DE2442527C3 - Photohärtbare Harzmasse auf Basis eines modifizierten Epoxidharzes - Google Patents

Photohärtbare Harzmasse auf Basis eines modifizierten Epoxidharzes

Info

Publication number
DE2442527C3
DE2442527C3 DE19742442527 DE2442527A DE2442527C3 DE 2442527 C3 DE2442527 C3 DE 2442527C3 DE 19742442527 DE19742442527 DE 19742442527 DE 2442527 A DE2442527 A DE 2442527A DE 2442527 C3 DE2442527 C3 DE 2442527C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
resin
epoxy resin
acid
modified
added
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19742442527
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE2442527B2 (de
DE2442527A1 (de
Inventor
Kanagawa Hiratsuka
Touru Hirayama
Osamu Isozaki
Tomoo Kokawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kansai Paint Co Ltd
Original Assignee
Kansai Paint Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kansai Paint Co Ltd filed Critical Kansai Paint Co Ltd
Publication of DE2442527A1 publication Critical patent/DE2442527A1/de
Publication of DE2442527B2 publication Critical patent/DE2442527B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2442527C3 publication Critical patent/DE2442527C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
DE19742442527 1973-09-05 1974-09-05 Photohärtbare Harzmasse auf Basis eines modifizierten Epoxidharzes Expired DE2442527C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9928973A JPS5514087B2 (enExample) 1973-09-05 1973-09-05

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2442527A1 DE2442527A1 (de) 1975-04-03
DE2442527B2 DE2442527B2 (de) 1976-08-12
DE2442527C3 true DE2442527C3 (de) 1980-04-10

Family

ID=14243473

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19742442527 Expired DE2442527C3 (de) 1973-09-05 1974-09-05 Photohärtbare Harzmasse auf Basis eines modifizierten Epoxidharzes

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPS5514087B2 (enExample)
DE (1) DE2442527C3 (enExample)
FR (1) FR2242702A1 (enExample)
GB (1) GB1489425A (enExample)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4390615A (en) 1979-11-05 1983-06-28 Courtney Robert W Coating compositions
US4481281A (en) * 1981-01-16 1984-11-06 W. R. Grace & Co. Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups
US4451636A (en) * 1981-01-16 1984-05-29 W. R. Grace & Co. Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups
US4422914A (en) 1981-01-16 1983-12-27 W. R. Grace & Co. Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups
US4436806A (en) 1981-01-16 1984-03-13 W. R. Grace & Co. Method and apparatus for making printed circuit boards
US4442198A (en) * 1981-01-16 1984-04-10 W. R. Grace & Co. Polymer composition having terminal alkene and terminal carboxyl groups
DE3367781D1 (en) * 1982-04-03 1987-01-08 Ciba Geigy Ag Process for preparing prepregs from fibres that contain cellulose using aqueous resin compositions
US4393181A (en) 1982-06-30 1983-07-12 Shell Oil Company Polyfunctional phenolic-melamine epoxy resin curing agents
DE3447357A1 (de) * 1984-12-24 1986-07-03 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Trockenfilmresist und verfahren zur herstellung von resistmustern
DE3447355A1 (de) * 1984-12-24 1986-07-03 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Vernetzbares harz, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial auf basis dieses vernetzbaren harzes sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungsmaterials
JPS61243869A (ja) * 1985-04-19 1986-10-30 Taiyo Ink Seizo Kk レジストインキ組成物
DE3619129A1 (de) * 1986-06-06 1987-12-10 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungselement
JPS63186232A (ja) * 1987-01-28 1988-08-01 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂組成物
DE3717034A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien, sowie neue chinazolon-4-verbindungen
DE3717037A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
DE3717038A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
EP0292219A3 (en) * 1987-05-21 1989-10-11 AT&T Corp. Printed circuit board fabrication
DE3717036A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
GB8804044D0 (en) * 1988-02-22 1988-03-23 Coates Brothers Plc Coating compositions
US5102775A (en) * 1988-09-30 1992-04-07 Kansai Paint Co., Ltd. Visible light sensitive electrodeposition coating composition and image-forming method using the same
CN1182485A (zh) * 1995-04-27 1998-05-20 美国3M公司 负片型无处理印版
US5925497A (en) * 1995-04-27 1999-07-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
CN113583222B (zh) * 2021-08-24 2023-03-24 濮阳市盛源能源科技股份有限公司 一种嵌段共聚型可降解聚酯及其制备方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5640329B2 (enExample) * 1972-04-24 1981-09-19

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5514087B2 (enExample) 1980-04-14
FR2242702A1 (enExample) 1975-03-28
DE2442527B2 (de) 1976-08-12
DE2442527A1 (de) 1975-04-03
GB1489425A (en) 1977-10-19
JPS5050106A (enExample) 1975-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2442527C3 (de) Photohärtbare Harzmasse auf Basis eines modifizierten Epoxidharzes
EP0031592B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE2441148C2 (de) Strahlungshärtbare Überzugsmasse
DE2802440C2 (enExample)
EP0152819B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch auf Basis eines Diazoniumsalz-Polykondensationprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE2053683A1 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2406400A1 (de) Lichtempfindliche harzzusammensetzungen
DE2442558B2 (de) Photopolymerisierbares, negativ arbeitendes Aufzeichnungsmaterial
DE2239411A1 (de) Zusammensetzung zur herstellung von kunstharzueberzugsschichten und dergleichen
DE3007212A1 (de) Lichtempfindliche masse
DE2145935A1 (de) Lichthärtbare Harzmasse
DE1925551A1 (de) Lichtempfindliche Polymere
DE3854364T2 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Harzzusammensetzung.
DE2809767C2 (de) Vorbehandelter Schichtträger zur Herstellung von vorsensibilisierten Druckplatten
DE1597748A1 (de) Verfahren zum Herstellen von Reliefformen fuer Druckzwecke
DE19956532A1 (de) Vernetzer für ein Photoresist und diesen enthaltende Photoresistzusammensetzung
DE2429134B2 (de) Acrylharz enthaltender Photolack, dessen Herstellung und Verwendung
DE2507008A1 (de) Polymerisierbare ester
DE1905012C3 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zum Herstellen von Reliefs
DE1067219B (de) Verfahren zur Herstellung von durch Lichteinwirkung vernetzenden hochpolymeren Verbindungen
DE3234045C2 (enExample)
DE3039209A1 (de) Fotopolymere reliefformen und verfahren zu deren herstellung
DE2232822A1 (de) Photohaertbare masse und verfahren zu deren herstellung
DE1519165A1 (de) Polymerisierbare UEberzugsmassen auf Acrylharzbasis und Verfahren zur Herstellung von UEberzuegen daraus
DE2230936B2 (enExample)

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
EHJ Ceased/non-payment of the annual fee