DE2759985C2 - Magnetaufzeichnungselement - Google Patents
MagnetaufzeichnungselementInfo
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Description
is Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Magnetaufzeichnungselement, insbesondere Magnetplatte
oder -trommel nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Aufnahme- und Wiedergabesystem für eine Magnetaufzeichnungsvorrichtung, die Magnetköpfe fur die Aufnahme und Wiedergabe und Magnetaufzeichnungselemente besitzen, können grundsätzlich in die folgenden
beiden Gruppen eingeteilt werden. Beim einen System wird der Magnetkopf mit der Oberfläche des Magnetauf-Zeichnungselementes zu Beginn einer Operation in Berührung gebracht; dann wird das Aufzeichnungselement
mit einer gegebenen Drehzahl (Umdrehungen pro Minute) rotierend angetrieben, wodurch sich eine Luftschicht zwischen dem Magnetkopf und der Oberfläche des Magnetaufzeichnungselementes bei der Aufnahme
und bei der Wiedergabe ergibt. Ein solches Kontakt-Start-Stoppsystem wird im folgenden als CSS-System
bezeichnet. Bei diesem System wird mit Beendigung der Operation die Rotation des Magnetaufzeichnungselementes in einem Zustand gestoppt bzw. angehalten, in welchem der Magnetkopf und das Aufzeichnungsele
ment in Reibkontakt miteinander gehalten sind, wie dies auch zu Beginn der Operation der Fall ist. Beim anderen System wird, nachdem das Magnetaufzeichnungselement zuvor auf eine bestimmte Drehzahl gebracht worden ist, der Magnetkopf abrupt auf die Oberfläche des Aufzeichnungselementes gebracht, so daß sich eine Luftschicht zwischen dem Magnetkopf und dem Magnetaufzeichnungselement zur Durchführung der Aufnahme
bzw. der Wiedergabe ergibt. Wie sich aus dem Vorhergehenden ergibt, ist beim einen System der Magnetkopf
sowohl am Anfang als auch am Ende der Operation in Reibkontakt mit der Oberfläche des Aufzeichnungselementes gebracht. Andererseits ist beim anderen System der Magnetkopf in Reibkontakt mit der Oberfläche des
Aufzeichnungselementes gehalten, wenn er gegen dessen Oberfläche gedrückt wird. Ein solcher Reibkontakt
zwischen dem Magnetkopf und dem Magnetaufzeichnungselement hat eine Abnutzung des Magnetkopfes und
des Magnetaufzeichnungselementes zur Folge und beschädigt ggf. den Magnetkopf ebenso wie das magnet metallische Dünnfilmmedium auf dem Aufzeichnungselement. Ferner führt bei einer solchen Reibkontaktbedingung bereits eine kleine Änderung in der Haltung des Magnetkopfes zu einer Ungleichmäßigkeit einer Kraft auf
dem Magnetkopf, so daß dann der Magnetkopf und die Oberfläche des Aufzeichnungselementes beschädigt
werden. Ferner passiert es manchmal, daß während der Aufnahme und der Wiedergabe der Magnetkopf unerwartet mit der Oberfläche des Aufzeichnungselementes in Kontakt bzw. Berührung gebracht wird, wodurch sich
eine große Reibkraft zwischen dem Magnetkopf und dem Aufzeichnungselement ergibt, die demzufolge den
Magnetkopf und das Aufzeichnungselement beschädigt. Deshalb sollte auf der Oberfläche des Magnetaufzeichnungselementes zum Schütze des Magnetkopfes und des Aufzeichnungselementes vor Reibberührung, vor
Abnutzung und Schäden aufgrund einer solchen Berührung ein Schutzfilm vorgesehen sein.
Bei einem derartigen aus der DE-OS 26 48 303 bekannten Magnetaufzeichnungselement besteht das Polysilikat der amorphen anorganischen Oxidschicht des Schutzfilms aus einem kondensierten Polymer aus Tetrahydroxysilan oder aus einem amorphen Halbleitermetalloxid, wie bspw. Quarzglas od. dgl. Außerdem ist das Polysilikat des Schutzfilms unmittelbar auf das Dünnfilmmedium aufgebracht. Dies bedeutet, daß die Gefahr
besteht, daß sich der Polysilikatfilm vom Dünnfilmmedium ablösen kann, da die Festigkeit dieses Polysilikat-Schutzfilmes gegenüber Abrieb nicht ausreichend hoch ist.
Des weiteren ist aus der DE-AS 19 65 482 ein Magnetaufzeichnungselement bekanntgeworden, bei dem der
Schutzfilm aus einem Kobaltoxid besteht und bei dem die Gleitmittelschicht aus einem einfachen Silikonöl
besteht. Hierbei ergeben sich ebenfalls die obengenannten Probleme.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, ein Magnetaufzeichnungselement der eingangs genannten Art zu schaffen, bei dem die einzelnen Schichten derart aneinander angepaßt sind, daß sich eine optimale
Adhäsion ergibt und bei dem die Abriebfestigkeit erhöht ist.
Diese Aufgabe wird bei einem Magnetaufzeichnungselement der genannten Art durch die im Kennzeichen
des Patentanspruches angegebene Kombination von Merkmalen gelöst.
Mit dem erfindungsgemäßen Magnetaufzeichnungselement ist erreicht, daß das Spannungsrelaxationsmittel
verhindert, daß sich der Schutzfilm ablöst, und daß das Hydrolyse-Polymer von Metall-Alkoxid den Schutzfilm
härtet. Darüber hinaus sichert die hochadhäsive Schicht eine entsprechend gute Adhäsion zwischen dem Dünnfilmmedium und dem Schutzfilm. Infolgedessen wird durch die genannte Ausbildung des Polysilikats und durch
die hochadhäsive Schicht die Abriebfestigkeit des Schutzfilmes erhöht.
fi5 anhand des in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispieles näher beschrieben und erläutert wird. Die
-scheibe 1, eine unmagnetische Legierungsschicht 2, die die Oberfläche der Scheibe 1 überzieht, ein magnetmetallisches
Dünnfilmmedium 3, das die polierte Oberfläche der unmagnetischen Legierungsschicht 2 überzieht,
und einen Schutzfilm 6, der aus Polysilikat besteht, das ein Spannungsrelaxationsmittel und/oder ein Hydrolyse-Polymer
aus Metall-Alkylat bzw. Alkoholat bzw. -Alkoxid enthält. Zwischen dem Schutzfilm 6 und dem
magnetmetallischen Dünnfilmmedium 3 ist eine hochadhäsive Schicht 5 vorgesehen. Der Schutzfilm 6 ist von
einem orientierten Gleitmittel 7 überzogen.
Die Legierungsscheibe 1 muß (.ierart feinbearbeitet sein, daß sie so eben wie möglich ist, wobei die Unebenheiten
in Umfangsrichtung nicht mehr als 50 μ und in radialer Richtung nicht mehr als 10 μ betragen dürfen.
Dies deshalb, weil eine Erhöhung der Topographie bzw. der Unebenheiten zu einem Fehl verhalten des Magnetkopfes
führt, der bei der Aufnahme und der Wiedergabe auf dem Magnetaufzeichnungselement treibt bzw. floatet,
so daß er den Aufwärts- bzw. Abwärtsbewegungen der Oberfläche des Magnetaufzeichnungselementes
folgt, mit dem Ergebnis, daß sich der Spalt zwischen dem Magnetkopf und dem Aufzeichnungselement ändert
und infolgedessen sich eine entsprechende Änderung in den Aufnahme- und Wiedergabeeigenschaften des
Aufzeichnungselementes ergibt. Die unmagnetische Legierungsschicht 2, die die Legierungsscheibe 1 überzieht,
ist in einem Plattierungsverfahren zu einer Spiegelfläche mit einer Flächenrauhigkeit von nicht mehr als
0,2 μ feinbearbeitet bzw. poliert. Es sei erwähnt, daß, wenn ein Metall, das die Feinbearbeitung zu einer Spiegelfläche
ermöglicht, für die Legierungsscheibe bzw. -platte 1 verwendet wird, die unmagnetische Legierungsschicht 2 nicht mehr notwendig ist. Das Dünnfilmmedium 3, das für Aufnahmen hoher Dichte geeignet ist, überzieht
aufgrund des angewendeten Plattierungsverfahrens die Oberfläche der unmagnetischen Legierungsschicht 2. Der Schutz, der das Dünnfilmmedium 3 vor einem Kontakt bzw. einer Berührung mit dem Magnet-
kopf oder dem Einfluß von Feuchtigkeit oder Temperatur schützt, enthält den Schutzfilm 6, der aus Poiysilikat
besteht, das ein Spannungsrelaxationsmittel bzw. -agens und/oder ein Hydrolyse-Polymer eines Metall-Alkoxids enthält, und der die hochadhäsive Schicht 5 überdeckt, welche ihrerseits das magnetmietallische Dünnfilmmedium
3 überzieht, und das orientierte Gleitmittel 7, das den Schutzfilm 6 überzieht.
Das hier verwendete Polysilikat ist eine von solchen anorganischen Polymerverbindungen, bei denen Sl -O-Bindungen,
die aus kovalenten Bindungen, die aus kovalenten Bindungen bestehen, mit Sii-OH-O-Bindungen
verkettet sind, die aus einer Hydrogen-Bindung bestehen, die dreidimensional in Form einer Masche ist:
— Si —O— Si — OH O Si —
O O HO O
— Si—O—Si—O—Si—O—Si— „
I I I I
In der obigen maschenähnlichen Struktur stellen die ausgezogenen Linien die kovalenten Bindungen und die
gestrichelten Linien die Hydrogenbindungen dar.
Das Polysilikat kann durch Dehydration-Kondensations-Polymerisation von Tetraalkoxysilan oder Tetrahydroxysilan
(Si(OH)4 hergestellt werden, das ein Hydrolyseprodukt aus Siliziumacyl ist. Tetraalkoxysilan ist ein
Rohmaterial für Tetrahydroxysilan und wird durch die chemische Formel Si(OR)4 ausgedrückt, während Siliziumacyl
durch die chemische Formel Si(OCOR)4 ausgedrückt wird, wobei R eine Alkylgruppe darstellt, d. h. eine
Methylgruppe, Äthylgruppe, Propylgruppe und Butylgruppe.
Das Hydrolyse-Polymer eines Metall-Alkoxids, wie es hier verwendet wird, umfaßt eine Hydrolyse einer Verbindung,
die durch die folgende allgemeine Formel ausgedrückt wird:
RmM(0R')„_m,
wobei M ein Metall, wie Ti, Zr, V, Al, Sn, Zn, Be, Ce, Co, Cr, Cu, Dy, Eu, Fe, Ga, Ge, Hf, In, Mg, Mn, Mo, Nb, Ni,
Pd, Ph, Sb, Th, Tl, Ta, V, W und R und R' Alkylgruppen, wie Methyl, Äthyl, Propyl, Butyl, und Amyl darstellen
und wobei OR' sich allgemein auf eine Alkoxyl-Gruppe bezieht, m die Valenz bzw. Wertigkeit von M und η eine
ganze Zahl von 0 bis n-\ ist. Metall-Alkoxid gewährleistet eine höherer Reaktionsfähigkeit gegenüber einer
organischen Metallverbindung (Metall-Chelat) und kann durch Hydrolyse polymerisiert werden, wodurch ein
sehr hartes amorphes Polymer gebildet wird. Fsrner reagiert ein Metall-Alkoxid mit Tetraalkoxysilan, Tetrahydroxysilan,
Tetraacylsilan (Silizium-Tetraakylat) gut, welches die Ausgangsmaterialien von Polysilikat sind. Es
wird also eine flüssige Mischung aus Metall-Alkoxid und den Ausgangsmaterialien angewendet und einer
Wärmebehandlung unterzogen, wodurch ein Polysilikatfilm geschaffen wird, der ein Hydrolyseprodukt eines
Metall-Alkoxids enthält.
Ein Metall-Alkoxid ist das typische Ausgangsmaterial für ein Metallalkoxid-Hydrolyscprodukt. Jedoch kann
ein Metallacyl RmM(OCOR),,-,,, dieselben Ergebnisse liefern, die man vom Metall-Alkoxid erhält. Ein Metalloxid,
das als Spannungsrelaxationsmittel verwendet wird, das im Polysilikatfilm enthalten sein soll, enthält Verbindungen,
wie sie im folgenden aufgeführt sind, oder Kombinationen davon:
Li2O, Na2O, K2O, Pb2O, Cs2O, MgO, CaO, ZnO, PbO, Al2O3,
GaO, BaO, SrO, MnO, FeO, BeO, Fe2O3, CdO, Tl2O3.
Eine oder mehrere Arten dieser Metalloxide werden ausgewählt und dann in einer Alkohollösung, die Tetrahydroxysilan
enthält, vollständig gelöst und dann als Überzug angewendet. Zusätzlich kann das organische Polymer,
das mindestens eine mit Polysilikat reaktionsfähige funktionelle Gruppe besitzt und als Spannungsrelaxationsmittel
dient, auf der Oberfläche'des magnetmetallischen Dünnfilmmediums oder einer hochadhäsiven
Schicht einen Film bilden, deren Reibungswiderstand bezüglich des Magnetkopfes aufgrund der Spannungsrelaxationswirkung
des organischen Polymers zusätzlich zu einer starken Bindung des Polysilikats zu einer funktioneilen
Gruppe des organischen Polymers ausgezeichnet ist.
Die funktionelle Gruppe, die mit Polysilikat reagiert, enthält:
Die funktionelle Gruppe, die mit Polysilikat reagiert, enthält:
-COOH -NH2 -SH —COOR -NHR
>NH
-CHO -NCO Si-OH Si-OR Si-X -CH CH2
\ /
is -CH2OH -CH CH2 -OCOR —OH °
is -CH2OH -CH CH2 -OCOR —OH °
N
H
H
wobei R eine Alkylgruppe und X das Halogen darstellen.
Das Polymer, das mindestens eine obengenannte funktionelie Gruppe besitzt, enthält: N-Methoxymethyl-Nylon,
Silikonzwischenprodukt, Epoxyharz, Phenolharz, Melaminharz; HarnstofTharz, Zellulose (Acetylzellulose,
Nitrozellulose, Methylzellulose, Äthylzellulose u. dgl.), Polyvinylharz (Polyvinylacetat, Polyvinylalkohol,
Polyvinylformal, Polyvinylbuthyl u. dgl.), Polyisozyanat, Polymethylmetycrylat u. dgl. Eine Säure kann zum
Zwecke der Beschleunigung der Reaktionsrähigkeit der funktioneilen Gruppen dieser organischen Polymere
mit Polysilikat hinzugefügt werden. Als Härtemittel für das Epoxyharz sind Diethylentriamine, Diäthylaminopropylamine,
Polyamidharz, eine Amingruppe, die ein Silanhaftmittel enthält, Säureanhydrid, wie Phtalsäureanhydrid,
Tetrahydrophtalsäureanhydrid und Dodezylsukzinsäure-Anhydrid, und Isozyanate, wie Hexamethylen-Diisozyanat,
Trilen-Dissozyanat, Polyisozyanat u. dgl. Das genannte Silizium-Zwischenprodukt ist ein
Polymer mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 500 bis 200, besitzt eine funktionelle Gruppe, wie
beispielsweise SiOH oder SiOCH3 und ist mit Polysilikat eng verbunden.
Das Silanhaftmittel, das als ein hochadhäsives Mittel oder als ein Spannungsrelaxationsmittel verwendet wird,
ist eine Art aus den Silanverbindungen, die ausgedrückt werden durch R1-Si(Xa)n(Xb)3-,, wobei η eine ganze
Zahl von O bis 3, Xa und Xb Halogenatome ORd, OCORd oder 0ORd (Rd ist beispielsweise eine Alkylgruppe
CH3
-CH3 —C2H5 -CH2CH2OCH3 -C-CH3
-CH3 —C2H5 -CH2CH2OCH3 -C-CH3
CH3
darstellen, während Rc einen Teil darstellt, der aus organischen Verbindungen besteht, die eine funktionelle
Gruppe besitzen, wie beispielsweise
0</2\-CHjCH2— CH2-CH2CH2O(CH2)J- HSCH2CH2CH2
H2NCH2CH2CH2- H2NCH2CH2NH (CH2^- CH2=CH-
CH3
CH2=CCOO(CHj)3- H3COOCCHjNH(CHj)2NH(CHj)3-
CH2=CCOO(CHj)3- H3COOCCHjNH(CHj)2NH(CHj)3-
Xa und Xb erzeugen eine Silanolgruppe Si — OH durch Hydrolyse.
Das hier verwendete Silanhaftmittel enthält folgendes:
Das hier verwendete Silanhaftmittel enthält folgendes:
"U Vinyichlorosilan CHj=CHSiCl3
Vinylethoxysilan CHj=CHSKOCjHs)3
Vinyl-Tris(Beta-Methoxy-Ethoxy) Silan CHj=CHSi(OCH2CHjOCH3)
CH3
Gamma-Methacryloxypropyl-Trimethoxysilan CH2=C—COO(CHj)3Si(OCHj)
Betap^-EpoxycyclohexyUÄthyltrimethoxysilan
Gamma-Glycidoxypropyl-Trimethoxysilan
Gamma-Melcaptopropyl-Trimethoxysilan
Gamma-Aminopropyl-Triethoxy-Silan N-Beta(Aminoäthyl)Gamma-Aminopropyltrimethoxy-Silan
CH2CH2Si(OCH3),
CH2=CHSi(OOCCHj)2
HSC H2C H2C H2Si(O C Hj)3
NH2CH2CH2CH2Si(OC2Hs)3
N H2C H2C H2N H(C H2J3Si(O C Hj)3
CH3
CH2=CH-Si
0OC-CH3
CH3
Ferner enthält das Silanhaftmittel Polyaminosilan einer unten dargestellten Matrix, in welcher eine Einheit
von
—C—C—H—
in dem Teil von Rc wiederholt wird und in welchem eine organische Gruppe, die primäre, sekundäre und tertiäre
Aminogruppen besitzt, in einer verwickelten Forme abgezweigt wird:
NH2
NH-
NH-
-N-
-Si(OCH3),
NH2
O —> CrCl2
y \
R-C OH
O — CrCl2
wobei R ein Hydrokarkon ist, das eine funktioneile Gruppe, wie beispielsweise
C ΓΤ2 === C
CH3
Des weiteren kann das nachstehend beschriebene Oberflächenhaftmittel als ein weiteres Spannungsrelaxationsmittel verwendet werden.
Ferner kann ein Chromkomplex, der typischerweise aus Methycrylat-Chromtrichlorid (Methacrylsäure-Chromtrichloridester) bestehen kann, als hochadhäsives Mittel zusätzlich zu einem Silanhaftmittel verwendet
werden. Der obengenannte Chromkomplex hat die folgende Struktur und bindet das magnetmetallische Dünnfilmmedium eng an das Polysilikat:
besitzt, und wobei ein Pfeil eine Koordinatenbindung darstellt
Die Gleitmittelschichl, die auf der Polysilikatfilmoberfläche als Überzug aufgebracht werden soll, haftet am
Film fest und besteht aus einem orientierten Gleitmittel, das eine geringe Reibungskraft besitzt. Dieses orientierte Gleitmittel haftet jedoch an der Oberfläche eines Metalls nicht eng genug.
Das hier verwendete orientierte Gleitmittel enthält, wie in den nachfolgenden Beispielen gezeigt, Öle, wie
orientiertes Silikonöl, FluoröL, Fluorsilikonöl, und eine Silangruppe oder Silazangruppe (im folgenden als ein
Oberflächenhaftmittel bezeichnet), wie Oktadecyltrichlorsilan, Hexamethyldisilazan, Ν,Ν-Dimethyl-N-Octadecyl-3-Aminopropyl-Trimethoxysilyl-Chlorid (DNOAP), Dimethyldichlorsilan u. dgl. Silan kann durch die folgende allgemeine Formel ausgedrückt werden:
RnSiX4-,,,
wobei R die Alkyl-Gruppe oder aromatisches Hydrokarbon darstellt, wie CH3, C2H5, C3H7, C4H9, C18H37, oder
Fluorkarbon, wie CF3, C2F5, C3F7, C18F37. X stellt die Alcoxy-Gruppe, wie -OCH3, -OC2H5, -OC3H7 oder
Halogen, wie Cl, Br oder Alkylperoxy-Gruppe, wie -0OC4H9 dar. π ist eine ganze Zahl von 1, 2 oder 3.
in einen Teil, der an eine Unterschicht gebunden bzw. gekoppelt werden kann, und in einen Teil orientiert ist,
der im Hinblick auf den Magnetkopf weniger adhäsiv ist und deshalb eine entsprechende Gleiteigenschaft bzw.
is und deshalb wird Dimethylsilikonöl beim Reinigen leicht entfernt. Wenn das Dimethylsilikonöl ohne gereinigt
zu werden verwendet wird, wird das Öl vom Magnetkopf gesammelt, wodurch eine nachteilige Wirkung auf die
Float- bzw. Gleitbedingung des Magnetkopfes ausgeübt wird. Wenn das Dimethylsilikonöl auf der Polysilikatfilmoberfläche angewendet und dann bei einer Temperatur von über 1500C wärmebehandelt wird, ist das Öl in
einen Teil, der Sauerstoff enthält, der an die Unterschicht gebunden werden kann, und in einen Teil orientiert,
der eine eine Gleitfähigkeit aufweisende Äthylgruppe enthält. Der Sauerstoff enthaltende Teil im Dimethylsilikonöl wird an einer Silanolgruppe stark chemisch absorbiert, die auf der Oberfläche des Polysilikatfilms vorhanden ist, der als Unterschicht dient.
Octadecyltrichlorsilan in dem Oberflächenhaftmittel besitzt andererseits die folgende Struktur und wird in
eine Verbindung hydrolisiert, die eine eine große Reaktionsfähigkeit besitzende Silanolgruppe (Si-OH) ent-
schicht geeignet ist, und aus einem Teil, der eine eine Gleitfähigkeit besitzende Octadecyl-Gruppe (-C18H37)
enthält. Derjenige Teil, der eine Silanolgruppe enthält, bewirkt die folgende Dehydrations-Kondensations-
das an der Polysilikatfilmoberfläche zur engen Bindung adsorbiert wird:
— Si —OH + HO—Si— —► —Si— O— Si— + H2O [I]
Diese Reaktion findet bei Raumtemperatur statt. Wenn man jedoch erwärmt, läuft die Reaktion vollständiger ab.
Ferner kann eine Gleitmittelschicht aus solch einem Öl oder einem Oberflächenhaftmittel zu einem dünneren
Film geformt werden. Die Gleitmittelschicht wird auf der Polysilikatfilmoberfläche als Überzug aufgebracht,
welchem Vorgang eine chemische Reaktion folgt: oder sie wird zusätzlich wärmebehandelt, um zu bewirken,
daß die Schicht am Polysilikatfilm haftet, wonach mittels eines neutralen Reinigungsmittels gereinigt wird, so
daß das überschüssige Gleitmittel, das nicht daran haftet, entfernt werden kann; die Gleitmittelschicht wird
damit eine monomolekulare Schicht.
Diese orientierten Gleitmittel zeigen dazu, mit dem Polysilikatfilm besonders eng zu kuppeln bzw. zu verknüpfen, wodurch eine Gleitmittelschicht gebildet wird, die eine hohe Adhäsivität besitzt. Das orientierte Gleitmittel ist in einem dreidimensionalen, maschenähnlichen Aufbau bzw. Struktur des Polysilikatfilms adsorbiert,
so daß selbst dann, wenn die orientierte Gleitmittelschicht bis zu einem gewissen Grade vom Magnetkopf abgeblättert wird, ihre Gleitwirkung erhalten werden kann. Dies ist eine weitere ausgezeichnete Eigenschaft des
Magnetaufzeichnungselementes bei den Beispielen vorliegender Erfindung, bei denen solch ein orientiertes
Gleitmittel auf den Polysilikatfilm aufgebracht ist.
Die folgenden Beispiele zeigen die Merkmale und Vorteilt vorliegender Erfindung in weiteren Einzelheiten.
Eine platten- bzw. scheibenförmiges Aluminiumlegierungssubstrai wurde durch Abdrehen und Abflachen
mittels Wärme an seiner Oberfläche derart feinbearbeitet, daß diese eine leichte Topographie bzw. Unebenheit
(von nicht mehr als 50 μ bzw. 100 μ) in Umfangsrichtung bzw. in radialer Richtung besitzt, wodurch sich die
Legierungsscheibe 1 ergab. Nickel-Phosphor (Ni-P) wurde auf die Oberfläche des scheibenförmigen Aluminiumlegierungssubstrats auf eine Dicke von etwa 50 μ zur Bildung der unmagnetischen Legierungsschicht 2
plattiert. Dann wurde der Nickel-Phosphorfilm auf eine Oberflächenrauhigkeit von nicht mehr als 0,04 μ bei
einer Dicke von etwa 30 μ hochglanzpoliert bzw. feinbearbeitet Danach wurde derart eine Kobalt-Nickel-Phos
phor (Co-Ni-P)-Legierung mit einer Dicke von etwa 0,05 μ zur Bildung des magnstmetallischen Dünnfilmme
diums 3 plattiert. Dann wurde eine Lösung der folgenden Zusammensetzung vollständig gemischt und dann auf
die Oberfläche der Co-Ni-P-Legierung in einem Rotaticnsüberzugsverfahren (mit 200 Upm) mit einer Dicke
von 500 · 10"'"m aufgebracht bzw. aufgetragen. Die so präparierte Platte bzw. Scheibe wurde in einem elek-
trischen Ofen bei einer Temperatur von 2000C drei Stunden lang wärmebehandelt, wodurch sich ein Magnetaufzeichnungselement
ergab:
Tetrahydroxysilan 11% Äthylalkohol-Lösung 10 Gew.%
BaO 0,01 Gew.%
n-Butylalkohol Gleichgewicht
Im Anschluß daran wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung aufgebracht; dann wurde
eine 0, lgew.%-ige n-Butylalkohollösung aus Hexamethyldisilasan als ein orientiertes Gleitmittel auf den Polysilikatfilm,
der ein Metalloxid enthält, in einem Rotationsüberzugsverfahren aufgebracht, dem sich eine einstündige
Wärmebehandlung bei 2000C zur Bildung eines Schutzfilms anschloß:
Tetrahydroxysilan 11% Äthylalkohol-Lösung 10 Gew.%
BaO 0,01 Gew.%
n-Butylalkohol Gleichgewicht
Entsprechend dem im Beispiel 17 angegebenen Verfahren wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung
auf ein magnetmetallisches Dünnfilmmedium zur Bildung eines Filmes aufgebracht; dann wurde
Fluoröl als orientiertes Gleitmittel aufgetragen, dem sich eine achtstündige Wärmebehandlung bei 2000C
anschloß; dann wurde mit einem neutralen Reinigungsmittel gereinigt, mit Wasser abgewaschen und mit Trichloräthylen
gereinigt, wodurch sich die orientierte Gleitmittelschicht gebildet hat:
25 Tetrahydroxysilan 11% Athylalkohol-Lösung 10 Gew.%
Epoxyharz 0,05 Gew.%
Polyaminosilan 0,05 Gew.%
I sob u ty laze tat 50 Gew.%
n-Butylalkohol Gleichgewicht χι
Im Anschluß an den Vorgang gemäß Beispiel 17 wurden 0,1% n-Butylalkohol aus Gamma-Aminopropyltrimethoxysilan
im Rotationsüberzugsverfahren auf eine Scheibe aufgebracht, bei der ein Ni-P-FiIm auf der Aluminiumlegierungsscheibe
gebildet wurde; dann wurde ein Co-Ni-P-FiIm gebildet. Daraufhin wurde das Rotationsüberzugsverfahren
10 Minuten lang fortgesetzt, dem sich eine Wärmeerzeugung und Trocknung anschloß,
so daß eine extrem dünne und hochadhäsive Schicht, die aus Gamma-Aminopropyltrimethoxysilan besteh^
gebildet werden kann. Eine Lösung aus der unten angegebenen Zusammensetzung wurde dann auf die hochadhäsive
Schicht aus Gamma-Aminopropyltrimethoxysilan in einer dem Beispiel 17 ähnlichen Bedingung aufgebracht,
wodurch ein Polysilikatfilm mit einer Dicke von 500 · 10~'°m gebildet wurde:
Tetrahydroxysilan !1% Äthylalkohol 10 Gew.%
n-Butylalkohol 90 Gew.%
Im Anschluß daran wurde eine hochadhäsive Schicht auf einer magnetmetallischen Legierungsschicht unter
Verwendung einerO,lgew.%-igen n-Butylalkohollösung von Gamma-Glycidoxypropyltrimethoxysilan gebildet,
das eines der Silanhaftmittel ist; dann wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf die
hochadhäsive Schicht gebracht, die in einer ähnlichen Weise vorbereitet wurde. Dann wurde eine 0,lgew.%-ige
n-Butylalkohollösung von Hexamethyldisalasan als orientiertes Gleitmittel auf den so vorbereiteten Film aufgetragen.
Dann wurde der Film eine Stunde lang bei 2000C wärmebehandelt, wodurch sich ein rch"tzfilrn
ergab:
Tetrahydroxysilan 11% Äthylalkohol-Lösung 10 Gew.%
BaO 0,01 Gew.%
n-Butylalkohol Gleichgewicht
Gemäß dem dem Beispiel 19 ähnlichen Verfahren wurde eine hochadhäsive Schicht auf einer magnetmetalli-
g sehen Legierungsschicht unter Verwendung einer O,lgew.%-igen n-Butylalkohollösung aus Gamma-Aminopro-
pyltriäthoxysilan gebildet; dann wurde eine Lösung der unten angegebepen Zusammensetzung auf die hochad-
häsive Schicht gebracht, die in einer dem Beispiel 19 ähnlichen Weise vorbereitet wurde Dann wurde eine
i| O,lgew.%-ige n-Butylalkohollösung von Hexamethyldisalasan als orientiertes Gleitmittel in einer dem Beispiel
19 ähnlichen Weise aufgebracht, woran sich eine Wärmebehandlung anschloß:
n-Butylalkohol - Gleichgewicht
Im Anschluß an das im Beispiel 19 angegebene Verfahren wurde eine hochadhäsive Schicht auf einer magnetmetallischen Legierungsschicht durch Verwendung einer 0,lgew.%-igen n-ButylalkohoIlösung aus Methacrylat-
Chromtrichlorid gebildet; dann wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf die in einer
dem Beispiel 19 ähnlichen Weise vorbereitete hochadhäsive Schicht aufgebracht. Dann wurde Fluorsilikonöl als U
orientiertes Gleitmittel aufgetragen, woran sich eine achtstündige Wärmebehandlung bei 2000C anschloß; dann S;
wurde mit einem neutralen Reinigungsmittel gereinigt und mit Wasser abgewaschen, so daß sich eine orientierte 1;
n-Butylalkohol Gleichgewicht fjj
Entsprechend dem im Beispiel 17 angegebenen Verfahren wurde eine Losung der unten angegebenen Zusammensetzung zur Bildung eines Films aufgetragen. Dann wurde sine 0,lgew.%-ige n-Butylalkohollösung von
Hexamethyldisalasan als orientiertes Gleitmittel auf den Film in einem Rotationsüberzugsverfahren aufgebracht. Dann wurde die Scheibe bzw. Platte eine Stunde lang bei 2000C zur Bildung eines Schutzfilms wärmebehandelt. Auf diese Weise wurde ein Magnetaufzeichnungselement geschaffen:
30
n-Butylalkohol 90 Gew.%
Im Anschluß an das im Beispiel 17 angegebene Verfahren wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf ein magnetmetallisches Dünnfilmmedium zur Bildung eines Films in einer dem Beispiel 1 ähnliehen Weise aufgebracht. Dann wurde eine 0,lgew.%-ige n-Butylalkohollösung von Octadecyltrichlorsilan als
orientiertes Gleitmittel auf den so vorbereiteten Film in einer dem Beispiel 22 ähnlichen Weise aufgebracht,
woran sich eine Wärmebehandlung anschloß:
BaO 0,01 Gew.% ,
n-Butylalkohol Gleichgewicht ^
Entsprechend dem im Beispiel 17 angegebenen Verfahren wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf ein magnetmetallisches Dünnfilmmedium in einer dem Beispiel 17 ähnlichen Weise aufgetragen. Dann wurde Fluoröl als orientiertes Gleitmittel auf den so vorbereiteten Film aufgebracht, woran sich eine
achtstündige Wärmebehandlung bei 2000C, ein Reinigen mit einem neutralen Reinigungsmittel, ein Spülen mit
Wasser und ein Reinigen mit Trichlorethylen anschloß, wodurch eine orientierte Gleitmittelschicht gebildet
wurde:
wi Vanadylpropylat 1 Gew.%
Im Anschluß an das im Beispiel 17 angegebene Verfahren wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf ein magnetmetallisches Dünnfilmmedium gebracht, um entsprechend einer dem Beispiel 17
ähnlichen Weise einen Film zu schaffen. Dann wurde Dimethylsilikonöl als orientiertes Gleitmittel angewen-
det, dem sich eine achtstündige Wärmebehandlung bei 2000C, ein Reinigen mit einem neutralen Reinigungsmittel, ein Waschen bzw. Spülen mit Wasser und ein Reinigen mit Trichlorethylen anschloß, so daß sich eine
orientierte Gleitmitteischicht gebildet hat:
n-Butylalkohol Gleichgewicht
Entsprechend dem im Beispiel 19 angegebenen Verfahren wurde eine 0,lgew.%-ige n-ButylalkoholIösung von
Gamma-Glycidoxypropyltrimethoxysilan, das eines der Silanhaftmittel ist, im Rotationsüberzugsverfahren zur
Bildung einer hochadhäsiven Schicht aufgebracht. Dann wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf den so vorbereiteten Film in einer dem Beispiel 19 ähnlichen Weise zur Bildung eines Films aufgebracht.
Dann wurde 0,lgew.%-ige n-Butylalkohol von Hexamethyldisalasan als orientiertes Gleitmittel im Rotationsüberzugsverfahren aufgebracht, woran sich eine einstündige Wärmebehandlung bei 2000C zur Bildung eines
Schutzfilms anschloß:
n-Butylalkohol 90 Gew.%
Im Anschluß an das im Beispiel 26 angegebene Verfahren wurde eine hochadhäsive Schicht unter Verwendung einer 0,lgew.%-igen n-Butylalkohollösung von Methacrylat-Chromtrichlorid gebildet; dann wurde eine
Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf die hochadhäsive Schicht in einer dem Beispiel 26 ähnlichen Weise aufgebracht. Dann wurde Dimethylsilikonöl als orientiertes Gleitmittel auf den so vorbereiteten
Film aufgebracht, woran sich eine achtstündige Wärmebehandlung bei 200°C, ein Reinigen mit einem neutralen
Reinigungsmittel, ein Spülen mit Wasser und ein Reinigen mit TVichloräthylen anschloß, so daß sich eine orientierte Gleitmittelschicht gebildet hat:
SrO 0,01 Gew.%
lsopropylalkohol Gleichgewicht
Entsprechend dem im Beispiel 26 angegebenen Verfahren wurde eine hochadhäsive Schicht unter Verwendung einer 0,lgew.%-igen n-Butylalkohollösung aus Methacrylat-Chromtrichlorid gebildet; dann wurde eine
Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf die hochadhäsive Schicht gebracht, die in einer dem Bei
spiel 26 ähnlichen Weise vorbereitet wurde. Dann wurde eine 0,lgew.%-ige n-Butylalkohollösung von Hexame-
thjidisalasan als orientiertes Gleitmittel auf den so vorbereiteten Film in einer dem Beispiel 26 ähnlichen Weise
aufgebracht, woran sich eine Wärmebehandlung anschloß:
Vanadylisopropylat 1 Gew.%
Polyvinylbutylal 0,005 Gew.%
n-Butylalkohol Gleichgewicht
Im Anschluß an das Verfahren nach Beispiel 26 wurde eine hochadhäsive Schicht unter Verwendung einer
0,lgew.%-igen n-Butylalkohollösung aus Gamma-Glycidoxypropyltrimethoxysilan gebildet. Dann wurde eine
Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf die hochadhäsive Schicht in einerdem Beispiel 26 ähnlichen
Weise gebracht. Daraufhin wurde Fluoröl als orientiertes Gleitmittel aufgebracht, woran sich eine achtstündige
Wärmebehandlung bei 200°C, ein Reinigen mit einem neutralen Reinigungsmittel, ein Spülen mit
Wasser und ein Reinigen mit Trichlorethylen anschloß, wodurch sich eine orientierte Gleitmittelschicht gebildet
hat:
n-Buty!alkohol " Gleichgewicht
ίο Gemäß dem im Beispiel 26 angegebenen Verfahren wurde eine hochadhäsi ve Schicht unter Verwendung einer
0,lgew.%-igen n-Butylalkohollösung von Gamma-Glycidoxypropyltrimethoxysilan gebildet; dann wurde eine
Lösung aus der unten angegebenen Zusammensetzung auf die so vorbereitete hochadhäsive Schicht in einer
dem Beispiel 26 ähnlichen Weise gebracht. Daraufhin wurde eine 0,lgew.%-ige n-Butylalkohollösung aus Hexamethyldisalasan als orientiertes Gleitmittel auf den so vorbereiteten Film in einet dem Beispiel 26 ähnlichen
n-Butylalkohol Gleichgewicht
Im Anschluß an das im Beispiel 26 angegebene Verfahren wurde eine hochadhäsive Schicht unter Verwendung einer 0,lgew.%-igen n-Butylalkohollösung aus Methacrylat-Chromtrichlorid gebildet. Dann wurde eine
Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung beim Beispiel 26 verwendet; dann wurde eine 0,lgew.%-ige
n-Butylalkohollösung aus Perfluoroctadecyltrimethoxysilan aufgetragen, dem sich eine Wärmebehandlung
ähnlich dem Beispiel 26 anschloß:
n-Butylalkoho!
9 Gew.% 1 Gew.% Gleichgewicht
Gemäß dem im Beispiel 1 angegebenen Verfahren wurde eine Lösung der unten angegebenen Zusammensetzung auf ein magnetmetallisches Dünnfilmmedium gebracht. Dann wurde die Scheibe bzw. Platte drei Stunden
lang bei einer Temperatur von 2000C in einem elektrischen Ofen wärmebehandelt:
Tetrahydroxysilan 11% Äthylalkohol-Lösung
n-Butylalkohol
10 Gew.% 90 Gew.%
Wie in der folgenden Tabelle dargestellt, wurde ein Abblättern auf dem Magnetaufzeichnungselement aufgrund einer Reibberührung mit dem Magnetkopf dadurch geprüft, daß Aufnahme- und Wiedergabevorgänge
entsprechend dem SCS-System wiederholtwurdeh,bei welchem der Magnetkopf zu Beginn und am Ende des
Vorganges in Kontakt mit einem Magnetaufzeichnungselement gehalten wurde. Dabei wurde ein Magnetkopf
verwendet, dessen Spitze konisch ist und dazu neigt, Staub anzusammeln; ferner wurde dabei jeweils ein entsprechendes Magnetaufzeichnungselement gemäß dem Beispiel 17 bis 31 und gemäß dem Vergleichsbeispiel
verwendet. Der Ausdruck »einige Prozent abgeblättert«, wie er in der Tabelle verwendet wird, bedeutet, daß von
den vom Magnetkopf herrührenden Reibspuren einige davon abgeblättert waren, während das magnetmetallische Dünnfilmmedium unbeschädigt blieb. Ferner wurde während des Versuchs kein Magnetkopfbrechen
bzw. -drücken festgestellt.
Beispiel | CSS-Zyklus | Oberflächen-Bedingung |
Vergleichsbeispiel * | 5 000 | einige % abgeblättert |
Beispiel 17, 22,23 | 25 000 | abblätterungsfrei |
Beispiel 18, 24, 25 | 30 000 | abblätterungsfrei |
Beispiel 19,20,21,26 | 40 000 | abblätterungsfrei |
Beispiel 27,28, 31 | 45 000 | abblätterungsfrei |
Beispiel 29, 30 | 50 000 | abblätterungsfrei |
IO
Wie aus der Tabelle ersichtlich ist, sind die Magnetaufzeichnungselemente gemäß den beschriebenen erfindungsgemäßen
Ausfuhrungsbeispielen hinsichtlich Widerstandsfähigkeit gegenüber Reibkontakt mit einem
Magnetkopf gegenüber den früher vorgeschlagenen Magnetaufzeichnungselementen überlegen, bei denen ein
Polysilikatfilm, der kein Hydrolysepolymer von Metallalkoxid und kein Spannungsrela.-alionsmittcl besitzt,
unmittelbar uuf dem magnetmetallischen Dünnfilmmedium vorgesehen ist. S
Was die Widerstandsfähigkeit jegenüber Umgebungseinflüssen betrifft, so wurde dieser »Umgebungsvcrsuch«
wie folgt durchgeführt:
Der Versuch, der aus zwei Versuchszyklen, die bei einer Temperatur von 65°C und einer relativen Feuchte von
90% vier Stunden lang durchgeführt wurde, und aus einem dreistündigen Zyklus bei einer Temperatur von
minus -100C besteht, wurde zehnmal wiederholt. Die Versuchsergebnisse ergaben keine nachteiligen Auf- io
nähme- und Wiedergabeeigenschaften und Antiabriebeigenschaft.
Bei den Esispielen gemäß der Erfindung wird ein Metall als unmagnetisches Scheiben- bzw. Plattensubstrat
verwendet. Es kann jedoch auch Kunststoff, Glas, Keramik od. dgl. verwendet werden.
Bei den obigen Beispielen wird das Magnetaufzeichnungselement in seiner Gesamtheit bei 200°C wärmebehandelt.
Das Magnetaufzeichnungselement kann zum Erreichen der Ziele vorliegender Erfindung jedoch auch 15
bei Raumtemperatur (etwa 25°C) vollkommen getrocknet werden, um das Lösungsmittel zu entfernen, das
einen hohen Verdampfungsdruck besitzt. Ferner ist es möglich, das Magnetaufzeichnungselement bei Temperaturen
über 2000C einer Wärmebehandlung zu unterziehen, soweit dies nicht die magnetischen Eigenschaften
des Magnetaufzeichnungselementes nachteilig beeinflußt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Magnetaufzeichnungselement, insbesondere Magnetplatte oder -trommel, mit einem magnetmetallischen Dünnfilmmedium (3) auf einem unmagnetischen Substrat (2), das zu einer Spiegelfläche feinbearbeitet ist, und mit einem Schutzfilm (6) aus Polysilikat, auf dem ein orientiertes Gleitmittel (7) vorgesehen ist gekennzeichnet durch die Kombination, daß eine hochadhäsi ve Schicht (5) zwischen dem Schutzfilm (6) und dem magnetmetallischen Dünnfilmmedium (3) vorgesehen ist, daß das Polysilikat des Schutzfilms (6) ein Spannungsrelaxationsmittel und/oder ein Hydrolyse-Polymer von Metall-Alkoxid enthält, und daß das orientierte Gleitmittel (7) durch Wärmebehandlung bei 2000C von Alkoxysilan, Chlorsilan, Silazan oder ίο einer Kombination davon hergestellt ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2759985A DE2759985C2 (de) | 1976-12-17 | 1977-12-16 | Magnetaufzeichnungselement |
Applications Claiming Priority (13)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15239376A JPS608527B2 (ja) | 1976-12-17 | 1976-12-17 | 磁気記憶体 |
JP15238676A JPS6028053B2 (ja) | 1976-12-17 | 1976-12-17 | 磁気記憶体 |
JP15538376A JPS5938649B2 (ja) | 1976-12-22 | 1976-12-22 | 磁気記憶体およびその製造方法 |
JP262577A JPS5939807B2 (ja) | 1977-01-12 | 1977-01-12 | 磁気記憶体 |
JP1438577A JPS5939808B2 (ja) | 1977-02-10 | 1977-02-10 | 磁気記憶体およびその製造方法 |
JP10610477A JPS5439603A (en) | 1977-09-02 | 1977-09-02 | Magnetic memory medium |
JP10701077A JPS5440605A (en) | 1977-09-05 | 1977-09-05 | Magnetic memory element |
JP10701177A JPS5440606A (en) | 1977-09-05 | 1977-09-05 | Magnetic memory element |
JP10741077A JPS5440607A (en) | 1977-09-06 | 1977-09-06 | Magnetic memory element |
JP10741177A JPS5440608A (en) | 1977-09-06 | 1977-09-06 | Magnetic memory element |
JP10823477A JPS5441111A (en) | 1977-09-07 | 1977-09-07 | Magnetic memory medium |
JP11199577A JPS5445103A (en) | 1977-09-17 | 1977-09-17 | Magnetic storage medium |
DE2759985A DE2759985C2 (de) | 1976-12-17 | 1977-12-16 | Magnetaufzeichnungselement |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2759985C2 true DE2759985C2 (de) | 1985-01-31 |
Family
ID=27583957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2759985A Expired DE2759985C2 (de) | 1976-12-17 | 1977-12-16 | Magnetaufzeichnungselement |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2759985C2 (de) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1965482B2 (de) * | 1969-01-09 | 1973-09-20 | The National Cash Register Co., Dayton, Ohio (V.St.A.) | Verfahren zum Herstellen eines magne tischen Aufzeichnungsträgers |
DE2648303A1 (de) * | 1975-10-31 | 1977-05-12 | Nippon Electric Co | Magnetaufzeichnungselement und verfahren zu dessen herstellung |
-
1977
- 1977-12-16 DE DE2759985A patent/DE2759985C2/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1965482B2 (de) * | 1969-01-09 | 1973-09-20 | The National Cash Register Co., Dayton, Ohio (V.St.A.) | Verfahren zum Herstellen eines magne tischen Aufzeichnungsträgers |
DE2648303A1 (de) * | 1975-10-31 | 1977-05-12 | Nippon Electric Co | Magnetaufzeichnungselement und verfahren zu dessen herstellung |
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