DE2539036A1 - Verfahren und werkzeug zum aufnehmen und transportieren von halbleitersubstratscheiben sowie im zusammenhang mit diesem werkzeug anzuwendendes magazin - Google Patents
Verfahren und werkzeug zum aufnehmen und transportieren von halbleitersubstratscheiben sowie im zusammenhang mit diesem werkzeug anzuwendendes magazinInfo
- Publication number
- DE2539036A1 DE2539036A1 DE19752539036 DE2539036A DE2539036A1 DE 2539036 A1 DE2539036 A1 DE 2539036A1 DE 19752539036 DE19752539036 DE 19752539036 DE 2539036 A DE2539036 A DE 2539036A DE 2539036 A1 DE2539036 A1 DE 2539036A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- support plate
- magazine
- grooves
- gripping tool
- carrier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks
- H01L21/6779—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks the workpieces being stored in a carrier, involving loading and unloading
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/137—Associated with semiconductor wafer handling including means for charging or discharging wafer cassette
- Y10S414/138—Wafers positioned vertically within cassette
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/141—Associated with semiconductor wafer handling includes means for gripping wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Description
tiiti £ September 1975
Ing. H. MITSCHERLICH
Ing. K. GUNSCHMANN
ΐ")Π"ΜΪο0;ΒΕίΕβ8 Patentanmeldung
CHEMICAL REACTOR EQUIPMENT, Roskilde, Dänemark
Nr. 62 Haandvaerkervej
Vorfahren und Werkzeug zum Aufnehmen und Transportieren von Halbleiter
substratscheiben sowie im Zusammenhang mit diesem Werkzeug anzuwendendes Magazin
Pie vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und ein Werkzeug
zum Aufnehmen und Transporti eren von Halbleitersubstratscheiben
unter Ausnutzung des aus der Physik wohlbekannten Bernoulli sehen Prinzips, nach welchem man einen flachen, scheibenförmigen
und im wesentlichen planen Gegenstand ohne physische
Berührung an eine Tragplatte angezogen halten kann, in der eine Düse mündet, durch welche ein Luftstrom ausgeblasen wird, der
sich wie ein Kissen im Zwischenraum zwischen der Tragplatte und deii Gegenstand ausbreitet, so dass in diesem Zwischenraum ein Unterdruck
entsteht, wodurch der Gegenstand aufgrund des atmosphärischen Druckes, der auf die"andere Seite des Gegenstandes, der
von der Tragplatte abgekehrt ist, einwirkt, an die Tragplatte angezogen
gehalten wird.
Insbesondere betrifft die Erfindung die Ausnutzung dieser Technik beim Einsetzen von Halbleitersubstratscheiben in ein und
Herausnehmen derselben aus einem Magazin, in dem derartige .Scheiben
in parallelen Nuten angebracht sind, die durch Abstandsnchienen
voneinander getrennt sind. Ferner betrifft die Erfindung
ein zusammen mit einem Werkzeug der erwähnten Art anzuwendendes, verbessertes Magazin für Halbleitersubstratscheiben.
Die Herstellung von Halbleitern ist in technologischer Hinsicht
gekennzeichnet durch die Ausführung einer Reihe separater Prozessstufen
in der Form chemischer Behandlungen, wie z.B. Dotierung und Atzung, Wärmebehandlungen und physikalischer Prozesse, wie
7..B. Aufbringung von Maskierungsschichten, Aufdampfung, Ionzerstäubung,
Bestrahlung und ähnliches. Es ist wohlbekannt, dass die Produktion gewöhnlich durch Herstellung einer sehr grossen
Anzahl gleicher Bausteine oder Schaltungen auf einer gemeinsamen
Unterlage oder einem Substrat erfolgt, welches Substrat
609813/0699
dann in der letzten Herstellungsstufe in die einzelnen Bausteine zerschnitten wird. ■ ·
Da die genannten Prozessstufen gewöhnlich in verschiedenartigen
Umgebungen und unter Anwendung unterschiedlicher Ausrüstungen ausgeführt werden, besteht nach der benutzten Technologie ein
grosser Bedarf an rein mechanischer Hantierung derartiger Substrate, wobei das Substrat z.B. von seinem Platz auf einer Unterlage
in einer gegebenen Behandlungsstation aufgenommen, zu einer anderen Behandlungsstation transportiert und in dieser Pehandlungsstation
auf einer Unterlage angebracht werden soll.
Charakteristisch für die Herstellung ist ausserdem, dass viele der
Prozessstufen Oberflächenbehandlungen sind, die auf derselben .Seite
des gewöhnlich scheibenförmigen Substrats vorgenommen werden,
und zwar wird zu diesem Zweck das Substrat in den BehändlungnStationen
so auf einer planen und festen Unterlage angebracht, dass die betreffende Seite, die im folgenden mit Oberseite bezeichnet
wird, nach oben gekehrt ist.
Infolge der sehr feinen und verhältnismässig komplizierten Herstellung
ist die betreffende Seite eines Halbleitersubstrats äusserst empfindlich gegen mechanische Beanspruchungen, wie z.B. die Hantierung
des Substrats mit Hilfe von Werkzeugen, sowie gegen chemische
Angriffe in denjenigen Zeiträumen, die zwischen den einzelnen Prozessstufen liegen. Dies macht sich, je näher die
Schlussphasen der Herstellung rücken, in welchen das scheibenförmige
Substrat oft eine sogenannte Dünnfilmstruktur trägt, in wachsendem
Umfang geltend.
Die bisher am häufigsten benutzten Werkzeuge zum obengenannten Hantieren, d.h. Aufnehmen und Transportieren dünnfilmbeschichteter
Halbleitersubstrate,sind Pinzetten oder Zangen an sich bekannter Ausgestaltung gewesen, die das Substrat an beiden Seiten
anfassen. Mit einer Pinzette ist es möglich, ein Substrat, das in obengenannter Weise auf einer festen Unterlage in einer Behandlungsvorrichtung liegt, aufzunehmen und :es in einem Stan-
80 9 813/0699
rtnrdmagazin anzubringen, in dem Substratscheiben Fläche an Fläche
in individuellen Nuten angebracht sind, die durch Abstandsschi
enen voneinander getrennt sind. Ebenso ist es möglich, ein gegebenes Substrat aus einem Magazin zu entnehmen und es mit
neiner Oberseite nach oben zeigend auf einer festen Unterlage in
einer Behandlungsvorrichtung anzubringen. Bei solchen Prozessstufen,
in denen die Behandlung aus einem Eintauchen von Substraten in ein Bad mit z.B. einem Ätzmittel oder einem Reinigungsmittel
besteht, kann während der Behandlung das Magazin selbst aus Halter für eine Anzahl von Substraten dienen.
Pas Hantieren von Substraten mit Hilfe von Pinzetten birgt jedoch,
ausser dem Nachteil, dass man notwendigerweise mit einem
Teil der Pinzette unter das Substrat greifen muss, eine erhebliche Gefahr, dass die empfindliche Oberfläche des Substrats beschädigt
wird, auf welcher durch die Behandlungen, die das Substrat bereits durchgemacht hat, verschiedene Teile von Bausteinen
oder Schaltungen hervorgebracht sein können. Da Halbleitersubstrate
zusätzlich sehr glatte Oberflächen haben, führt selbst eine geringfügige Beschädigung derjenigen Flächenteile, an denen
eine Pinzette an ein Substrat angesetzt wird, eine grosse
Gefahr für Verluste und eine dadurch bewirkte Zerstörung des Substrats mit sich. In der Praxis hat sich auch erwiesen, dass
gerade diese Hantierungsweise in der Produktion grosse Ausschussraten
bewirkt, die sich sogar bis zu 35$ belaufen.
Um diesen Nachteil zu beseitigen, ist vorgeschlagen worden, das Hantieren von Halbleitersubstraten mit Hilfe eines Vakuum-Ansaugwerkzeuges
erfolgen zu lassen, bei dem ein Mundstück, das in.it einer Saugvorrichtung verbunden ist, mit der Unterseite.des
Substrats, welches mechanische Berührung verträgt, in Kontakt gebracht wird und dieses während des Transports durch Saugwirkung
festhält. Da jedoch ein solches Mundstück, um eine Beschädigung der Oberseite des Substrats zu vermeiden, wie bereits
erwähnt, notwendigerweise an der Unterseite des Substrats angesetzt
werden muss, ist unmittelbar ersichtlich, dass die Anwendbarkeit dieser Methode dort stark beschränkt ist, wo es
6098 1 3/0699
darum geht, ein Substrat aufzunehmen und zu tranportieren, das nrj t der Unterseite nach unten gekehrt auf einer festen Unterlage
ruht. Ausserdem lässt sich ein Mundstück dieser Art aufgrund
der PlatzVerhältnisse nicht in ein Magazin für Substratschenben
einführen.
Aufgrund der offensichtlichen Nachteile dieser bekannten Methoden hat man sich j η den letzten Jahren stark dafür interessiert,
die Ausnutzung des eingangs erwähnten Dernoullischen Prinzips beim Ausnehmen und Transportieren von Halbleitersubstratscheihen
zu erproben, da man hierdurch die Substratscheibe von oben her, d.h. mit der empfindlichen Oberseite des Substrats zugekehrtem
Greifwerkzeug, würde aufnehmen können.
Tn einschlägiger Fachliteratur sind zahlreiche Vorschläge zur Lösung
der Probleme gemacht worden, mit denen die Ausnutzung des Bernoulli sehen Prinzips verbunden ist. In den meisten Fällen
beinhalten diese Vorschläge, ein manuell betätigtes Werkzeug mit einem flächen Träger anzuwenden, dessen Unterseite eine plane,
gewöhnlich kreisförmige Tragplatte mit einer Grosse bildet, die der Grosse der zu hantierenden Substratscheibe angepasst
ist-. Der Luftstrom, der den für die Anziehung einer Substratscbeibe
erforderlichen Unterdruck im Zwischenraum zwischen der r-cheibe und der Tragplatte erzeugen soll, wird gewöhnlich symmetrisch
oder balanciert ausgeblasen, und zwar entweder durch eine einzelne Düse, deren Achse rechtwinklig zur Tragplatte und durch
deren Mittelpunkt verläuft, oder durch einen ringförmigen, mit der Peripherie der Tragplatte konzentrischen Spalt oder eine Anzahl.
Düsen, deren Mündungen in einem den Mittelpunkt der Tragplatte
umgebenden Ring angeordnet sind.
Werkzeuge dieser Art sind u.a. in den USA-Patenten Nr. 3.425.736, 3.43I.OO9, 3.43Ö.660 und 3.466.079 sowie in Aufsätzen in der
Zeitschrift "IBM Technical Disclosure-Bulletin", Bd. 11, Nr. 2,
Juli I960, Seite 112, Bd. 14, Nr. Ö, Januar 1972, Seite 2311-2312,
und Bd. 15, Nr. 6, Januar 1973, Seite 2556-2557, vorgeschlagen worden.
609 813/0699
Diese Lösungen hatten jedoch das gemeinsam, dass sie aufgrund sehr grosser Schwierigkeiten mit der Erzielung eines genügend
sicheren Festhaltens einer Substratscheibe gegen Bewegungen in seitlicher Richtung in bezug auf die Tragplatte und rotierende
Bewegungen um deren Mittelpunkt in Wirklichkeit niemals praktische Anwendung gefunden haben. Diese.Schwierigkeiten sind
leicht verständlich, wenn man bedenkt, dass die Haftung der
Substratscheibe an der Tragplatte vollständig friktionslos ist, so dass die kleinste Ungenauigkeit in der symmetrischen Luftejektion
eine unvorhergesehene relative Bewegung zwischen Substratscheibe und Tragplatte bewirkt.
Das Festhalten gegen Bewegungen in rein seitlicher Richtung
lässt sich zwar im wesentlichen dadurch sicherstellen, dass man den Träger längs des gesamten Umfanges der Tragplatte mit Anschlägen
versieht. Hierdurch wird jedoch die Forderung nach einer ganz genauen Zentrierung des Trägers über 'der Scheibe gestellt,
wenn diese aufgenommen werden soll, was die Handhabung erschwert. Ausserdem wird selbst durch diese Massnahme keine Sicherheit dagegen
erreicht, dass die Scheibe eine rotierende Bewegung ausführt.
Bei gewissen der vorgeschlagenen Lösungen hat man deshalb auch ganz bestimmte Ausgestaltungen der benutzten Substratscheiben
vorgeschrieben, z.B. mit einem lokalen Einschnitt oder einer
Kerbe in der Peripherieder Scheibe, die mit einer Führung an
der Tragplatte zusammenwirken soll, so wie es z.B. im USA-Patent
Nr. 3.523.706 und im "IBM Technical Disclosure Bulletin",
Bd. l6, Nr. 7, Dezember 1973, Seite 2127, angegeben ist, wo ausser der balancierten Lüftejektion eine zusätzliche asymmetrische
oder unbalancierte Ejektion durch eine oder mehrere Düsen Anwendung findet, deren Mündungen gegen den Mittelpunkt der
Tragplatte versetzt sind, damit die Scheibe gedreht wird, bis die Führung an der Tragplatte in die Kerbe in der Peripherie der
Scheibe einrastet. Es ist ohne weiteres ersichtlich, dass eine Voraussetzung bezüglich einer bestimmten Ausgestaltung der Substratscheiben
die-praktische Anwendbarkeit des Werkzeuges hochgradig
einschränkt, da Substratscheiben in Standardausführung
609 813/0699
als kreisförmige Scheiben mit einem einzelnen geradlinigen Anschnitt der Peripherie geliefert werden, der die Kristallachsenorientierung
in der monolithischen Ilalbleiterstruktur angibt.
Tm USA-Patent Nr. 3.539.216 wird eine balancierte Lüftejektion
rechtwinklig zur· Tragplatte in Kombination mit einer unbalancierten Ejektion durch eine schräge Düse in Richtung zweier Anschläge
am Rand auf nur einer Seite einer deltaförmigen Tragplatte vorgeschlagen, die einen wesentlich kleineren Flächeninhalt
tils die zu hantierenden Scheiben hat. Uin eine ausreichende
Richtwirkung dieser schrägen Ejektion zu erhalten, v/enn gleichzeitig
eine balancierte Ejektion stattfindet, wird hier vorgeschrieben, dass die schräge Ejektion"unter einem sehr spitzen
Winkel erfolgt, der auf die Ebene der Tragplatte bezogen vorzugsweise nur 15 beträgt, was eine sehr hohe Herstellungsgennuigkeit
erfordert, weil gleichzeitig die Düsenachne genau in der
Synmetrieebene für die beiden Anschläge liegen muss. Diese Lösung gewährleistet deshalb keine ausrei.chende Sicherheit gegen
eine Rotation der Scheibe in bezug auf die Tragplatte, und ein einzelnes Paar Anschläge auf nur einer Seite der Tragplatte
reicht in der Praxis nicht aus, um ein Festhalten der Scheibe gegen Bewegungen in seitlicher Richtung sicherzustellen. Ausserdem
erfordert die geringe Grosse der Tragplatte dieses Werkzeugs eine Lüftejektion einer derartigen Grössenordnung, die für
die sehr empfindlichen Substratscheiben in sich selbst bereits schädlich sein kann. Ferner ist aufgrund der balancierten Luftejektion
ständig eine genaue Zentrierung der Tragplatte bei der Aufnahme einer Substratscheibe notwendig.
Die meisten der theoretisch vorgeschlagenen Lösungen haben ferner
gemeinsam, dass die betreffenden Werkzeuge nicht zum Einsetzen der Substratscheiben in die bzw. Herausnehmen derselben aus den
Magazinen benutzt werden können, in denen solche Scheiben gewöhnlich aufbewahrt werden, da die Anwesenheit von Anschlägen
auf allen Seiten der Tragplatte, wie erwähnt, eine genaue Zentrierung der Tragplatte über der Scheibe erfordert, was bewirkt,
dass sich der Träger des Werkzeugs nicht genügend weit in das
609813/0699
Fagazin hineinführen lässt. Dies stellt ein ernsthaftes Hindernis
für die praktische Anwendung derartiger Werkzeuge dar, da
das Einsetzen von Substratscheiben in und ihr Herausnehmen aus
Magazinen bei der Herstellung von Halbleitern eine der am häufigsten
vorkommenden Operationen ist. Um diesen Mangel zu beheben, w:ird im "TPM Technical Disclosure Bulletin", Rd. 16, Hr. 2,
Juli 1973, Seite 427-23,die spezielle Lösung vorgeschlagen, einem
Standardmagazin einen besonderen Einsetz- und Entnahmehalter vorzuschalten, in den sich ein Greifwerkzeug weit genug einführen
lässt. Vor der Entnahme von Substratscheiben lässt man
diese ra.it Hilfe der Schwerkraft aus dem Magazin in den besonderen
Halter hinübergleiten, dessen Nuten Fortsetzungen der Uuten
im Magazin darstellen. Auch diese Lösung, die die Ausführung eines
zeitraubenden zusätzlichen Arbeitsganges erfordert, hat sich
■in der Praxis keiner grösseren Ausbreitung erfreuen können.
Die Erfindung hat den Zweck, ein Verfahren und ein Werkzeug zum
Aufnehmen und Transportieren von Halbleitersubstratscheibon unter
Ausnutzung des Bernoulli sehen Pr.inzi pn anzugeben, insbesondere
znin Einführen solcher Scheiben in und Herausnehmen derselben
aus Magazinen der bereits erwähnten Art, durch welches Verfahren die praktischen Mängel der bisherigen Lösungen beseitigt werden,
r.o dass die Möglichkeit für ein berührungsfreies Herausnehmen
ans den Magazinen und Wiederanbringen der Scheiben in den Magazinen
ohne die Anschaltung spezieller Hilfsausrüstung an das Magazin gegeben wird. Ferner wird bezweckt,ein einfaches Werkzeug
hervorzubringen, welches sich ohne Schwierigkeiten mit ausreichender Genauigkeit herstellen lässt, um ein zuverlässiges
Festhalten und Aufnehmen einer Substratscheibe sicherzustellen, so dass diese sowohl daran gehindert wird, die Tragplatte des
Werkzeugs in seitlicher Richtung zu verlassen und um den Mittelpunkt der Tragplatte zu rotieren.
Ein weiterer Zweck besteht darin, ei.n zum Einführen in ein Magazin
ausgebildetes Werkzeug zu schaffen, welches dazu imstande ist, S\ibstratscheiben so festzuhalten, dass diese in lotrechter Richtung
aus einem Magazin herausgenommen werden körinen.
609813/0699
Schliesslich wird bezweckt, eine verbesserte Ausgestaltung eines zusammen mit dem vorgeschlagenen Werkzeug anzuwendenden Magazins
anzugeben, so dass ermöglicht wird, hinsichtlich Stichprobenkontrollen
Substratscheiben individuell aus beliebigen Nuten in einem Magazin herauszunehmen.
Jm Hinblick hierauf stellt die Erfindung ein Verfahren dar zum
einzelweisen Herausnehmen von Halbleitersubstratscheiben aus parallelen Nuten in einem Magazin mit Hilfe eines zum Einführen
in das Magazin ausgebildeten Trägers an einem Greif werk zeug,
das nach dem Bernoullischen Prinzip einen flachen, im wesentlichen
planen Gegenstand berührungslos angezogen halten kann an eine von der Unterseite des Trägers gebildete Tragplatte mit einer
dem Gegenstand angepassten Fläche, und zwar durch Ausblasen eines Luftstromes durch eine in der Tragplatte mündende Düse,
wobei der Gegenstand daran gehindert wird, die Tragplatte in seitlicher Richtung zu verlassen, nach weichern Verfahren man
den Träger des Greifwerkzeugs -so in das Magazin einführt, dass
seüne Tragplatte der Oberfläche einer Substratscheibe in einer
der Nuten des Magazins zugekehrt ist und sich innerhalb eines vorgeschriebenen Maximumabstandes von dieser Scheibe befindet,
daraufhin Luft durch die Düse ausströmen lässt und schliesslich das Werkzeug wjeder aus den Magazin herauszieht, dadurch gekennzeichnet,
dass das Werkzeug bis zu einer Tiefe in das Magazin eingeführt wird, in v/elcher sich die Düsenmündung in der Tragplatte in einem vorgeschriebenen Abstand vom Schwerpunkt der
herauszunehmenden Substratscheibe befindet, und dass durch die Düsenmündung ein richtungsbestimmter Luftstrom im wesentlichen
in einer mit der Entnahme richtung parallelen, rechtwinklig zur Tragplatte verlaufenden Symmetrieebene und unter einem vorgeschriebenen
Winkel in bezug auf eine Senkrechte zur Ebene der Tragplatte ausgeblasen wird, um die Substratscheibe zur Anlage
gegen einen Anschlag am in der Entnahmerichtung vorderen Ende der Tragplatte zu bringen, bevor das Werkzeug mit der auf diese
V/eise festgehaltenen Substratscheibe aus dem Magazin herausgezogen wird. j
609813/0699
Durch Ausblasen eines solchen richtungsbestimmten, schrägen Luftstromes wird erreicht, dass die Tragplatte nicht in bezug
auf die in einer Nut im Magazin angebrachte Substratscheibe zentriert werden braucht, da sie, wenn die Luft auszuströmen beginnt,
zuerst gegen den Anschlag gezogen wird. In der Praxis hat sich erwiesen, dass es deshalb ausreicht, den Träger nur so
weit in das Magazin einzuführen, dass sich die Düsenmündung lediglich ein kleines Stück über den der Entnahmeöffnung des Magazins
am nächsten liegenden Rand der Scheibe hinwegbewegt hat«.
Gerade durch diese einleitende Ziehbewegung wird auch von Anfang an eine sichere Plazierung der Substratseheibe in bezug
auf die Tragplatte erzielt, da die Substratscheibe allein unter dem Einfluss des unbalancierten, schräg ausgeblasenen Luftstromes
steht. Es steht dem natürlich nichts im Wege, dass der Träger, falls im Magazin genügend Platz dafür vorhanden ist, vso
v/ext in das Magazin hineingeführt wird, dass die Sub st rat scheibe ganz von der Tragplatte gedeckt wird, wenn die Tragplatte nur
eine derartige Ausdehnung besitzt, dass der für die einleitende Ziehbewegung'"erforderliche Platz vorhanden ist. In den meisten
Standardmagazi.nen besteht jedoch keine Möglichkeit hierfür,
v/eil die hinteren Ränder der Substratscheiben ein Stück hinter
den Enden der Substratscheibennuten liegen, wo die Nutendicke
und die Nutenweite dadurch zusätzlich reduziert sind, dass der Boden des Magazins durch Umbiegen der Seitenwände nach innen gebildet
wird.Es ist als wesentlicher Vorteil der Erfindung anzusehen, dass sie es ermöglicht, Substratscheiben auch aus derartigen
Standardmagazinen zu entnehmen.
Das erfindungsgemässe Verfahren kann ausgeübt werden mit Hilfe
eines Greifwerkzeugs zum Aufnehmen, Hantieren und Transportieren scheibenförmiger, mechanisch empfindlicher Gegenstände, insbesondere
Halbleitersubstratscheiben, in Übereinstimmung mit dein Bernoullischen
Prinzip, welches Werkzeug einen mit einem Griff verbundenen Träger umfasst, dessen Unterseite eine der .Oberflache
eines derartigen Gegenstandes gegenüber anzubringende Tragplatte bildet, in der eine Düse zum Ausblasen eines Luftstromes zwecks
609813/0699
Erzeugung eines Unterdruckes im Zwischenraum zwischen der Tragplatte
und dem Gegenstand mündet, wobei die Tragplatte mit Anschlägen
an den Rändern versehen ist, die den Gegenstand daran hindern, die Tragplatte in seitlicher Richtung zu verlassen.
Erfindungsgemäss ist dieses Werkzeug dadurch gekennzeichnet, dass in der Tragplatte eine einzelne schräggestellte Düse mündet,
deren Achse im wesentlichen in einer zur Tragplatte rechtwinklig verlaufenden Symmetrieebene liegt und einen vorgeschriebenen
Winkel mit einer Senkrechten zur Ebene der Tragplatte bildet, dass die genannten Anschläge an den Rändern einen Vor-
sprung an der Tragplatte, der am einen Ende der Tragplatte eine Begrenzungsfläche bildet, d.ie von der genannten Syrnmetrieebene
unter einem rechten Winkel geschnitten wird, sowie Anschläge am
gegenüberliegenden Ende der Tragplatte umfassen, dass die Achse der schräggestellten Düse auf die genannte Begrenzungsfläche
gerichtet ist und dass die Düsenmündung eine solche Lage hat,
dass die Grosse desjenigen Teiles der Fläche der Tragplatte, der zwischen einer zur genannten Symmetrieebene rechtwinklig
verlaufenden Linie durch den Mittelpunkt der Düsenniündung und dem genannten gegenüberliegenden Ende der Tragplatte liegt, wenigstens
der Hälfte der Grosse der dem aufzunehmenden Gegenstand
zugekehrten Oberfläche der Tragplatte entspricht.
Die Anwendung dieses Greifwerkzeugs ist an sich nicht auf die
Ausübung des erfindungsgemässen Verfahrens begrenzt, da es sich auch zum Aufnehmen und Transportieren von auf einer festen Unterlage
liegenden Substratscheiben benutzen lässt. Bei der Anwendung zusammen mit einem Magazin kann das Greifwerkzeug mit
rier genannten Symmetrieebene parallele, in Längsrichtung verlaufende
Führungen aufweisen zum Einführen des Trägers in ein Magazin mit parallelen, durch Abstandsschienen voneinander getrennte
Nuten für Halbleitersubstratscheiben bis zu einer vorgeschriebenen Einführtiefe und in einer solchen Weise, dass
sich die Düsenmündung der Tragfläche in einem vorgeschriebenen
Maximumabstand von einer in einer der Nuten des Magazins angebrachten
Halbleitersubstratscheibe befindet.
609813/0699
Jn Verbindung hiermit kann die Möglichkeit für eine individuelle
Entnahme von Suhstratscheiben aus beliebigen Nuten in einem Magazin, und zwar unabhängig von der Anwesenheit von Substratscheiben
in den benachbarten Nuten, erreicht werden. Um dies zu erzielen, ist erfindungsgemäss ein zusammen mit einem
Greifwerkzeug der obengenannten Ausgestaltung anzuwendendes Magazin
für Halbleitersubstratscheiben mit einer Anzahl paralleler
und an ihrem einen Ende offener Nuten, die durch Abstandsschienen voneinander getrennt sind, welche auf den Innenseiten zweier
fi.ich gegenüberliegender, im wesentlichen planparalleler Seitenwände
ausgebildet sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Nuten einen Abstand voneinander haben, der um so viel grosser als die
Dicke des Trägers des Greif Werkzeugs ist, dass der'Träger zwischen
benachbarten Nuten bis zur vorgeschriebenen Tiefe ins Magazin
eingeführt werden kann, ohne die Substratscheiben in diesen Nuten zu berühren, wobei das Magazin an den sich gegenüberliegenden
Seitenwänden mit Führungselementen zwischen den Nuton zum Zusammenwirken mit den Führungen am Greifwerkzeug versehen
i st.
Die Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnung
näher erklärt. Es zeigt
Fig. .1 und 2 eine erste Ausführungsform eines erfindungsgemässen
GreifWerkzeugs in Seiten- bzw. Stirnansicht,
Fig. 3 einen zum Greifwerkzeug nach Fig. 1 und 2 gehörenden Träger von der Unterseite,
Fig. 4 einen Längsschnitt durch den Träger entlang der Linie
TV-TV in Fig. 3,
Fig. 5 einen Ausschnitt eines Magazins für Halbleitersubstratscheiben
in Vorderansicht,
Fig. 6 einen Querschnitt des Magazins entlang der Linie VT-VI in Fig. 5,
Fig. 7 verschiedene Phasen bei der Entnahme einer Halbleitersubstratscheibe·
aus einem Magazin nach Fig. 5 und 6 mit Hilfe eines Werkzeugs nach Fig. 1-4,
Fig. # einen Träger einer zweiten Ausführungsform des Greifwerkzeugs,
6098 13/0899
Fig. ? einen Ausschnitt eines anderen Magazintyps für Halb-
1 oitersubstratscheiben zwecks Veranschaulichung des Zusammenwirkens
zwischen einem derartigen Magazin und dem Greifwerkzeug
nach Fig. #,
Fig. 10 einen Querschnitt eines Trägers einer dritten Ausführungsform
eines erf i.ndungsge massen Greif Werkzeugs,
Fig. 11 eine Ausführungsform eines erfindungsgemassen Magazins
zum Zusammenwirken mit einem Träger nach Fig. 10,
Fig. 12 und 13 einen Querschnitt durch einen Träger einer
weiteren Ausführungsform des erfindungsgemassen Werkzeugs bzw.
einen Ausschnitt einer Ausfuhrungsform des erfindungsgernässon
Magazins zum Zusammenwirken mit diesem Träger und
Fig. 14-1$ weitere Beispiele für Träger und hiermit zusammenwirkende
Ausführungsformen des erfindungsgemassen Magazins«
Die in Fig. 1-4 dargestellte Ausführungsform eines erfindungsgemiissen
Greifwerkzeugs umfasst auf an sich bekannte Weise einen in seiner Gesamtheit mit 1 bezeichneten Träger, dessen
Unterseite eine Tragplatte für die planen, scheibenförmigen Gegenstände, z.B. Halbleitersubstratscheiben, bildet, die sich
ohne physisch berührt zu werden mit Hilfe des Werkzeugs aufnehmen und transportieren lassen sollen, und zwar dadurch,
dass durch eine in der Tragplatte 2 mündende, in Fig. 4 gezeigte Düse 3 ein Luftstrom ausgeblasen wird, der sich wie ein
Kissen ausbreitet und hierdurch im Zwischenraum zwischen der Tragplatte und einem dicht an dieser liegenden scheibenförmigen
Gegenstand einen Unterdruck erzeugt. Wie aus Fig. 1 und
2 ersichtlich ist, erfolgt die Luftzufuhr zur Düse 3 durch eine Rohrverbindung 4 und einen Griff 5 mit einem manuell zu
betätigenden Ventil 6 zum Öffnen und Schliessen der Luftzufuhr.
Der Griff 5 hat einen Anschlussstutzen 7 und eine .Schlauchverbindung zu einem nicht eingezeichneten Luftvorrat.
Im ,Inneren des Trägers 1 wird der Luftstrom der Düse 3 durch einen Kanal Ö zugeführt.
Tn Übereinstimmung mit der Erfindung mündet in der Tragplatte
2 des Trägere 1 nur eine einzelne schräggestellte Düse 3, deren
609813/0699
Achse im wesentlichen in einer rechtwinklig zur Tragplatte 2 verlaufenden Symmetrieebene liegt, die in Fig. 4 der Zeichnungsebene
entspricht, und mit einer Senkrechten zur Ebene der Tragplatte einen vorgeschriebenen Winkel bildet.
Um zu verhindern, dass ein an die Tragplatte 2 angezogener Gegenstand
die Tragplatte in seitlicher Richtung verlässt, ist der Träger 1 mit von der Tragplatte 2 hervorspringenden Anschlägen
ausgebildet, die erfindungsgemäss teils einen rechtwinklig
zur Tragplatte 2 verlaufenden Anschlag 9, der am einen Ende der Tragplatte eine Begrenzungsfläche 10 bildet, die von
der obengenannten Symmetrieebene unter einem rechten Winkel geschnitten wird, teils am entgegengesetzten Ende der Tragplatte
2 Anschläge 11 und 12 umfassen, welche bei. der gezeigten Ausführungsform im wesentlichen punktförmig sind. Die
Achse der schräggestellten Düse 3 ist auf die Eegrenzungsfläche 10 gerichtet, und die Mündung der Düse 3 in der Tragplatte 2
hat eine solche Lage, dass die Grosse desjenigen Teils der Fläche der Tragplatte, der zwischen der Düsenmündung und den
Anschlägen 11 und 12 liegt, wenigstens einem Drittel der Grosse eines scheibenförmigen Gegenstandes entspricht, der mit Hilfe
des Werkzeugs aufgenommen werden soll.
Das Aufnehmen eines scheibenförmigen Gegenstandes, wie z.B. einer Halbleitersubstratscheibe, mit Hilfe des Werkzeugs
nach Fig. 1-4 erfolgt dadurch, dass der Träger 1 soweit über die Substratschei.be geführt wird, bis sich die Mündung der
Düse 3 in einem vorgeschriebenen Abstand vom Schwerpunkt der
Scheibe befindet. Wenn man dann Luft durch die Düse 3 ausströmen lässt, wird die Substrat scheibe zuerst durch die richtungsbestimmte
Lüftejektion in Richtung der Begrenzungsfläche
10 gezogen, wodurch von Anfang an eine sichere Plazierung der Scheibe in bezug auf die Tragplatte 2 erzielt wird, so dass
die Scheibe, wenn das Werkzeug dann unter fortgesetztem Ausströmen
von Luft durch die Düse 3 angehoben wird, um die Scheibe zu transportieren, gegen eine seitliche Bewegung in bezug auf
die Tragplatte 2 und im wesentlichen auch gegen eine rotierende Bewegung um deren Mittelpunkt festgehalten wird.
609 813/0699
Damit diese Wirkung erreicht v/erden kann, muss die Luftejektion durch die Düse 3 teils die genannte einleitende Ziehbewegung
veranlassen, teils im Anschluss daran für eine zuverlässige Anziehung der Scheibe an die Tragplatte 2 in Übereinstimmung
mit dem Bernoullischen Prinzip sorgen können.
Innerhalb gewisser Grenzen ist es möglich, diejenigen Parameter zu variieren, die für das Anziehungs- und Halte vermögen bestimmend
sind, und zwar die Neigung der Düse 3 in bezug auf die Tragplatte 2, die durch den Winkel zwischen der Düsenachsc
und einer Senkrechten zur Ebene der Tragplatte bestimmt ist, und den Initialabstand zwischen der Mündung der Düse 3 und
dem Schwerpunkt der aufzunehmenden Substratseheibe. Praktische
Versuche haben ,e.rgeben, dass der genannte Düsenwinkel vorzugsweise wenigstens 20 und höchstens 50 und dass der genannte
Initialabstand wenigstens 15$ und höchstens 4^$ des kleinsten
Quermasses der Substratscheibe betragen muss, das aufgrund des normalerweise vorhandenen, geradlinigen Anschnitts an der
Peripherie der Scheibe etwas kleiner als der Durchmesser der im übrigen kreisförmigen Scheibe ist.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 1-4 wurde darauf Gewicht gelegt,
ein gutes Ziehvermögen zu erreichen, was einein grossen
Initialabstand zwischen der Mündung der Düse 3 und dem Schwerpunkt
der Substratscheibe entspricht, z.B. von l+&fyt des kleinsten
Quermasses der Substratscheibe. Zu diesem Zweck wurde
zwischen der Achse der Düse 3 und der Senkrechten zur Ebene der Tragplatte 2 ein Winkel von 45° gewählt.
Der recht grosse Initialabstand ermöglicht eine verhältnismässig
lange Ziehbewegung und damit das Aufnehmen einer Substratscheibe, die in ihrer Ausgangsposition mit einem Teil ihrer Fläche
ausserhalb des Trägers liegt. In Verbindung hiermit ist bei. dieser Ausführungsform dafür gesorgt, dass physische Berührung
zwischen der Substrat sehe ibe und den Anschlägen 11 und. 12 während
dieser Ziehbewegung vermieden wird. Beispielsweise hat der Vorsprung 9 rechtwinklig zur Eegrenzungsfläche 10 eine plane
Auflagefläche 13, und zwar in einem Abstand von der Ebene der
60981 3 /0699
Tragplatte 2, der dem vorgeschriebenen Maximumabstand zwisehen ·
der Tragplatte 2 und einer Substratscheibe beim Aufnehmen der
letzteren von einer festen Unterlage entspricht, die von der Auflagefläche 13 berührt wird, und die Ebene der Tragplatte 2
steigt in bezug auf die Auflagefläche 13 schräg an, so dass die Anschläge 11 und 12 von der festen Unterlage abgehoben sind.
"Eine zusätzliche Sicherheit dafür, dass sich die Substratscheibe an den Anschlägen 11 und 1? vorbeibewegen kann, ohne sie zu berühren,
wird dadurch erreicht, dass diese Anschläge eine, von
der Ebene der Tragplatte aus gerechnet, geringere Höbe haben FiIs der Vorsprung 9, obwohl diese Höhe trotzdem gross genug
ε-ein muss, um die seitliche Begrenzung der Bewegungsmöglichkeiten
für die an die Tragplatte 2 angezogene Substrat scheibe zu
sichern.
Die in Fig. 1-4 wiedergegebene Ausführungsform eignet sich demnach
vorzüglich zum Aufnehmen einer Substratscheibe, die sich
auf einer festen Unterlage, z.B. einem Tisch, befindet, i ride ία
der für ein sicheres Aufnehmen vorgeschriebene Abstand zwischen der Tragplatte 2 und der Substratscheibe durch die Anbringung
des Trägers 1 mit der Auflagefläche 13 gegen die feste Unterlage
von vornherein festgelegt wird.
Darüber hinaus eignet sich diese Ausführungsform besonders zum Einsetzen von Substratscheiben in ein und zum Herausnehmen derselben
aus einem Standardmagazin für derartige Scheiben von
der Art, die in den Fig. 5 und 6 gezeigt ist.
Ein solches, in seiner Gesamtheit mit 14 bezeichnetes Magazin
enthält eine Anzahl paralleler Nuten 15 zur Anbringung von Substratscheiben, von welchen eine gezeigt und mit 16 bezeichnet
ist, welche Nuten durch an den Innenseiten zweier sich gegenüberliegender, im wesentlichen paralleler Seitenweinde
l£ und 19 des Magazins ausgebildete Abstandsschienen 17 voneinander
getrennt sind. Um bei gewissen Herstellungsstufen der Substratscheiben auch als Halter für diese Anwendung finden
zu können, ist das Magazin 14 nicht nur auf der Vorderseite, wo die Scheiben 16 aus dem Magazin herausgenommen werden können,
sondern a\ich auf der Rückseite oder am Boden offen, wo
609813/0699
die Scheiben l6 dadurch daran gehindert werden, das Magazin
auf dieser Seite zu verlassen, dass die Seitenwände 1Ö und 19 mit Teilen l$a und 19a nach innen urngebogen sind. Infolge dieser
Ausgestaltung werden die Nuten 15 in Richtung des Magazinbodens enger, und zwar sowohl bezüglich ihrer Weite, d.h. des
Abstandes zwischen den Seitenwänden 1Ö und 19, als auch bezüglich ihrer Dicke, was eine Begrenzung der möglichen Einführtiefe
für den Träger eines Greifwerkzeugs bewirkt und damit die Anwendung
der ei ngangs beschriebenen, bisher vorgeschlagenen Greifwerkzeuge ausschliesst, die eine genaue Zentrierung der
Tragplatte über einer aufzunehmenden Substratscheibe erfordern.
Tiit der in Fig. 1-4 gezeigten Aiisfuhrungsforrn-.des erfindun^sge-
»lässert (Ireifwerkzeugs ist es ohne Schwierigkeiten möglich,
Suhstratscheiben, die mit 16 bezeichnet sind, aus einem Standardmagazin
der in den Fig. 5 und 6 gezeigten Ausgestaltung so zu entnehmen, wie es in Fig. 7 näher veranschaulicht ist, welche
Figur vier mit a-d bezeichnete Phasen bei der Entnahme
einer Substratscheibe wiedergibt. Zum Einführen in die Nuten
15 des Hagazins 14 ist der Träger 1 des Greifwerkzeugs mit in
Längsrichtung verlaufenden und mit der Symmetrieebene parallelen Führungen versehen, die in der vorliegenden Ausführungsform, wie aus Fig. 1-3 ersichtlich ist, die Form von Führungsflossen 20 und 21 längs zweier sich gegenüberliegender Seiten
des Trägers 1 besitzen. Mit Hilfe dieser Führungen kann der Träger 1, wie in Fig. 6 angedeutet ist, in die Nut im Magazin
J4 eingeführt werden, die unmittelbar über der herauszunehmenden
Substratscheibe 16 liegt, falls diese betreffende Nut frei
ist. Wie aus den in Fig. 7 veranschaulichten Phasen ersichtlich ist, bewegt sich die Substratscheibe 16 dank der Ausgestaltung
des Trägers 1 mit der schrägen Tragplatte 2 und den verhältnismässig ni.edrigen Anschlägen 11 und 12 in der ersten Phase
der Entnahmebewegung an den Anschlägen 11 und 12 vorbei, ohne diese zu berühren, indem gleichzeitig mit der durch das Ausblasen
der Luft durch die Düse 3 verursachten Anziehung der Substratseheibe 16 an die Begrenzungsfläche 10 ein Anheben
des in der Entnahmerichtung vorderen Endes der Substratscheibe
16 in Richtung Tragplatte 2 erfolgt, so dass die Substratschei-
609 813/0699
be in der Nut 15 eine Kippbewegung ausführt, durch die sich das in der Entnahmerichtung hintere Ende der Substratscheibe an
den Anschlägen 11 und 12 vorbeibewegen kann, ohne diese zu berühren.
In den nachfolgenden Phasen wird die Ziehbewegung fortresetzt, und wenn die Substrats ehe ibe in Richtung der Begi-enzungsfläche
auf ihren Platz gezogen worden ist, wird auch ihr hinteres Ende angehoben und legt sich zwischen die in Fig. 3 gezeigten
Anschläge 11 und 12.
Zur Anwendung im Zusammenhang mit anderen Typen von Magazinen
nii t planparallelen Seitenwänden, bei denen sowohl die V/ei te als
auch die Dicke der Nuten auf der gesamten Länge derselben konstant sind", kann das erfindungsgemässe Greif werkzeug, wie in
Fig. f* gezeigt, mit kürzeren Führungen 20a und 21a ausgebildet
werden, so dass die Anschläge 11 und 12 beim Einführen des Trägers
1 in eine Nut 22 in einem derartigen Magazin 23, wie :i η Fig. 9 gezeigt, hinter dem hinteren Rand einer mit 24 bezeichneten
Substratscheibe angebracht werden. Da die Tragplatte 2 des Trägers 1 ständig so ausgebildet wird, dass sie eine einleitende
Ziehbewegung zum Fixieren der Substratseheibe in bezug
mif die Tragplatte ermöglicht, kann bei dieser Ausführungsform
ein Bewegung der Substratscheibe gegen die Begrenzungsfläche
aus reichendes Ziehvermögen mit einem kleineren
Uinkel zwischen der Achse der Düse 3 und der Senkrechten
zur Ebene der Tragplatte 2 als bei der Ausführungsform nach Fig. 1-4, z.B. 22° erhalten. Hierdurch wird, wie
in Fig. 9 angedeutet, ein Entnehmen von Substratscheiben aus
einem Magazin in lotrechter Richtung ermöglicht.
V/ahrend die bisher beschriebenen Ausführungsformen des Greif-Werkzeugs
allein das Entnehmen von Substratscheiben aus einem Tagazin in strenger Reihenfolge vom einen Ende des Magazins
zum anderen ermöglichen, da die Voraussetzung für das Einführen
des Trägers 1 ist, dass im Magazin unmittelbar über der Nut mit der zu entnehmenden Substratscheibe eine freie Nut ist,
wird einem besonderen Aspekt der Erfindung gemäss auch die
Möglichkeit für ein Entnehmen einer Substratseheibe mit einer
beliebigen Position in einem Magazin unabhängig von der Anwe-
609813/0699
senheit von Substratscheiben in den benachbarten Nuten geschaffen,
und zwar durch eine derartige, einander entsprechende Ausgestaltung der Führungselemente im Kagazin und der Führungen am
Träger des Greifwerkzeugs, dass sich der Träger zwischen zwei benachbarten Nuten einführen lässt, ohne die Substratscheiben
in einer dieser Nuten zu berühren. In Fig. 10-lö sind eine
Reihe Beispiele für derartige, einander entsprechende Ausgestaltungen eines Trägers und eines Magazins veranschaulicht.
Fig. 10 zeigt beispielsweise im Querschnitt eine Ausführungsform
eines Trägers 25, bei der die genannten Führungen von Führungsflossen 26 und 27 gebildet werden, die eine grössere
Dicke als diejenigen der vorher".beschriebenen Ausführungsformen haben, und zwar ist die Dicke der Führungen grosser
als die Dicke der Nuten in dem in Fig. 11 gezeigten Magazin 2$, in das sich der Träger 25 einführen lassen soll. An den
Innenseiten der Seitenwände 29 und 30 des Magazins 2β wind
ansser den Nuten 31 für die Substratscheiben zwischen diesen
Muten noch Führungsnuten 32 ausgebildet, deren Breite der
Dicke der Führungen 26 und 27 in Fig. 10 angepasst ist. Hierdurch kann der Träger 25 mit den Führungen 26 und 27 allein
in diese Führungsnuten 32 eingeschoben v/erden, nicht aber in
die Nuten 31·
Bei der Ausführungsform nach Fig. 12 ist der Träger 33 des Werkzeugs, der im übrigen den vorher gezeigten Trägern entspricht,
so dimensioniert, dass die Breite zwischen den Λχιο-senkanten
der Führungen 34 und 35 grosser ist als der Durchmesser
der Substratscheiben 36, die mit Hilfe des Werkzeugs
aufgenommen werden sollen. Dementsprechend sind im Magazin 37 in Fig. 13 auf den Innenseiten der Wände 3ö und 39 zwischen
den Nuten 40 Führungsnuten 41 ausgebildet, die eine grössere
Tiefe als die Nuten 40 haben. Auch bei dieser Ausführungsform wird somit ein verkehrtes Einführen des Trägers verhindert,
da dessen Führungen nicht in die Nuten des Magazins hineinpassen.
Wie den Fig. I4 und 15 zu entnehmen ist, kann die relative
609813/0699
Führung zwischen dem Träger und dem Magazin auf umgekehrte V/eise a\jch dadurch erreicht werden, dass die Führungen am
Träger 42 von Führungsnuten 43 und 44 gebildet werden, während
im Magazin 45 auf den Innenselten der Wände 46 und 47
zwischen den Nuten 4$ hierzu passende Führungsschienen 49 vorgesehen
werden.
Schliesslich brauchen die Führungselemente des Magazins, wie in
Fig. 16~1# gezeigt, nicht auf den Innenseiten der Wände ausgebildet
zu sein. Im hier gezeigten Beispiel ist das Werkzeug n.it Gabelschenkeln 51 und 52 ausgestaltet, die auf je einer
Heite von und parallel mit dem Träger 50 verlaufen, der im
übrigen den vorher beschriebenen Ausführungsfornien entsprechen
bann. Die Führung des Trägers während des Einführens in ein Magazin wird hier mit Hilfe von Führungen 53 und 54 erreicht,
die an den dem Träger 50 zugekehrten Innenseiten der Gabelschenke]. 51 und 52 ausgebildet sind, und zur Aufnahme dieser
Führungen hat das Magazin 55, wie in Fig. 18 gezeigt, Führungsnuten 56, die mit korrekter Lage in bezug auf die Nuten 59
auf den Aussen-seiten der Wände 57 bzw. 5ö ausgebildet sind.
609813/0699
Claims (20)
- PatentansprücheΛ. Verfahren zum einzelweisen Herausnehmen von Halbleitersubstratscheiben aus parallelen Nuten in einem Magazin mit Hilfe eines zum Einführen in das Magazin ausgebildeten Trägers an einem Greifwerkzeug, das nach dem Bernoullischen Prinzip einen flachen, im wesentlichen planen Gegenstand berührungslos angezogen halten kann an eine von der Unterseite des Trägers gebildete Tragplatte mit einer dem Gegenstand angepassten Fläche, und zwar durch Ausblasen eines Luftstromes durch eine in der Tragplatte mündende Düse, wobei der Gegenstand daran gehindert wird, die Tragplatte in seitlicher Richtung zu verlassen, nach welchem Verfahren man den Träger des Greifwerkzeugs so in das Magazin einführt, dass seine Tragplatte der Oberfläche einer Substratscheibe in einer der Nuten des Magazins zugekehrt ist und sich innerhalb eines vorgeschriebenen Maximumab stand es von dieser Scheibe befindet, daraufhin Luft durch die Düse ausströmen lässt und schliesslich das Werkzeug wieder aus dem Magazin herauszieht, dadurch gekennzeichnet', dass das Werkzeug bis zu einer Tiefe in das Magazin eingeführt wird, in welcher sich die Düsenmündung in der Tragplatte in einem vorgeschriebenen Abstand vom Schwerpunkt der herauszunehmenden Substratscheibe befindet, und dass durch die Düsenmündung ein richtungsbestimmter Luftstrom im wesentlichen in einer mit der Entnahnierichtung parallelen, rechtwinklig zur Tragplatte verlaufenden Symmetrieebene und unter einem vorgeschriebenen Winkel in bezug auf eine Senkrechte zur Ebene der Tragplatte ausgeblasen wird, um die Substratscheibe zur Anlage1 gegen e'inen Anschlag am in der Entnahmerichtung vorderen Ende der Tragplatte zu bringen, bevor das Werkzeug mit der auf diese Weise festgehaltenen Substratscheibe aus dem Magazin herausgezogen wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der genannte vorgeschriebene Abstand wenigstens 15% und höchstens hP-% des kleinsten Quermasses der Substratscheibe und der genannte vorgeschriebene Winkel wenigstens 20° und höchstens 50° beträgt .609813/0699
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der genannte vorgeschriebene Abstand k&% des kleinsten Quermasses der Substratscheibe und der genannte vorgeschriebene Winkel 45 beträgt.
- 4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der genannte vorgeschriebene Abstand ungefähr 1/6 des kleinsten Quermasses der Substratscheibe und der genannte vorgeschriebene Winkel ungefähr 22° beträgt.
- 5. Greifwerkzeug zum Aufnehmen, Hantieren und Transportieren scheibenförmiger, mechanisch empfindlicher Gegenstände, insbesondere Halbleitersubstratscheiben, in Übereinstimmung mit dem Rernoullischen Prinzip,welches Werkzeug einen mit einem Griff verbundenen Träger umfasst, dessen Unterseite eine der Oberfläche eines derartigen Gegenstandes gegenüber anzubringende Tragplatte bildet, in der eine Düse zum Ausblasen eines Luftstromes zwecks Erzeugung eines Unterdruckes im Zwischenraum zw-3sehen der Tragplatte und dem Gegenstand mündet, wobei, die Tragplatte mit Anschlägen an den Rändern versehen ist, dio den Gegenstand daran hindern, die Tragplatte in seitlicher Richtung zu verlassen, dadurch gekennzeichnet, dass in der Tragplatte (2) eine einzelne schräggestellte Düse (3) mündet, deren Achse im wesentlichen in einer zur Tragplatte rechtwinklig verlaufenden Symmetrieebene liegt und einen vorgeschriebenen Winkel mit einer Senkrechten zur Ebene der Tragplatte bildet, dass die genannten Anschläge an den Rändern einen Vorsprung (9) an der Tragplatte, der am einen Ende der Tragplatte eine Begrenzungsfläche (10) : bildet, die von der genannten Symmetrieebene unter einem rechten Winkel geschnitten wird, sowie Anschläge (11, 12) am gegenüberliegenden Ende der Tragplatte umfassen, dass die Achse der schräggestellten Düse (3) auf die genannte Begrenzungsfläche (10) gerichtet ist und dass die Düsenmündung eine solche Lage hat, dass die Grosse desjenigen Teiles der Fläche der Tragplatte, der zwischen einer zur genannten Symmetrieebene rechtwinklig verlaufenden Linie durch den Mittelpunkt der Düsenmündung und609813/0699dem genannten gegenüberliegenden Ende der Tragplatte liegt, wenjgstens der Hälfte der Grosse der dem aufzunehmenden Gegenstand zugekehrten Oberfläche der Tragplatte entspricht.
- 6. Greif werkzeug nach Anspruch 5, dadurch gekennzei chnet, dass der genannte Vorsprung (9) rechtwinklig zur genannten Begrenzungsfläche eine plane Auflagefläche (13) hat, und zwar in einem Abstand von der Ebene der Tragplatte (2), der einem vorgeschriebenen Maximumabstand zwischen der Tragplatte und einem aufzunehmenden Gegenstand auf einer festen Unterlage entspricht, die von der Auflagefläche berührt wird.
- 7. -Greifwerkzeug nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Ebene der Tragplatte (2) in bezug auf die genannte Auflagefläche (13) schräg ansteigt, so dass die Anschläge (11, 12) an den gegenüberliegenden Rändern der Tragplatte von einer festen Unterlage, die von der Auflagefläche berührt wird, abgehoben sind.
- ^. Greif werkzeug nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die genannten Anschläge (11, 12) eine geringere Höhe haben als der genannte Vorsprung (9), so dass sie sich über einen aufzunehmenden Gegenstand auf einer festen Unterlage, die von der genannten Auflagefläche berührt wird, hinwegbewegen können, ohne diesen zu berühren.
- 9. Greifwerkzeug nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der genannte vorgeschriebene Winkel wenigstens 20° und höchstens 50° beträgt.
- 10. Greifwerkzeug nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der genannte vorgeschriebene Winkel 45° beträgt.
- 11. Greifwerkzeug nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der genannte vorgeschriebene Winkel 22° beträgt.
- 12. Greifwerkzeug nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass es mit der genannten Symmetrieebene parallele, in Längsrichtung609813/0699verlaufende Führungen (20, 21) aufweist zum Einführen des Trägers (1) in ein Magazin (14) mit parallelen, durch Abstandsschienen (Iß) voneinander getrennten Nuten (15) für Halbleiter substrat scheiben bis zu einer vorgeschriebenen Kinführtlefe und in einer solchen Weise, dass sich die Düsenmündung(3) der Tragfläche (2) in einem vorgeschriebenen Maximurnabstand von einer in einer der Nuten des Magazins angebrachten Ilalbleitersubstratscheibe befindet.
- 13. Greifwerkzeug nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die genannten Führungen (20, 21) die Form von Führungsflossen längs zweier sich gegenüberliegender Seiten des Trägers (1) haben und in die Nuten (15) des Magazins (14) für Halbleitersubstrat scheiben hineinpassen.
- 14. Magazin für Halbleitersubstratscheiben mit einer Anzahl paralleler und an ihrem einen Knde offener Nuten (31, 40, 46, 59), die durch Abstandsschieneη voneinander getrennt sind, die auf den Innenseiten zweier sich gegenüberliegender, im wesentlichen planparalleler Seitenwände (29, 30, 3ö, 39, 46, 47, 57, 5ί*) ausgebildet sind, welches Magazin für die Anwendung im Zusammenhang mit einem Greifwerkzeug nach Anspruch 1? gedacht ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Nuten (31, 40, 4ö, 59) einen Abstand voneinander haben, der um so viel grosser als die Dicke des Trägers (1) des Greif Werkzeugs ist, dass der Träger (1) zwischen benachbarten Nuten ins Magazin eingeführt werden kann, ohne die Substratscheiben in diesen Nuten zu berühren, wobei das Magazin an den sich gegenüberliegenden Seitenwänden mit Führungselementen (32, 41, 49, 56} zwischen den Nuten zum Zusammenwirken mit den Führungen am Greifwerkzeug versehen ist.
- 15. Greifwerkzeug nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die genannten Führungen (26, 27) die Form von Führungsflossen längs.zweier sich gegenüberliegender Seiten des Trägers (1) und eine Dicke haben, die wesentlich grosser als die Dicke der Nuten des Magazins ist.
- 16« Magazin nach- Anspruch 14 für die Anwendung im Zusammenhang809813/0699m:it dem Greif werkzeug nach. Anspruch 15, dadurch bekenn ze ich- . net, dass die genannten Führungselemente von Nuten (32) gebildet werden, die in den Abstandsschienen zwischen den Nuten (31) ausgebildet sind und eine Dicke bzw. Weite haben, die wesentlich grosser als die Dicke der Nuten (31) bzw. kleiner als die Weite der Nuten (31) ist.
- 17. Greifwerkzeug nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die genannten Führungen (34, 35) die Form von Führungsflossen längs zweier sich gegenüberliegender Seiten des Trägers (1) haben und dass der Abstand zwischen den parallelen Seitenkanten der Führungen grosser ist als die Weite der Nuten im Magazin.
- 1Ö. Magazin nach Anspruch 14 für die Anwendung im Zusammenhang mit dem Greifwerkzeug nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die genannten Führungselemente von Nuten (41) gebildet werden, die in den Abstandsschienen ausgebildet sind und grössere Weite haben als die Nuten (40) des Magazins.
- IQ. Greifwerkzeug nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die genannten Führungen (53, 54) an den einander zugekehrten Seiten von Gabelschenkeln (51, 52) ausgebildet sind, die auf je einer Seite und im Abstand vom Träger (1) ,liegen.
- 20. Magazin nach Anspruch 14 für die Anwendung im Zusammenhang mit einem Greifwerkzeug nach Anspruch 19, dadurch gekennzej chnet, dass die genannten Führungselemente (56) an den Aussenseiten der genannten, sich gegenüberliegenden Seitenwände (57, 5ß) ausgebildet sind.6098 1 3/0699Leerseite
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DK472874A DK472874A (da) | 1974-09-06 | 1974-09-06 | Fremgangsmade og apparat til beroringsfri handtering af sarbare, hovedsageligt skiveformede objekter, navnlig tyndfilmbelagte halvledersubstrater |
DK603974A DK603974A (da) | 1974-11-20 | 1974-11-20 | Kassette til opbevaring og transport af ensartede, hovedsageligt skiveformede objekter, navnlig tyndfilmbelagte halvledersubstrater |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2539036A1 true DE2539036A1 (de) | 1976-03-25 |
Family
ID=26067602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752539036 Pending DE2539036A1 (de) | 1974-09-06 | 1975-09-02 | Verfahren und werkzeug zum aufnehmen und transportieren von halbleitersubstratscheiben sowie im zusammenhang mit diesem werkzeug anzuwendendes magazin |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4002254A (de) |
JP (1) | JPS5176079A (de) |
DE (1) | DE2539036A1 (de) |
GB (1) | GB1513444A (de) |
NL (1) | NL7510568A (de) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2472446A1 (fr) * | 1979-12-27 | 1981-07-03 | Guy Mongodin | Appareil pour le transfert de plaquettes minces disposees verticalement dans un panier rainure de rangement |
DE3219502A1 (de) * | 1982-05-25 | 1983-12-01 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Vorrichtung zum automatischen transport scheibenfoermiger objekte |
EP0108807A1 (de) * | 1982-05-24 | 1984-05-23 | Proconics Int | Wafertransferapparat. |
EP0134621A1 (de) * | 1983-05-20 | 1985-03-20 | Proconics International Inc. | Vorrichtung zum automatischen, präzisen Transportieren von Gegenständen, beispielsweise von Halbleiterscheiben |
EP0339538A2 (de) * | 1988-04-25 | 1989-11-02 | Tegal Corporation | Spachtel für den Wafer-Transport |
EP0634787A1 (de) * | 1993-07-15 | 1995-01-18 | Applied Materials, Inc. | Substratfangvorrichtung und Keramikblatt für Halbleiterbearbeitungseinrichtung |
DE10062011A1 (de) * | 2000-12-13 | 2002-06-27 | Infineon Technologies Ag | Halteeinrichtung |
DE102004045957A1 (de) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Singulus Technologies Ag | Vorrichtung zum Halten und Transportieren eines Werkstücks mit einer ebenen Oberfläche |
DE102009047086A1 (de) * | 2009-11-24 | 2011-05-26 | J. Schmalz Gmbh | Druckluftbetriebener Greifer |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DK604074A (da) * | 1974-11-20 | 1976-05-21 | Chemical Reactor Equip As | Apparat til beroringsfri transport af sarbare, hovedsageligt skiveformede objekter, navnlig tyndfilmbelagte halvledersubstrater |
US4647266A (en) * | 1979-12-21 | 1987-03-03 | Varian Associates, Inc. | Wafer coating system |
US4578001A (en) * | 1980-12-29 | 1986-03-25 | Anchor Hocking Corporation | Air conveying hopper |
US4682928A (en) * | 1982-05-24 | 1987-07-28 | Proconics International, Inc. | Wafer transfer apparatus |
US4474397A (en) * | 1982-11-16 | 1984-10-02 | International Business Machines Corporation | Pick-up head utilizing aspirated air flow |
US4496180A (en) * | 1983-07-20 | 1985-01-29 | Cincinnati Milacron Industries, Inc. | Vacuum handling apparatus |
US4502721A (en) * | 1984-01-30 | 1985-03-05 | Bristol-Myers Company | Gripping device |
US5067762A (en) * | 1985-06-18 | 1991-11-26 | Hiroshi Akashi | Non-contact conveying device |
US4620738A (en) * | 1985-08-19 | 1986-11-04 | Varian Associates, Inc. | Vacuum pick for semiconductor wafers |
US4773687A (en) * | 1987-05-22 | 1988-09-27 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Technologies, Inc. | Wafer handler |
US4984954A (en) * | 1988-04-25 | 1991-01-15 | Warenback Douglas H | Spatula for wafer transport |
US4900214A (en) * | 1988-05-25 | 1990-02-13 | American Telephone And Telegraph Company | Method and apparatus for transporting semiconductor wafers |
FR2637214B1 (fr) * | 1988-10-03 | 1990-12-21 | Cogema | Prehenseur pneumatique |
US5580112A (en) * | 1995-05-10 | 1996-12-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Vacuum pencil having a short tip with an abutment means |
US6024393A (en) * | 1996-11-04 | 2000-02-15 | Applied Materials, Inc. | Robot blade for handling of semiconductor substrate |
US6168697B1 (en) | 1998-03-10 | 2001-01-02 | Trusi Technologies Llc | Holders suitable to hold articles during processing and article processing methods |
US6095582A (en) * | 1998-03-11 | 2000-08-01 | Trusi Technologies, Llc | Article holders and holding methods |
US5967578A (en) * | 1998-05-29 | 1999-10-19 | Sez North America, Inc. | Tool for the contact-free support of plate-like substrates |
US6073828A (en) * | 1998-06-30 | 2000-06-13 | Lam Research Corporation | End effector for substrate handling and method for making the same |
US6315342B1 (en) * | 1999-12-23 | 2001-11-13 | Abb T&D Technology Ltd. | Apparatus and method for feeding of parts with open internal geometries using pressurized gas |
JP4391655B2 (ja) | 2000-02-22 | 2009-12-24 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | エアピンセット |
DE10247051A1 (de) * | 2002-10-09 | 2004-04-22 | Polymer Latex Gmbh & Co Kg | Latex und Verfahren zu seiner Herstellung |
US7100954B2 (en) * | 2003-07-11 | 2006-09-05 | Nexx Systems, Inc. | Ultra-thin wafer handling system |
US20070000527A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Aegerter Brian K | Workpiece support for use in a process vessel and system for treating microelectronic workpieces |
CN104934504A (zh) * | 2015-07-03 | 2015-09-23 | 陈�光 | 一种硅片倒片机构 |
CN107403749B (zh) * | 2017-08-03 | 2023-04-25 | 宁波知了智能科技有限公司 | 直驱电机取晶装置 |
CN112810725B (zh) * | 2021-02-04 | 2024-01-23 | 逸美德科技股份有限公司 | 移动单元用的定位承载机构和固定方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3516386A (en) * | 1965-07-16 | 1970-06-23 | Boeing Co | Thin film deposition fixture |
US3645581A (en) * | 1968-11-26 | 1972-02-29 | Ind Modular Systems Corp | Apparatus and method for handling and treating articles |
US3822025A (en) * | 1973-03-16 | 1974-07-02 | Gerber Scientific Instr Co | Pressurized gas selector mechanism |
US3902618A (en) * | 1973-10-05 | 1975-09-02 | West Co | Primary nurser assembly |
-
1975
- 1975-08-28 GB GB35591/75A patent/GB1513444A/en not_active Expired
- 1975-09-02 DE DE19752539036 patent/DE2539036A1/de active Pending
- 1975-09-05 JP JP50107162A patent/JPS5176079A/ja active Pending
- 1975-09-05 US US05/610,713 patent/US4002254A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-09-08 NL NL7510568A patent/NL7510568A/xx not_active Application Discontinuation
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2472446A1 (fr) * | 1979-12-27 | 1981-07-03 | Guy Mongodin | Appareil pour le transfert de plaquettes minces disposees verticalement dans un panier rainure de rangement |
EP0108807A1 (de) * | 1982-05-24 | 1984-05-23 | Proconics Int | Wafertransferapparat. |
EP0108807A4 (de) * | 1982-05-24 | 1987-03-30 | Proconics Internat Inc | Wafertransferapparat. |
DE3219502A1 (de) * | 1982-05-25 | 1983-12-01 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar | Vorrichtung zum automatischen transport scheibenfoermiger objekte |
US4695215A (en) * | 1982-05-25 | 1987-09-22 | Ernst Leitz Wetzlar Gmbh | Device for automatically transporting disk shaped objects |
EP0134621A1 (de) * | 1983-05-20 | 1985-03-20 | Proconics International Inc. | Vorrichtung zum automatischen, präzisen Transportieren von Gegenständen, beispielsweise von Halbleiterscheiben |
EP0339538A2 (de) * | 1988-04-25 | 1989-11-02 | Tegal Corporation | Spachtel für den Wafer-Transport |
EP0339538A3 (de) * | 1988-04-25 | 1990-10-31 | Tegal Corporation | Spachtel für den Wafer-Transport |
EP0634787A1 (de) * | 1993-07-15 | 1995-01-18 | Applied Materials, Inc. | Substratfangvorrichtung und Keramikblatt für Halbleiterbearbeitungseinrichtung |
DE10062011A1 (de) * | 2000-12-13 | 2002-06-27 | Infineon Technologies Ag | Halteeinrichtung |
DE10062011B4 (de) * | 2000-12-13 | 2005-02-24 | Infineon Technologies Ag | Halteeinrichtung |
DE102004045957A1 (de) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Singulus Technologies Ag | Vorrichtung zum Halten und Transportieren eines Werkstücks mit einer ebenen Oberfläche |
DE102009047086A1 (de) * | 2009-11-24 | 2011-05-26 | J. Schmalz Gmbh | Druckluftbetriebener Greifer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4002254A (en) | 1977-01-11 |
GB1513444A (en) | 1978-06-07 |
JPS5176079A (de) | 1976-07-01 |
NL7510568A (nl) | 1976-03-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2539036A1 (de) | Verfahren und werkzeug zum aufnehmen und transportieren von halbleitersubstratscheiben sowie im zusammenhang mit diesem werkzeug anzuwendendes magazin | |
DE19964479B4 (de) | Mehrkammersystem einer Ätzeinrichtung zur Herstellung von Halbleiterbauelementen | |
DE2558963A1 (de) | Vorrichtung zur anbringung von halbleiterplaettchen | |
DE60219034T2 (de) | Vorrichtungen zum abtrennen von substraten und zugehörige verfahren | |
DE2722442A1 (de) | Bernoulli-greifkopf mit ausgleichsvorrichtung | |
EP0277536B1 (de) | Vorrichtung zum quasi-kontinuierlichen Behandeln von Substraten | |
DE3442844A1 (de) | Vorrichtung und anlage fuer die durchfuehrung einer behandlung unter vakuum | |
CH652376A5 (de) | Vorrichtung zum zufuehren von mikroplaettchen zu einer behandlungsstation und eine anlage zum einfuehren von mikroplaettchen in eine vakuumkammer. | |
DE3510933C2 (de) | Handhabungsvorrichtung für Plättchen | |
DE2703659A1 (de) | Vorrichtung zum aetzen eines werkstuecks unter verwendung eines plasmas | |
DE10048881A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum planen Verbinden zweier Wafer für ein Dünnschleifen und ein Trennen eines Produkt-Wafers | |
DE102009018156B4 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Trennen eines Substrats von einem Trägersubstrat | |
DE3630035C2 (de) | Vorrichtung zum Einladen eines Halbleiterwafers in eine Behandlungskammer und Ionenimplantationsvorrichtung mit dieser Vorrichtung | |
DE69223345T2 (de) | Vorrichtung zum Abschrägen der Kerbe eines Plättchen | |
DE4103084C2 (de) | ||
DE3856248T2 (de) | Siliciumwafer-handhabungssystem mit bernoulli-aufnahme | |
DE1150829B (de) | Anordnung zum automatisch gesteuerten Transportieren von Aufzeichnungstraegern | |
DE102014116342B4 (de) | Substrathaltevorrichtung und Verfahren zum Prozessieren eines Substrats | |
DE19818479C1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Handhaben von Substraten | |
DE2551567A1 (de) | Transportband | |
DE3024751A1 (de) | Traegerhorde aus quarzglas | |
DE68924502T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Einzelsubstraten. | |
DE69425169T2 (de) | Magnetische Transfervorrichtung | |
DE4309092C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Handhabung und zum Transport von Wafern in Reinst-Räumen | |
DE3214256A1 (de) | Vorrichtung zur handhabung eines substrates |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OGA | New person/name/address of the applicant | ||
OHJ | Non-payment of the annual fee |