DE2502431C2 - Verfahren für die dynamische Korrektur der Ablenkung eines Elektronenstrahls - Google Patents

Verfahren für die dynamische Korrektur der Ablenkung eines Elektronenstrahls

Info

Publication number
DE2502431C2
DE2502431C2 DE2502431A DE2502431A DE2502431C2 DE 2502431 C2 DE2502431 C2 DE 2502431C2 DE 2502431 A DE2502431 A DE 2502431A DE 2502431 A DE2502431 A DE 2502431A DE 2502431 C2 DE2502431 C2 DE 2502431C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
deflection
field
digital
actual
amplifier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2502431A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE2502431A1 (de
Inventor
Michel Wappinger Falls N.Y. Michail
Ollie Poughkeepsie N.Y. Woodard
Hannon S. Wappinger Falls N.Y. Yourke
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of DE2502431A1 publication Critical patent/DE2502431A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2502431C2 publication Critical patent/DE2502431C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045Object or beam position registration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
DE2502431A 1974-01-28 1975-01-22 Verfahren für die dynamische Korrektur der Ablenkung eines Elektronenstrahls Expired DE2502431C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US437585A US3900736A (en) 1974-01-28 1974-01-28 Method and apparatus for positioning a beam of charged particles

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2502431A1 DE2502431A1 (de) 1975-07-31
DE2502431C2 true DE2502431C2 (de) 1984-08-30

Family

ID=23737046

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2502431A Expired DE2502431C2 (de) 1974-01-28 1975-01-22 Verfahren für die dynamische Korrektur der Ablenkung eines Elektronenstrahls

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3900736A (US06294698-20010925-C00026.png)
JP (1) JPS5223221B2 (US06294698-20010925-C00026.png)
CA (1) CA1016667A (US06294698-20010925-C00026.png)
DE (1) DE2502431C2 (US06294698-20010925-C00026.png)
FR (1) FR2259390B1 (US06294698-20010925-C00026.png)
GB (1) GB1480561A (US06294698-20010925-C00026.png)
IT (1) IT1027867B (US06294698-20010925-C00026.png)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU705699A2 (ru) * 1976-05-03 1979-12-25 Орденов Ленина И Трудового Красного Знамени Институт Электросварки Им. Е.О.Патона Установка дл электроннолучевого нагрева материалов
JPS5360162A (en) * 1976-11-10 1978-05-30 Toshiba Corp Electron beam irradiation device
JPS5367365A (en) * 1976-11-29 1978-06-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Correcting method for beam position
JPS5394773A (en) * 1977-01-31 1978-08-19 Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Method of connecting graph in charged beam exposing device
JPS54108581A (en) * 1978-02-13 1979-08-25 Jeol Ltd Electron-beam exposure device
US4137459A (en) * 1978-02-13 1979-01-30 International Business Machines Corporation Method and apparatus for applying focus correction in E-beam system
JPS5552223A (en) * 1978-10-13 1980-04-16 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Exposure method in electronic beam exposure device
DE2937136A1 (de) * 1979-09-13 1981-04-02 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und vorrichtung zur schnellen ablenkung eines korpuskularstrahls
JPS56124234A (en) * 1980-03-05 1981-09-29 Hitachi Ltd Correcting method for electron beam deflection
JPS5740927A (en) * 1980-08-26 1982-03-06 Fujitsu Ltd Exposing method of electron beam
US4543512A (en) * 1980-10-15 1985-09-24 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Electron beam exposure system
US4385238A (en) * 1981-03-03 1983-05-24 Veeco Instruments Incorporated Reregistration system for a charged particle beam exposure system
US4528452A (en) * 1982-12-09 1985-07-09 Electron Beam Corporation Alignment and detection system for electron image projectors
US4818885A (en) * 1987-06-30 1989-04-04 International Business Machines Corporation Electron beam writing method and system using large range deflection in combination with a continuously moving table
DE4024084A1 (de) * 1989-11-29 1991-06-06 Daimler Benz Ag Verfahren zum herstellen von hohlen gaswechselventilen fuer hubkolbenmaschinen
GB2238630B (en) * 1989-11-29 1993-12-22 Sundstrand Corp Control systems
JPH05206017A (ja) * 1991-08-09 1993-08-13 Internatl Business Mach Corp <Ibm> リソグラフイ露光システム及びその方法
JP2501726B2 (ja) * 1991-10-08 1996-05-29 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション コンピュ―タ・イメ―ジ生成装置及びデ―タ減縮方法
US5194349A (en) * 1992-02-07 1993-03-16 Midwest Research Institute Erasable, multiple level logic optical memory disk
US5304441A (en) * 1992-12-31 1994-04-19 International Business Machines Corporation Method of optimizing exposure of photoresist by patterning as a function of thermal modeling
US5838013A (en) * 1996-11-13 1998-11-17 International Business Machines Corporation Method for monitoring resist charging in a charged particle system
US20020063567A1 (en) * 2000-11-30 2002-05-30 Applied Materials, Inc. Measurement device with remote adjustment of electron beam stigmation by using MOSFET ohmic properties and isolation devices
US6803582B2 (en) * 2002-11-29 2004-10-12 Oregon Health & Science University One dimensional beam blanker array

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1804646B2 (de) * 1968-10-18 1973-03-22 Siemens AG, 1000 Berlin u. 8000 München Korpuskularstrahl-bearbeitungsgeraet
US3644700A (en) * 1969-12-15 1972-02-22 Ibm Method and apparatus for controlling an electron beam

Also Published As

Publication number Publication date
CA1016667A (en) 1977-08-30
JPS50105381A (US06294698-20010925-C00026.png) 1975-08-20
IT1027867B (it) 1978-12-20
JPS5223221B2 (US06294698-20010925-C00026.png) 1977-06-22
FR2259390A1 (US06294698-20010925-C00026.png) 1975-08-22
GB1480561A (en) 1977-07-20
DE2502431A1 (de) 1975-07-31
FR2259390B1 (US06294698-20010925-C00026.png) 1976-10-22
US3900736A (en) 1975-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2502431C2 (de) Verfahren für die dynamische Korrektur der Ablenkung eines Elektronenstrahls
DE2516390C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bestrahlen einer strahlungsempfindlichen Lackschicht zum Herstellen mikrominiaturisierter Bauelemente
DE102013210045B4 (de) Schreibverfahren für einen Multistrahl geladener Teilchen und Schreibvorrichtung für einen Multistrahl geladener Teilchen
DE69432098T2 (de) Elektronenstrahl-Lithographie-System
DE2811553C2 (US06294698-20010925-C00026.png)
DE102007014301B4 (de) Elektronenstrahlbestrahlungsgerät
EP0001042B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Belichtung durch Korpuskularstrahlen-Schattenwurf
DE102013217140B4 (de) Ladungsträgerteilchenstrahl-Musterschreibverfahren und Ladungsträgerteilchenstrahl-Schreibvorrichtung
DE102008062450A1 (de) Anordnung zur Beleuchtung eines Substrats mit mehreren individuell geformten Partikelstrahlen zur hochauflösenden Lithographie von Strukturmustern
DE2332091A1 (de) Fokussierbare und ausrichtbare elektronenstrahlprojektionsvorrichtung
DE2056620A1 (de) Vorrichtung zur Belichtung von Halb leiterelementen
DE69023030T2 (de) Dreifache Ablenkung für eine Elektronenstrahlanordnung.
DE3206374C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Eichen der Ablenkung eines aus geladenen Teilchen bestehenden Strahls
DE2502591C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Ausrichtmarkierung
DE69408114T2 (de) Anordnung zur direkten Elektronenstrahlschrift für ULSI Lithographie, mit einfacher Rotation- und Verstärkungseinstellung der angestrahlten Muster, und Elektronenstrahl-Direktschriftverfahren
EP0003527B1 (de) Verfahren und Anordnung zur Fokussierung eines Ladungsträgerstrahls auf Halbleiterplättchen
DE10028327A1 (de) Vorrichtung und Verfahren für bildformende Strahlen aus geladenen Teilchen und Bestrahlungsvorrichtung mit Strahlen aus geladenen Teilchen
EP0759192B1 (de) Prozesskontrollstreifen und verfahren zur aufzeichnung
EP0231164B1 (de) Einrichtung für Ionenprojektionsgeräte
DE2521579C2 (de) &#34;Anordnung für die dynamische automatische Korrektur von Astigmatismus und Brennweite eines Ladungsträgerstrahls&#34;
DE3644296A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum zeichnen eines musters mittels eines ladungsteilchenstrahls
DE2834391C2 (de) Einrichtung zur Erzeugung von Zeichenmustern auf einer Objektfläche mittels Elektronenstrahlen
DE2704441A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur bestrahlung einer werkstueckflaeche
DE2731142B2 (de) Verfahren zur Feststellung der Lage eines Elektronenstrahls in bezug auf auf einem Objekt, angeordnete Ausrichtmarkierungen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69227160T2 (de) Verfahren zur Belichtung einer Modellplatine mit Ausrichtmuster

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: WILLICH, W., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 7030 BOEBLINGE

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee