DE2647218C2 - Passive elektro-optische Anzeigezelle und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents
Passive elektro-optische Anzeigezelle und Verfahren zu ihrer HerstellungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine passive elektro-optische
An/.eigezelle. bestehend ans mindestens einer
Platte aus einem ersten durchsichtigen Werkstoff, die auf ihrer Innenfläche Elektroden und Leiterbahnen
trägt, die aus einem /weilen durchsichtigen Werkstoff
bestehen.
Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Anzcigezelle.
Die passiven elektro-optischen Anzeigczellcn der
vorgenannten Art haben den Nachteil, daß die Elektro-■>
den und Leiterbahnen entsprechend dem Einfallswinkel der Beobachtung durch die Platte aus durchsichtigem
Werkstoff hindurch sichtbar sind, was dem Umstand zuzuschreiben ist. daß der Refraktionskocffh'ient der
Leitschicht nicht der gleiche ist wie der des aktiven Bein standteils. der die kleinen Zwischenräume zwischen den
Elektroden und den Leiterbahnen einnimmt. Es ergeben sich auf diese Weise Interferenzphänomene, die die
Elektroden und die Leiterbahnen sichtbar werden lassen, selbst wenn die Anzeigczelle sich in Ruhe befindet,
is Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, bei einer
passiven elcktro-oplischen Anzeigczelle der eingangs erwähnten Art sowohl Elektroden als auch Leiterbahnen
unsichtbar zu machen.
Aus der DE-OS 22 37 273 ist bekanntgeworden, die durch Dopen hergestellten Steucrclcktrodcn und die
Leiterbahnen in der Masse des Halbleitersubstrat einzubetten,
und zwar derart, daß weder die einen noch die anderen zu sehen sind. Andererseits wird die andere
Platte vollständig von einer Elektrode bedeckt, so daß sie ebenfalls nicht sichtbar ist. Diese Lösung hat jedoch
den Nachteil, daß b<;im Umschalten ciiics Segments die
dieser Elektrode zugeordnete Steucrbahn ebenfalls angezeigt wird. Wenn man dies vermeiden will, muß die
Gegenelektrode derart zugeschnitten sein, daß sie die Bereiche der Leiterbahnen nicht bedeckt. Dann stellt
sich auch hier die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe,
nämlich die Leiterbahnen unsichtbar zu machen.
Demgegenüber wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die von den Elektroden und den Leiterbahnen
Vi nicht bedeckten Bereiche der Innenfläche von einer
Schicht ans einem isolierenden und durchsichtigen Werkstoff bedeckt sind, der den gleichen Brechungsindex
und die gleiche Dicke wie der Index und die Dicke lies /weiten Werkstoffs hat.
•κι Aiii diese Weise wird mit Sicherheit erreicht, daß die
Leiterbahnen oder l.citerschichien unsichtbar gemacht
werden.
Wenn nämlich eine l.eilerschichl neben einer Isolierschicht
von gleicher Dicke und gleichem Brechungsin- Yy dex angeordnet wird, wird sie unsichtbar, weil unter
diesen Bedingungen beide Schichten jeweils den gleichen Reflexions- iindTransmissionskoeffizicntcn haben.
Dazu wird verwiesen auf den Artikel von II. Kösllin u. a.
Phys. Stat. Sol. (a) 29.87 (1975) Seite 90. aus dem ersichl-
1W lieh ist. »dal! sich die Reflexion und die Transmission
einer Indiiimoxidschichl nicht im sichtbaren Bereich (0.4 bis O.b (im), ganz gleich, in welchem Maß sie dotiert sind,
verändern. Diese Bedingung kann nur erfüllt werden, wenn der Brechungsindex gleich bleibt.«
Vy Dies ist nicht überraschend, weil das Zinn, das das In-Oi dotiert, sieh in diesem Material in Oxidform wiederfindet: SnO.·. Nach I landbook of Chemistry and Physics. 1480 — 81. Seite B 159, ist der Brechungsindex von SnO gleich 1.947.
Vy Dies ist nicht überraschend, weil das Zinn, das das In-Oi dotiert, sieh in diesem Material in Oxidform wiederfindet: SnO.·. Nach I landbook of Chemistry and Physics. 1480 — 81. Seite B 159, ist der Brechungsindex von SnO gleich 1.947.
Wi Der Brechungsindex von In.-Oi isl nach Transparent.
Conductive Coatings of Indium Oxide von Dr. E. 11. CÜI-lerv.
Information Display. |an./Eeb. 1972. gleich 2.0: ein Weil, der dem Wert 1,997 von SnO.. äußerst nahekommt.
Bei einer mit Antimon dotierten SriOj-Schicht sind
tlie Bedingungen identisch, weil der Brechungsindex von
Aniiiiionoxid, Sb/O.i. nach Handbook of Chemistry and
Physk-s. 14XO-HI. Seite B 79. gleich 2,00 isl und dcrjeni-
ge von Sb2O ι gleich 2,087.
Weiterbildungen der Erfindung und das Verfahren /.uv Herstellung einer solchen passiven elektro-optischen
Anzeige/eile sind in den Unicrunsprüchcn angegeben,
s
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels des Erfindungsgcgenstandes
näher erläutert, lis zeigt
Fig. 1 einen Fchniu durch eine passive elekiru-optische
Anxeigezelle mit Flüssigkristall bekannter Art: und i<
>
Fig.2 einen Schnitt durch eine passive elektro-optische
AK7.cigC7.cllc. ebenfalls mit Flüssigkristall, entsprechend
der vorliegenden Erfindung.
Die in Fig. 1 dargestellte Anzcige/.elle umfaßt zwei
durchsichtige Platten aus Glas, eine Vorderpiaiie I und
eine Hinterplatie 2. Die Vorderp'.alte I trägt auf ihrer
Innenseite durchsichtige Elektroden und l.eitspuren. die in ihrer Gesamtheit mit 3 bezeichnet sind.
Die Hintcrplalte 2 trägt innen Gegenelektrode!! und
l.cilspurcn, die in ihrer Gesamtheit mit 4 bezeichnet nt
sind. Ein riüssigkrisifiii 5 is· zwischen den beiden !'!alien
1 und 2 angeordnet und wird durch einen Rahmen 6 aus
gesintertem Glas gehallen, das unter der Bezeichnung
GLASSFRITauf dem Markt bekannt ist.
Diese Zelle wird erhallen, indem man auf die beiden >">
Platlen 1 und 2 eine Schicht aus einem l.eitmaierial
aufbringt, beispielsweise mit Zinn gedoptes indiumoxid (In2O;), das man anschließend teilweise mil photochemischen
Mitteln angreift, so daß diese Schicht aus l.eiimaterial
nur an den Stellen erhallen bleibt, wo die Elektro- to den und die Leitspuren 3 bzw. 4 sich befinden sollen.
Da der Refraktionskoeffizient des Werkstoffes der Elektroden und Leitspuren 3 bzw. 4 und des Flüssigkristalls
5 nicht der gleiche ist, sind in den beiden !"älleri.
wenn man die Zelle durch die eine oder die andere der r> beiden Platten 1 und 2 betrachtet, die Elektroden und
Leitspuren entsprechend dem Einfallswinkel der Beobachtung sichtbar, selbst wenn die Zelle sich in Ruhe
befindet.
In dem Fan der Zelle entsprechend I' i g. 2. die eben- au
falls zwei Platten aus durchsichtigem Glas hai. die mit 7 bzw. 8 bezeichnet sind, trägt man auf diese beiden Platten
eine Schicht aus Metalloxid 9 bzw. IO auf. beispielsweise aus Indiumoxid (In2Oi). Um die Elektroden wu.\
l.eitspurcn zu erhallen, die in ihrer Gesamtheit mil Il ·!'>
für die Plane 7 und mit 12 für die Plane 8 be/eichnei
sind, setzt man die entsprechenden Bereiche der Schichten 9 und 10 einer ionischen Bestrahlung aus. beispielsweise
von Zinn-Ionen. Dieser Doping-Vorgang macht die Schichten 9 und IO in den behandelten Bereichen ίο
elektrisch leitend, ohne daß ihr Rcfruktionskoeffi/ient
merklich verändert wird. Der Rcsl der beiden Schichten
9 und 10 bleibt isolierend.
Diese Anordnung hat zur Folge, daß die Elektroden
oder Gegeneleklroden nicht sichtbar sind, wenn sich die Yi
Zelle in Ruhe befindet, ganz gleich, wie der Einfallswinkel der Beobachtung verläuft.
In einer Abwandlung können die Schichten 9 und IO
auch aus Zinnoxid (SnO2) bestehen, wobei sie in diesem Fall mit Hilfe von Antimon-Ionen gedopi werden, mi
Es ist zu bemerken, daß die Zelle auch nur eine ihrer
beiden durchsichtigen Platten haben kann, deren Elektroden
und l.eitspurcn ein integrierender licsiandleil der Isolierschicht sind. Dabei wird vorausgesetzt, daß
diese Platte dann die Vordcrplatte der Zelle bildet. hr>
Hier/11 I B'iatl Zeichnungen
Claims (12)
1. Passive elektro-optische Anzcigczcilc. bestehend
aus mindestens einer Platte aus einem ersten durchsichtigen Werkstoff, die auf ihrer Innenfläche
Elektroden und Leiterbahnen trägt, die aus einem zweiten durchsichtigen Werkstoff bestehen, d a durch
gekennzeichnet, daß die von den
Elektroden und den Leiterbahnen nicht bedeckten Bereiche der Innenfläche von einer Schicht aus einem
isolierenden und durchsichtigen Werkstoff bedeckt sind, der den gleichen Brechungsindex und die
gleiche Dicke wie der Index und die Dicke des zweiten
Werkstoffs hat.
2. Anzeigezeile nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet,
daß die Elektroden und Leiterbahnen aus gedopten Bereichen der durchsichtigen Isolierschicht
bestehen.
3. Anzeügczcllc nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet,
daß dip durchsichtige Isolierschicht aus Metalloxid besteht.
4. Anzeigczelle nach Anspruch 1 und 3. dadurch gekennzeichnet, daß die durchsichtige Isolierschicht
aus Zinnoxid besteht.
5. Anzeigezclle nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Dopen der durchsichtigen
Isolierschicht durch Antimon-Ionen gewährleistet ist.
6. Anzeigczelle nach Anspruch 1 und 3. dadurch gekennzeichnet, daß die durchsichtige Isolierschicht
aus Indiumoxid bestell.
7. Anzcigezelle nach Anspruch 1 bis 3 und b. dadurch gekennzeichnet, daß d: ι Dopen der durchsichtigen
Isolierschicht durch Zinn-Ionen gewährleistet ist.
8. Verfahren zur Herstellung einer An/.cige/elle
nach Anspruch I. dadurch gekennzeichnet, daß man auf die Platte aus durchsichtigem Werkstoff eine
durchsichtige Isolierschicht aufbringt und dann die Isolierschicht durch ionische Implantation in den Bereichen,
die die Elektroden und die Leiterbahnc-n
bilden sollen, dopl. so daU diese Bereiche elektrisch
leitfähig gemacht werden.
9. Verfahren nach Anspruch 8. dadurch gekennzeichnet,
daß die durchsichtige Isolierschicht aus Zinnoxid hergestellt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 8 und 9. dadurch gekennzeichnet,
daß zur Durchführung des Dopens der durchsichtigen Isolierschicht Antimon-Ionen
verwende! werden.
11. Verfahren nach Anspruch 8. dadurch gekennzeichnet,
daß die durchsichtige Isolierschicht aus Indiumoxid hergestellt wird.
12. Verfahren nach Anspruchs und II. dadurch
gekennzeichnet, daß zur Durchführung ties Dopens
der durchsichtigen Isolierschicht /inn-Ionen verwendet
werden.
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