DE2528585C3 - Verfahren zur Herstellung von dotierten a -Aluminiumoxid-Einkristallen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von dotierten a -Aluminiumoxid-EinkristallenInfo
- Publication number
- DE2528585C3 DE2528585C3 DE2528585A DE2528585A DE2528585C3 DE 2528585 C3 DE2528585 C3 DE 2528585C3 DE 2528585 A DE2528585 A DE 2528585A DE 2528585 A DE2528585 A DE 2528585A DE 2528585 C3 DE2528585 C3 DE 2528585C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- single crystal
- melt
- ppm
- section
- production
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/20—Aluminium oxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von dotierten «-Aluminiumoxid-Einkristallen durch
Ziehen aus der wenigstens auf 20400C erhitzten Schmelze mit Einern stabförmigen Einkristall aus
a-A.iuminiumo.xid in einer gegenüber der Schmelze
chemisch inerten Atmosphäre.
Ein Verfahren zum Herstellen von a-Aluminiumoxid-Einkristallen
ist in der US-PS 37 15 194 offenbart. Danach wird ein derartiger Einkristall dadurch gewonnen,
daß ein stabförmiger Keimkristall aus der Schmelze gezogen wird. Das offenbarte Verfahren wurde zum
Herstellen von a-Aluminiumoxid-Einkristallen, z. B. für
optische Fenster, Lager, Gleitringe, Schneidwerkzeuge u. dgl. erfolgreich eingesetzt.
Beim Herstellen von «-Aluminiumoxid-Einkristallen aus wasserklarem Aluminiumoxid mit r-Ebene-Orientierung
gemäß der Lehre des ubener\.ahnten US-Patentes
wurde festgestellt, daß sich kein Einkristall mit kreisförmigem Querschnitt, wie be. anderen Kristallorientierungen
üblich, bildete, sondern ein solcher mit einem stark ellipsenförmigen Querschnitt. Die Hauptachse
des Materials liegt in der Ebene, die durch die C-Achse und die Längsachse des Kristalls bestimmt ist.
Kristalle mit ellipsenförmigem Querschnitt sind für eine industrielle Verwendung nicht geeignet. Wenn Einkristalle
mit kreisförmigem Querschnitt aus einer Masse mit ellipsenförmigem Querschnitt hergestellt werden,
entsteht überdies ein beträchtlicher Materialverlust.
Bei einer C-Achsenorientierung von 57° steht bei einem bekannten «-Aluminiumoxid-Einkristall mit
r-Ebene-Orientierung eine seiner r-Ebenen senkrecht zur Wachstumsachse.
Die Verwendung von «-Aluminiumoxid-Einkristallen mit r-Ebene-Orientierung als passive Substrate in
elektronischen Schaltungen, gewinnt im Vergleich zu anderen Kristallorientierungen zunehmend an Bedeutung,
da derartig orientierte Einkristalle bekannte Vorteile mit sich bringen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren vorzuschlagen, das die Herstellung von
dotierten «-Aluminiumoxid-Einkristallen mit r-Ebene-Orientierung und kreisförmigem Querschnitt zum
Gegenstand hat.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß man zur Herstellung eines in der r-Fbene
orientierten Einkristalls von kreisförmigem Querschnitt mit einem «-Aluminiumoxid Binkristallslab, dessen
Längsachse senkrecht /ur r-Kbenc gerichtet ist, aus
einer Schmelze zieht, die außer AI)O1 so viel Cr2Oi
und/oder Fe2Oi und/oder MgO enthält, daß in dem
gezogenen Finkristall wenigstens 'K) ppm der entsprechenden Mctallioncn enthalten sind
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgender, näher
beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 eine für die Ausführung der Erfindung geeignete Vorrichtung.
Fig. la eine Orientierung des stabförmigen Keimkri
Stalles, der bei der Ausführung der Erfindung benutze wird,
2'y F i g. 2a eine Fotografie eines durch das erfindungsgemäße
Verfahren erzeugten «-Aluminiumoxid-Einkristalls mit kreib/örmigem Querschnitt und
r-Ebene-Orientierung,
Fig. 2b eine Fotografie eines nach bekannten Verfahren hergestellten a-Aluminiumoxid-Einkristalls
mit ellipsenförmigem Querschnitt und r-Ebene-Orientierung.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist eine Weiterbildung des Verfahrens nach der US-PS 37 15 194. Nach
s~> dem Verfahren der Erfindung wird ein in der r-Ebene
orientierter Einkristall von kreisförmigem Querschnitt erhalten, wobei der größte Durchmesser des Querschnittes
nicht mehr als 10% größer als der kleinste Durchmesser ist. Mit dem erfindung-gemäßen Verfah-
w ren kann ein schnelles Wachstum des Einkristalls
erreicht werden, ohne daß hierdurch die Qualität des Einkristalls nachteilig beeinflußt wird.
Die Schmelze des erfindungsgemäßen Verfahrens kann 135 ppm Chromionen, vorzugsweise zwischen 240
■n und 340 ppm; 730 ppm Eisenionen, vorzugsweise
zwischen 950 und 1100 ppm; und 90 ppm Magnesiumionen, vorzugsweise zwischen 120 und 180 ppm,
enthalten. Mit diesen Mengenanteilen werden in der r-Ebene orientierte, leicht gefärbte, durchsichtige
><> «-Aluminiumoxid-Einkristalle mit kreisförmigen Querschnitten
bei relativ hohen Wachstumsgeschwindigkeiten und leichter Qualitätskontrolle erhalten. Bei
Zusätzen von Chrom zur Schmelze sind die erzeugten Kristalle rosa, bei Eisenzusatz braun und bei Zusetzen
>". von Magnesium orangefarben gefärbt. Bei höheren Konzentrationen sind die gebildeten Einkristalle mit
kreisförmigem Querschnitt stärker gefärbt und fast undurchsichtig, wobei die erforderlichen Wachstumsgeschwindigkeiten
in der Regel niedriger und die
w) Qualitätskontrolle schwieriger sind.
Um die gewünschte Metallionenkonzentration im «-Aluminiumoxid-Einkristall zu erhalten, werden
Chromoxid Cr2O) und/oder Eisenoxid Fe2Oi und/oder
Magnesiumoxid MgO der Aliiminiumoxidschmelzc in
1^'> entsprechenden Mengen zugesetzt. Wenn erfindungsgemäß
mehrere Oxide zugesetzt werden, ist Magnesium etwa l,5mal wirksamer als Chrom und etwa 8mal
wirksamer als Eisen. Diese Beziehung kann zur
Bestimmung der Konzentrationsbereiche bei mehreren Zusätzen verwendet werden, die in der folgenden
Tabelle angegeben sind.
Oxid | Gew.-% | ppm des | Gew.-% | ppm |
zusatz | des Oxids | Oxids | Metall | Metall |
in der | in der | in der | in der | |
AhO,- | AhO,- | AhO3- | AhO3- | |
Schmelze | Schmelze | Schmelze | Schmelze |
Cr,O,
Fe,O3
0,02
0,035
0,05
0,015
ü,02
0,03
0,10
υ, ι j
0,15
υ, ι j
0,15
200
350
500
350
500
150
200
300
200
300
1000
1300
1500
1300
1500
0,0135
0,024
0,034
0,009
0,012
0,018
0,012
0,018
0,073
r» «nc
U,U7J
U,U7J
0,110
135
240
340
90
120
180
240
340
90
120
180
730
r\cr\
7JU
7JU
;>oo
Fig. 1 zeigt einein der US-PS 37 15 194 beschriebene
Kristallzüchtungskammer 1. Die Aluminiumoxidschmelze 9 mit einem Zusatz eines oder mehrerer der
angegebenen Oxide befindet sich in einem vorzugsweise aus Iridium bestehenden Tiegel 8. Ein vorzugsweise aus
Iridium bestehender Deckel 16 mit einer mittigen öffnung 17 ruht auf dem Tiegel 8 und dient als
Schutzschild, um den Wärmeverlust der Schmelze 9 herabzusetzen. Der Tiegel 8 ist an den Seiten und am
Boden von der Isolierung 15 umgeben. Die Isolierung besteht vorzugsweise aus Zirkoniumdioxid und dient
dazu, die Energie zu verringern, um die Schmelze 9 flüssig zu halten und Temperaturschwankungen auszugleichen,
die von Schwankungen der Netzspannung, von durch Konvektion bedingter Abkühlung aus der
Atmosphäre .ind anderen Störungen herrühren. Durch das Rohr 11 wird ein Strahlungspyrometer an die Mitte
des Tiegelbodens herangeführt, um die Temperatur am Boden des Tiegels 8 bestimmen zu können.
Eine beispielsweise aus Aluminiumoxid hergestellte Abdichtung 4 ist von einem vorzugsweise aus
Zirkoniumdioxid besiehenden Rohr 5 getragen. Die Abdichtung 4 dient als ein zweiter Strahlungsschutzschild
und hindert konvektive Strömungen der Atmosphäre daran, in den oberen Teil des Tiegels
einzudringen und den wachsenden Kristall 7 zu erreichen. Die Abdichtung 4 verringert den vertikalen
Temperaturgradienten in der Nähe des wachsenden Einkristalls und verstärkt die Wirksamkeit des Deckels
16.
Die Hülse 6, die beispielsweise aus Siliziumdioxid besteht, enthält die Isolierung 15 und ist ein Teil der
Isolierungseinrichtung, die den Tiegel 8 umgibt. Auch das die Abdichtung 4 tragende Rohr 5 gehört zu diesem
isolierenden System.
Der Tiegel 8 und seine Isolierung ruhen auf einem keramischen Träger 12, der beispielsweise aus Zirkoniumdioxid
besteht. Die Einrichtung befindet sich unter einem glockenförmigen Gefäß 3, das mit der Bodenplatte
13 dicht verbunden ist. Die Bodenplatte 13 besteht aus einem geeigneten Material, beispielsweise aus silikonverstärkten
Glasfasern. Die im Innern des Tiegels 8 gewünschte, nicht mit der Schmelze im Tiegel
reagierende Atmosphäre, wie Stickstoff oder ein Edelgas wird durch das Sichtrohr 14 eingeführt, das mit
dem Rohr 11 verbunden ist. Das Gas strömt durch die öffnung 18 in das glockenförmige Gefäß 3 ein, durch
welches der stabförmige: Keimkristall 2 eingeführt wird.
Der stabförmige Keimkristall 2 ist ein Einkristall aus «-Aluminiumoxid, der mit der Wachstumsachse 30 des
Kristalls 7 eine gemeinsame Längsachse 20 hat. Wie die
Fig. la zeigt, steht die r-Ebene 40 des stabförmigen
Keimkristalls 2 senkrecht zur Längsachse 20. Ein
ι solcher stabförmiger Keimkristall kann in üblicher Weise hergestellt werden und führt zu einem in der
r-Ebene orientierten Einkristall.
Bei Verwendung der beschriebenen Apparatur können eines oder mehrere der Oxide von Chromoxid,
Eisenoxid und Magnesiumoxid der wasserhellen Schmelze von Aluminiumoxid, beispielsweise vor oder
nach dem Schmelzen, zugesetzt werden. Ein Einkristall wird bei einer Temperatur von 2040°C oder höher
beispielsweise nach dem in der US-PS 37 15 194
ι angegebenen Verfahren aus der Schm .ze gezogen. Der
Einkristall hat, wie die F i g. 2a zeigt, einen kreisförmigen
Querschnitt, wobei das eingesetzte Aluminiumoxid 0,026 Gew.-% Cr2O3, entsprechend 180 ppm Chrom,
, enthielt. Dieser Einkristall kann mit dem in der F i g. 2b gezeigten Einkristall mit elliptischem Querschnitt
verglichen werden, der zwar in gleicher Weise, jedoch ohne Zusätze hergestellt wurde.
B e i s ρ i e 1 1
Etwa 7000 g gereinigten Aluminiumoxidbruchs (Saphir) wurden zusammen mit 1,84 g Cr2O3 (260 ppm) in
einen Iridiumtiegel mit einem inneren Durchmesser von 13 cm, einer Höhe von 25 cm und einer Wandstärke von
0,25 cm gegeben. Der Tiegel wurde in eine !nduktionsheizspule eingesetzt, die 10 Windungen 19 aufwies unc
einen inneren Durchmesser von 24 cm hatte. Der Tiegel stand auf einem Gestell, das mit pulverförrivgem
Zirkoniumdioxid ausgefüllt war, wobei der Raum zwischen den Windungen und dem Tiegel ebenfalls mit
pulvf .-förmigem Zirkoniumdioxid ausgefüllt war. Die
Vorrichtung befand sich unter einer Glocke aus Aluminium, die oben eine öffnung hatte. Innerhalb der
Glocke wurde eine Stickstoffatmosphäre mit etwa 600 ppm Sauerstoff aufrechterhalten. Die Induktionsheizspule wurde von einer bekannten Hochfrequenzinduktionseinheit
mit Energie versorgt, wobei die Energiezufuhr so lange gesteigert wurde, bis der
induzierte Strom den Iridiumtiegel auf Weißglut erhitzte. Die vom Iridiumtiegel übertragene Wärme
schmolz dann die Aluminiumoxidstücke auf, so daß die Schmelze 180 ppm Chrom enthielt. Ein stabförmiger
Keimkristall aus a-Aluminiumoxid mit r-Ebene-Orientierung
und einem Durchmesser von etwa 7,5 mm wurde durch die öffnung :r. die Glocke eingeführt bis der
Kristall die Oberfläche der Schmelze berührte. Der Keimkristalll wurd^ dann mit einer Ziehgeschwindigkeit
von etwa 2,5 mm/Std. aus der Schmelze gezogen, was 125 Stunden dauerte Auf diese Weise bildete sich ein
länglicher Einkristall mit kreisförmigem Querschnitt, wobei der längste Durchmesser 5,83 cm, der kü-zeste
Durchmesser 5,75 cm bei einer Länge von etwa 36 cm betrug. Der in Fig. 2a gezeigte Einkristall war massiv,
rosa gefärbt, durchsichtig und nicht körnig.
Vergleichsbeispiel
In einer Vorrichtung nach dem Beispiel 1 wurden etwa 6200 e Bereinigten Aluminiumoxidbruch«; i.Sanhiri
ohne Zusätze in einen Iridiiimtiegel gegeben. Diese
Vorrichtung war in einer Glocke aus Glas mit einer oberen Öffnung versehen. Innerhalb der Glocke wurde
eine Stickstoffatmosphäre mit etwa 3000 ppm Sauerstoff aufrechterhalten. Es wurde nach dem Beispiel I
erhitzt, wobei der dort beschriebene stabförmige Keimkristall eingesetzt wurde. Der Keimkristall wurde
dann 110 Stunden lang mit einer Zie'ngeschwindigkeit
von etwa 2,3 mm/Std. aus der Schmelze gezogen. Auf diese Weise bildet sich ein länglicher Einkristall mit
ellipsenförmigem Querschnitt, wobei der größte Durchmesser 6,71 cm, der kleinste dagegen b.32 cm betrug.
Der in F i g. 2b gezeigte Einkristall bestand aus nichtkörnigem Korund.
Etwa 7000 g gereinigtem Aluminiumoxidbruchs (Saphier)
wurden zusammen mit J.I g Cr/) ,(440 ppm) nach
dem Beispiel I geschmolzen. Die Schmelze enthielt 300 ppm Chrom. Der in Beispiel I beschriebene
stabförmige Keimkristall wurde 103 Stunden lang mit einer Ziehgeschwindigkeit von etwa 2.5 mm/Std. aus der
Schmelze gezogen. Der erhaltene Einkristall mit einer Lange von etwa Sicm hatte im Querschnitt einen
größten Durchmesser von 6,1 5 cm und einen kleinsten
Durchmesser von b.OO cm. der im übrigen dem nach dem Beispiel I hergestellten Einkristall entsprach.
I liei/u J liliitt
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung von dotierten «-Aluminium-Einkristallen durch Ziehen aas der wenigstens auf 2040° C erhitzten Schmelze mit einem stabförmigen Einkristall aus «-Aluminiumoxid in einer gegenüber der Schmelze chemisch inerten Atmosphäre, dadurch gekennzeichnet, daß man zur Herstellung eines in der r-Ebene orientierten Einkristalls von kreisförmigem Querschnitt mit einem «-Aluminiumoxid-Einkristallstab, dessen Längsachse senkrecht zur r-Ebene gerichtet ist, aus; einer Schmelze zieht, die außer AI2O3 so viel CrA und/odef Fe2Ch und/oder MgO enthält, daß in dem gezogenen Einkristall wenigstens 90 ppm der entsprechenden Metallionen enthalten sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US48425774A | 1974-06-28 | 1974-06-28 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2528585A1 DE2528585A1 (de) | 1976-01-08 |
DE2528585B2 DE2528585B2 (de) | 1979-02-22 |
DE2528585C3 true DE2528585C3 (de) | 1979-10-11 |
Family
ID=23923402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2528585A Expired DE2528585C3 (de) | 1974-06-28 | 1975-06-26 | Verfahren zur Herstellung von dotierten a -Aluminiumoxid-Einkristallen |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5118999A (de) |
DE (1) | DE2528585C3 (de) |
FR (1) | FR2276094A1 (de) |
GB (1) | GB1515543A (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2702145C3 (de) * | 1976-02-09 | 1981-06-04 | Union Carbide Corp., 10017 New York, N.Y. | Verfahren zur Herstellung eines dotierten, in der r-Ebene orientierten α -Aluminiumoxid-Einkristalls von kreisförmigem Querschnitt |
JP2006151745A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Kyocera Corp | 単結晶の製造方法及びそれらを用いた酸化物単結晶 |
JP4735334B2 (ja) * | 2006-03-02 | 2011-07-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化アルミニウム単結晶の製造方法 |
JP5888198B2 (ja) * | 2012-09-26 | 2016-03-16 | 住友金属鉱山株式会社 | サファイア単結晶の製造装置 |
FR3095972B1 (fr) | 2019-05-13 | 2023-07-07 | Safran Aircraft Engines | Moule pour la fabrication d’une pièce par coulée de métal et croissance épitaxiale et procédé de fabrication associé |
-
1975
- 1975-06-26 DE DE2528585A patent/DE2528585C3/de not_active Expired
- 1975-06-27 FR FR7520320A patent/FR2276094A1/fr active Granted
- 1975-06-27 GB GB27222/75A patent/GB1515543A/en not_active Expired
- 1975-06-27 JP JP50079470A patent/JPS5118999A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2276094B1 (de) | 1978-09-22 |
JPS554690B2 (de) | 1980-01-31 |
DE2528585A1 (de) | 1976-01-08 |
GB1515543A (en) | 1978-06-28 |
JPS5118999A (en) | 1976-02-14 |
FR2276094A1 (fr) | 1976-01-23 |
DE2528585B2 (de) | 1979-02-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1259663B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur züchtung von grossvolumigen orientierten einkristallen | |
DE60310932T2 (de) | Verfahren zur behandlung von chloride, bromide und jodide der seltenen erden in einem kohlstoffhaltigen tiegel | |
DE1719493A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von drahtfoermigen Koerpern (Haarkristallen) kreisfoermigen Querschnitts,die aus Siliciumcarbid-Einkristallen bestehen,und Gegenstaende aus Siliciumcarbid-Haarkristallen kreisfoermigen Querschnitts | |
DE2619965A1 (de) | Verfahren zur einstellung des sauerstoffgehalts in siliciumkristallen | |
DE2528585C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von dotierten a -Aluminiumoxid-Einkristallen | |
DE2038564B2 (de) | Quarzglasgeraeteteil, insbesondere quarzglasrohr, mit in seiner aussenoberflaechenschicht enthaltenen, kristallbildung foerdernden keimen zur verwendung bei hohen temperaturen, insbesondere fuer die durchfuehrung halbleitertechnologischer verfahren | |
DE2122192A1 (de) | Behandlungsverfahren für Verbindungshalbleiter | |
DE1292640B (de) | Vorrichtung zum Abscheiden von hochreinem Silicium aus einem hochreinen, eine Siliciumverbindung enthaltenden Reaktionsgas | |
DE1646804B2 (de) | Verfahren zur verbesserung der oberflaechenqualitaet von anorganischen oxidmaterialien | |
DE2140931A1 (de) | Glas niedriger Wärmedehnung | |
DE1195023B (de) | Verfahren zur Steigerung des Anlasspunktes von Glasgegenstaenden mit einem SiO-Gehalt von wenigstens 94 Gewichtsprozent aus alkalihaltigen Borsilikatglaesern | |
DE3013045C2 (de) | Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallbirnen aus Gadolinium-Gallium-Granat | |
DE2702145C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines dotierten, in der r-Ebene orientierten α -Aluminiumoxid-Einkristalls von kreisförmigem Querschnitt | |
US4224099A (en) | Method for producing R-plane single crystal alpha alumina | |
DE1544281C3 (de) | Verfahren zum Dotieren von Silicium- Halbleitermaterial | |
DE2728314C3 (de) | Verfahren zum Ziehen eines Gadolinium-Gallium-Granat-Einkristalls aus einer Schmelze | |
DE2555610C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von A -Aluminiumoxid-Einkristallen | |
DD213514A1 (de) | Verfahren zur herstellung von calciumfluorid-einkristallen fuer optische zwecke | |
DE1302312B (de) | ||
DE102015009423B4 (de) | Formstabile Silikatglaskeramik | |
DE1596729B2 (de) | Verfahren zur erhoehung der festigkeit von glasgegenstaenden durch ionenaustausch | |
DE2532653C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Natriumoxid-ß-Aluminiumoxid Einkristallen | |
DE2454293A1 (de) | Glaeser fuer dielektrische optische wellenleiter sowie herstellungsverfahren dafuer | |
DE1913682C3 (de) | Vorrichtung zum Herstellen von Einkristallen aus halbleitenden Verbindungen | |
EP0112649B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von kristallinem Granatmaterial, Gastgeber für Laser, frei von Wasser und Hydroxylionen-Verunreinigungen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |