
ihn abschließenden Molybdändeckel 18 mit Aluminiumoxid gefüllt.
Danach werden die waagerechten Schilde 9 aufgestellt.
Nach der Hermetisierung der Kammer und der Evakuierung derselben
bis 10 mmHg wird durch einen Spannungsanstieg an der Induktionsspule 2 der Tiegel 4 auf eine Temperatur von
etwa 17000C erwärmt und 40 Minuten auf dieser Temperatur
gehalten. Danach wird die Kammer mit einem Inertgas, z.B. Argon, bis zu einem Überdruck von 0,1 bis 0,3 atü gefüllt.
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Durch einen weiteren Spannungsanstieg am Induktor wird ein Abschmelzen der Tonerde im Tiegel 4 unter Bildung der
Schmelze 5 erzielt, die durch die im Formgeber befindliche Rohrkapillare 7 zu ihren oberen ringförmigen Kanten 8 aufsteigt. Durch Absenken der Stabimpfkristalle bis zur Berührung mit den Kanten 8 werden die Enden der Impfkristalle abgeschmolzen. Dabei bildet sich eine dünne 0,2 bis 0,3 mm starke Schmelzflußhaut an den Kanten der Formgeber unter
dem Impfkristall. Durch die programmgesteuerte Änderung der Temperatur und durch die Hubgeschwindigkeit des Impfkristalls wird der Kristall 10 auf eine beliebige bekannte
Weise von dem Stabimpfkristall bis zur Umwandlung der KrI-stallisationsfornt und dementsprechend der Schmelzflußhaut an den Kanten des Formgebers in einem geschlossenen Ring gezüchtet. Nach diesem Zeitpunkt wird der wachsende Kristall rohrförmig. Die Verwendung von rohrförmigen Impfkristallen ist ebenfalls möglich.
Schmelze 5 erzielt, die durch die im Formgeber befindliche Rohrkapillare 7 zu ihren oberen ringförmigen Kanten 8 aufsteigt. Durch Absenken der Stabimpfkristalle bis zur Berührung mit den Kanten 8 werden die Enden der Impfkristalle abgeschmolzen. Dabei bildet sich eine dünne 0,2 bis 0,3 mm starke Schmelzflußhaut an den Kanten der Formgeber unter
dem Impfkristall. Durch die programmgesteuerte Änderung der Temperatur und durch die Hubgeschwindigkeit des Impfkristalls wird der Kristall 10 auf eine beliebige bekannte
Weise von dem Stabimpfkristall bis zur Umwandlung der KrI-stallisationsfornt und dementsprechend der Schmelzflußhaut an den Kanten des Formgebers in einem geschlossenen Ring gezüchtet. Nach diesem Zeitpunkt wird der wachsende Kristall rohrförmig. Die Verwendung von rohrförmigen Impfkristallen ist ebenfalls möglich.
Beim Züchten der Fand des wachsenden Rohres wird ein Temperaturgradient
in Längsrichtung von nicht über 300C auf dem
Abschnitt von der Kristallisationsfront bis zum Querschnitt des Rohres mit einer Temperatur von 1850 bis 19000C aufrechterhalten.
Eine Überschreitung in der Größenordnung von 300C führt zu einer merklichen Verschlechterung der Struktur
des Kristalls und verursacht außerdem einen wesentlichen Dichtesprung des dunklen Beschlags an der Oberfläche,
der die Rohrwände überzieht, sowie eine Vergrößerung der
Gasbläschenzahl des Rohrvolumens. Sehr geringe Temperaturgradienten sind unzweckmäßig, weil festgestellt wurde, daß dabei keine merkliche Verbesserung der Struktur bzw. der
Transparenz des Rohres stattfindet. Gleichzeitig wird aber die Produktivität des Prozesses geringer. Die Aufrechterhaltung der erwähnten Grenze des Temperaturgradienten auf
dem oberhalb der kritischen Temperatur von 1850 bis 19000C erwärmten Abschnitt ist ein sehr wichtiger Aspekt der Erfindung .
Gasbläschenzahl des Rohrvolumens. Sehr geringe Temperaturgradienten sind unzweckmäßig, weil festgestellt wurde, daß dabei keine merkliche Verbesserung der Struktur bzw. der
Transparenz des Rohres stattfindet. Gleichzeitig wird aber die Produktivität des Prozesses geringer. Die Aufrechterhaltung der erwähnten Grenze des Temperaturgradienten auf
dem oberhalb der kritischen Temperatur von 1850 bis 19000C erwärmten Abschnitt ist ein sehr wichtiger Aspekt der Erfindung .
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Die erfindungsgemäße Temperaturverteilung über der Länge des wachsenden Rohres zeigt Fig. 2. Der schraffierte Abschnitt zeigt den zugelassenen Temperaturänderungsbereich,
der Abschnitt zwischen zwei ausgezogenen Linien die Schmelzflußsäure, während die obere Linie der Kristallisationsfront entspricht.
Die Aufrechterhaltung dieses Temperaturänderungsbereichs
in Übereinstimmung mit dem Diagramm von Fig. 2 wird mit Hilfe der erfindungsgemäßen Vorrichtung mittels Spannungsänderung am Induktor gewährleistet.
Nach Abschluß der Züchtung werden die Rohre durch eine
starke Steigerung der Hubgeschwindigkeit der Impfkristalle oder durch Absenken des Tiegels mit den Formgebern nach unten
von der Schmelze losgerissen. Die gezüchteten kristallinen Rohre werden einem Tempern unterzogen, bei dem der
Temperaturanstieg auf 1950. bis 20000C mit einer Geschwindigkeit
von 30 bis 40°C/min, das Halten auf dieser Temperatur 3 bis 4 Stunden lang, die Temperatursenkung mit einer
Geschwindigkeit von 30 bis 40°C/min erfolgt.
Die erwähnte, auf die Temperaturverhältnisse beim Züchten abgestimmte Temperaturhaltung beim Tempern ist optimal,
weil bei einer Abweichung von dieser Temperaturhaltung in Richtung der Erhöhung der Tempertemperatur bzw· -zeit die
Produktivität des Prozesses wesentlich abnimmt, und bei einer Temperatursenkung oder Zeitverkürzung beim Tempern
eine unvollständige plastische Nachwirkung von Spannungen im Rohr eintritt.
Es wurden Saphirrohre unter Verwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens (Beispiel 2) und ohne Berücksichtigung
der Temperatürführung (Beispiel 1) gezüchtet.
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Es wird ein Saphirrohr mit einem Durchmesser von 9 mm mit
einer Wanddicke von 0,75 mm "bei einem Temperaturgradienten in Längsrichtung in der Wand des wachsenden Rohres von 38°C/
cm in einem Ofen ohne Bohrungen zum Durchgang des konvektiven Gasstromes in den Schilden über dem Tiegel gezüchtet.
Kein anschließendes Tempern. Man erhält ein Saphirrohr mit einer integralen Lichtdurchlässigkeit von 85,5 %■>
Bei lichttechnischen und mechanischen Versuchen des Rohres in einer 400 ¥ - Hochdrucknatriumlampe werden folgende Ergebnisse
erzielt: Lichtausbeute der Lampe 105 Im/Ttff nach 911
Betriebsstunden fällt die Lampe wegen eines Rohrrisses aus.
Beist)iel 2
Es wird ein Saphirrohr bei einem Temperaturgradienten in Längsrichtung in der Wand des wachsenden Rohres von 28°C/cm
gezüchtet. Die Züchtung erfolgt in einem Ofen mit Bohrungen in den Schilden zum Durchgang von konvektiven Gasströmen.
Nach der Züchtung wird das hergestellte Saphirrohr mit einem Temperaturanstieg von 40°C/min auf etwa 19700C gebracht und
dadurch getempert, wobei diese Temperatur 3 Stunden lang gehalten wird. Die Temperaturerniedrigung auf die Raumtemperatur erfolgte mit einer Geschwindigkeit von 40 C/min»
Man erhält ein Saphirrohr mit einer integralen Lichtdurchlässigkeit
von 91 %» Bei lichttechnischen und mechanischen
Versuchen des Rohres in einer Hochdrucknatriumlampe werden folgende Ergebnisse erzielt? Lichtausbeute der Lampe
120 lm/W; nach Abschluß der Versuche werden nach 3500 Betriebsstunden
keine mechanischen Beschädigungen festgestellt.
Somit ist es unverkennbar, daß die Einhaltung der vorgeschlagenen Temperaturführung beim Züchten des Saphirrohres
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sowohl die lichttechnischen als auch die mechanischen Eigenschaften
der Saphirrohre in "bedeutendem Maße verbessert.
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e e r s e i t e
Claims (7)
1. Verfahren zum Herstellen von kristallinen Saphirrohren,
die aus der Schmelze auf einem Impfkristall unter Verwendung eines schmelzbenetzbaren Formgebers in einer Inertgasatmosphäre gezogen v/erden, dadurch gekenn
zeichnet, daß auf dem Ziehabschnitt zwischen der Kristallisationsfront und dem Ziehabschnitt des Rohres, der
eine Temperatur von 1850 bis 1900°C aufweist, ein Temperaturgradient in Längsrichtung von nicht über 30°C/cm in der
Wand des zu ziehenden Rohres aufrecht erhalten und das gezüchtete Rohr bei einer Temperatur von 1950 bis 2000°C bei
einem Temperaturanstieg von 30 bis 40°C/min getempert, auf
der erwähnten Tempertemperatur gehalten und auf die erfor-
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derliche Temperatur mit einer TemperatürSenkung von 30 bis
40°C/min abgekühlt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet , daß der Temperaturgradient auf dem Ziehabschnitt 10 bis 20°C/cm beträgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet
, daß das Tempern 3 bis 4 Stunden lang erfolgt.
4. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem
der Ansprüche 1 bis 3, mit einer in einer hermetisch abgeschlossenen Kammer angeordneten Induktionsheizung für die
indirekte Erhitzung in Form einer Induktionsspule, die
einen elektrisch leitenden runden Becher ungibt, in dem ein Tiegel mit Formgebern unterhalb des oberen Randes des runden
Bechers angeordnet ist, der mit waagerecht angeordneten Wärmeisolierungsschilden versehen ist, die in dem runden
Becher angeordnet sind und eina Bohrung zum Durchgang des zu ziehenden Rohres aufweisen, dadurch gekennze
lehnet , daß der über dem Tiegel (4) befindliche Teil des runden Bechers (3) ungefähr der Tiegelhöhe
entspricht, und daß seine Seitenwand auf diesem Abschnitt eine Querschnittsabnahme aufweist, so daß die aus
einem elektrisch leitenden Werkstoff ausgeführten Schilde sich im Magnetfeld der Induktionsheizung befinden, wobei
am Oberteil des Formgebers (6) fluchtend dazu ein Stab (16)
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aus einem wärmeleitenden Werkstoff angeordnet ist, dessen Schmelzpunkt über 21000C liegt.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß in den Schilden (9) Zusatzbohrungen zum Durchgang von konvektiven Gasströmen ausgebildet
sind, die im mittleren Teil der Schilde und auf ihrem Umfang angeordnet sind und eine Querschnittsfläche aufweisen,
die größer ist als die Spielraumfläche zwischen dem Rohr und den in den Schilden ausgebildeten Durchgängen für
das Ziehen.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch g e kennze ichnet , daß die Bohrungen in den benachbarten
Schilden nicht fluchtend angeordnet sind.
7. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand von dem Tiegelboden
bis zum Boden des runden Bechers nicht kleiner als die Tiegelhöhe ist.
909808/0733
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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SU2509201 | 1977-07-21 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2832150A1 true DE2832150A1 (de) | 1979-02-22 |
DE2832150C2 DE2832150C2 (de) | 1982-07-01 |
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ID=20718666
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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FR (1) | FR2397875A1 (de) |
GB (1) | GB2001866B (de) |
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DE2611056A1 (de) * | 1975-03-17 | 1976-09-30 | Tyco Laboratories Inc | Vorrichtung und verfahren zum ziehen von kristallkoerpern aus der schmelze |
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Patent Citations (1)
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