DE2731458C3 - Magnetische Objektivlinseneinrichtung für unter Vakuum arbeitende Korpuskularstrahlgeräte, insbesondere Objektivlinseneinrichtung für Höchstspannungs-Elektronenmikroskope und Verwendung - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine magnetische wi Objektivlinseneinrichtung für unter Vakuum arbeitende Korpuskularstrahlgeräte mit einer Vakuumkammer zur Aufnahme eines zu untersuchenden Objektes und mit mindestens einer von einer supraleitenden Abschirmvorrichtung umgebenen, stromdurchflossenen Linsen- .,·-. spulenwicklung, die um zwei supraleitende, hohlzylindrische Abschirmkörper angeordnet ist, welche koaxial zur Strahlführungsachsc der Linseneinrichtung und in Strahlführungsrichtung gesehen beabstandet hintereinander angeordnet sind, wobei zwischen ihren benachbarten Stirnflächen ein Spalt vorbestimmter Spaltweita ausgebildet ist

Höchstspannungs-Elektronenmikroskope arbeiten mit Strahlspannungen, die über 1000 kV liegen können. Für diese Elektronenmikroskope kann zweckmäßig ein Linsensystem mit mehreren supraleitenden Linüeneinrichtungen vorgesehen sein, die sich in einem Kryostaten befinden und auf einem in diesem Kryostaten befindlichen zentralen Trägerrohr angeordnet sind (DE-OS 23 07 822). Man erhält so einen verhältnismäßig kompakten Aufbau eines Elektronenmikroskops. Das Linsensystem des bekannten Elektronenmikroskops umfaßt eine Objektivlinseneinrichtung der eingangs genannten Art welche zwei in Strahlführungsrichtung hintereinander angeordnete, hohlzylindrische Abschirmkörper enthält, die jeweils den Strahlführungsraum eng umschließen. Diese beiden Abschirmzylinder bestehen aus supraleitendem Material, das im Betriebszustand mittels eines kryrogenen Mediums wie beispielsweise flüssigem Helium unterhalb seiner sogenannten Sprungtemperatur gehalten wird. Zwischen den benachbarten Stirnseiten dieser Abschirmzylinder ist ein schmaler Spalt ausgebildet, in dem eine Vakuumkammer angeordnet ist. In diese Kammer kann radial von der Seite her mittels einer besonderen Einführungsvorrichtung ein zu untersuchendes Objekt eingebracht werden. Der Objektraum wird dabei von dem kryogenen Medium mitgekühlt. Es läßt sich so zwar ein temperaturbedingtes seitliches Auswandern des Objektes, eine sogenannte thermische Drift, äußerst gering, beispielsweise unter 0,03 nm/min, halten. Mit der bekannten Objektivlinseneinrichtung können jedoch keine auf höheren Temperaluren, insbesondere auf Raumtemperaturen befindlichen Objekte untersucht werden.

Jeder der beiden Abschirmzylinder des bekannten Elektronenmikroskops ist von einer supraleitenden Linsenrpulenwicklung umgeben, die im Betriebszustand kurzgeschlossen ist. Die Abschirmzylinder haben die Aufgabe, das von den Linsenspulcnwicklungen erzeugte Magnetfeld nur im Bereich des Linsenspaltcs auf den Korpuskularstrahl einwirken zu lassen. Die beiden Abschirmzylinder sind deshalb an ihren einander abgewandten Stirnseiten mit einer Abschirmvorrichtung aus ebenfalls supraleitendem Material verbunden, welche die äußere Mantelfläche und die Stirnflächen der Linsenspulenwicklungen umschließt. Mit dem so ausgebildeten, im supraleitenden Zustand gehaltenen Abschirmgehäuse kann außerdem die Ausbreitung des von den Linsenspulenwicklungen erzeugten Magnetfeldes nach außen hin begrenzt und der Spaltbcrcich, in dem das Magnetfeld auf den Korpuskularstrahl einwirkt, gegen äußere magnetische Störfelder, insbesondere elektromagnetische Wcchselfcldcr, weitgehend abgeschirmt werden.

Da das Auflösungsvermögen eines Korpuskularstrahlgerätes bekanntlich von der sogenannten Öffnungsfehlcrkonstanten seiner Linsen, insbesondere seiner Objektivlinse abhängt, ist bei dem bekannten Elektronenmikroskop die Größe des Linsenspaltcs zwischen den einander gegenüberliegenden Stirnflächen der beiden Abschirmzylinder so gewählt, daß ein sehr kleiner Wert der Öffnungsfchlcrkonstanicn erreicht wird. Die Öffnungsfohlerkonslanle einer solchen Linseneinrichiung hängt dabei außer von dem Maximalwert //oder l-cldstärkc bzw. dem Maximalwert Zi₀ der

magnetischen Induktion in dem Linsenspalt, & h. in dem Bereich der Einwirkung des Magnetfeldes auf den Korpuskularstrahl, auch vom Feldgradienten längs der Strahlführungsachse in dem Linsenspalt und somit auch von der Gestaltung der Abschirmzylinder im Bereich ihrer sich gegenüberliegenden Stirnflächen ab.

Mit dieser Objektivlinseneinrichtüng können jedoch nur auf die Tieftemperatur des kryogenen Mediums gekühlte Objekte untersucht werden. Darüber hinaus sind diese Objektivlinseneinrichtungen auch nur für Elektronenmikroskope der sogenannten Feststrahltechnik geeignet, bei der ein gebündelter, mittels Magnetfelder unbeweglich gehaltener Elektronenstrahl das Objekt durchstrahlt, von dem mil Hilfe nachgeschalteter magnetischer Vergrößerungslinsen ein vergrößertes Bild erzeugt wird. Das bekannte Elektronenmikroskop ist jedoch für die sogenannte Durchstrahlungs-Raster-Elektronenmikroskopie nicht ohne weiteres geeignet. Bei dieser Technik überstreicht ein scharf gebündelter Elektronenstrahl nach einem vorgegebenen Rasterschema die Oberfläche des zu untersuchenden Objektes. Sollen dabei entstandene gestreute Elektronen registriert und gegebenenfalls Sekundärelektronen sowie Auger-Elektronen und Rückstreuelektronen für zusätzliche energiedispersive Strahlungsanalysen aufgefangen werden, so müssen die entsprechenden Detektoreinrichtungen in unmittelbarer Nähe des Objektes angebracht werden. Dies ist aber bei der bekannten Objektivlinseneinrichtüng nicht ohne weiteres möglich, da der Objektraum zu klein ist und auch nicht vergrößert jo werden kann, ohne daß im Objektivspalt die maxi.nale Feldstärke Wo und der Feldgradient verringert würden und so die Abbildungsfehler des Elektronenmikroskops, insbesondere seine sphärische und chromatische Aberration, aufgrund einer entsprechenden Vergrößerung 5^Γ> der Öffnungsfehlerkonstanten zunehmen würden.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, die bekannte Objektivlinseneinrichtüng derart umzugestalten, daß ein mit ihr ausgestattetes Höchstspannungs-Elektronenmikroskop einen auf Raumtemperatur befindlichen Objektraum hat und auch für die Durchstrahlungs-Raster-Elcktronenrnikroskopie geeignet ist, ohne daß dabei auf wesentliche Vorteile des bekannten Feststrahlelektronenmikroskops verzichtet werden muß. So sollen die: thermische Drift des Objektes gering 4^r> und zugleich der Korpuskularstrahl gegen äußere magnetische Störfelder weitgehend abgeschirmt sein. Darüber hinaus soll mit dem Elektronenmikroskop eine Auflösung von etwa 1 nm erreicht werden können.

Diese Aufgabe wird für eine magnetische Objektivlin- >o scneinrichtung der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Abschirmvorrichtung topfarlig ausgebildet ist und die Vakuumkammer zur Aufnahme des untersuchenden Objektes in Strahlrichtung gesehen vor der offenen Suite der lopfartigen Abschirmvorrichtung und der dem Spalt abgewandten Stirnfläche des ersten Abschirmkörpers angeordnet ist.

Da Vlie Abschirmvorrichtung, welche die Linsenspulenwicklung und die beiden hohlzyünderförmigen Abschirmkörper umgibt, topfartig ausgebildet und t>o somit einseitig·offen ist, wirkt die Objektlinseneinrichtung geihäß der Erfind,ig wie ein magnetisches Linsensystem aus zwei in Strahlrichtung hintereinander angeordneter¹ magnetischen Linsen. Die Brennweite der ersten Linse ist dabei verhältnismäßig groß, während <> > die Brennweite der /weiten Linse auch bei hohen Slrahlspannungen von beispielsweise 5000 kV sehr klein gehalten werden kann. Die mit der Gestaltung der magnetischen Linseneinrichlung gemäß der Erfindung erreichten Vorteile bestehen dann insbesondere darin, daß das zu untersuchende Objekt einige Zentimeter vor der offenen Seite der topfartigen Abschirmvorrichtung bzw. vor dem ersten hohlzylinderförmigen Abschirmkörper angeordnet werden kann. An dieser Stelle läßt sich jedoch ohne Schwierigkeit eine Vakuumkammer mit einer warmen Objektstufe vorsehen. Da sich diese Vakuumkammer ausreichend groß bemessen läßt, können in ihr vorteilhaft die für die Durchstrahlungs-Raster-Elektronenmikroskopie erforderlichen Detektoreinrichtungen angeordnet werden.

Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand der Zeichnung erläutert, deren F i g. 1 und 2 schematisch je ein Ausführungsbeispiel einer magnetischen Objektivlinseneinrichtüng nach der Erfindung zeigen. In F i g. 3 ist einem Diagramm die von der Objektivlinseneinrichtüng gemäß F i g. 1 erzeugte Feldstärkeverteilung längs der Strahlführungsachse veranschaulicht, während in Fig.4 der Strahlengang durch diese Linseneinrichtung angedeutet ist.

Die in Fig. 1 dargestellte Objektivlinseneinrichiung ist sowohl für ein Durchstrahlungs-Rastcr- als auch für ein Durchstrahlungs-Feststrahl-Elektronenmikroskop geeignet. Die in dieser Figur nicht dargestellten Teile des Mikroskops sind an sich bekannt und können beispielsweise den Teilen des Elektronenmikroskops gemäß der deutschen Offenlegungsschrift 23 07 822 entsprechen. Die Objektivlinseneinrichtüng enthält eine Abschirmvorrichtung 2, die aus supraleitendem Material besteht und im Betriebszustand mittels eines kryogenen Mediums wie beispielsweise flüssigem Helium auf einer Temperatur unterhalb der kritischen Temperatur dieses Materials gehalten wird. Die Abschirmvorrichtung ist topfartig ausgebildet, d. h. sie besteht aus einem hohlzylindrischen Seitenteil 4, das den Mantel der Abschirmvorrichtung bildet, und einem Bodenteil 5, das dieses Seitenteil nach unten hin abschließt. Das Bodenteil 5 ist mit einer zentralen öffnung 6 versehen, durch die ein längs einer Achse 7 geführter Elektronenstrahl durch die Abschirmvorrichtung geleitet wird. Die Abschirmvorrichtung ist nach oben hin von einem in der Figur nur durch eine Linie dargestellten Deckelteil 8 abgeschlossen, das eine entsprechende Öffnung 9 hat und aus nichtmagnetischem Material besteht. Im Inneren der topfartigen Abschirmvorrichtung sind konzentrisch zur Strahlführungsachse 7 zwei hohlzylinderförmige Abschirmkörper 11 und 12 angeordnet, deren zentrale Bohrungen 13 bzw. 14 einen Durchmesser von nur wenigen Millimetern haben. Diese Abschirmzylinder bestehen ebenfalls aus supraleitendem Material und werden zweckmäßig von dem für die Abschirmvorrichtung 2 erforderlichen kryogenen Medium mitgekühlt. Sie sind in Strahlführungsrichtung gesehen hintereinander beabstandet angeordnet, wobei zwischen ihren einander benachbarten Stirnflächen ein schmaler Spalt 15 ausgebildet ist. Der untere Abschirmzylinder steht dabei auf dem Bodenteil 5 der Abschirmvorrichtung 2_ und kann beispielsweise mit dieser ein gemeinsames Formstück bilden. Die beiden Abschirmzylinder 11 und 12 sind von einer stromdurchl'lossenen Linsenspulen wicklung 17 umschlossen, deren Leiter zweckmäßig ebenfalls aus supraleitendem Material sind. Die Spulenwicklung kann im Betriebszustand in bekannter Weise kurzgeschlossen sein.

Sie erstreckt sich nach oben bis an das Deckeiteil 8

der topf artigen Abschirm vorrichtung 2.

Zur Verminderung der Wärmeübertragung auf die tiefgekühlte Abschirmvorrichtung 2^ und die in ihr angeordneten Bauteile ist ferner ein Strahlungsschild 19. vorgesehen, der beispielsweise mit flüssigem Stickstoff gekühlt wird. Dieser Strahlungsschild ist ebenfalls topfartig ausgebildet. Seine obere, offene Seite wird von einem Deckelteil 20 abgeschlossen. Zumindest dieses Deckelteii des Strahlungsschildes besteht aus einem nichtmagnetischen Material. Zur Fixierung der Ab-Schirmvorrichtung 2 innerhalb des Strahlungsschildes 19 sind in der Figur nur einige, schlecht wärmeleitende Abstandshalter 22 und 23 zwischen dem Bodenteil 5 der Abschirmvorrichtung 2_ und dem entsprechenden Bodenteil 26 des Strahlungsschüdes 19 bzw. zwischen dem Deckelteil 20 des Strahlungsschüdes und dem entsprechenden Deckelteil 8 der Abschirmvorrichtung angedeutet.

Der Strahlungsschild 19 mit den in ihm angeordneten Bauteilen ist in einem evakuierbaren Raum 28 eines Gehäuses 30 angeordnet, das bis a.if zentrale Durchführungen für den Elektronenstrahl allseitig geschlossen ist. Der Raum 28 stellt dabei den unteren Teilraum des gesamten Innenraumes des Gehäuses 30 dar und ist durch eine Trennwand 31 /on einem oberen Teilraum abgetrennt, der in Strahlungsrichtung gesehen vor der Trennwand 31 liegt und als Vakuumkammer 32 bezeichnet ist. Das Gehäuse 30 befindet sich auf Raumtemperatur, so daß zwischen ihm und der Trennwand einerseits und dem Strahlungsschild Ij) andererseits schlecht wärmeleitende Abstützvorrichtungen 33 vorgesehen sind, um eine Wärmeübertragung gering zu halten.

In der Figur sind die erforderlichen Vorrichtungen zur Einführung eines zu untersuchenden Objektes 34 in y, die als Objektraum dienende Vakuumkammer 32 sowie zu dessen Halterung im einzelnen nicht näher dargestellt. Es ist lediglich angedeutet, daß das Objekt 34 mittels eines Präparateschiebers 36 und einer Schleusenkammer 37 von der Seite her in diesen Vakuumraum eingeführt und vor der Abschirmvorrichtung 2^ bzw. dem Abschirmzylinder 11 in den Elektronenstrahl gebracht werden kann. Beispielsweise ist ein ringförmiger Präparatetisch 38 vorgesehen, vor dessen zentraler Bohrung das Objekt 34 angeordnet wird.

Da aufgrund der topfartigen Gestaltungsform der Abschirmvorrichtung diese einseitig offen ist, d. h. das von der Linsenspulenwicklung 17 erzeugte Magnetfeld nicht nur auf den von der Abschirmvorrichtung 2_ umschlossenen Innenraum begrenzt ist, wirkt dieses Magnetfeld also nicht nur im Bereich des Spaltes 15 zwischen den beiden Abschirmzylindern 11 und 12, sondern erstreckt sich auch in den Bereich vor dem ersten Abschirmzylinder 11 in den Vakuumraum 32 Es ergibt sich so eine magnetische Doppellinse. Ihr in Strahlrichtung gesehen erster Feldbereich vor dem Abschirmzylinder 11 ist in der Figur mit L\ und der Feldbereich im Spalt 15 zwischen den beiden Abschirmzylindern 11 und 12 mit Li bezeichnet.

Da der Elektronenstrahl das Objekt 34 nach einem Rasterschema durchstrahlen können soll, ist in der Figur in Strahlrichtung gesehen hinter dem Objekt und noch vor dem Strahlungsschild 19_bzw. der Abschirmvorrichtung 2_ eine entsprechende Detektoreinrichtung 39 angedeutet Diese Detektoreinrichtung ist beispielsweise in dem Präparatetisch 38 angeordnet Da der auf Raumtemperatur befindliche Objektraum 32 der Linsenspuleneinrichtung gemäß der Erfindung ausreichend groß bemessen werden kann, lassen sich darin weitere, in der Figur nicht dargestellte Detektorsysteme unterbringen, die insbesondere bei einem Betrieb des Elekironenmikroskopes in Rastertechnik für energiedispersive Strahlungsanalysen vorgesehen sind.

Ferner sind in der Figur noch ein Ablenksystem 40 und zwei Stigmator-Systeme 41 und 42 zur Justierung des Elektronenstrahles bezüglich der Achse der Linseneinrichtung dargestellt. Das in Strahlungsrichtung gesehen erste Stigmator-System 41, von dem vorzugsweise ein Teil zugleich als Ablenksystem verwendet werden kann, und das Ablenksystem 40 liegen dabei unmittelbar vor der dem Spalt 15 abgewandten Seite des ersten Abschirmzylinders 11, während das zweite Stigmator-System 42 in dem zwischen den beiden Abschirmzylindern 11 und 12 ausgebildeten Spalt 15 angeordnet ist.

Das Gehäuse 30 kann vorteilhaft aus einem ferromagnetischen Material bestehen, um den Strahlführungsraum, insbesondere im Bereich der Vakuumkammer 32, von störenden äußeren elektromagnetischen· Wechselfeldern abzuschirmen. Darüber hinaus kann aufgrund einer besonderen Gestaltung beispielsweise seines oberen Deckelteils 43 die Verteilung des magnetischen Feldes in diesem Vakuumraum 32 beeinflußt werden. Ein entsprechendes Ausführungsbeispiel ist in F i g. 2 angedeutet. Bis auf dieses Deckelteil 43 stimmen alle in dieser Figur dargestellten Bauteile mit denen des Ausführungsbeispiels gemäß Fig. 1 überein. Das Deckelteil 43 ist im Bereich seiner zentralen Durchführung 44 für den Elektronenstrahl nach innen eingezogen, so daß es einen Polschuh 45 bildet, der sich bis in die Nähe des zu untersuchenden Objektes 34 erstreckt. Dadurch wird eine Konzentration des die magnetische Linse L\ darstellenden Feldes im Bereich des Objektes 34 bewirkt.

In Fig.3 ist in einem Diagramm die Verteilung der magnetischen Feldstärke auf der Achse innerhalb einer Objektivlinseneinrichtung gemäß Fig. 1 wiedergegeben. Dabei ist auf der Abszisse die Lage ζ der Meßpunkte vom Eintritt des Elektronenstrahles in das Gehäuse 30 aus in Strahlführungsrichtung in Millimetern angegeben, während auf der Ordinate die zugehörige magnetische Induktion flb in Tesla aufgetragen ist. Aus dem Feldverlauf des Diagramms ist deutlich die Doppellinseneigenschaft der Objektivlinseneinrichtung gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung ablesbar. Dabei liegt die erste, mit U bezeichnete Teillinse dieser magnetischen Doppellinse vor dem ersten Abschirmzylinder 11. Ihr Streufeld hauiabei eine unsymmetrische Feldstärkeverteilung. Die Brennweite dieser Linse ist verhältnismäßig groß und die maximale Induktion B₀ verhältnismäßig klein. Im Spalt 15 zwischen den beiden Abschirmzylindern 11 und 12, deren Lage unterhalb der Abszisse durch gestrichelte Linien angedeutet ist weist dagegen die Feldverteilung der zweiten Teillinse L₂ einen hohen Maximalwert bei kleiner Halbwertsbreite auf, so daß auch bei Strahlspannungen von beispielsweise 500OkV vorteilhaft die Brennweite dieser Teillinse L₂ sehr klein ist und beispielsweise 6 mm nicht übersteigt

Dem Diagramm gemäß F i g. 3 liegt ein Ausführungsbeispiel einer Objektivlinseneinrichtung zugrunde, dessen elektronenoptischen Daten für die in der Figur wiedergegebene Feldverteilung bei einer Strahlspannung von 300OkV in der nachfolgenden Tabelle angegeben sind.

Tabelle

Erregung 42000 40 000 A W

Vordere Brennweite 11 3,4 mm

Hintere Brennweite 14 3,4mm

Vordere Brennpunkts- -12 -2,3 mm

koordinate

Hintere Brennpunkts- +3 +2,3 mm

koordinate

Farbfehierkonstante 18,5 2,6 mm.

Öffnungsfehlerkonstante 86 3,1 mm

Als Nullpunktskoordinate, auf welche die Brennpunktskoordinaten bezogen sind, ist dabei der Ort auf der Abszisse angenommen, an dem die zugeordnete magnetische Induktion So ihren maximalen Wert hat.

Der zu der Feldverteilung gemäß F i g. 3 entsprechende Strahlengang der Objektivlinseneinrichtung ist in F i g. 4 angedeutet. Jeder ihrer Teillinsen ist eine vordere und eine hintere Hauptebene zugeordnet, deren Schnittpunkte mit der Strahlführungsachse mit Wo bzw. H\ bezeichnet sind. Ihre zugehörigen vorderen und hinteren Brennpunkte sind mit Fo bzw. Fi bezeichnet. Die sich auf die zweite Teillinse Z-2 beziehenden Punkte sind dabei mit einem Strich gekennzeichnet. Das Objekt 34 befindet sich oberhalb der vorderen Brennpunktkoordinate F₀ der ersten Teillinse L\ in einem Abstand von dieser Brennpunktkoordinate, der kleiner oder gleich der vorderen Brennweite der ersten Teillinse Li

ίο ist. Damit entsteht das erste Zwischenbild unterhalb der hinteren Brennpunktkoordinate F\ in einem Abstand von dieser Brennpunktkoordinate, der größer oder gleich der hinteren Brennweite der ersten Teillinse ist. Bei diesem Linsensystem läßt sich so das erste Zwischenbild in den oberen Teil des Spaltes 15 der zweiten Teiiiinse Li legen. Aufgrund dieses Konstruktionsprinzipes kann dann erreich; werden, daß das Objekt einige Zentimeter oberhalb des oberen Randes des ersten Abschirmzylinders 11 angeordnet und dort ohne Schwierigkeiten eine warme Objektstufe vorgesehen werden kann. Diese Objektstufe befindet sich zwar außerhalb der supraleitenden Abschaltvorrichtung 2_ gemäß den F i g. 1 und 2. Dieses Fehlen einer supraleitenden Abschirmung im Bereich des Objektes 34 ist aber bei Strahlspannungen oberhalb von 1000 kV von untergeordneter Bedeutung.

Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (8)

Patentansprüche:

1. Magnetische Objektivlinseneinrichtung für unter Vakuum arbeitende Korpuskularstrahlgeräte mit einer Vakuumkammer zur Aufnahme eines zu untersuchenden Objektes und mit mindestens einer von einer supraleitenden Abschirmvorrichtung umgebenen, stromdurchflossenen supraleitenden Linsenspulenwicklung, die um zwei supraleitende, hohlzylinderförmige Abschirmkörper angeordnet ist welche koaxial zur Strahlführungsachse der Linseneinrichtung und in Strahlführungsrichtung gesehen beabstandet hintereinander angeordnet sind, wobei zwischen ihren benachbarten Stirnflächen ein Spalt vorbestimmter Spaltweite ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschirmvorrichtung (2) topfartig ausgebildet ist und die Vakuumkammer (32) zur Aufnahme des zu untersuchenden Objektes (34) in Strahlrichtung gesehen vor der offenen Seite der topfartigen Abschirmvorrichtung (2) und der dem Spalt (15) abgewandten Stirnfläche des ersten Abschirmkörpers (11) angeordnet ist.

2. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Vakuumkammer (32) auf Raumtemperatur befindet.

3. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der Vakuumkammer (32) Einrichtungen zur Strah- so lungsanalyse angeordnet sind.

4. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der in Strahlführungsrichtung gesehene zweite Abschirmkörper (12) an seiner dem Spalt (15) j^r> abgewandten Stirnfläche mit der Abschirmvorrichtung (2) verbunden ist.

5. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite Abschirmkörper (12) mii der AbschL-mvorrichtung 4» (2) ein gemeinsames Formstück bildet.

6. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschirmvorrichtung (2) sowie die Vakuumkammer (32) in einem auf Raumtemperatur ·τ> befindlichen Abschirmgehäuse (30) aus ferromagnetischem Material angeordnet sind.

7. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Abschirmgehäuse (30) im Bereich des zu untersu- w chenden Objektes(34) als Polschuh (45) gestaltet ist.

8. Verwendung der magnetischen Objeklivlinseneinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7 in Elektronenmikroskopen mit Strahlspannungcn über 1000 kV.