DE2731458B2 - Magnetische Objektivlinseneinrichtung für unter Vakuum arbeitende Korpuskularstrahlgeräte, insbesondere Objektivlinseneinrichtung für Höchstspannungs-Elektronenmikroskope und Verwendung - Google Patents
Magnetische Objektivlinseneinrichtung für unter Vakuum arbeitende Korpuskularstrahlgeräte, insbesondere Objektivlinseneinrichtung für Höchstspannungs-Elektronenmikroskope und VerwendungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine magnetische Objektivlinseneinrichtung für unter Vakuum arbeitende
Korpuskularstrahlgeräte mit einer Vakuumkammer zur Aufnahme eines zu untersuchenden Objektes und mit
; mindestens einer von einer supraleitenden Abschirmvorrichtung umgebenen, stromdurchflossenen Linsenspulenwicklung,
die um zwei supraleitende, hohlzylindrische Abschirmkörper angeordnet ist, welche koaxial zur
Strahlführungsachse der Linseneinrichtung und in Strahlfuhrungsrichtung gesehen beabstandet hintereinander
angeordnet sind, wobei zwischen ihrea benachbarten Stirnflächen ein Spalt vorbestimmter Spaltweite
ausgebildet ist
Huchstspannungs-Elektronenmikroskope arbeiten mit Strahlspannungen, die über 1000 kV liegen können.
Für diese Elektronenmikroskope kann zweckmäßig ein Linsensystem mit mehreren supraleitenden Linseneinrichtungen
vorgesehen sein, die sich in einem Kryostaten befinden und auf einem in diesem Kryostaten
befindlichen zentralen Trägerrohr angeordnet sind (DE-OS 23 07 822). Man erhält so einen verhältnismäßig
kompakten Aufbau eines Elektronenmikroskops. Das Linsensystem des bekannten Elektronenmikroskops
umfaßt eine Objektivlinseneinrichtung der eingangs genannten Art, welche zwei in Strahlführungsrichtung
hintereinander angeordnete, hohlzylindrische Abschirmkörper enthält die jeweils den Strahlführungsraum
eng umschließen. Diese beiden Abschirmzylinder bestehen aus supraleitendem Material, das im Betriebszustand
mittels eines kryrogenen Mediums wie beispielsweise flüssigem Helium unterhalb seiner sogenannten
Sprungtemperatur gehalten wird. Zwischen den benachbarten Stirnseiten dieser Abschirmzylinder
ist ein schmaler Spalt ausgebildet, in dem eine Vakuumkammer angeordnet ist. In diese Kammer kann
radial von der Seite her mittels einer besonderen Einführungsvorrichtung ein zu untersuchendes Objekt
eingebracht werden. Der Objektraum wird dabei von dem kryogenen Medium mitgekühlt Es läßt sich so zwar
ein temperaturbedingtes seitliches Auswandern des Objektes, eine sogenannte thermische Drift äußerst
gering, beispielsweise unter 0,03 nm/min, halten. Mit der bekannten Objektivlinseneinrichtung können jedoch
keine auf höheren Temperaturen, insbesondere auf Raumtemperaturen befindlichen Objekte untersucht
werden.
Jeder der beiden Abschirmzylinder des bekannten Elektronenmikroskops ist von einer supraleitenden
Linsenspulenwicklung umgeben, die im Betriebszustand kurzgeschlossen ist Die Abschirmzylinder haben die
Aufgabe, das von den Linsenspulenwicklungen erzeugte Magnetfeld nur im Bereich des Linsenspaltes auf den
Korpuskularstrahl einwirken zu lassen. Die beiden Abschirmzylinder sind deshalb an ihren einander
abgewandten Stirnseiten mit einer Abschirmvorrichtung aus ebenfalls supraleitendem Material verbunden,
welche die äußere Mantelfläche und die Stirnflächen der Linsenspulenwicklungen umschließt Mit dem so ausgebildeten,
im supraleitenden Zustand gehaltenen Abschirmgehäuse kann außerdem die Ausbreitung des von
den Linsenspulenwicklungen erzeugten Magnetfeldes nach außen hin begrenzt und der Spaltbereich, in dem
das Magnetfeld auf den Korpuskularstrahl einwirkt, gegen äußere magnetische Störfelder, insbesondere
elektromagnetische Wechselfelder, weitgehend abgeschirmt werden.
Da das Auflösungsvermögen eines Korpuskularstrahlgerätes bekanntlich von der sogenannten Öffnungsfehlerkonstanten
seiner Linsen, insbesondere seiner Objektivlinse abhängt, ist bei dem bekannten Elektronenmikroskop die Größe des Linsenspaltes
zwischen den einander gegenüberliegenden Stirnflächen der beiden Abschirmzylinder so gewählt, daß ein
sehr kleiner Wert der Öffnungsfehlerkonstanten erreicht wird. Die Öffnungsfehlerkonstante einer solchen
Linseneinrichtung hängt dabei außer von dem Maximalwert Hq der Feldstärke bzw. dem Maximalwert B» der
magnetischen Induktion in dem Linsenspalt, d. h. in dem
Bereich der Einwirkung des Magnetfeldes auf den Korpuskularstrahl, auch vom Feldgradienten längs der
Strahlführungsachse in dem Linsenspalt und somit auch von der Gestaltung der Abschirmzy'yider im Bereich
ihrer sich gegenüberliegenden Stirnflächen ab.
Mit dieser Objektivlinseneinrichtung können jedoch nur auf die Tieftemperatur des kryogenen Mediums
gekühlte Objekte untersucht werden. Darüber hinaus sind diese Objektivlinseneinrichtungen auch nur für
Elektronenmikroskope der sogenannten Feststrahltechnik geeignet, bei der ein gebündelter, mittels Magnetfelder
unbeweglich gehaltener Elektronenstrahl das Objekt durchstrahlt, von dem mit Hilfe nachgeschalteter
magnetischer Vergrößerungslinsen ein vergrößertes Bild erzeugt wird. Das bekannte Elektronenmikroskop
ist jedoch für die sogenannte Durchstrahlungs-Raster-Elektronenmikroskopie
nicht ohne weiteres geeignet Bei dieser Technik überstreicht ein scharf gebündelter
Elektronenstrahl nach einem vorgegebenen Rasterschema die Oberfläche des zu untersuchenden Objektes.
Sollen dabei entstandene gestreute Elektronen registriert und gegebenenfalls Sekundärelektronen sowie
Auger-Elektronen und Rückstreuelektronen für zusätzliche energiedispersive Strahlungsanalysen aufgefangen
werden, so müssen die entsprechenden Detektoreinrichtungen in unmittelbarer Nähe des Objektes angebracht
werden. Dies ist aber bei der bekannten Objektivlinseneinrichtung nicht ohne weiteres möglich, da der
Objektraum zu klein ist und auch nicht vergrößert werden kann, ohne daß im Objektivspalt die maximale
Feldstärke Ho und der Feldgradient verringert würden
und so die Abbildungsfehler des Elektronenmikroskops, insbesondere seine sphärische und chromatische Aberration,
aufgrund einer entsprechenden Vergrößerung der Öffnungsfehlerkonstanten zunehmen wurden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, die bekannte Objektivlinseneinrichtung derart umzugestalten,
daß ein mit ihr ausgestattetes Höchstspannungs-Elektronenmikroskop einen auf Raumtemperatur befindlichen
Objektraum hat und auch für die Durchstrahlungs-Raster-EIektronenmikroskopie
geeignet ist, ohne daß dabei auf wesentliche Vorteile des bekannten Feststrahlelektronenmikroskops verzichtet werden
muß. So sollen die thermische Drift des Objektes gering und zugleich der Korpuskularstrahl gegen äußere
magnetische Störfelder weitgehend abgeschirmt sein. Darüber hinaus soll mit dem Elektronenmikroskop eine
Auflösung von etwa 1 nm erreicht werden können.
Diese Aufgabe wird für eine magnetische Objektivlin- so seneinrichtung der eingangs genannten Art erfindungsgemäß
dadurch gelöst, daß die Abschirmvorrichtung topfartig ausgebildet ist und die Vakuumkammer zur
Aufnahme des untersuchenden Objektes in Strahlrichtung gesehen vor der offenen Seite der topfartigen
Abschirmvorrichtung und der dem Spalt abgewandten Stirnfläche des ersten Abschirmkörpers angeordnet ist.
Da die Abschirmvorrichtung, welche die Linsenspulenwicklung und die beiden hohlzylinderförmigen
Abschirmkörper umgibt, topfartig ausgebildet und somit einseitig offen ist, wirkt die Objektlinseneinrichtung
gemäß der Erfindung wie ein magnetisches Linsensystem aus zwei in Strahlrichtung hintereinander
angeordneten magnetischen Linsen. Die Brennweite der ersten Linse ist dabei verhältnismäßig groß, während
die Brennweite der zweiten Linse auch bei hohen Strahlspannungen von beispielsweise 5000 kV sehr klein
eehalten werden kann. Die mit der Gestaltung der magnetischen Linseneinrichtung gemäß der Erfindung
erreichten Vorteile bestehen dann insbesondere darin, daß das zu untersuchende Objekt einige Zentimeter vor
der offenen Seite der topfartigen Abschirmvorrichtung bzw. vor dem ersten hohlzylinderförmigen Abschirmkörper
angeordnet werden kann. An dieser Stelle läßt sich jedoch ohne Schwierigkeit eine Vakuumkammer
mit einer wärmen Objektstufe vorsehen. Da sich diese
Vakuumkammer ausreichend groß bemessen läßt, können in ihr vorteilhaft die für die Durchstrahlungs-Raster-Elektronenmikroskopie
erforderlichen Detektoreinrichtungen angeordnet werden.
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand der Zeichnung erläutert, deren F i g. 1 und 2 schematisch
je ein Ausführungsbeispiel einer magnetischen Objektivlinseneinrichtung nach der Erfindung zeigen. In
F i g. 3 ist einem Diagramm die von der Objektivlinseneinrichtung gemäß F i g. 1 erzeugte Feldstärkeverteilung
längs der Strahlführungsachse veranschaulicht, während in Fig.4 der Strahlengang durch diese
Linseneinrichtung angedeutet ist
Die in F i g. 1 dargestellte Objektivlinseneinrichtung ist sowohl für ein Durchstrahlungs-Raster- als auch für
ein Durchstrahlungs-Feststrahl-EIektronenmikroskop geeignet Die in dieser Figur nicht dargestellten Teile
des Mikroskops sind an sich bekannt und können beispielsweise den Teilen des Elektronenmikroskops
gemäß der deutschen Offenlegungsschrif» 23 07 822 entsprechen. Die Objektivlinseneinrichtung enthält eine
Abschirmvorrichtung 2, die aus supraleitendem Material besteht und im Betriebszustand mittels eines kryogenen
Mediums wie beispielsweise flüssigem Helium auf einer Temperatur unterhalb der kritischen Temperatur dieses
Materials gehalten wird. Die Abschirmvorrichtung ist topfartig ausgebildet d. h. sie besteht aus einem
hohlzylindrischen Seitenteil 4, das den Mantel der Abschirmvorrichtung bildet, und einem Bodenteil 5, das
dieses Seitenteil nach unten hin abschließt. Das Bodenteil 5 ist mit einer zentralen öffnung 6 versehen,
durch die ein längs einer Achse 7 geführter Elektronenstrahl durch die Abschirmvorrichtung geleitet wird. Die
Abschirmvorrichtung ist nach oben hin von einem in der Figur nur durch eine Linie dargestellten Deckelteil 8
abgeschlossen, das eine entsprechende öffnung 9 hat und aus nichtmagnetischem Material besteht Im
Inneren der topfartigen Abschirmvorrichtung sind konzentrisch zur Strahlführungsachse 7 zwei hohlzylinderförmige
Abschirmkörper 11 und 12 angeordnet, deren zentrale Bohrungen 13 bzw. 14 einen Durchmesser
von nur wenigen Millimetern haben. Diese Abschirmzyliinder bestehen ebenfalls aus supraleitendem
Material und werden zweckmäßig von dem für die Abschir invorrichtung.2 erforderlichen kryogenen Medium
mitgekühlt. Sie sind in Strahlführungsrichtung gesehen hintereinander beabstandet angeordnet, wobei
zwischen ihren einander benachbarten Stirnflächen ein schmaler Spalt 15 ausgebildet ist. Der untere Abschirmzylinder
steht dabei auf dem Bodenteil 5 der Abschirmvorrichtung 2. und kann beispielsweise mit
dieser ein gemeinsames Formstück bilden. Die beiden Abschirmzylinder 11 und 12 sind von einer stromdurchflossenen
Linsenspulen wicklung 17 umschlossen, deren Leiter zweckmäßig ebenfalls aus supraleitendem Material
sind. Die Spulenwicklung kann im Betriebszustand in bekannter Weise kurzgeschlossen sein.
Sie erstreckt sich nach oben bis an das Deckellei! S
der topfartigen Abschirmvorrichtung 2.
Zur Verminderung der Wärmeübertragung auf die tiefgekühlte Abschirmvorrichtung 2 und die in ihr
angeordneten Bauteile ist ferner ein Strahlungsschild 19. vorgesehen, der beispielsweise mit flüssigem Stickstoff
gekühlt wird. Dieser Strahlungsschild ist ebenfalls topfartig ausgebildet. Seine obere, offene Seite wird von
einem Deckelteil 20 abgeschlossen. Zumindest dieses Deckelteil des Strahlungsschildes besteht aus einem
nichtmagnetischen Material. Zur Fixierung der Abschirmvorrichtung 2 innerhalb des Strahlungsschildes 19
sind in der Figur nur einige, schlecht wärmeleitende Abstandshalter 22 und 23 zwischen dem Bodenteil 5 der
Abschirmvorrichtung ji und dem entsprechenden Bodenteil 26 des Strahlungsschildes !9 bzw. zwischen j
dem Deckelteil 20 des Strahlungsschildes und dem entsprechenden Deckelteil 8 der Abschirmvorrichtung
angedeutet.
Der Strahlungsschild 19 mit den in ihm angeordneten Bauteilen ist in einem evakuierbaren Raum 28 eines
Gehäuses 30 angeordnet, das bis auf zentrale Durchführungen für den Elektronenstrahl allseitig geschlossen ist.
Der Raum 28 stellt dabei den unteren Teilraum des gesamten Innenraumes des Gehäuses 30 dar und ist
durch eine Trennwand 31 von einem oberen Teilraum abgetrennt, der in Strahlungsrichtung gesehen vor der
Trennwand 31 liegt und als Vakuumkammer 32 bezeichnet ist. Das Gehäuse 30 befindet sich auf
Raumtemperatur, so daß zwischen ihm und der Trennwand einerseits und dem Strahlungsschild 19
andererseits schlecht wärmeleitende Abstützvorrichtungen 33 vorgesehen sind, um eine Wärmeübertragung
gering zu halten.
In der Figur sind die erforderlichen Vorrichtungen zur Einführung eines zu untersuchenden Objektes 34 in
die als Objektraum dienende Vakuumkammer 32 sowie zu dessen Halterung im einzelnen nicht näher
dargestellt. Es ist iediglich angedeutet, daß das Objekt 34 mittels eines Präparateschiebers 36 und einer
Schleusenkammer 37 von der Seite her in diesen Vakuumraum eingeführt und vor der Abschirmvorrichtung
2^ bzw. dem Abschirmzylinder 11 in den Elektronenstrahl gebracht werden kann. Beispielsweise
ist ein ringförmiger Präparatetisch 38 vorgesehen, vor dessen zentraler Bohrung das Objekt 34 angeordnet
wird.
Da aufgrund der topfartigen Gestaltungsform der Abschirmvorrichtung diese einseitig offen ist, d. h. das
von der Linsenspulenwicklung 17 erzeugte Magnetfeld
nicht nur auf den von der Abschirmvorrichtung 2_
umschlossenen Innenraum begrenzt ist, wirkt dieses Magnetfeld also nicht nur im Bereich des Spaltes 15
zwischen den beiden Abschirmzylindern 11 und 12, sondern erstreckt sich auch in den Bereich vor dem
ersten Abschirmzylinder 11 in den Vakuumraum 32. Es
ergibt sich so eine magnetische Doppellinse. Ihr in Strahlrichtung gesehen erster Feldbereich vor dem
Abschirmzylinder 11 ist in der Figur mit U und der
Feldbereich im Spalt 15 zwischen den beiden Abschirmzylindern 11 und 12 mit L2 bezeichnet
Da der Elektronenstrahl das Objekt 34 nach einem Rasterschema durchstrahlen können soll, ist in der Figur
in Strahlrichtung gesehen hinter dem Objekt und noch vor dem Strahlungsschild 19_bzw. der Abschirmvorrichtung
_2 eine entsprechende Detektoreinrichtung 39 angedeutet Diese Detektoreinrichtung ist beispielsweise
in dem Präparatetisch 38 angeordnet Da der auf Raumtemperatur befindliche Objektraum 32 der Linsenspuleneinrichtung
gemäß der Erfindung ausreichend groß bemessen werden kann, lassen sich darin weitere,
in der Figur nicht dargestellte Detektorsysteme unterbringen, die insbesondere bei einem Betrieb des
Elektronenmikroskopes in Rastertechnik für energiedispersive Strahlungsanalysen vorgesehen sind.
Ferner sind in der Figur noch ein Ablenksystem 40 und zwei Stigmator-Systeme 41 und 42 zur justierung
des Elektronenstrahles bezüglich der Achse der Linseneinrichtung dargestellt. Das in Strahlungsrichtung
gesehen erste Stigmator-System 41, von dem vorzugsweise ein Teil zugleich als Ablenksystem
verwendet werden kann, und das Ablenksystem 40 liegen dabei unmittelbar vor der dem Spalt 15
abgewandten Seite des ersten Abschirmzylinders 11, während das zweite Stigmator-System 42 in dem
zwischen den beiden Abschirmzylindern 11 und 12 ausgebildeten Spalt 15 angeordnet ist.
Das Gehäuse 30 kann vorteilhaft aus einem ferromagnetischen Material bestehen, um den Strahlführungsraum,
insbesondere im Bereich der Vakuumkammer 32, von störenden äußeren elektromagnetischen
Wechselfeldern abzuschirmen. Darüber hinaus kann aufgrund einer besonderen Gestaltung beispielsweise
seines oberen Deckelteils 43 die Verteilung des magnetischen Feldes in diesem Vakuumraum 32
beeinflußt werden. Ein entsprechendes Ausführungsbeispiel ist in F i g. 2 angedeutet Bis auf dieses Deckelteil
43 stimmen alle in dieser Figur dargestellten Bauteile mit denen des Ausführungsbeispiels gemäß F i g. 1
überein. Das Deckelteil 43 ist im Bereich seiner zentralen Durchführung 44 für den Elektronenstrahl
nach innen eingezogen, so daß es einen Polschuh 45 bildet, der sich bis in die Nähe des zu untersuchenden
Objektes 34 erstreckt. Dadurch wird eine Konzentration des die magnetische Linse L\ darstellenden Feldes
im Bereich des Objektes 34 bewirkt.
In Fig.3 ist in einem Diagramm die Verteilung der
magnetischen Feldstärke auf der Achse innerhalb einer Objektivlinseneinrichtung gemäß F i g. 1 wiedergegeben.
Dabei ist auf der Abszisse die Lage ζ der Meßpunkte vom Eintritt des Elektronenstrahles in das
Gehäuse 30 aus in Strahlführungsrichtung in Millimetern angegeben, während auf der Ordinate die
zugehörige magnetische Induktion flb in Tesla aufgetragen
ist. Aus dem Feldverlauf des Diagramms ist deutlich die Doppellinseneigenschaft der Objektivlinseneinrichtung
gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung ablesbar. Dabei liegt die erste, mit L1 bezeichnete
Teillinse dieser magnetischen Doppellinse vor dem ersten Abschirmzylinder 11. Ihr Streufeld hat dabei eine
unsymmetrische Feldstärkeverteilung. Die Brennweite dieser Linse ist verhältnismäßig groß und die maximale
Induktion Bo verhältnismäßig klein. Im Spalt 15
zwischen den beiden Abschirmzylindern 11 und 12, deren Lage unterhalb der Abszisse durch gestrichelte
Linien angedeutet ist, weist dagegen die Feldverteilung der zweiten Teillinse L% einen hohen Maximalwert bei
kleiner Halbwertsbreite auf, so daß auch bei Strahlspannungen von beispielsweise 500OkV vorteilhaft die
Brennweite dieser Teillinse L2 sehr klein ist und beispielsweise 6 mm nicht Obersteigt
Dem Diagramm gemäß F i g. 3 liegt ein Ausführungsbeispiel einer Objektivlinseneinrichtung zugrunde, dessen
elektronenoptischen Daten für die in der Figur wiedergegebene Feldverteilung bei einer Strahlspannung
von 300OkV in der nachfolgenden Tabelle angegeben sind.
Erregung 42000 40000AW
Vordere Brennweite 11 3,4 mm
Hintere Brennweite 14 3,4 mm
Vordere Brennpunkts- -12 -2,3 mm
koordinate
Hintere Brennpunkts- +3 +2,3 mm
koordinate
Farbfehlerkonstante 18,5 2,6 mm
ÖfTnungsfehlerkonstante 86 3,1 mm
Als Nullpunktskoordinate, auf welche die Brennpunktskoordinaten bezogen sind, ist dabei der Ort auf
der Abszisse angenommen, an dem die zugeordnete magnetische Induktion fib ihren maximalen Wert hat.
Der zu der Feldverteilung gemäß F i g. 3 entsprechende Strahlengang der Objektivlinseneinrichtung ist in
F i g. 4 angedeutet Jeder ihrer Teillinsen ist eine vordere und eine hintere Hauptebene zugeordnet, deren
Schnittpunkte mit der Strahlführungsachse mit A/o bzw.
H] bezeichnet sind. Ihre zugehörigen vorderen und
hinteren Brennpunkte sind mit Fo bzw. Fi bezeichnet.
Die sich auf die zweite Teillinse Li beziehenden Punkte sind dabei mit einem Strich gekennzeichnet. Das Objekt
34 befindet sich oberhalb der vorderen Brennpunktkoordinate Fo der ersten Teillinse L1 in einem Abstand
von dieser Brennpunktkoordinate, der kleiner oder gleich der vorderen Brennweite der ersten Teillinse L\
to ist. Damit entsteht das erste Zwischenbild unterhalb der hinteren Brennpunktkoordinate Fi in einem Abstand
von dieser Brennpunktkoordinate, der größer oder gleich der hinteren Brennweite der ersten Teillinse ist.
Bei diesem Linsensystem läßt sich so das erste Zwischenbild in den oberen Teil des Spaltes 15 der
zweiten Teillinse Li legen. Aufgrund dieses Konstruktionsprinzipes
kann dann erreicht werden, daß das Objekt einige Zentimeter oberhalb des oberen Randes
des ersten Abschirmzylinders U angeordnet und dort ohne Schwierigkeiten eine warme Objektstufe vorgesehen
werden kann. Diese Objektstufe befindet sich zwar außerhalb der supraleitenden Abschirmvorrichtung 2
gemäß den F i g. 1 und 2. Dieses' Fehlen einer supraleitenden Abschirmung im Bereich des Objektes
34 ist aber bei Strahlspannungen oberhalb von 1000 kV von untergeordneter Bedeutung.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (8)
1. Magnetische Objektivlinseneinrichtung für unter Vakuum arbeitende Korpuskularstrahlgeräte
mit einer Vakuumkammer zur Aufnahme eines zu untersuchenden Objektes und mit mindestens einer
von einer supraleitenden Abschirmvorrichtung umgebenen, stromdurchflossenen supraleitenden Iinsenspulenwicklung,
die um zwei supraleitende, hohlzylinderförmige Abschirmkörper angeordnet
ist, welche koaxial zur Strahlführungsachse der Linseneinrichtung und in Strahlführungsrichtung
gesehen beabstandet hintereinander angeordnet sind, wobei zwischen ihren benachbarten Stirnflächen
ein Spalt vorbestimmter Spaltweite ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die
Ab-ichirmvorrichtung (2) topfartig ausgebildet ist und die Vakuumkammer (32) zur Aufnahme des zu
untersuchenden Objektes (34) in Strahlrichtung gesehen vor der offenen Seite der topfartigen
Abschirmvorrichtung (2) und der dem Spalt (15) abgewandten Stirnfläche des ersten Abschirmkörpers
(11) angeordnet ist
2. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich die
Vakuumkammer (32) auf Raumtemperatur befindet
3. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in
der Vakuumkammer (32) Einrichtungen zur Strahlungsanalyse angeordnet sind.
4. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der in Strahlführungsrichtung gesehene zweite Abschirmkörper (12) an seiner dem Spalt (15)
abgewandten Stirnfläche mit der Abschirmvorrichtung (2) verbunden ist
5. Magnetische Objektivlinreneinrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite
Abschirmkörper (12) mit der Abschirmvorrichtung (2) ein gemeinsames Formstück bildet.
6. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Abschirmvorrichtung (2) sowie die Vakuumkammer (32) in einem auf Raumtemperatur
befindlichen Abschirmgehäuse (30) aus ferromagnetischem Material angeordnet sind.
7. Magnetische Objektivlinseneinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das
Abschirmgehäuse (30) im Bereich des zu untersuchenden Objektes (34) als Polschuh (45) gestaltet ist.
8. Verwendung der magnetischen Objektivlinseneinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7 in
Elektronenmikroskopen mit Strahlspannungen über 1000 kV.
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1978
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