DE2801914A1

DE2801914A1 - Lichtempfindliches material fuer die elektrophotographie

Info

Publication number: DE2801914A1
Application number: DE19782801914
Authority: DE
Inventors: Tatsuo Aizawa; Keiichi Nagahashi; Toru Nakazawa
Original assignee: Mita Industrial Co Ltd
Current assignee: Kyocera Mita Industrial Co Ltd
Priority date: 1977-01-17
Filing date: 1978-01-17
Publication date: 1978-07-27
Also published as: NL7800575A; JPS6148149B2; IT7819314A0; FR2377655A1; GB1570576A; JPS5389433A; IT1092743B; FR2377655B1; CA1119449A; DE2801914C2

Description

Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Material für die Elektrophotographie, das eine neue Schichtstruktur besitzt. Insbesondere betrifft die Erfindung ein lichtempfindliches Material für die Elektrophotographie, welches ein elektrisch leitendes Substrat, eine auf dem Substrat ausgebildete Zwischenschicht und eine auf der Zwischenschicht aufgeschichtete Deckschicht umfasst, wobei die Zwischenschicht (A) einen organischen polymeren Photoleiter und (B) eine polycyclische aromatische Nitroverbindung in einem Gewichtsverhältnis von (A)/(B) von 6/1 bis 1/6 umfasst und die Deckschicht einverleibt in einen

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Binder (C) ein Phthalocyanin oder ein Phthalocyaninderivat und (B) die polycyclische aromatische Nitroverbindung in einem Gewichtsverhältnis von (C)/(B) von 10/5 bis 10/25 umfasst.

Gemäss der Erfindung wird ein lichtempfindliches Material für die Electrophotographic vorgeschlagen, bei dem eine einen organischen polymeren Photoleiter und eine polycyclische aromatische Nitroverbindung in einem spezifischen Verhältnis umfassende Zwischenschicht auf einem elektrischleitenden Substrat ausgebildet ist und eine einverleibt in einem Binder ein Phthalocyanin oder ein Phthalocyaninderivat und die vorstehend aufgeführte polycyclische aromatische Nitroverbindung in einem spezifischen Verhältnis umfassende Deckschicht auf der Zwischenschicht aufgeschichtet ist. Bei diesem lichtempfindlichen Material wird die Dunkelabfallgeschwindigkeit innerhalb eines für die Anwendung bei wiederholten Kopierarbeitsgangen geeigneten Bereiches gesteuert und das auf dem belichteten Bereich verbliebene Restpotential kann auf einen zu vernachlässigenden Wert verringert werden. Infolgedessen wird das Auftreten von Schleier verhindert und die Tonerübertragungswirksamkeit wird verbessert. Ferner hat dieses lichtempfindliche Material verbesserte mechanische, chemische und elektrische Dauerhaftigkeiten und infolgedessen ist die Lebensdauer des lichtempfindlichen Materials bemerkenswert verlängert.

Auf dem Gebiet der Elektrophotographie wird in weitem Umfang ein Verfahren angewandt, wobei ein mit einer photoleitenden Schicht ausgebildetes lichtempfindliches Material durch Koronaentladung oder dgl. geladen wird, das licht-

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empfindliche Material bildweise an aktinische Strahlung zur Bildung eines elektrostatischen latenten Bildes auf der Oberfläche der photoleitenden Schicht ausgesetzt wird, ein Entwickler auf die Oberfläche der photoleitenden Schicht zur Bildung eines Tonerbildes entsprechend dem elektrostatischen latenten Bild aufgebracht wird und das auf der Oberfläche der photoleitenden Schicht ausgebildete Tonerbild auf ein Kopierpapier übertragen wird. Bei diesem üblichen Verfahren wird nach der Übertragung des Tonerbildes das lichtempfindliche Material einer Reinigungsstufe zugeführt, wo der restliche Toner entfernt wird, und es wird dann zu der vorstehend aufgeführten Ladungsstufe und den anschliessenden Stufen erneut zugeführt.

Ein elektrophotogi'aphisches lichtempfindliches Material, welches wiederholt bei dem vorstehend aufgeführten elektrophotographisehen Verfahren verwendet wird, muss einige spezielle Eigenschaften besitzen, die von den für ein lichtempfindliches Material der Art erforderlichen Eigenschaften, wo ein Toner direkt auf der lichtempfindlichen Schicht fixiert wird, unterschiedlich sind. Insbesondere ist es, damit die Schleierbildung beim wiederholten Kopierarbeitsgang verhindert wird und die Lebensdauer des lichtempfindlichen Materials verlängert wird, notwendig, dass das lichtempfindliche Material der ersteren Art einen relativ raschen Dunkelabfall (Eigenschaft, dass das Oberflächenpotential des nicht-belichteten Bereiches der lichtempfindlichen Schicht relativ rasch im Dunkeln abfällt) und ein so niedriges Potential, dass es zu vernachlässigen ist (Eigenschaft, dass das auf dem belichteten Bereich der lichtempfindlichen Schicht verbliebene Potential so niedrig ist, dass es zu vernachlässigen ist^aufweist. Wenn das Eest-

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potential des lichtempfindlichen Materials hoch ist, verursacht es bereits Schleierbildung bei der Übertragungsstufe. Ferner hinterbleiben in diesem Fall oder in dem Fall, wo die Dunkelabfallgeschwindigkeit des lichtempfindlichen Materials niedrig ist, elektrostatische Ladungen auf dem auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials ausgebildeten elektrostatischen Bild oder die aus anderen Gründen erzeugten elektrostatischen Ladungen auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials, selbst nach den Übertragungs- und Reinigungsstufen,und diese verursachen eine Schleierbildung beim nächsten Kreislauf des Kopierarbeitsganges. Falls weiterhin die Dunkelabfallgeschwindigkeit niedrig ist, selbst nach der Übertragungsstufe, werden Tonerteilchen elektrostatisch an der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials durch eine relativ starke Anziehungskraft angezogen und infolgedessen ist die Wirksamkeit der Übertragung des Toners auf ein Kopierpapier relativ niedrig und die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials muss stark gewischt werden, um den restlichen Toner von der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials zu entfernen. Infolgedessen wird die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials leicht und rasch geschädigt und die Lebensdauer des lichtempfindlichen Materials wird verkürzt.

Das lichtempfindliche Material von dieser wiederholt verwendeten Art muss auch eine stark erhöhte mechanische, elektrische oder chemische Dauerhaftigkeit besitzen. Da nämlich das lichtempfindliche Material dieser Art wiederholt eine Entladungs- oder Bestrahlungsbehandlung erleidet und wiederholt Reibung mit Magnetbürsten oder Reinigungsbauteilen erhält, wird die photoleitende Schicht des lLcht-

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empfindlichen Materials leicht mechanisch oder elektrisch oder chemisch geschädigt. Ferner werden solche Störungen wie Abschälung der photoleitenden Schicht von dem elektrisch leitenden Substrat leicht verursacht, wenn das lichtempfindliche Material gebraucht wird.

Als Substanz zur Bildung einer photoleitenden Schicht eines lichtempfindlichen Materials sind verschiedene organische und anorganische Photoleiter bekannt. Unter diesen bekannten Photoleitern sind Phthalocyanin und Phthalocyaninderivate bekannt als wertvolle Substanzen zur Herstellung von lichtempfindlichen Materialien für die Elektrophotographie, da ihre chemischen und elektrischen Dauerhaftigkeiten ausgezeichnet sind und sie leicht zugänglich und billig sind.

Lichtempfindliche Materialien für die Elektrophotographie unter Einschluss von Phthalocyanin und.dessen Derivaten als Photoleiter versagen jedoch, wenn sie vollständig die vorstehenden Erfordernisse erfüllen sollen. Beispielsweise ist ein photoleitendes Material, welches eine aus einer Dispersion von Phthalocyanin oder einem Derivat hiervon in einem elektrisch isolierenden Binder aufgebaute photoleitende Schicht, welche auf einem elektrisch leitenden Substrat ausgebildet ist, umfasst, immer noch mangelhaft insofern, als der Wert des Oberflächenpotentials bei der Ladungsstufe im allgemeinen niedrig ist, die Steigerungsgeschwindigkeit des Oberflächenpotentials niedrig ist, das Bestpotential bei der Belichtungsstufe immer noch bei einem Wert liegt, der nicht zu vernachlässigen ist, und die Geschwindigkeit der Verringerung des Potentials im nichtbelichteten Bereich, d. h. die Dunkelabfallgeschwindigkeit, niedrig ist.

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Es wurde gefunden, dass, falls eine Zwischenschicht aus (A) einem organischen polymeren Photoleiter und (B) einer polycyclischen aromatischen Nitroverbindung in einem spezifischen Verhältnis auf einem elektrisch leitenden Substrat gebildet wird und eine in einem Binder einverleibt (C) Phthalocyanin oder ein Phthalocyaninderivat und (B) die polycyclisch^ aromatische Nitroverbindung in einem spezifischen Verhältnis umfassende Deckschicht auf der Zwischenschicht ausgebildet wird, die Dunkelabfallgeschwindigkeit des erhaltenen lichtempfindlichen Materials innerhalb eines zur Anwendung für einen wiederholten Kopierarbeitsgang geeigneten Bereich gesteuert wird und dass das Restpotential auf einen zu vernachlässigenden Wert verringert werden kann, so dass das Auftreten von Schleier verhindert werden kann, die Tonerübertragungswirksamkeit verbessert werden kann und die Lebensdauer des lichtempfindlichen Materials verlängert ist. Es wurde auch gefunden, dass ein lichtempfindliches Material mit dieser Schichtstruktur ausgezeichnete mechanische, chemische und elektrische Dauerhaftigkeiten besitzt.

Insbesondere ergibt sich gemäss der Erfindung ein lichtempfindliches Material für die Electrophotographic, welches ein elektrisch leitendes Substrat, eine auf dem Substrat gebildete Zwischenschicht und eine auf die Zwischenschicht aufgeschichtete Deckschicht umfasst, wobei die Zwischenschicht (A) einen organischen polymeren Photoleiter und (B) eine elektronenannehmende polycyclisch^ aromatische Nitroverbindung in einem Gewichtsverhältnis von (A)/(B) von 6/1 bis 1/6 umfasst und die Deckschicht einverleibt in einen Binder (C) Phthalocyanin oder ein Phthalocyaninderivat

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und (B) die elektronenannehmende polycyclisch^ aromatische Nitroverbindung in einem Gewichtsverhältnis von (C)/(B) von 10/5 bis 10/25 umfasst.

Im Bahmen der Erfindung können als organische polymere Photoleiter (A), die die Zwischenschicht bilden, sämtliche organischen polymeren Substanzen mit Photoleitfähigkeit verwendet werden, beispielsweise Poly-N-vinylcarbazol, Poly-N-acrylphencthiazin, PoIy-N-(ß-acryloxyäthyl)-phenothiazin, PoIy-N-(2-acryloxypropyl)-phenothiazin, PoIy-N-allylcarbazol, Poly-N-2-acΓyloxy-2-methyl-N-äthylcarbazol, PoIy-N-(2-p-vinylbenzoyläthyl)-carbazol, Poly-N-propenylcarbazol, Poly-N-2-methylacryloxapropylcarbazol, PoIy-N-acrylcarbazol, Poly-4—vinyl-p-(N-carbazyl)-toluol, PoIy-(vinylanisolacetophenon), Polyinden und andere bekannte organische polymere photoleitende Substanzen. Polymere Photoleiter, die leicht zugänglich sind und zur Erzielung der Aufgaben der Erfindung besonders geeignet sind, umfassen Poly-N-vinylcarbazol und Kernsubstitutionsderivate hiervon, beispielsweise halogen- und alkylsubstituierte Derivate.

Im Rahmen der Erfindung können als Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat, die die Deckschicht des lichtempfindlichen Schichtmaterials bilden, Phthalocyanin und sämtliche bekannten Phthalocyaninderivate mit Photoleitfähigkeit verwendet werden, beispielsweise Alu;niniumphthalocyanin, Aluminiumpolychlorphthalocyanin, Antimonphthalocyanin, Bariumphthalocyanin, Berylliumphthalocyanin, Cadmiumhexadecachlorphthalocyanin, Cadmiumphthalocyanin, Cerphthalocyanin, Chromphthalocyanin, Kobaltphthalocyanin, Kobaltchlorphthalocyanin, Kupfer-4-aminophthalocyanin,

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Kupferbromchlrophthalocyanin, Kupfer-A-chlorphthalocyanin, Kupfer-4-nitrophthalocyanin, Kupferphthalocyanin, Phthalocyaninsulfonat, Kupferpolychlorphthalocyanin, Deuteriophthalocyanin, Dysprosiumphthalocyanin, Erbiumphthalocyanin, Europiumphthalocyanin, Gadoliniumphthalocyanin, Galliumphthalocyanin, Germaniumphthalocyanin, Holmiumphthalocyanin, Indiumphthalocyanin, Eisenphthalocyanin, Eisenpolyhalogenphthalocyanin, Lanthanphthalocyanin, Bleiphthalocyanin, Bleipolychlorphthalocyanin, Kobalthexaphenylphthalocyanin, Kupferpentaphenylphthalocyanin, Lithiumphthalocyanin, Rutheniumphthalocyanin, Magneäumphthalocyanin, Manganphthalocyanin, Quecksilberphthalocyanin, Molybdänphthalocyanin, Neodymphthalocyanin, Nickelphthalocyanin, Nickelpolyhalogenphthalocyanin, Osmiumphthalocyanin, Palladiumphthalocyanin, Palladiumchlorphthalocyanin, Aikoxyphthalocyanin, Alkylaminophthalοcyanin, Alkylmercaptophthalocyanin, Aryloxyphthalocyanin, Arylmercaptophthalocyanin, Kupferphthalocyaninpiperidin, Cycloalkylaminophthalocyanin, Dialkylaminophthalocyanin, Diaralkylaminophthalocyanin, Dicycloalkylaminophthalocyanin, Hexadecahydrophthalocyanin, Imidomethylphthalocyanin, 1,2-Naphthalccyanin, 2,3-Naphthalocyanin, Octa-azophthalocyanin, Schwefeiphthalocyanin, Tetra-azophthalocyanin, Tetra-^-acetylaminophthalocyanin, Tetra-4—aminobenzoylphthalocyanin, Tetra-4-aminophthalocyanin Tetrachlormethy!phthalocyanin, Tetra-diazophthalocyanin, Q)5tra-4,4-dimethylocta-azophthalocyanin, Tetra—4-,5-diphenyl enoxid-phthalo cyanin, Tetra-4,5-diphenylocta-azophthalocyanin, Tetra-(6-methylbenzothiazoyl)-phthalocyanin, Tetra-p-methylphenylaminophthalocyanin, Tetramethylphthalocyanin, Tetranaphthotriazolylphthalocyanin, Tetra-4—naphthylphthalocyanin, Tetra-4-nitrophthalocyanin, TetraperL-naphthylen-A-j^-octa-azophthalocyanin, Tetra-2,3-phenylen-

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oxidphthalοcyanin, Tetra-4-phenylocta-azophthalocyanin, Tetraphenylphthalo cyanin, Tetraphenylphthalo cyanintetracarbonsäure, Tetraphenylphthalocyanin- tetrabariumearboxylat, Tetraphenylphthalocyanin-tetra-4-trifluormethyloercaptophthalocyanin, Tetrapyridinphthalocyanin, Tetra-4-trifluormethylmercaptophthalocyanin, Tetra-4-trifluormethylphthalocyanin-4,^-thionaphthenocta-azophthalocyanin, Platinphthalocyanin, Kaliuraphthalocyanin, Bhodiumphthalocyanin, Samariumphthalocyanin, SiIberphthalοcyanin, SiIiciumphthalocyanin, Natriumphthalocyanin, sulfoniertes Phthalocyanin, Thoriumphthalοcyanin, Thuliuaphthalocyanin, Zinnchloiphthalocyanin, Zinnphthalocyanin, Titanphthalocyanin, Uraniumphthalocyanin, Vanadiumphthalocyanin, YtterbiUDiphthalocyanin, Zinkchlorphthalocyanin, Zinkphthalocyanin und Dimere, Trimere, Oligomere, Polymere und Copolymere hiervon.

Phthalocyanin und Phthalocyaninderivate, die leicht zugänglich sind und besonderes zur Erzielung der Aufgaben der vorliegenden Erfindung geeignet sind, umfassen die metallfreien Phthalocyanine und deren Kernsubstitutionsderivate, beispielsweise halogensubstituierte Derivate.

Als mit dem organischen polymeren Photoleiter (A) und dem Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat (C) zu kombinierende polycyclische aromatische Nitroverbindung in der Zwischenschicht und Deckschicht des lichtempfindlichen Schichtmaterials gemäss der Erfindung können sämtliche polycyclisehen aromatischen Verbindungen mit mindestens einer am Kern substituierten Nitrogruppe verwendet werden, beispielsweise 2,4-Dinitro-i-chlomaphthalin, ^,-^Dinitronaphthalin, Λ,5-Dinitronaphthalin, 3-Nitro-K-butylcarbazol,

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4-Nitrobiphenyl, 4-,4'-Dinitrobiphenyl, 1-Chlor-4-nitroanthrachinon, 2,7-Dinitroantliracliinon, 2,4-,7-Trinitrofluorenon, 2,4-,5>7--Tetranitrofluorenon, 9-Dicyanomethylen-2,4-,7-trinitrofluorenon und 4-Nitroacenaphthen.

Polycyclische aromatische Nitroverbindungen, die zur Erzielung der Aufgaben der Erfindung besonders geeignet sind, umfassen Trinitrofluorenon und Tetranitrofluorenon.

In dem lichtempfindlichen Schichtmaterial gemäss der Erfindung ist es wesentlich, dass das Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat (C) und die polycyclische aromatische Nitroverbindung (B) im Binder in einem Gewichtsverhältnis von (C)/(B) von 10/5 bis 10/25,vorzugsweise 10/8 bis 10/20,einverbleibt sind.

Es ist bekannt, dass Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivate (C) in Kombination mit einer polycyclisehen aromatischen Nitroverbindung (B) für eine photoleitende Schicht verwendet werden. Bei den bekannten lichtempfindlichen Materialien wird jedoch die polycyclische aromatische Verbindung in einer weit kleineren Menge als der effindungsgemäsE angegebenen Menge verwendet. Falls die polycyclische aromatische Nitroverbindung in einer kleineren Menge als der erfindungsgemäss angegebnen Menge verwendet wird, ist, wie sich aus dem nachfolgenden Vergleichsbeispiel 1 und der Tabelle I ergibt, die Dunkelabfallgeschwindigkeit zu niedrig und das Restpotential liegt bei einem Viert, der nicht zu vernachlässigen ist. Deshalb wird bei dieser photoleitenden Schicht leicht Schleierbildung bei dem mit hoher Geschwindigkeit wiederholten Eopierarbeitsgang verursacht und da eine grosse Belastung auf die lichtempfind-

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liehe Schicht bei der Reinigungsstufe ausgeübt wird, wird der Widerstand gegen den Kopierarbeitsgang (Frequenz der wiederholten Kopierarbeitsgange, denen das lichtempfindliche Material widerstehen kann) drastisch verringert. Falls die polycyclische aromatische Verbindung in einer grösseren Menge als der erfindungsgemäss angegebenen Menge verwendet wird, kann, wie sich aus dem Vergleichsbeispiel 2 und der nachfolgenden Tabelle I ergibt, das Restpotential praktisch auf Null verringert werden, jedoch ist die Dunkelabfallgeschwindigkeit zu hoch und es ist schwierig, ein kopiertes Bild von hohem Kontrast und hoher Dichte zu erhalten. Falls im Gegensatz hierzu das Mischverhältnis der polycyclischen aromatischen Nitroverbindung zu dem Phthalocyanin oder dem PhthalocyanincLerivat innerhalb des vorstehend aufgeführten Bereiches gemäss der Erfindung eingestellt wird, wird bei wiederholten in hoher Geschwindigkeit ausgeführten Kopierarbeit sgängen das Restpotential auf einen vernachlässigbaren Wert verringert und die Dunkelabfallgeschwindigkeit wird so gesteuert, dass das Potential abrupt während eines Zeitraumes im Bereich von der Tonerübertragungsstufe bis zu der Stelle der Einleitung des Reinigungsarbeitsganges verringert. Infolgedessen ist es gemäss der Erfindung möglich, Effekte zur Verbesserung der Tonerbildübertragungswirksamkeit, der Erleichterung des Reinigungsarbeitsganges, der Verhinderung des Auftretens von Schleierbildung und der Verbesserung der Beständigkeit gegenüber dem Kopierarbeitsgang gleichzeitig zu erreichen.

Dieser funktioneile Effekt, dass, falls die polycyclische aromatische Nitroverbindung mit Phthalocyanin oder einem Phthalocyaninderivat in dem vorstehend aufgeführten spezifischen Mischverhältnis kombiniert wird, die polycyclische aromatische Nitroverbindung als Steuerungsmittel

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für die Dunkelabfallgeschwindigkeit für das Phthalocyanin Oder Phthalocyaninderivat wirkt, ist ein neuer, erstmals aufgefundener Effekt.

Zur Dispergierung des Phthalocyanins oder Phthalocyaninderivates und der polycyclisehen aromatischen Nitroverbindung können sämtliche bekannten polymeren Binder als Binder verwendet werden, insbesondere elektrisch isolierende Binder. Insbesondere können beispielsweise Acrylharze, Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester, Acrylsäure/ Methaerylsäureester-Copolymere, Acrylsäure/Styrol-Copolymere und Maleinsäureanhyfrid/Styrol/Methacrylsäureester-Copolymere, aromatische Vinylpolymere, wie Polystyrol und PoIy- »ethylstyrol, Vinylchloridharze, wie Vinylchlorid/Vinylaoetat-Copolymere, teilweise verseifte Vinylchlorid/ Vinyiaeetat-Copolymere, teilweise verseifte und acetalisierte Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymere und Vinylchlorid/Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid-Copolymere, Vinyleßterpolymere, wie Polyvinylacetat, Butadiencopolymere, wie Styrol/Butaiien-Copolymere und Acrylnitril/Styrol/Butadien-Copolyraere, Olefinharze, wie Äthylen/Vinylacetat-Copolymere, Äthylen/Acrylsäure-Copolymere und Ionomere, Polyesterharze, wie Äthylen/Butylen-terephthalat/lsophthalat, Polyamid- und Copolyamidharze, Polycarbonatharze, ungesättigte Polyesterharze, Urethanharze, wie Acrylurethan, Epoxyharze, Phenol-Formaldehydharze, Xylolharze und Melamin-Formaldehydharze verwendet werden. Diese Binder können einzeln oder in Form von Gemischen von zwei oder mehreren verwendet werden. Es wird bevorzugt, dass der elektrische Widerstand (Volumenwiderstand) der verwendeten Binder mindestens 1 χ 10 Xi-cm beträgt. Um die Aufgaben der Erfindung zu erreichen, ist es besonders bevorzugt, ein Acrylharz als Binder zu verwenden.

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Die eingesetzte Menge des Binders ist nicht besonders kritisch im Rahmen der Erfindung, jedoch wird es im allgemeinen bevorzugt, dass der Binder in einer Menge von 100 bis 1000 Gew.teilen, insbesondere- 300 bis 300 Gew.teilen auf 100 Gew.teile Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat (C) eingesetzt wird.

Gemäss der Erfindung wird es bevorzugt, dass ein SiliconÖl in die das Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat, die polycyclische aromatische Mtroverbindung und den Binder umfassende Deckschicht einverleibt wird. Es wurde gefunden, dass, falls ein Siliconöl in die Deckschicht einverleibt wird, während der Belichtungs- und Entwicklungsstufen die Dunkelabfallgeschwindigkeit bei einem relativ niedrigen Mveau gehalten werden kann, und dass bei der anschliessenden Übertragungs- oder Reinigungsstufe die Dunkelabfallgeschwindigkeit auf ein äusserst hohes Niveau erhöht werden kann, so dass drastisch das Restpotential am nicht-belichteten Bereich verringert wird. Nach dieser bevorzugten Ausführungsform kann die Ansammlung von Ladungen wirksam verhindert werden, und es können hervorragende Effekte zur "Verhinderung des Auftretens von Schleier, der Verbesserung der Tonerübertragungswirksamkeit, der Verhinderung des Auftretens eines Isolierungskurzschlusses und der Verbesserung der Eignung für den Reinigungsarbeitsgang erzielt werden. Ferner kann bei dieser bevorzugten Ausführungsform der Überzugsarbeitsgang bemerkenswert erleichtert werden und die Glätte der Überzugsschicht kann erheblich verbessert werden.

Als erfindungsgemäss verwendbares Siliconöl seien beispielsweise Polydimethylsiloxan, Polymethylphenylsiloxan,

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Polyhydrodienmethylsiloxan, Polymethylaminopropylsiloxan_r deren Copolymere un& Dimethylsiloxan/lthylenoxid-Blockcopolymere aufgeführt. Polydimethyl siloxane wird besonders bevorzugt, da es leicht zugänglich ist und zur Erzielung^ der Aufgaben der Erfindung besondere geeignet-ist.

Die einverleibte Menge des Siliconais kann innerhalb eines weiten Bereichs variieren^ jedoch wir& es im. allgemeinen, um die Aufgaben der Erfindung in vorteilhafter Weise zu erzielen, bevorzugt, dass das Siliconfrl in einer Menge von 5 bis 150 Gew.teilen» insbesondere 25 bis 85 Gew.teilen, auf 100 Gew.teile Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat (C) einverleibt wird.

Erfindungsgemäss ist es wesentlich, dass eine den vorstehend aufgeführten organischen polymeren Photoleiter (A) und die polycyclische aromatische Nitroverbindung (B) in einem spezifischen Mischverhältnis enthaltende Zwischenschicht zwischen dem elektrisch leitenden Substrat und der Deckschicht (erste photoleitende Schicht), die das vorstehend aufgeführte Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat, die polycyclische aromatische Nitroverbindung. und den Binder umfasst, zwischengeschaltet ist. Insbesondere ist, falls eine durch Aufschichtung einer photoleitenden Schicht, die das vorstehend aufgeführte Phthalocyanin und das Phthalocyaninderivat, die polycyclische aromatische Nitroverbindung und den Binder direkt auf dem elektrischleitenden Substrat umfasst, verwendet wird, wie aus dem nachfolgenden Vergleichsbeispiel 5 und der Tabelle I ersichtlich, das primäre Oberflächenpotential (Oberflächenpotential des lichtempfindlichen Materials nach der Aufladung* Jedoch vor der Belichtung^ sehr niedrig, die

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Steigerungsgeschwindigkeit des Oberflächenpotentials ist niedrig und die durch die Halbwertszeit (Sekunden) des Lichtabfalls angegebene Empfindlichkeit ist sehr niedrig. Somit ist dieses zum Vergleich dienende lichtempfindliche Material immer noch in verschiedenen Gesichtspunkten unzureichend. Falls hingegen eine Schicht (zweite photoleitende Schicht), die den vorstehend abgehandelten organischen polymeren Photoleiter (A) und die polycyclische aromatische Nitroverbindung (B) enthält, zwischen der Deckschicht (erste photoleitende Schicht) und dem elektrisch leitenden Substrat gemäss der Erfindung angebracht ist, werden die vorstehenden Eigenschaften bemerkenswert ohne Irgendwelche schlechten Einflüsse auf die Dunkelabfalleigenschaften verbessert, was sich leicht aus einem Vergleich der Ergebnisse von Vergleichsbeispiel 5 mit den Ergebnissen des erfindungsgemässen Beispiel 1 ergibt.

Es ist auch sehr wichtig, dass in der Zwischenschicht des lichtempfindlichen Materials gemäss der Erfindung der organische polymere Photoleiter (A) mit der polycyclisehen aromatischen Nitroverbindung (B) in einem Mischgewichtsverhältnis von (A)/(B) von 6/1 bis 1/6, insbesondere 1/1,7 bi 1/2,2 vereinigt ist. ■

Es ist bekannt, dass ein polymerer Photoleiter als Elektronendonor und eine polycyclische aromatische Nitroverbindung als Elektronenakzeptor einen Komplex bilden und eine empfindliche photoleitende Schicht aus diesen beiden Verbindungen ausgebildet werden kann. In der Zwischenschicht gemäss der Erfindung führt die aromatische polycyclische Nitroverbindung die Funktion der Steuerung der Ladungseigenschaft der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials

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aus, d. h. der ersten photoleitenden Schicht, wenn sie in der vorstehend angegebenen spezifischen Menge einverleibt ist. Falls die in die Zwischenschicht einverleibte Menge der polycyclischen aromatischen Nitroverbindung niedriger als die vorstehend angegebene erfindungsgemässe Menge ist, wird, wie sich aus dem Vergleichsbeispiel 5 und der nachfolgenden Tabelle I ergibt, während des wiederholten Kopierarbeit sganges das Restpotential an der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials angesammelt, wodurch Schleierbildung, elektrische Schädigung der photoleitenden Schicht und eine drastische Verringerung der Beständigkeit gegenüber dem Kopierarbeitsgang hervorgerufen wird. Falls die Menge des polymeren Photoleiters grosser als die erfindungsgemäss angegebene Menge ist, wird, wie aus dem Vergleichsbeispiel 4- und der nachfolgenden Tabelle I ersichtlich, das primäre Oberflächenpotential drastisch verringert und die Steigerungsgeschwindigkeit des Oberflächenpotentials ist niedrig. Infolgedessen wird es schwierig, zufriedenstellend kopierte Bilder zu erhalten. Falls hingegen der polymere Photoleiter mit der polycyclischen aromatischen Nitroverbindung in dem vorstehend angegebenen spezifischen Gewichtsverhältnis gemäss der Erfindung kombiniert ist, können die Ladungseigenschaften der Oberfläche der photoleitenden Schicht so gesteuert werden, dass das Restpotential auf einen Wert verringert werden kann, der zu vernachlässigen ist, während das primäre Oberflächenpotential erhöht wird und die Geschwindigkeit der Steigerung des Oberflächenpotentials bei der Ladung auf ausreichend hohe Werte erhöht wird und schlechte Einflüsse auf Grund der Ansammlung des Restpotentials wirksam vermieden werden können.

Im Rahmen der Erfindung wird eine Folie oder Platte

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airs Kupfer, Aluminium, Silber» Zinn oder Eisen, die Form einer Bahn oder einer Trommel geformt sind, als elektrisch leitendes Substrat verwendet. Ferner können Produkte y die durch Abscheidung eines derartigen Metalls in: Form eines dünnen Filmes auf einer Kunststoffolie oder dgl- durch- Vakuumabscheidung, nickt-elektrolyt!sehe Platzierung oder ähnliche Massnahmen ausgebildet wurderr, als elektrisch leitendes Substrat eingesetzt werden.

Im allgemeinen wird das lichtempfindliche Schichtmaterial gemäss der Erfindung durch ein Verfahren hergestellt", wobei eine Lösung^ die den organischen polymeren Photoleiter (A) und die polycyelische aromatische Nitroverbindung (B) in dem vorstehend aufgeführten spezifischen^ Verhältnis enthält, auf ein elektrisch leitendes Substrat, wie es vorstehend aufgeführt ist, zur Bildung der Zwischenschicht aufgezogen, die in dieser Weise aufgezogene Zwischenschicht getrocknet, eine flüssige Masse, die einverleibt in einen der vorstehend aufgeführten Binder das Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat (C) und die polycyclische aromatische Nitroverbindung (B) in dem vorstehend aufgeführten spezifischen Verhältnis enthält, auf die Zwischenschicht aufgezogen wird und der Überzug erforderlichenfalls getrocknet wird.

ATs Lösungsmittel zur Herstellung der Überzugsmasse für die Zwischenschicht können beispielsweise aromatische Kohlenwasserstoffe als Lösungsmittel, wie Benzol, Toluol und Xylole cyclische Äther, wie Bioxan und Tetrahydrofuran, Ketone, wie Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon, Alkohole, wie Diacetonalkohol und Äthylenglykolisobutyläther, und alicyelische Kohlenwasserstaffe,

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wie Cyclohexan, verwendet werden. Diese Lösungsmittel können allein oder in Form eines Gemisches von zwei oder mehreren hiervon verwendet werden.

Im allgemeinen wird es bevorzugt, dass diese Überzugsmasse auf das elektrisch leitende Substrat zu einer Feststoff konzentration von 1 bis 80 Gew.%, insbesondere 5 bis 50 Gew.%, aufgebracht wird. Die aufgezogene Masse wird gewöhnlich bei einer Temperatur von 10 bis 200° C zur Bildung einer Zwischenschicht getrocknet.

Beim vorstehenden Verfahren wird ein Komplex aus dem organischen polymeren Photoleiter (A) und der polycyclischen aromatischen Nitroverbindung (B) in der Überzugslösung gebildet. Gemäss der Erfindung ist es auch möglich, ein Verfahren anzuwenden, bei dem eine Lösung des organischen polymeren Photoleiters (A) und eine Lösung der polycyclischen aromatischen Nitroverbindung (B) getrennt hergestellt werden, die jeweiligen Lösungen auf das elektrisch leitende Substrat in dieser Reihenfolge oder umgekehrter Reihenfolge aufgebracht werden und ein Komplex direkt auf dem elektrisch leitenden Substrat ausgebildet wird. Selbst wenn in diesem Fall die Komplexschicht nicht einheitlich durch die Zwischenschicht ausgebildet wird, tritt kein spezieller Nachteil auf.

Im allgemeinen wird die Überzugsmasse zur Bildung der Deckschicht durch Auflösung eines der vorstehend aufgeführten Binder in einem oder mehreren der vorstehend aufgeführten organischen Lösungsmittel, Dispergierung oder Auflösung des Phthalοcyanins oder Phthalοcyaninderivate

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und der polycyclischen aromatischen Nitroverbindung in der Binderlösung und Homogeniesierung der erhaltenen Dispersion oder Lösung hergestellt. Vom Gesichtspunkt für die Eignung für den Überzugsarbeitsgang wird es allgemein bevorzugt, dass die Feststoffkonzentration dieser Überzugsmasse 1 bis 80 Gew.%, insbesondere 5 bis 30 Gew.%, beträgt.

Zur Bildung der Deckschicht wird es bevorzugt, dass die folgenden Gesichtspunkte berücksichtigt werden. Es wird hierbei bevorzugt, als Lösungsmittel für die die Deckschicht bildende Überzugsmasse ein Lösungsmittel auszuwählen, welches den aus dem organischen polymeren Photoleiter und der polycyclischen aromatischen Nitroverbindung gebildeten Komplex, der die Zwischenschicht bildet, praktisch nicht löst. Selbstverständlich ist es möglich, ein Lösungsmittel, welches praktisch zur Auflösung der Zwischenschicht fähig ist, für die die Deckschicht ausbildende Überzugsmasse zu verwenden. In diesem Fall wird es jedoch bevorzugt, dass die Masse zur Bildung der Deckschicht sich innerhalb 5 Minuten, insbesondere 1 Minute, verfestigt.

Bei dem lichtempfindlichen Schichtmaterial gemäss der Erfindung wird es bevorzugt, dass die Dicke der Zwischenschicht 0,1 bis 10 Mikron, insbesondere 1 bis 8 Mikron, beträgt und dass die Dicke der Deckschicht 0,1 bis 30 Mikron, insbesondere 1 bis 15 Mikron, beträgt. Falls die Decke der Zwischenschicht kleiner als 0,1 Mikron ist, ist das primäre Oberflächenpotential oder die Steigerungsgeschwindigkeit desselben zu niedrig und falls die Dicke der Zwischenschicht grosser als 10 Mikron ist, liegt das Restpotential bei einem Wert, der nicht vernachlässigt werden kann, und das Auftreten von Schleier oder die Verringerung

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der Beständigkeit zum Kopierarbeitsgang wird leicht verursacht. Falls die Dicke der Deckschicht kleiner als 0,1 Mikron ist, ist das primäre Oberflächenpotential oder die Steigerungsgeschwindigkeit desselben häufig zu niedrig, und, falls die Dicke der Deckschicht grosser als 30 Mikron ist, ist die Empfindlichkeit, d. h. die Lichtabfallgeschwindigkeit, verringert und es wird leicht ein Isolierungskurzschluss verursacht.

Bei dem vorstehend abgehandelten erfindungsgemässen lichtempfindlichen Schichtmaterial können die elektrischen Eigenschaften und die photoleitenden Eigenschaften bei wiederholten Kopierarbeitsgängen bemerkenswert verbessert werden und weiterhin können mechanische Eigenschaften, wie Abschälbeständigkeit hervorragend verbessert werden. Obwohl im Fall eines durch Auftragung einer photoleitenden Schicht aus dem vorstehend aufgeführten Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat, der polycyclischen aromatischen Nitroverbindung und dem Binder direkt auf ein Metallsubstrat ausgebildeten lichtempfindlichen Material die photoleitende Schicht leicht bei dem nachfolgend beschriebenen Abschältest mit einem druckempfindlichen Klebband abgeschält wird, wird im Fall des lichtempfindlichen Schichtmaterials gemäss der Erfindung die Abschälung der photoleitenden Schicht überhaupt nicht bei dem gleichen Test verursacht. Es ist daraus leicht ersichtlich, dass in dem lichtempfindlichen Schichtmaterial gemäss der Erfindung auch die mechanischen Eigenschaften bemerkenswert verbessert sind.

Bas lichtempfindliche Schichtmaterial gemäss der Erfindung ist besonders wertvoll und brauchbar als lichtempfindliches Material für eine elektrophotographische Ko-

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piermaschine, wobei die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials positiv geladen wird und das lichtempfindliche Material wiederholt für den Kopierarbeitsgang eingesetzt wird.

Die Erfindung wird nachfolgend im einzelnen anhand der folgenden Beispiele beschrieben, ohne dass die Erfindung hierdurch begrenzt wird.

Beispiel 1

In Tetrahydrofuran wurden homogen 10 g Polyvinylcarbazol (anschliessend als "PVK" bezeichnet) (Luvican M-I70 der BASF AG.) und 20 g 2,4,7-Trinitrofluorenon (nachfolgend als "TNF" bezeichnet) gelöst und die Lösung auf eine Aluminiumfolie mit einer Stärke von 40 Mikron so aufgezogen, dass die Trockenstärke 4 Mikron betrug, so dass die Zwischenschicht gebildet wurde. Dann wurden 3 g Phthalocyaninblau-(anschliessend als "PC" bezeichnet)(Heliogen Blue 7800 der BASF AG.), 3 g TNF und 35 g eines Acrylharzes (FR-1112D der Mitsubishi Rayon K.K., Feststoffgehalt 40 Gew.%) homogen in 139 g Toluol dispergiert und die Dispersion auf die Zwischenschicht so aufgezogen, dass die Trockenüberzugsstärke insgesamt 10 Mikron betrug. Dann wurde der Überzug bei 100° C während 10 Minuten getrocknet. Dadurch wurde eine lichtempfindliche Platte gemäss der Erfindung hergestellt.

Zum Vergleich dienende lichtempfindliche Platten wurden zur Bewertung der Eigenschaften der lichtempfindlichen Platte gemäss der Erfindung hergestellt.

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Yergleichsbeispiel 1

Eine lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch die Menge an TNF in der die Deckschicht bildenden Überzugsmasse zu 0»3 g geändert wurde.

Vergleichsbeispiel 2

Die lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch die Menge an TNF in der die Deckschicht bildenden Überzugsmasse zu 10 g geändert wurde.

Vergleichsbeispiel 5

Die lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel^ hergestellt, wobei jedoch die Menge an TNF in der die Zwischenschicht bildenden Überzugsmasse zu 1 g geändert wurde.

Vergleichsbeispiel 4

Eine lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch die Menge an TNF in der die Zwischenschicht bildenden Überzugsmasse zu 100 g geändert wurde.

VerRleichsbeispiel 5

In 139 g Toluol wurden homogen 3 6 PC» 0,5 g TNF und 35 g eines Acrylharzes (FR-1112D) dispergiert und die Dis-

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persion auf eine Aluminiumfolie mit einer Stärke von 4-0 Mikron so aufgezogen, dass die Trockenstärke die gleiche wie in Beispiel 1 war (10 Mikron). Dann wurde der Überzug bei 100° C während 10 Minuten zur Bildung der lichtempfindlichen Platte getrocknet.

Die in Beispiel 1 erhaltene lichtempfindliche Platte wurde unter Anwendung eines Testgerätes vom positiven Aufladungs-Belichtungs-Entwicklungs-Übertragungs-Fixierungs-■fcyp getestet. Es wurden klare Bilder mit einer hohen Auflösung erhalten. Einige tausende Drucke konnten erhalten werden, wenn der Kopierarbeitsgang unter Anwendung dieses lichtempfindlichen Plattenmaterials wiederholt wurde.

Die elektrischen Eigenschaften der in Beispiel 1 erhaltenen lichtempfindlichen Platte wurden unter Anwendung eines elektrostatischen Papieranalysators untersucht, der von Kawaguchi Denki K.K. hergestellt worden war, wobei die in Tabelle I aufgeführten Ergebnisse erhalten wurden.

Die zum Vergleich dienenden lichtempfindlichen Platten wurden in gleicher Weise dem Kopiertest unterworfen und ihre elektrischen Eigenschaften wurden in gleicher Weise untersucht. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle I zusammengefasst.

8 0 ^c) H t (l / f) 7 7 0

Beispiel 1 (Schichtgebilde)

JLopiereiKenschaften Schärfe O

Dichte Q

Schleier

Reinigungseigenschaft

Beständigkeit für den Kopierarbeitsgang

Ubertragungswirk-

samkeit

Elektrische Eigenschaften

Empfindlichkeit 16 (Lux.Sek.)

Anfangspotential 460 (Volt)

Ladungsmenge (Volt)50O Restpotential 10 (Volt)

Iunkelabfall 60 (Volt/Sek.)

*-.-2tere Eigenschaften

	Tabelle I	Ver	Ver	Ver
Ver	Ver	gleichs-	gleichs-	gleichs-
gleichs-	gleichs-	beispiel 3	beispiel 4	beispiel 5
beispiel 1	beispiel 2	(Schicht	(Schicht	(Monoschicht)
(Schicht	(Schicht	gebilde)	gebilde)
gebilde)	gebilde)	Δ	Δ	X
X	Δ	O	χ	X
O	X	X	O	X
X	O	X	Δ	Δ
X	O	Δ	Δ	χ
X	Δ	Δ	O	χ
X	O

17

480

100

25 470

520 40

10 O

18 350

400 9

51

27 380

410 41

Fussnoten der Tabelle I

Schärfe:

Reproduzierbarkeit von feinen Linien, Netzen, Halbtönen und kleinen Buchstaben, die nach der folgenden Skala bewertet wurde:

O ^: 6^ut

A ^: ziemlich schlecht X : schlecht Dichte:

Die Dichte des Bildbereiches (nicht-belichteter Bereich), die nach folgender Skala bewertet wurde: O : dicht
Δ : ziemlich dünn
X : dünn
Schleier:

Verunreinigung des Hintergrundes im Nicht-Bildbereich (belichteter Bereich), die nach folgender Skala bewertet wurde:

nicht beobachtet gering X : beträchtlich Reinigungseigenschaft:

Leichtigkeit bei der Entfernung des auf der lichtempfindlichen Platte nach der Übertragung verbliebenen Toners, die nach folgender Skala bewertet wurde: O : sehr leicht
Δ : ziemlich schwierig
X : schwierig
Beständigkeit beim Kopierarbeitsgang:

Die Anzahl der beim wiederholten Kopierarbeitsgang erhaltenen Drucke von guter Qualität, die nach folgender Skala bewertet wurde:

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O : mehr als 1000 Drucke Λ: 500 bis 1000 Drucke X : weniger als 500 Drucke Übertragungswirksamkeit:

Verhältnis des auf das Kopierpapier nach der Entwicklung übertragenen Toners, das nach folgender Skala bewertet wurde:

O : mehr als 80 % des Toners wurden übertragen Δ : 50 bis 80 % des Toners wurden übertragen X : Weniger als 50 % des Toners wurden übertragen Bedingungen zur Bestimmung durch den elektrostatischen Papieranalysator:
Licht: 40 Lux
Ladung: 5 KV (positiv)

Empfindlichkeit: Lichtmenge (Lux.Sek.), bei der das

Potential kurz vor der Belichtung auf 1/2 abfiel, bestimmt nach dem statischen Verfahren.

Anfangspotential: Sättigungsiadungsspannung (V), bestimmt nach dem statischen Verfahren

Ladungsmenge: Beobachtete Sattigungsspannung (V), wenn die Ladung während 10 Sekunden ausgeführt wurde, bestimmt nach dem dynamischen Verfahren

Restpotential: Beobachtete Spannung (V) nach 3 Sekunden nach der Aussetzung, bestimmt nach dem statischen Verfahren

Dunkelabfall: Durchschnittswert des Potentialabfalls (V/Sek.) im Verlauf von 3 Sekunden nach der Ladungsabschaltung, bestimmt nach des statischen Verfahren.

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Haftung:

Die Haftungsfestigkeit der lichtempfindlichen Schicht am Aluminiumsubstrat (beobachtete Abschälbeständigkeit, falls ein druckempfindliches Klebband auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht wurde und das Band dann abgeschält wurde), welches nach der folgenden Skala bewertet wurde:

O : stark

Δ ϊ normal X : schwach

Beispiel 2

In 80 g eines Mischlösungsmittels aus Toluol/Cyclohexanon (Gewichtsverhältnis 5/1) wurden homogen 10 g PVK (Tuvical 210 der Takasago Koryo K.K.) und 10 g TKF gelöst und die Lösung wurde auf eine Aluminiumfolie mit einer Stärke von 40 Mikron so aufgezogen, dass die Trockenstärke 5 Mikron betrug» so dass die Zwischenschicht gebildet wurde. Bann wurden 3 g Phthalocyaninblau (Heliogen-Blue 7800 der BASF AG.)τ ^ g TKF und 30 g eines Acrylharzes (Acrydic A-196 der Dai-Kippon Ink Kagaku Kogyo K.K., Feststoffgehalt 50 %) homogen in 100 g Toluol dispergiert und die Dispersion auf die Zwischenschicht aufgezogen, so dass die Trockenüberzugsstärke insgesamt 10 Mikron betrug. Der Überzug wurde dann bei 100° C während 10 Minuten getrocknet, um die lichtempfindliche Platte zu erhalten.

Venn diese lichtempfindliche Platte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 getestet wurde, wurden gleich gute Ergebnisse wie bei den in Beispiel 1 erhaltenen Ergebnissen erhalten.

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Beispiel 5

Eine lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch ein !Epoxyharz (Epikote 1009, der Shell Chemical Co.,) anstelle des Acrylharzes in solcher Menge verwendet wurde,dass die Menge an Feststoff die gleiche, die bei dem in Beispiel 1 eingesetzten Acrylharz war, und es wurde Aceton als Lösungsmittel anstelle von Toluol verwendet. Falls diese lichtempfindliche Platte getestet wurde, wurden gleich gute Ergebnisse wie die in Beispiel 1 erhaltenen Ergebnisse erhalten.

Beispiel 4

Eine lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch ein

Polyesterharz (Vylon 113 der Toyo Boseki K.K.) anstelle des in Beispiel 1 eingesetzten Acrylharzes verwendet wurde. Falls diese lichtempfindliche Platte getestet wurde, wurden gleich gute Ergebnisse wie die in Beispiel 1 erhaltenen Ergebnisse erhalten.

Beispiel 5

Falls ein Härtungsraittel (Epicure der Shell Chmiecal Co.) bei der Bildung der Deckschicht in Beispiel 3 in einer Menge von 5 Gew.%, bezogen auf Epikote 1009 zugesetzt wurde, wurde die Dauerhaftigkeit der erhaltenen lichtempfindlichen Platte weiterhin verbessert.

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Beispiel 6

Eine lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch Λ g eines Siliconöls (KF-96 der Shinetsu Kagaku Kogyo K.K.) zu der die Deckschicht bildenden Überzugsmasse zugesetzt wurde.Wenn diese lichtempfindliche Platte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 getestet wurde, zeigte es sich, dass die Beständigkeit gegenüber dem Kopierarbeitsgang und die Reinigungseigenschaft dieser lichtempfindlichen Platte gegenüber der in Beispiel 1 erhaltenen lichtempfindlichen Platte weiterhin verbessert war.

Beispiel 7

Eine lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch in der die Zwischenschicht bildenden Überzugsmasse TKP durch die gleiche Menge an 2,4,5,7-Tetranitrofluorenon ersetzt wurde. Falls diese lichtempfindliche Platte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 getestet wurde, wurden gleich gute Ergebnisse wie bei den in Beispiel 1 erhaltenen Ergebnissen erhalten.

Beispiel 8

Eine lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch in der die Zwischenschicht bildenden Masse Poly-N-2-acrylcarbazol anstelle von PVK verwendet wurde. Wenn diese lichtempfindliche Platte getestet wurde, wurden gleich gute Ergebnisse zu den in Beispiel 1 erhaltenen Ergebnissen erhalten.

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Beispiel 9

Eine lichtempfindliche Platte wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch Resino Blue ESP (Kupfeiphthalocyanin der Resino Color Kogyo K.K.) anstelle von Heliogen Blue 7800 verwendet wurde. Venn diese lichtempfindliche Platte in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 getestet wurde, wurden gleich gute Ergebnisse wie bei den in Beispiel 1 erhaltenen Ergebnissen erhalten.

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Claims

Patentansprüche

1. Lichtempfindliches Material für die Elektrophotographie, bestehend aus einem elektrisch leitenden Substrat, einer auf dem Substrat gebildeten Zwischenschicht und einer auf der Zwischenschicht aufgeschichteten Deckschicht, dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenschicht (A) einen organischen polymeren Photoleiter und (B) eine elektronenannehmende polycyclische aromatische Nitroverbindung in einem Gewichtsverhältnis von (A)/(B) von 6/1 bis 1/6 enthält und die Deckschicht einverleibt in einem Binder (C) Phthalocyanin oder ein Phthalocyaninderivat und (B) die elektronenanziehende polycyclische aromatische Nitroverbindung in einem Gewichtsverhältnis von (C)/(B) von

10/5 bis 10/25 enthält.

2. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der organische polymere Photoleiter (A) aus Polyvinylcarbazol oder einem Kernsubstitutionsderivat hiervon besteht.

3· Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1 oder

2, dadurch gekennzeichnet, dass die polycyclische aromatische Nitroverbindung aus mindestens einem der Materialien Trinitrofluorenon und/oder Tetranitrofluorenon besteht.

4. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1 bis

3, dadurch gekennzeichnet, dass das Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat aus mindestens einem der Materialien von metallfreien Phthalocyaninen und Kernsubstitutionsderivaten hiervon besteht.

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ORIGINAL INSPECTED

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5· Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Binder aus. einem Acrylharz besteht.

6. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1 bis 5i dadurch gekennzeichnet, dass die Deckschicht weiterhin ein Siliconöl in einer Menge von 5 bis 150 Gew.teilen auf 100 Gew.teile Phthalocyanin oder Phthalocyaninderivat enthält.

7. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenschicht eine Dicke von 0,1 bis 10 Mikron und die Deckschicht eine Dicke von 0,1 bis 30 Mikron besitzen.

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