DE3011625C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3011625C2 DE3011625C2 DE3011625A DE3011625A DE3011625C2 DE 3011625 C2 DE3011625 C2 DE 3011625C2 DE 3011625 A DE3011625 A DE 3011625A DE 3011625 A DE3011625 A DE 3011625A DE 3011625 C2 DE3011625 C2 DE 3011625C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- sample
- objective lens
- electron microscope
- scanning electron
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 12
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000851 scanning transmission electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Abtastelektronenmikroskop
nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1, mit dem sowohl kleine
als auch große Proben wechselweise beobachtet werden können.
Im Gegensatz zu Durchstrahlungs-Elektronenmikroskopen ist es bei
Abtastelektronenmikroskopen erforderlich, daß eine Probe über
einen großen Bereich verschoben oder bewegt werden kann, damit
die Gesamtoberfläche der Probe selbst dann beobachtet werden
kann, wenn die Probe eine erhebliche Größe hat (z. B. einen
Durchmesser von 10 cm und eine Dicke von 7,5 cm besitzt). Im
folgenden werden unter Bezugnahme auf Fig. 1 und 2 bekannte
Abtastelektronenmikroskope genauer beschrieben.
Zu dem oben angegebenen Zweck ist bei dem in Fig. 1 darge
stellten Abtastelektronenmikroskop eine Probenbühne 1 hinter
einer Objektivlinse 2 angeordnet, so daß eine Probe über eine
große Strecke zweidimensional versetzt, in einem Bereich von
10° bis 90° gekippt und/oder über 360° gedreht werden kann.
Die Möglichkeit der Bewegung der Probe über einen derart
großen Bereich macht die Probenbühne jedoch nicht nur sehr
anfällig gegen Vibrationen, sondern gibt auch Anlaß zu einer
Drift der Probe aufgrund thermischer Expansion der Probenbühne
bzw. des Probenträgers, eventuell verbunden mit einer Instabi
lität des erzeugten Proben- bzw. Objektbildes. Wegen des
großen Abstandes zwischen der Probe und der
Objektivlinse 2 machen sich auch verschiedene
Aberrationen bemerkbar. Das große Volumen der zur Aufnah
me großer Proben geeigneten Probenkammer 3 macht es schwierig,
ein hohes Vakuum innerhalb des Linsensystems aufrechtzuerhal
ten, und führt außerdem zu weiteren Problemen, wie der Konta
mination (z. B. Ablagerung von Kohlenstoff auf der Probenober
fläche). Unter diesen Umständen bestehen erhebliche Schwierig
keiten bei der Erzielung eines hohen Auflösungsvermögens. Um
diesen Problemen zu begegnen, wurde in Kombination mit einem
bekannten Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop ein lösbar ange
brachtes Gerät zum Einsetzen der Probe zwischen die Magnetpole
der Objektivlinse des Mikroskops vorgeschlagen. Mit einer
solchen Anordnung ist es jedoch unmöglich, Proben großen Volu
mens zu beobachten. Mit anderen Worten, gerade die typische
Eigenschaft des Abtastelektronenmikroskops geht verloren.
Ein in Fig. 2 gezeigtes bekanntes Abtastelektronenmikroskop der eingangs genannten Art
ermöglicht die Beobachtung sowohl großer als auch kleiner
Proben mit hoher Auflösung in einer Kammer 4 bzw. in einer
Kammer 5. Diese Ausbildung des Elektronenmikroskops hat jedoch
aufgrund der Anordnung der zur Aufnahme der großen Probe vor
gesehenen Kammer 4 über der die kleine Probe aufnehmenden
Kammer 5 verschiedene Nachteile. Der Einbau von Zusatzvorrich
tungen, z. B. eines Röntgenstrahlspektrometers, zusätzlich zur
Probenbühne 1 in der großvolumigen Kammer 4 führt zu einem
relativ hoch gelegenen Schwerpunkt und damit zu Instabilitäten
und Vibrationsanfälligkeiten. Bei Benutzung der kleineren
Kammer 5 muß auch die größere Kammer 4 evakuiert werden, ob
wohl sie unbenutzt ist. Die Montage zusätzlicher Linsen unter
halb der Objektivlinse 8 bereitet Schwierigkeiten mit der
Folge funktioneller Beschränkungen hinsichtlich des Kontrasts,
der Auflösung und der Empfindlichkeit.
Aus der US-PS 41 21 100 ist ein Elektronenmikroskop bekannt,
das als Durchstrahlungsmikroskop für eine erste Probe oder als
Abtastmikroskop für eine im Strahlengang hinter der ersten
liegenden zweiten Probe betrieben werden kann. Die erste Probe
ist zwischen den Magnetpolen einer Objektivlinse angeordnet,
während bei Betrieb als Abtastelektronenmikroskop die zweite
Probe in Strahlrichtung hinter einer Projektionslinse angeord
net ist. Im Durchstrahlungsbetrieb werden zur Abbildung der
ersten Probe die Objektivlinse auf Höhe der ersten Probe, eine
Zwischenlinse und die Projektionslinse benötigt. Im Abtastbe
trieb dagegen werden zur Abbildung der zweiten Probe minde
stens die Zwischenlinse und die als Objektivlinse wirkende Pro
jektionslinse verwendet.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Abtastelektro
nenmikroskop zur Verfügung zu stellen,
bei dem mit zwei Probenbühnen die wahlweise Betrachtung von
Proben geringer und erheblicher Größen bei einer
vorgegebenen Auflösung ermöglicht wird, wobei unerwünschte
Vibrationen unschädlich gemacht sind.
Bei einem Abtastelektronenmikroskop der eingangs genannten Art
ist zur Lösung dieser Aufgabe erfindungsgemäß das kennzeich
nende Merkmal des Anspruchs 1 vorgesehen.
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand
der Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigt
Fig. 1 eine vertikale Schnittansicht durch ein bekanntes
Abtastelektronenmikroskop;
Fig. 2 eine vertikale Schnittansicht durch ein anderes
bekanntes Abtastelektronenmikroskop;
Fig. 3 eine vertikale Schnittansicht durch ein Ausfüh
rungsbeispiel des erfindungsgemäßen Abtastelektro
nenmikroskops mit zwei Probentischen;
Fig. 4 eine vertikale Schnittansicht durch ein zweites
Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Abtast
elektronenmikroskops;
Fig. 5 eine vertikale Schnittansicht durch ein drittes
Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Abtast
elektronenmikroskops; und
Fig. 6 eine vertikale Schnittansicht durch ein viertes
Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Abtast
elektronenmikroskops.
Fig. 3 zeigt einen Längsschnitt durch ein Ausführungsbeispiel
des erfindungsgemäßen Abtastelektronenmikroskops mit einem
elektronenoptischen System, das eine Elektronenkanone 10,
Fokussierlinsen 11 und 12, eine erste Ablenkspule 13, eine
zweite Ablenkspule 14, einen ersten Sekundärelektronendetektor
15 für eine Probe geringer Größe, eine erste Objektivlinse 16
zur Beobachtung der Probe geringer Größe, eine erste Proben
bühne 17 zur Halterung der Probe
geringer Größe, eine zweite Objektivlinse 18 zur
Beobachtung einer großen Probe, einen zweiten Sekundär
elektronendetektor 19 für die große Probe und eine zweite
Probenbühne 20 für die große Probe aufweist. Ein von der
Elektronenkanone 10 emittiertes Elektronenstrahlbündel wird
durch die Fokussierlinsen 11 und 12 fokussiert und von den
ersten und zweiten Ablenkspulen 13 und 14 derart abgelenkt,
daß eine zweidimensionale Abtastung der Probe mit dem
Elektronenstrahlbündel erzielt wird. Der von den ersten
und zweiten Ablenkspulen 13 und 14 abgelenkte Elektronen
strahl wird von der ersten Objektivlinse 16 oder der zweiten
Objetivlinse 18 auf die Probe weiter fokussiert, so daß sich
ein Elektronenstrahlbündel-Durchmesser der Größenordnung von
10 nm auf einer Oberfläche der Probe ergibt. Von der Ober
fläche der Probe aufgrund der Abtastung durch das Elektronen
strahlbündel emittierte Sekundärelektronen werden von dem
ersten oder zweiten Sekundärelektronendetektor 15 oder 19
wahrgenommen und in ein entsprechendes elektrisches Signal
umgesetzt, das verstärkt oder verarbeitet wird, um ein
zweidimensionales Bild auf einer Kathodenstrahlröhre (CRT)
o. dgl. entsprechend der zuvor beschriebenen zweidimensionalen
Abtastung wiederzugeben. In Fig. 3 bezeichnet das Bezugs
zeichen 21 eine Blende für die Fokussierungslinsen 11
und 12, 22 bezeichnet eine Blende für die zweite Objektiv
linse, 23 bezeichnet eine Probenkammer zum Einsetzen der
kleinen Probe, 24 bezeichnet eine Probenkammer für die große
Probe, und die Bezugszeichen 25, 26 und 27 bezeichnen jeweils
Evakuierungsöffnungen.
Aus Fig. 3 ist zu sehen, daß die erste Objektivlinse 16 zur
Beobachtung der Probe geringer Größe über
der zweiten Objektivlinse 18 zur Beobachtung der großen
Probe angeordnet ist und daß die erste Probenbühne
17 für die kleine Probe in der Probenkammer 23 angeordnet
ist, die zwischen den Magnetpolen der ersten Objektivlinse
16 gebildet ist. Unmittelbar über der Probenkammer 23 für
die kleine Probe ist ein erster Sekundärelektronendetektor
15 angeordnet, der zur Bestimmung der Sekundärelektronen
dient, welche von der abgetasteten Oberfläche der auf der
ersten Probenbühne 17 angeordneten Probe emittiert werden.
Andererseits liegt die zweite Objektivlinse 18 zur Beobach
tung der großen Probe unter der ersten Objektivlinse 16.
Die Probenkammer 24 zur Aufnahme der großen Probe ist unter
der zweiten Objektivlinse 18 angeordnet. Die zweite Probe
bühne 20 zur Halterung der großen Probe ist in der zweiten
Probenkammmer 24 in der Nähe der Brennebene der zweiten
Objektivlinse 18 angeordnet, während der zweite Sekundär
elektronendetektor 19 zur Bestimmung der von der abge
tasteten Oberfläche der großen Probe 28 emittierten
Sekundärelektronen an einer Seite der zweiten Proben
bühne 20 angeordnet ist. Das zuvor mit den verschiedenen
Komponenten beschriebene elektronenoptische System genießt eine hohe
Stabilität aufgrund der Tatsache, daß die zur Aufnahme
der großen Probe dienende Probenkammer 24 im Bodenabschnitt
der elektronenoptischen Säule angeordnet ist und
der Schwerpunkt des gesamten Abtastelektronenmikroskops relativ
niedrig liegt.
Zur Beobachtung einer Probe geringer Größe werden die
erste Objektivlinse 16, die erste Probenbühne 17 und der
Sekundärelektronendetektor 15 verwendet. In diesem Falle
ist die zu untersuchende Probe
im Mittelpunkt des von der ersten Objektivlinse 16
erzeugten Magnetfelds angeordnet, wodurch es möglich wird,
die Probe mit einer wesentlich verringerten Aberration
des elektronenoptischen Linsensystems zu beobachten.
Außerdem braucht die erste Probenbühne 17 nicht über einen
großen Bereich verschoben oder eingestellt zu werden.
Dementsprechend ist auch der Probentisch gegen Vibrationen
weitgehend unempfindlich, so daß eine genaue Positionsein
stellung der Probe mit hoher Genauigkeit und dadurch ein
Bild hoher Auflösung erzielt werden kann.
Wenn eine große Probe 28 beobachtet werden soll, so werden
die zweite Objektivlinse 18, die zweite Probenbühne 20 und
der zweite Sekundärelektronendetektor 19 verwendet. In
diesem Falle ist es möglich, das Bild der großen Probe durch
Abtastung mit dem Elektronenstrahl in ähnlicher Weise wie
bei einem herkömmlichen Abtastelektronenmikroskop
zu beobachten. Zuvor ist natürlich die erste Probenbühne 17
zu entfernen und die Stromquelle von der ersten Objektiv
linse auf die zweite Objektivlinse 18 umzuschalten.
Fig. 4 zeigt eine vertikale Schnittansicht durch ein zweites
Ausführungsbeispiel des beschriebenen Abtastelektronenmikroskops.
Das Elektronenmikroskop gemäß Fig. 4 unter
scheidet sich von demjenigen gemäß Fig. 3 in erster Linie
darin, daß eine dritte Ablenkspule 29 zwischen der ersten
Objektivlinse 16 und der zur Beobachtung einer großen Probe
28 dienenden zweiten Objektivlinse 18 angeordnet ist. In
diesem Zusammenhang ist zu bemerken, daß bei Beobachtung
einer großen Probe bei schwacher Vergrößerung durch das in
Fig. 3 gezeigte Abtastelektronenmikroskop der Strahlengang des
durch die zweite Ablenkspule 14 abgelenkten Elektronen
strahls möglicherweise vom Zentrum der ersten Objektiv
linse 16 abgelenkt werden kann, wodurch sich eine merklich
große Aberration ergeben kann, oder daß der Elektronenstrahl
von dem inneren Umfangsabschnitt der ersten Objektivlinse
unterbrochen wird, wodurch es unmöglich wird, die Oberfläche
der großen Probe 28 abzutasten, da die zweite Probenbühne 20
von der zweiten Ablenkspule 14 weit beabstandet ist. Um
diesem Problem zu begegnen, ist eine dritte Ablenkspule 29
an einer Zwischenstellung zwischen der ersten Objektiv
linse 16 und der zweiten Objektivlinse 18 bei dem Aus
führungsbeispiel gemäß Fig. 4 angeordnet, so daß der
Elektronenstrahl durch das Zentrum der ersten Objektivlinse
16 treten kann. Bei der Anordnung gemäß Fig. 4 ist es möglich,
ein abgetastetes Bild einer großen Probe 28 mit verringerter
Aberration zu gewinnen. Es hat sich tatsächlich gezeigt, daß
die Aberration auf ein Zehntel derjenigen bei einer Anordnung
ohne die Ablenkspule 29 reduziert werden kann. Ein Umschalter
ist zum selektiven Umschalten der Stromversorgung zu den
ersten, zweiten und dritten Ablenkspulen (13, 14 und 29)
vorgesehen.
Fig. 5 zeigt einen Vertikalschnitt durch ein drittes Aus
führungsbeispiel des erfindungsgemäßen Abtastelektronenmikroskops,
bei dem ein Absperrventil 31 im Elektronenstrahldurchgang 30
zwischen den Probenkammern 23 und 24 angeordnet ist. Es ist
leicht einzusehen, daß die Probenkammer 24 für große Proben
einen unbenutzten Freiraum darstellt, wenn eine Probe geringer
Größe unter Verwendung der ersten Probenbühne beobachtet wird.
Wenn daher die zweite Probenkammer 24 bei Beobachtung einer
kleinen Probe zusammen mit der Probenkammer 24 auf ein vor
gegebenes Vakuum evakuiert werden muß, so geht eine größere
Zeit für die Evakuierung verloren. Darüberhinaus ist der
hohe Vakuumpegel innerhalb der Probenkammer 23 für die kleine
Probe deshalb nicht leicht herzustellen, da Gas aus den Innen
wänden der Probenkammer 24, dem Röntgenspektrometer und
anderen Zusatzgeräten in die Kammer 23 für kleine Proben
emittiert wird. Hier schafft das Absperrventil 31 Abhilfe,
das bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 5 als Gasstrom
sperre wirkt. Bei Einbau des Absperrventils 31 kann der
Elektronenstrahldurchgang 30 bei der Beobachtung der Probe
geringer Größe unterbrochen werden, so daß nur der Raum ober
halb der ersten Objektivlinse 16 evakuiert zu werden braucht.
Das Absperrventil 31 kann durch eine Betätigungsvorrichtung 32
selektiv betätigt werden. Zur Absperrung des
Gasstroms können auch andere Geräte als das in Fig. 5 dar
gestellte Absperrventil 31 verwendet werden. So kann bei
spielsweise eine zylindrische Blende mit einer Länge von
20 mm und einem Innendurchmesser von 1 mm im Elektronenstrahl
durchlaß 30 montiert werden. In diesem Fall ist der Durchlaß
30 nicht hermetisch abgeschlossen. Ein entsprechender Strom
beschränkungseffekt kann jedoch aufgrund der Tatsache erzielt
werden, das gasförmige Moleküle bei einem Vakuumpegel von
mehr als 10-3 mbar lineare Bewegungen ausführen.
Fig. 6 zeigt in einer vertikalen Schnittansicht ein viertes
Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Abtastelektronenmikroskops,
bei dem eine Miniaturlinse 18′ als zweite
Objektivlinse verwendet wird. Mit dem Ausdruck "Miniaturlinse"
ist eine kleine Linse gemeint, in der eine Ablenkspule
integriert ist. Dagegen hat die normale Objektivlinse einen
Durchmesser von 15 bis 20 cm. Wie oben gesagt, muß eine
große Probe 28 häufig über einen weiten Bereich bewegt
werden, wobei es erwünscht ist, einen möglichst großen Raum
um die zweite Probe verfügbar zu haben. Wenn eine Röntgen
strahl-Spektralanalyse einer Probe unter Verwendung eines
Röntgenstrahlspektrometers durchgeführt werden soll, so muß
die Probe 28 so nahe wie möglich an die Objektivlinse heran
gerückt werden, um einen großen Röntgenstrahl-Austritts
winkel relativ zur Probenoberfläche zu gewährleisten. Diese
Bedingungen können durch Verwendung der Miniaturlinse als
zweite Objektivlinse erfüllt werden.
Bei dem beschriebenen Abtastelektronenmikroskops
ist der Schwerpunkt der elektronenoptischen Säule
relativ weit unten, so daß eine hohe Stabilität
sowie eine relative Unempfindlichkeit gegen Vibrations
einflüsse und damit eine hohe Bildauflösung erzielt werden.
Durch Schaffung einer Gasstrombegrenzung zwischen der Proben
kammer 23 für die kleine Probe und der Probenkammer 24 für
die große Probe läßt sich die zur Evakuierung der Probenkammer
23′ auf einen vorgegebenen Vakuumpegel benötigte Zeit für die Beobachtung
der kleinen Probe ganz wesentlich verringern. Da die Kammer
24 unter der der Beobachtung der kleinen Probe dienenden
Kammer 23 vorgesehen ist, ist der die kleine Probe ab
tastende Elektronenstrahl keinen Einflüssen äußerer Magnet
felder ausgesetzt, welche anderenfalls durch die zur Auf
nahme der große Probe dienenden Kammer 24 eindringen könnten.
Wegen der Anordnung der zweiten Objektivlinse 18 unter der
ersten Objektivlinse 16 kann ein Abtastdurchstrahlungsbild (STEM Bild) einer auf dem
ersten Probentisch 17 angebrachten Probe durch die zweite
Objektivlinse 18 beobachtet werden. Wenn die zweite Objektiv
linse durch die Miniaturlinse gebildet wird, kann der zur
Einstellbewegung einer Probe in der Probenkammer 24 verfüg
bare Raum vergrößert werden, während die Herstellungskosten
verringert werden.
Claims (4)
1. Abtastelektronenmikroskop mit einer Elektronenkanone
(10), einer ersten Objektivlinse (16) zur Beobachtung einer
Probe geringer Größe, einer zweiten Objektivlinse (18; 18′)
zur Beobachtung einer großen Probe, einer ersten Probenbühne
(17), die nahe der ersten Objektivlinse (16) angeordnet ist
und die kleine Probe zwischen den Magnetpolen der ersten Ob
jektivlinse (16) hält, einer zweiten Probenbühne (20), die in
Strahlrichtung gesehen hinter der zweiten Objektivlinse (18;
18′) zur Halterung der großen Probe an einer Stelle nahe der
Brennebene der zweiten Objektivlinse (18; 18′) angeordnet ist,
und mit Mitteln zur selektiven oder abwechselnden Beobachtung
der kleinen und der großen Probe,
dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Objektivlinse (16) in Strahlrichtung gesehen vor
der zweiten Objektivlinse (18; 18′) angeordnet ist.
2. Abtastelektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß eine zusätzliche Ablenkspule (29) zwischen
der ersten Objektivlinse (16) und der zweiten Objektivlinse
(18; 18′) angeordnet ist.
3. Abtastelektronenmikroskop nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Vorrichtung zur Beschränkung des
Gasstroms zwischen der ersten Probenbühne (17) und der zweiten
Probenbühne (20) angeordnet ist.
4. Abtasteleketronenmikroskop nach einem der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Objektivlinse durch
eine Miniaturlinse (18′) gebildet ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54042506A JPS5938701B2 (ja) | 1979-04-10 | 1979-04-10 | 二段試料台を備えた走査型電子顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3011625A1 DE3011625A1 (de) | 1980-10-30 |
DE3011625C2 true DE3011625C2 (de) | 1991-10-31 |
Family
ID=12637943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19803011625 Granted DE3011625A1 (de) | 1979-04-10 | 1980-03-26 | Elektronenmikroskop des abtasttyps |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4458151A (de) |
JP (1) | JPS5938701B2 (de) |
DE (1) | DE3011625A1 (de) |
GB (1) | GB2052843B (de) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS582856U (ja) * | 1981-06-26 | 1983-01-10 | 株式会社日電子テクニクス | 透過走査像観察装置 |
JPS58161235A (ja) * | 1982-03-19 | 1983-09-24 | Internatl Precision Inc | 走査型電子線装置 |
JPS58178948A (ja) * | 1982-04-12 | 1983-10-20 | Shimadzu Corp | 電子線照射型分析装置の試料装置 |
JP2569011B2 (ja) * | 1986-06-11 | 1997-01-08 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
US6403967B1 (en) | 1999-10-15 | 2002-06-11 | Advanced Ion Beam Technology, Inc. | Magnet system for an ion beam implantation system using high perveance beams |
JP4063503B2 (ja) * | 2001-04-10 | 2008-03-19 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡 |
EP1515359A1 (de) * | 2003-09-12 | 2005-03-16 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Kammer mit geringer durch Elektronen stimulierter Desorption |
TW200639901A (en) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Li Bing Huan | Device for operating gas in vacuum or low-pressure environment and for observation of the operation |
JP5449679B2 (ja) * | 2008-02-15 | 2014-03-19 | 株式会社日立製作所 | 電子線観察装置および試料観察方法 |
JP5875500B2 (ja) * | 2012-10-31 | 2016-03-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム顕微装置 |
JP7231496B2 (ja) * | 2018-07-05 | 2023-03-01 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射方法、及びマルチ電子ビーム検査装置 |
US11127564B2 (en) * | 2019-01-15 | 2021-09-21 | Kkt Holdings Syndicate | Scanning electron microscope with objective lens below sample stage |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3509335A (en) * | 1967-06-26 | 1970-04-28 | William Charles Nixon | Electron microscope having two separate specimen stages |
US3872305A (en) * | 1972-12-06 | 1975-03-18 | Jeol Ltd | Convertible scanning electron microscope |
DE2514266C2 (de) * | 1975-03-27 | 1977-04-28 | Siemens Ag | Korpuskularstrahloptisches geraet mit zwei in strahlrichtung aufeinanderfolgenden teilraeumen unterschiedlicher druecke |
JPS52128053A (en) * | 1976-04-21 | 1977-10-27 | Hitachi Ltd | Electron microscope |
-
1979
- 1979-04-10 JP JP54042506A patent/JPS5938701B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-03-26 DE DE19803011625 patent/DE3011625A1/de active Granted
- 1980-03-31 GB GB8010771A patent/GB2052843B/en not_active Expired
-
1982
- 1982-09-30 US US06/430,617 patent/US4458151A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4458151A (en) | 1984-07-03 |
JPS55136446A (en) | 1980-10-24 |
JPS5938701B2 (ja) | 1984-09-18 |
GB2052843B (en) | 1983-03-23 |
GB2052843A (en) | 1981-01-28 |
DE3011625A1 (de) | 1980-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69822139T2 (de) | Korrekturvorrichtung zur linsenfehlerkorrektur in ladungsträger-optischen geräten | |
EP0373399B1 (de) | Abbildender Korrektor vom Wien-Typ für Elektronenmikroskope | |
DE102006050600B4 (de) | Spektrometer zur Oberflächenanalyse und Verfahren dafür | |
DE69133063T2 (de) | Ladungsträgerstrahlgerät | |
DE69406739T2 (de) | Elektronenstrahlgerät | |
DE3011625C2 (de) | ||
DE2842527B2 (de) | Elektrostatische Emissionslinse | |
EP1277221B1 (de) | Strahlerzeugungssystem für elektronen oder ionenstrahlen hoher monochromasie oder hoher stromdichte | |
DE3222275C2 (de) | Ablenk- und Fokussiersystem für einen Strahl aus geladenen Teilchen | |
DE112015001235B4 (de) | Vorrichtung und verfahren zur abbildung mittels eines elektronenstrahls unter verwendung eines monochromators mit doppeltem wien-filter sowie monochromator | |
DE69634328T2 (de) | Hochtemperatur-probentisch und detektor für rasterelektronenmikroskop unter kontrollierter umgebung | |
DE69501144T2 (de) | Teilchenoptisches gerät mit einem sekondärelektronen detektor | |
DE19838600A1 (de) | Energiefilter und Elektronenmikroskop mit Energiefilter | |
DE69920182T2 (de) | Korpuskularstrahloptisches gerät mit auger-elektronendetektion | |
DE3904032C2 (de) | ||
DE2307822C3 (de) | Supraleitendes Linsensystem für Korpuskularstrahlung | |
EP0967630A2 (de) | Elektronenmikroskop mit einem abbildenden magnetischen Energiefilter | |
DE2430696A1 (de) | Elektronenmikroskop | |
DE102016103157B4 (de) | Nahfeld-Photonentransmissions-Elektronenemissionsmikroskop | |
DE602004012056T2 (de) | Fokussierlinse für Strahlen geladener Teilchen | |
EP1347490A2 (de) | Blenden-Zusatzvorrichtung für ein Rasterelektronenmikroskop | |
DE19526999C2 (de) | Elektronenenergiefilter und Transmissionselektronenmikroskop mit einem solchen | |
DE3438987C2 (de) | ||
DE69918958T2 (de) | Rasterelektronenmikroskop mit einem ortssensitiven detektor | |
DE69501533T2 (de) | Partikel-optisches instrument mit einer ablenkeinheit für sekundärelektronen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: AKASHI SEISAKUSHO LTD., TOKIO/TOKYO, JP |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: ABT LTD., MUSASHINO, TOKIO/TOKYO, JP |
|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: ZENZ, J., DIPL.-ING., 4300 ESSEN HELBER, F., DIPL. |
|
D2 | Grant after examination | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: KABUSHIKI KAISHA TOPCON, TOKIO/TOKYO, JP |
|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |