DE2809261A1 - Durch photonenbestrahlung vernetzbare zusammensetzungen und deren verwendung - Google Patents
Durch photonenbestrahlung vernetzbare zusammensetzungen und deren verwendungInfo
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Description
- 6 Patentanwälte
Dipl.-Ing Dipl.-Chem. Dipl -Ing / O U 3 / D !
E. Prinz - Dr. G. Hauser - G. Leiser
Ernsbergerstrasse 19
8 München 60
THOMSON - CSF 3. März 1978
173» Bd. Haussmann
75008 Paris / Frankreich
75008 Paris / Frankreich
Durch Photonenbestrahlung vernetzbare Zusammensetzungen
und deren Verwendung
Die Erfindung betrifft durch Photonenbestrahlung vernetzbare Zusammensetzungen, sowie deren Verwendung. Es
handelt sich um Photonenstrahlungen sowohl des sichtbaren als auch des unsichtbaren Bereichs, insbesondere
um Ultraviolettstrahlung, Röntgenstrahlung oder Gammastrahlung.
Das Phänomen der Vernetzung von sogenannten negativen Harzen, die unter der Einwirkung von Photonenstrahlungen
durch wBrücken"-Bildungen zwischen den verschiedenen
Ketten von in ihnen enthaltenen Polymerisaten unter Ausbildung eines dreidimensionalen Gitters aushärten, ist
bekannt. Das zeigt sich dann bezüglich der den Harzen innewohnenden Eigenschaften in einer Erhöhung ihres
Molekulargewichts, das für ihre Unlöslichkeit in Entwicklerlösungen verantwortlich ist.
-7- 2809761
Die im Handel befindlichen vernetzbaren Harze bestehen aus:
- entweder einem sowohl eine vernetzbare als auch eine lichtempfindliche Gruppe enthaltenden Polymerisat;
- einem gleichzeitig ein Polymerisat mit einer vernetzbaren Einheit und einen Photoinitiator oder Photosensibillsator
enthaltenden "System".
Nachstehend wird größenordnungsgemäßig die Empfindlichkeit
von zwei bekannten vernetzbaren Zusammensetzungen angegeben:
- 4 mJ/cm (bei Photonenbestrahlung mit einer Wellenlänge von 404,7 nm) für das Harz KPR der Marke Kodak;
- 1,3 mJ/cm (bei Photonenbestrahlung mit einer Wellenlänge von 351,1 und 363,8 nm) für das Epoxydharz mit der
Handelsbezeichnung "PSE-2"; eine solche Empfindlichkeit erfordert eine Belichtungszeit von etwa 10 Sekunden unter
den in der Industrie üblichen Arbeitsbedingungen.
Die vorliegende Erfindung ermöglicht die Erzielung von höheren Empfindlichkeiten als die der bisher bekannten
besten Harze, und zwar in den günstigsten Fällen Empfind-
Henkelten in der Größenordnung eines zehntel mJ/cm .
Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen besitzen noch weitere Vorteile, die nachstehend näher erläutert werden.
- 8 - 7809761
Die durch Photonenbestrahlung vernetzbare erfindungsgemäße Zusammensetzung enthält mindestens einen Stoff,
dessen chemische Formel einen Thiiranring (Äthylensulfidring)
zeigt, und sie kennzeichnet sich dadurch, daß dieser Stoff 2,3-Epithiopropylmethacrylat der Formel
R
C H2 -- i
C H2 -- i
Q-O-CHn-CH -
8 2
ist, worin R ein Wasserstoffatom oder ein Alkylrest mit
1 bis 4 Kohlenstoffatomen ist.
Gemäß einem anderen Merkmal der Erfindung enthält die
Zusammensetzung mindestens ein Vinylmonomeres der Formel
CH2 = C
C-OR"
2809761
worin R1 entweder Wasserstoff oder eine Alkylgruppe
C Hpn -, η = eine ganze Zahl· von 1 bis 10, und R"
eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen ist.
Gemäß einem anderen Merkmal der Erfindung enthält
die Zusammensetzung außerdem mindestens eines der beiden folgenden Salze:
ein Aryldiazoniumsalz der allgemeinen Formel:
e> "N =N)a (MXb+a)
η ^-
(D
ein Aryliodoniumsalz:
- (Y)n - T2
(2)
worin η * 0 oder 1.
In diesen Formeln bezeichnet:
- der Substituent Δ einen oder mehrere Reste, nämlich:
- C H.
8098 36/03
-ίο- ?8Π9?61
- die Buchstaben a und b bezeichnen ganze Zahlen von 1 bis 5;
- das Element M ist ein Metall, nämlich Fe, Sn, Sb oder Bi, oder ein anderes Element, nämlich B, P, As;
- X ist ein Halogen, wie F oder Cl;
- T1 und T2 sind aromatische Reste (die identisch sein
können) mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen (Phenyl, Thienyl, Furanyl, Pyrazolyl);
- Y ist ein Rest:
R, - "N (wobei R5 = H oder ein Alkyl, ein Acyl oder
eine C-C-Bindung);
R^ -C-Rp (wobei R^ und Rp gleiche oder verschiedene
Reste bedeuten, nämlich H oder eine Alkylgruppe mit
1 bis 4 Kohlenstoffatomen, oder eine Alkenylgruppe mit
2 bis 4 Kohlenstoffatomen).
Das Mischpolymerisat aus 1,3-Epithiopropylmethacrylat
und dem Vinylmonomeren kann auf folgende Weise erhalten werden:
Man geht von Glycidylmethacrylat der Formel:
809836/0859
?an9?6!
C H2 = C
C - O - C H0 - C H - C
a 2^
aus, das man bei Raumtemperatur in einem Gemisch aus Wasser und Äthanol mit Thioharnstoff der Formel:
N - C - N
reagieren läßt.
Die Reaktion ergibt 2,3-Epithiopropylmethacrylat der
Formel:
CH2 = C
C-O-C H0 -CH-CH.
0 b
Dieser Stoff wird mit Äther extrahiert. Die Lösung wird über Natriumsulfat getrocknet. Der Äther wird unter
Vakuum ausgetrieben und das verbleibende Produkt wird im Vakuum destilliert.
Das so erhaltene Epithiopropylmethacrylat wird in einem Lösungsmittel, z.B. Benzol, mit einer 20 bis
60 Gew.% entsprechenden Menge des Vinylmonomeren
gemischt. Dazu gibt man Azobisisobutyronitril, welches als Copolymerisationskatalysator wirkt. Das Gemisch
wird unter Stickstoff eine bis mehrere Stunden auf 800C
erwärmt. Nach der Abkühlung erhält man das Mischpolymerisat durch Ausfällung mit Methanol und anschließende
Vakuumtrocknung.
Das Vinylmonomere kann beispielsweise auch Butylmethacrylat
oder Äthylacrylat sein.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Ausführungen und Beispiele besser verständlich, welche insbesondere
auch die Anwendungen des Harzes beschreiben.
In der Formel des Diazoniumsalzes ist das Ion
ein komplexes halogeniertes Anion (X = F oder Cl) mit
einem metallischen oder nichtmetallischen Element M (wie vorstehend definiert), wobei die Ladung dieses
Anions a ist. Die Anzahl negativer Ladungen zeigt auch die Anzahl von halogenierten Ionen an, die mit der
Lewis-Säure M X^ einen Komplex gebildet haben.
Eine analoge Situation besteht mit einer einzigen negativen Ladung an dem halogenierten Anion im Fall
des Diaryliodoniumsalzes.
7809761
Diese Salze erzeugen durch Photolyse die Lewis-Säuren M X^, welche chemisch die Vernetzung durch einen kationischen
Mechanismus einleiten. Dieser Mechanismus besteht in der Bildung einer Koordinationsbindung zwischen dem
eine Elektronendublette liefernden Schwefelatom der Thiiiranringe und dem diese Elektronendublette aufnehmenden
Element M.
Die Bildung eines Komplexes mit der Neigung zur Ionenbildung, was auf der stärkeren Polarisierung einer der
Bindungen C-S der Thiiranringe beruht, regt die Öffnung der anderen Thiiranringe an, wobei eine kationische
Vernetzungsreaktion abläuft.
Μ Xb + Λ " .CN ^>
> - c\ <3)
χ" "' χ~ ~χ ->
|mxw - S - C - C - S - C - C...
[■
- -14 - ? R Π 9 ? 6
Die Phase (3) ist die Initiierungsphase; die Phase (4)
ist die Phase fortschreitender Vernetzung.
Da der Thiiranring durch radikalische Mittel nicht (oder nur wenig) beeinflußt wird, jedoch gegenüber einem
Ionenangriff sehr empfindlich ist, ist die zur Vernetzung der "Thiiran"-Harze erforderliche Strahlungsmenge in
Anwesenheit von Lewis-Säuren wesentlich geringer als bei Bestrahlung ohne diese.
Die Photovernetzung der erfindungsgemäßen Verbindungen ist eine "ausgelöste" Reaktion. Wenn nämlich einmal der
Abbau der Photoinitiatoren (Aryldiazonium- oder Aryliodoniumsalze)
eingesetzt hat, d.h. nach Bildung der Lewis-Säuren, kann die Bestrahlung gestoppt werden und
die Vernetzungsreaktion kann dann in Abwesenheit einer Bestrahlung, wie jede durch Lewis-Säuren initiierte
Polymerisationsreaktion, fortschreiten.
Während die erfindungsgemäßen Harze bei alleiniger Verwendung nur in einem engen Spektralbereich sensibilisiert
werden können, ermöglicht der Zusatz der genannten Photoinitiatoren nicht nur eine Zunahme der Empfindlichkeit,
sondern auch eine Verbreiterung des spektralen Empfindlichkeitsbereichs, der in bestimmten Fällen bis in den
Bereich des sichtbaren Lichts ausgedehnt wird.
Wenn man auf den Substituenten der Arylgruppe im Fall der Aryldiazoniumsalze einwirkt, verschiebt man so den
Absorptionsbereich nach dem Sichtbaren. Z.B. bewirkt man mit einem Substituenten wie einem Halogen oder einem
Alkylrest eine leichte Verschiebung nach den größeren Wellenlängen hin (bis zu 273 nm für den Substituenten Cl).
- 15 - 78Π9761
Diese Verschiebung wird sehr ausgeprägt, wenn Gruppen mit nichtgebundenen Elektronen ersetzt werden, wie:
-OH;-NH2;-CHO;-NO2 ; - 0 C H3
Zur Erzielung einer Sensibilisierung im Bereich des sichtbaren Lichts muß man z.B. den vorstehend genannten
Stoffen sogenannte "photooptische" Stoffe zusetzen, die zur Sensibilisierung der Photoinitiatoren dienen (z.B.
der Aryldiazonium- und Aryliodoniumsalze). Im allgemeinen erfolgt die Sensibilisierung durch Übertragung der
Energie aus dem "triplet"-Zustand des Sensibilisators (Donator) auf den "triplef-Zustand des Initiators
(Akzeptor), wobei der Photoabbau unter der Wirkung dieser Energiezufuhr vor sich geht.
Je nach dem gewünschten spektralen Sensibilisierungsbereich
können die "photooptischen" Stoffe zu verschiedenen Farbstoffgruppen gehören, vorausgesetzt,
daß diese Farbstoffe nicht die in der Initiierungsphase gebildeten Lewis-Säuren zerstören, und daß ihre Energieniveaus
an diejenigen der verwendeten Photoinitiatoren angepaßt sind, um eine wirksame Energieübertragung zu
ermöglichen.
Als Beispiele seien genannt: die !Cumarine, die Xanthene,
die Acridine, die Thiopyronine, die Safranine, die Thiazine, die Oxazine, die Cyanine (Carbocyanine, Oxacyanine,
Thiacyanine), die gefärbten polycyclischen aromatischen Kohlenwasserstoffe, und schließlich Verbindungen
mit parasubstituierten Aminostyrylgruppen.
Wie bereits vorstehend gesagt wurde, können die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen durch ionisierende Strahlungen,
z.B. Röntgen- oder Gammastrahlung, vernetzt werden. Ihre Empfindlichkeiten gegenüber diesen Strahlungen sind um etwa
zehnmal höher als diejenigen der entsprechenden "Epoxyd"-Harze,
und betragen z.B. 80 j/cm anstelle von 7^0 J/cnr
für eine Bestrahlung mit einer Wellenlänge von 8,34 Ä.
Im Fall einer Bestrahlung mit weichen Röntgenstrahlen (Spektralbereich, in welchem die photoelektrische Absorption
die Compton-Diffusion überwiegt), z.B. für Photonen mit einer Energie zwischen etwa 0,1 und 10 KeV, kann man
außerdem die Empfindlichkeit der erfindungsgemäßen Verbindungen
gegenüber derjenigen der Epoxydharze dadurch verstärken, daß man ihren Absorptionskoeffizienten für
Röntgenstrahlen durch Optimalisierung der Wellenlänge der Bestrahlung erhöht, wie dies nachstehend erläutert
wird.
Es ist bekannt, daß die Empfindlichkeit eines Harzes für eine Strahlung von der Energie der einfallenden
Photonen, die es absorbiert, abhängt. Sein sogenannter "X-photoelektrischer" Absorptionskoeffizient ist eine
ausgewogene Summe der Absorptionskoeffizienten der verschiedenen Atomarten, aus denen das Harz besteht. Diese
Koeffizienten nehmen mit der Wellenlänge der einfallenden
Strahlung (proportional der dritten Potenz derselben) und mit der Atomzahl des absorbierenden Stoffs (proportional
der vierten Potenz) zwischen den Quantensprüngen, welche die photoelektrische Absorption kennzeichnen, zu. Diese
den Ionisierungspotentialen der verschiedenen Energieniveaus entsprechenden Sprünge sind für jede Atomart
charakteristisch.
2809761
Um die Empfindlichkeit für weiche Röntgenstrahlen der
erfindungsgemäßen Zusammensetzungen zu erhöhen, wählt man
z.B. die Wellenlänge der Röntgenstrahlen in dem jenseits einem Quantensprung von Sauerstoff und diesseits eines
der folgenden Quantenspriinge von Schwefel gelegenen Spektralbereichs.
Zwischen der Wellenlänge von 76,05 Ä (Quantensprung
L11 des Schwefels) und von 23,30 Ä (Quantensprung K
von Sauerstoff) ist somit der Absorptionskoeffizient des Schwefels sieben- bis zwanzigmal größer als derjenige
des Sauerstoffs, während diese beiden Koeffizienten für kürzere Wellenlängen etwa den gleichen Wert von
23 000 cm" bis 22,3 Ä besitzen; der Absorptionskoeffizient des Sauerstoffs wird bei höheren Wellenlängen
(55 700 bzw. 24 900 cm"1 bis 109 S) größer als derjenige des Schwefels.
Die nachstehende Tabelle zeigt die Absorptionskoeffizienten der Atome Sauerstoff und Schwefel für bestimmte
Wellenlängen (oder Photonenenergien) in dem für eine Erhöhung der Empfindlichkeit der erfindungsgemäßen Verbindungen
günstigen Bereich; die gewählten Wellenlängen sind diejenigen der Spektrallinien verschiedener, in dem
betrachteten Bereich emittierender Atome.
809836/08 5 9
7ΒΠ9761
λ (Λ) | E(KeV) | Art der ausge sandten Spek trallinie |
0(cm x) | S(om x) | 0 |
23,6 27,1J 31Jl 31,6 44,7 58, 4 64,4 67,6 72,2 |
0,525 0,452 0,395 0,392 0,277 0,212 0,193 0,183 0,172 |
0 - K α Ti - L Λ ο al,2 Ti - L1 N-K a C-K w - Vvii B-K a Nb-M |
1368 2002 2825 2881 6890 13247 I6587 188*14 21842 |
25931 37943 50798 51605 99236 1266OI 144465 153553 165145 |
19,7 18,95 18,0 17,9 14,4 9,6 8,7 8,15 7,6 |
In dem genannten Bereich ermöglicht die Verwendung von Photoinitiatoren wie den komplexen Aryldiazonium- und
Diaryliodoniumsalzen die Erhöhung der Empfindlichkeit der Verbindungen mit Thiiranring, wobei die Röntgen-
oder Gammaphotonen in gleicher Weise den Abbau dieser Salze zu Lewis-Säuren anregen.
Im übrigen ermöglicht im Bereich der weichen Röntgenstrahlen, wo die photoelektrische Absorption überwiegt,
die Wahl des Photoinitiators, insbesondere die Wahl des Elements M in der allgemeinen Formel des komplexen
Salzes, eine Erhöhung der Empfindlichkeit der erfindungsgemäßen Verbindungen, wie dies nachstehend gezeigt
wird.
?8Π9?61
Man -weiß nämlich, daß ganz allgemein der Mechanismus
der Wechselwirkung zwischen Strahlung und empfindlichem Harz über eine Energieübertragung der chemischen Gruppe
oder des absorbierenden Atoms des Harzes in Richtung auf seinen empfindlichen Teil verläuft. Die Wirksamkeit
dieser Übertragung hängt von dem Abstand zwischen diesen beiden "Einheiten" ab.
Man kann daher aus dem geringen Abstand zwischen der
absorbierenden Gruppe und der empfindlichen Gruppe im Fall der Verwendung der genannten komplexen Salze Nutzen
ziehen, d.h. aus der engen Nachbarschaft zwischen dem Schwefelatom des Thiiranrings und dem Element M der
Lewis-Säure. Dieses Element wird deshalb in Abhängigkeit von seinem Absorptionskoeffizienten für Röntgenphotonen
gewählt.
Die nachstehende Tabelle nennt Absorptionskoeffizienten
in cm"1 für fünf Elemente M in fünf Fällen, die durch die Emission verschiedener Atomspektrallinien gekennzeichnet
sind.
8,31I A | 13,3 A | 23,6 A | |
Elemenx*""--^^ | Linie K Λ o von Al al, 2 |
Linie L . 2 von Cu | Linie Ka von 1Ό |
Fe | 27071 | 84173 | 31504 |
Sn | 24350 | 70344 | I68788 |
Sb | 23522 | 63625 | 22870 |
Bi | 2658Ο | 62137 | 123689 |
As | 30942 | 14359 | 50453 |
44,7 A | 72,2 A | |
Element ^^-~>^^ | Linie K von C α |
Linie M von Nb |
Fe | 104724 | 221196 |
Sn | 46287 | 47932 |
Sb | 14167 | 44181 |
Bi | 92918 | 32019 |
As | 159867 | 268336 |
Im folgenden werden die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen als "Thiiranharz" bezeichnet.
Man kann zwei grundsätzliche Verwendungen der Thiiranharze
nennen.
Der erste Fall ist die Herstellung von Masken "in situ" während der Herstellung elektronischer Bauteile, wobei
die Masken für die elektronische Maskierung bestimmt sind. Es ist dies die insbesondere zur Herstellung integrierter
Schaltungen angewendete Mikrolithographie.
Der zweite Fall ist die Behandlung verschiedener Gegenstände mit dem Ziel, sie mit einer Schutzschicht zu versehen;
es trifft dies für Umhüllungen elektrischer Kabel und Möbelstücke zu.
#09816/0359
In den beiden Fällen beginnt man mit der Herstellung
einer Lösung des Thiiranharzes in einem Lösungsmittel, z.B. Butanon-2.
Im ersten Fall bringt man die Lösung auf ein mehrere in der Herstellung begriffene integrierte Schaltungen
enthaltendes Substrat oder Plättchen auf, und zwar mittels einer Zentrifugiervorrichtung. Je nach der
Rotationsgeschwindigkeit des Substrats erhält man eine Schicht mit unterschiedlicher Dicke von z.B. 200 bis
500 Nanometer.
Die Bestrahlung erfolgt dann mittels einer Quelle für aktinisches Licht (sichtbar oder ultraviolett) z.B.
mittels einer Deuteriumlampe, einer Quecksilberdampflampe, einer Xenonlampe, einer Kohlebogenlampe, einer
Lampe mit Wolframdraht oder einem Laser, z.B. einem Laser mit organischen Molekülen (z.B. organischer
Scintillator oder Farbstoff).
Im zweiten Fall verfährt man entweder in gleicher Weise oder durch Tauchen oder durch Aufstäuben. Die Schicht
wird in der Regel bei Anwendung dieser beiden letzteren Verfahren dicker, was zur Erzielung eines wirksamen
Schutzes günstig ist.
Die Bestrahlung soll in diesem zweiten Fall in die Tiefe
wirken, weshalb man zweckmäßig eine eindringende Strahlung, z.B. weiche Röntgenstrahlen, verwendet. Man verwendet zu
diesem Zweck entweder ein Synchrotron oder eine Vorrichtung
mit einer Elektronenkanone und einer in Abhängigkeit von der gewünschten Wellenlänge gewählten Antikatode:
Rhodium (Linie im Spektrum bei 4,6 £), Molybdän (Linie
98 38/0859
bei 5,41 Ä), Aluminium (Linie bei 8,34 S), Kupfer
(Linie bei 13,3 Ä), Kohlenstoff (Linie bei 44,7 S). Schließlich kann man auch die von einer klassischen
Cäsium- oder Kobaltquelle stammenden Gammastrahlen verwenden.
Dieses Beispiel betrifft die Photovernetzung eines allein verwendeten Thiiranharzes für seine Verwendung
in der Mikrolithographie.
1,5 g eines Copolymerisate aus Epithio-2,3-propylmethacrylat
und Methylacrylat (im Verhältnis 1:1) werden in Butanon-2 unter Erzielung einer 1Oxigen
Lösung gelöst.
Ein Substrat aus oxidiertem Silicium (500 bis 100 S Siliciumoxid) wird dann durch Zentrifugation mit diesem
Harz beschichtet.
Das so behandelte Substrat wird dann mit einer Hochdruck-Quecksilberdampflampe,
z.B. einer 125 Watt-Lampe der Bezeichnung HPR 125 von Philips, belichtet. Der Abstand
Lichtquelle-Probe beträgt 12 cm. Die von der Probe aufgenommene Strahlungsmenge beträgt 4,33 mW/cm bei
365 nm. Die Bestrahlungsdauer wird empirisch zur Erzielung
einer Vernetzung in 70 % der Dicke der Harzschicht geregelt.
609816/0859
. 23 _ 7809761
Die Entwicklung erfolgt durch Aufsprühen einer Mischung von Butanon-2 und Äthanol in einem Verhältnis von 5 : 1,8
während 30 Sekunden, gefolgt von einer Aufsprühung von Isopropanol während etwa der gleichen Dauer.
Dieses Beispiel betrifft ebenfalls die Anwendung für
die Mikrolithographie, jedoch unter Verwendung eines mit einem Photoinitiator gemischten Harzes, das bei
Bestrahlung Lewis-Säuren bildet, welche die Vernetzung auslösen.
Der verwendete Photoinitiator ist ein Komplexsalz von Aryldiazonium, nämlich Hexafluorantimonat von p-Diazo-Ν,Ν-diäthylanilin,
das eine Absorption im Ultraviolett bei 375 nm zeigt. Dieses Salz wird aus einer wäßrigen
Lösung des Fluoborats von p-Diazo-N,N-diäthylanilin durch Zugabe von Natriumhexafluorantimonat ausgefällt.
3,19 g des augefällten Fluoborats (d.h. 1,21 χ 10~2 Mol),
gelöst in 90 ecm zweifach destilliertem Wasser, versetzt man mit einer frisch hergestellten wäßrigen Lösung von
Na Sb Fg, die 3,14 g dieser Verbindung in 2,5 cm zweifach
destilliertem Wasser enthält. Der Niederschlag wird abfiltriert und dann unter Vakuum getrocknet. Die
Ausbeute beträgt 55,4 %.
Unter Ausschluß jeglicher aktinischer Strahlung löst man 0,0375 g des so erhaltenen Photoinitiators in einer
derjenigen des ersten Beispiels analogen Lösung von Thiiranharz. Die Menge an Photoinitiator wird so berechnet,
daß man 5 Gew.%, bezogen auf das Harzgewicht, erhält.
609836/0859
- 24 - ?8Π9?6 1
Ein unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 mit dem Harz beschichtetes Substrat aus oxidiertem
Silicium wird in gleicher Weise, jedoch während einer anderen Zeitdauer belichtet, bis 70 % der Dicke der
Harzschicht vernetzt sind.
Dieses Beispiel entspricht dem ersten, jedoch wird mit
weichen Röntgenstrahlen bestrahlt.
2 g des Copolymerisate von Epithio-2,3-propylmethacrylat und Methylmethacrylat (in einem Verhältnis von 1 : 2)
werden in 22,3 cm Butanon-2 unter Erhalt einer 1Obigen
Lösung gelöst. Eine Abscheidung dieses Harzes durch Zentrifugieren (mit 8000 U/Min.) auf einem Substrat aus
oxidiertem Silicium ermöglicht die Erzielung einer 5200 S dicken Harzschicht.
Die Röntgenbestrahlung erfolgt durch Elektronenbeschuß einer Antikatode aus Aluminium mittels einer Kanone
mit einer Leistung von 300 W (Intensität von 50 mA und
eine Beschleunigungsspannung von 6 kV). Die beobachtete Emission ist die der K λ ~ Linie von Aluminium, d.h. eine
Wellenlänge von 8,34 Ä. Die Röntgenstrahlung nach Filtration
durch eine 2 um dicke Aluminiumfolie (zur Ausschaltung der energieärmsten Komponente der Bremsstrahlung)
wird zu 398,5 mW pro cm berechnet. Die Bestrahlungsdauer beträgt 1 Minute und 45 Sekunden, entsprechend einer
absorbierten Menge von 80 J/cm^ zur Vernetzung von 70 % der Dicke der Harzschicht nach Entwicklung mit dem gleichen
Gemisch wie in dem ersten Beispiel und unter den gleichen Bedingungen wie dort.
Dieses Beispiel ist analog dem zweiten, jedoch erfolgt die Bestrahlung mit weichen Röntgenstrahlen.
Eine Lösung von Thiiranharz (Copolymerisat von Epithio-2,3-propylmethacrylat
und Methylmethacrylat) wird unter den gleichen Bedingungen wie im Fall der vorhergehenden
drei Beispiele hergestellt. Der Photoinitiator des zweiten Beispiels wird der Lösung in einer Menge von
5 Gew.#, bezogen auf das Gewicht des Harzes, zugesetzt.
Die Röntgenbestrahlung erfolgt unter den gleichen Bedingungen wie im dritten Beispiel. Die Dauer der
Bestrahlung wird empirisch so geregelt, daß man eine Vernetzung von 70 % der Dicke der Harzschicht erzielt.
809836/0859
Claims (13)
1. Durch Phontonenbestrahlung vernetzbare Zusammensetzung,
die mindestens ein Copolymerisat mit einem Thiiranring
C-C
S ^
enthält, dadurch gekennzeichnet, daß das Copolymerisat mindestens ein aus 2,3-Epithiopropylmethacrylat der Formel
C - 0 - C H2 - C H - CIi2 0 ^S
bestehendes Monomeres enthält.
809836/0859
809836/0859
ORIGINAL INSPECTED
-2- 2809761
2. Zusammensetzungen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Copolymerisat noch ein Vinylmonomeres der
Formel
-OR1
enthält, worin R entweder Wasserstoff oder eine Alkylgruppe
Cn H2n+1, worin η eine ganze Zahl von 1 bis
ist, und R1 eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen
bedeutet.
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie noch ein Aryldiazoniumsalz der allgemeinen
Formel
enthält, in welcher a und b ganze Zahlen von 1 bis bedeuten und Δ ein oder mehrere Reste der folgenden
Gruppe
-OHj-NH2;-CHO;-OCH3;-NO2;
- © - N O2; und - 0 - C H3
darstellt, und worin M ein Element, und zwar Fe, Sn, Sb, Bi, B, P, As bedeutet, und X ein Halogen ist.
Ziasaatmeanseitsaaaag:
si©
li Ii5
fleir
w©2"laa aa iD ©äeat" 11 fe
unit 4 Ms 20 E©M.«üist©ifatiainEm simfl;
Wasserstoff «sflea* siaa jjillryl— ©äer
eiiae € - C - Biaflaasag isifc;
$L· — G — Β!«, ■Märiaa 3L· tiaaaä.
Beste, z.B. H ofler eiaa MJtylrest
st©f f atojmeaa. ®&<&τ ein JOJkea^lrsst;
'alls
mil; 1 bis 4 E©MLoa
2 Isis
4 K©MJLei32
= Fe, Sm? Eh9 Bis B9 P3 As;
= ein iSalogeia
= eine gaaaze Z©3al -von 1 Bis 5-
8 β 1S / O S K 9
5. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß sie noch einen Farbstoff enthält.
6. Zusammensetzung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Farbstoff zu einer der folgenden Familien
gehört: Kumarine, Xanthene, Acridine, Thiopyronine, Safranine, Thiazine, Oxazine,(Carbocyanine, Oxacyanine,
Thiacyanine), polycyclische aromatische Kohlenwasserstoffe, mindestens eine parasubstituierte
Aminostyrylgruppe enthaltende Verbindungen.
7. Zusammensetzungen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Vinylmonomere Äthylmethacrylat ist.
8. Zusammensetzungen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Vinylmonomere Butylmethacrylat ist.
9. Zusammensetzungen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Vinylmonomere Äthylacrylat ist.
10. Verfahren zur Verwendung einer Verbindung gemäß einem
der vorhergehenden Ansprüche zur Bildung einer Maske für die Herstellung elektronischer Bauteile, gekennzeichnet
durch mindestens die folgenden Verfahrensstufen:
a) Lösung der Zusammensetzung in einer bestimmten Lösungsmittelmenge
;
b) Aufbringung der erhaltenen Flüssigkeit als dünne Schicht auf einen vorherbestimmten Teil eines zu
einem elektronischen Bauteil gehörenden Substrats;
c) Bestrahlung vorherbestimmter Teile des Substrats.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß in der Stufe a) das Lösungsmittel Butanon-2
ist, daß in der Stufe b) die Aufbringung durch Zentrifugieren
erfolgt, und daß in Stufe c) die Bestrahlung mit aktinischem Licht oder einer ionisierenden Strahlung
erfolgt.
12. Verfahren zur Verwendung einer Zusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9 für die Herstellung einer
Schutzschicht gegen atmosphärische Einflüsse auf einem gewerblichen Gegenstand, gekennzeichnet durch
mindestens die folgenden Verfahrensstufen:
a) Lösung der Verbindung in einer vorherbestimmten Lösungsmittelmenge;
b) Aufbringung der erhaltenen Flüssigkeit als dünne Schicht auf den zu schützenden Gegenstand durch
Tauchen oder Aufstäuben;
c) Photonenbestrahlung der dünnen Schicht.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet,
daß die Bestrahlung mit weichen Röntgenstrahlen oder Gammastrahlen erfolgt.
809835/0853
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