DE2414471A1 - Verfahren zur goldplattierung von schwer schmelzbaren metallen - Google Patents

Verfahren zur goldplattierung von schwer schmelzbaren metallen

Info

Publication number
DE2414471A1
DE2414471A1 DE2414471A DE2414471A DE2414471A1 DE 2414471 A1 DE2414471 A1 DE 2414471A1 DE 2414471 A DE2414471 A DE 2414471A DE 2414471 A DE2414471 A DE 2414471A DE 2414471 A1 DE2414471 A1 DE 2414471A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gold
metal
gold plating
plating bath
immersed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE2414471A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2414471B2 (de
DE2414471C3 (de
Inventor
Richard Kent Trueblood
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ceramic Systems
Original Assignee
Ceramic Systems
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to US368431A priority Critical patent/US3862850A/en
Priority to GB869174A priority patent/GB1395314A/en
Application filed by Ceramic Systems filed Critical Ceramic Systems
Priority to DE2414471A priority patent/DE2414471C3/de
Publication of DE2414471A1 publication Critical patent/DE2414471A1/de
Publication of DE2414471B2 publication Critical patent/DE2414471B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2414471C3 publication Critical patent/DE2414471C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/42Coating with noble metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/48Electroplating: Baths therefor from solutions of gold
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/38Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of refractory metals or nickel
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing the conductive pattern
    • H05K3/245Reinforcing conductive patterns made by printing techniques or by other techniques for applying conductive pastes, inks or powders; Reinforcing other conductive patterns by such techniques

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

  • Verfahren zur Goldplattierung von schwer schmelzbaren Metallen Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Plattieren von schwer schmelzbaren Metallen, bei welchem das zu plattierende Metall aktiviert wird, indem es in ein alkalisches Reinigungs-bzw. Entzunderungsmittel bei einer Temperatur im Bereich von 800 bis 1000 C eingetaucht wird, das Metall in deionisiertem Wasser, in einer verdünnten Säure bei einer Temperatur im Bereich von 800 C bis 1000 C und in kochendem deionisiertem Wasser gespült wird und dann in ein nicht-elektrisches Goldplattiexungsbad eingetaucht wird. Dabei geht es um Verbesserungen bei der nicht-elektrischen Abscheidung von weichem, duktilen Gold auf Metallen, und zwar insbesondere auf schwer schmelzbaren Metallen, worunter im folgenden beispielsweise Metalle wie Molybden, Wolfram, Niob und Kobalt verstanden werden.
  • Bisher war die nicht-elektrische Abscheidung von Gold auf schwer schmelzbaren Metallen schwierig. Bei bekannten nichtelektrischen Plattierungsverfahren wurden Plattierungslösungen verwendet, welche ein metallorganisches Agenz und einen Ammoniumpuffer enthalten. Der Ammoniumpuffer dient dazu, einerseits den pH-Wert des Bades zu regeln und andererseits als Komplexbildner für einige der ersetzten Metallionen von der Oberfläche des gerade plattierten Metalles zu wirken.
  • Bei der Verwendung zum Plattieren von schwer schmelzbaren Metallen, beispielsweise Molybden, Wolfram, Niob oder Kobalt könnten Lösungen dieser Art jedoch reines Gold nur bis zu einer Stärke von etwa 0,1 u auftragen. Es würden Ablagerungen mit einer groben Textur erhalten, die dunkelorange bis braun wären, gesprenkelt aussähen, ungleichmäßig verteilt und ungenügend haftfähig wären. Wegen dieser Schwierigkeiten konnten die bisher erhältlichen nicht-elektrischen Goldlösungen nicht in zufriedenstellender Weise für die Ablagerung von Goldfilmen auf schwer schmelzbaren Metallen, beispielsweise den vorgenannten Metallen, verwendet werden.
  • Durch die Erfindung wird vor allem die Aufgabe gelöst, ein nicht-elektrisches Plattierungsverfahren zu schaffen, durch welches reines, weiches, duktiles Gold mit gleichförmigem gelben Aussehen in jeder gewünschten Stärke bis zu etwa 5 P auf Metallträgern aufgetragen werden kann, beispielsweise auf Trägermetallen wie Molybden, Wolfram, Niob und Kobalt oder auf vorher plattierten Goldsubstraten.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe wird bei dem eingangs genannten Verfahren erfindungsgemäß vorgesehen, daß das Goldplattierungsbad im wesentlichen aus Wasser besteht, etwa 2 bis 10 g/l eines löslichen Goldsalzes aus der Gruppe, die Kaliumgoldzyanid und Natriumgoldzyanid aufweist, etwa 10 bis 50 g/l einer metallorganischen Verbindung, etwa 25 bis 100 g/l eines ammoniak freien Alkalimetallsalzes einer schwachen Säure als Pufferungsmittel und Komplexbildner und ein ammoniak freies Alkalimetallhydroxid in einer Menge aufweist, welche den pH-Wert des Goldplattierungsbades auf einen Wert zwischen 13 und 14 bringt. Es kann ein Plattierungsbad verwendet werden, welches ein lösliches Goldsalz, beispielsweise das Zyandoppelsalz eines Alkalimetalles, beispielsweise Kaliumgoldzyanid, eine metallorganische Verbindung, beispielsweise das Tetranatriumsalz von Äthylendiamintetraessigsäure-Tetrahydrat, einen ammoniakfreien organischen Puffer und Komplexbildner, beispielsweise Kaliumnatriumtartrat und ein ammoniakfreies Alkalihydroxid, beispielsweise Natriumhydroxid aufweist.Bei diesem Bad dient das lösliche Goldsalz als Quelle für Goldionen. Die metallorganische Verbindung dient als Scherenbindung für einige der unerwünschten Metallionen, welche anderenfalls das Plattierungsbad verunreinigen würden.
  • Diese unerwünschten Metallionen können in das Bad in Form von Verunreinigungen in den Plattierungschemikalien, als Reaktionsprodukte während des Plattierungsprozesses oder durch zufällige Verunreinigung nach dem Reinigen und der Aktivierung und vor dem Plattierungsprozess "hineingezogen" werden. Das Alkalihydroxid dient dazu, den Bereich der für den Betrieb des Bades erforderlichen pH-Werte zu bestimmen. Das Agenz zur organischen Pufferung und Komplexbildung dient dazu, den pH-Wert des Bades innerhalb des bestimmten Bereiches zu regeln. Um gute Plattierungsergebnisse zu erhalten, wird das vorbeschriebene Plattierungsbad dazu verwendet, Metalle zu plattieren, die zunächst aktiviert bzw. gereinigt worden sind. Hierzu gehört das Eintauchen der Metalle in ein alkalisches Reinigungs- bzw. Entkrustungsmittel mit nachfolgender Säurespülung. Hierdurch wird für den nachfolgenden Plattierungsvorgang eine geeignete Oberfläche erhalten.
  • Das Verfahren gemäß der Erfindung kann allgemein verwendet werden, wenn eine Goldschutzschicht auf Metallen gewünscht oder erforderlich ist. Die Erfindung hat insbesondere in der Elektronik ein weites Anwendungsgebiet, wobei Pulver aus schwer schmelzbaren Metallen zu keramischen Isolatoren gesintert und nachfolgend mit Gold plattiert werden, so daß sie zu Metallgliedern verbunden werden können. Gesinterte Metallpulver werden auch bei Hybridschaltungen in der Mikroelektronik verwendet, wo diese Pulver mit Gold berplattiert werden und als elektrische Leiter auf keramischen Trägern dienen. Das Verfahren gemäß der Erfindung kann dabei zur Überplattierung dieser gesinterten Metallpulver verwendet werden, so daß eine extrem gleichförmige Plattierung über allen metallisierten Bereichen erreicht wird.
  • Im folgenden wird ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Erfindung erläutert.
  • Das zu plattierende Metall wird zunächst vor dem Eintauchen in ein Plattierungsbad aktiviert. Bei dem Aktivierungs- bzw.
  • Reinigungsprozeß wird das Metall zunächst in einem akalischen Entkrustungsmittel bei einer Temperatur zwischen 80° C und 100° C erhitzt. Das Metall wird dann in deionisiertem Wasser und weiter in einer heißen Lösung einer verdünnten Säure, beispielsweise 20%-50% Chlorwasserstofflösung bei einer Temperatur zwischen 80° und 100° C gespült. Dann wird es in kochendem deionisiertem Wasser abschließend nachgespült.
  • Nachdem das zu plattierende Metall in der beschriebenen Weise behandelt worden ist, wird es in ein- Plattierungsbad eingetaucht, das ein lösliches Goldsalz, beispielsweise Kaliumgoldzyanid in Mengen zwischen 2 bis 10 g/l, vorzugsweise 4 bis 5 g/l, enthält. Das Goldsalz dient dabei als Quelle für Goldionen. Andere lösliche Goldsalze,beispielsweise Natriumgoldzyanid können ebenfalls verwendet werden, aber das im Handel erhältliche Kaliumsalz wird bevorzugt.
  • Weiterhin ist eine metallorganische Verbindung, beispielsweise Tetranatriumäthylendiamintetraessigsäure-Tetrahydrat in Mengen vorhanden, die zwischen 10 bis 50 g/l, vorzugsweise 20 g/l betragen. Diese Verbindung dient dazu, die unerwünschten Metallionen zu binden, welche in das Bad eingeführt werden können. Andere Scherenbindungen, beispielsweise Athylendiamin oder Triäthynolamin könnten ebenfalls verwendet werden, aber Tetranatriumäthylendiaminessigsäure-Tetrahydrat wird bevorzugt.
  • Weiterhin wird ein ammoniakfreier Puffer und Komplexbildner, beispielsweise ein Alkalimetallsalz einer schwachen Säure, beispielsweise Natriumkaliumtartrat in Mengen zwischen 25 bis 100 g/l, vorzugsweise 55 bis 70 g/l vorgesehen. Dieses dient zur Regelung des pH-Wertes des EAdes, damit der geeignete Bereich für den besten Plattieruflgswirkungsgrad aufrechterhalten wird. Wenn die Menge des zur Pufferung und Komplexbildung dienenden Agenz erhöht wird, nimmt die Geschwindigkeit der Goldablagerung ab, es wird jedoch eine feinkörnigere und hellere Abscheidung erreicht. Nimmt die Menge des zur Pufferung und Komplexbildung dienenden Agenz ab, so erhöht dieses die boldablagerungsgeschwindigkeit, führt jedoch zu einer grobkörnigen, etwas orangefarbenen Ablagerung.
  • Es können wiederum andere ammoniakfreie Agentien zur Pufferung und Komplexbildung wie beispielsweise Natriumzitrat oder Kaliumzitrat verwendet werden, es wird jedoch Natriumkaliumtartrat bevorzugt.
  • Weiterhin wird ein ammoniakfreies Alkalihydroxid, beispielsweise Natriumhydroxid, in Mengen zwischen 5 bis 50 g/l, vorzugsweise 8 bis 18 g/l verwendet und dient dazu, den für den Betrieb des Bades erforderlichen pH-Wert einzustellen.
  • Eine Zunahme der Menge an Alkalihydroxid erhöht die Goldablagerungsgeschwindigkeit, oxydiert jedoch das Metallsubstrat durch die chemische Aggressivität des Mittels und führt zu einem geringeren Haftvermögen der Plattierung auf Molybden, Niob und Wolfram. Die Oxydation ist kein kritisches Problem, wenn Kobalt plattiert werden soll, und es ist eine höhere Konzentration an Alkalihydroxid erwünscht, vorzugsweise 30 g/l.
  • Es können andere ammoniakfreie Alkalihydroxide, beispielsweise Kaliumhydroxid verwendet werden, jedoch wird Natriumhydroxid bevorzugt. Unter keinen Umständen sollte Ammoniumhydroxid oder dessen Salze anstelle von oder zusätzlich zu den Alkalihydroxiden hinzugefügt werden. Dadurch würde das Bad "vergiftet", so daß die Geschwindigkeit der Goldablagerung wesentlich herabgesetzt, wenn nicht angehalten werden wird.
  • Nachfolgend werden Beispiele von nicht-elektrischen Plattierungsverfahren gemäß der Erfindung angegeben, wobei von einem Liter Plattierungslösung ausgegangen wird: Beispiel 1 g/l Kaliumgoldzyanid. . . . . . . . . . ¢ . . . . . . . . . . 4 Tetranatriumäthylendiamintetraazetat-Tetrahydrat . . . .20 Natriumkaliumtartrat . . . . . . . . . * . . . . . . . .58 Natriumhydroxid . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .18 Deionisiertes Wasser. e . . . . . . ... . . . . . . . . .Rest Der pH-Wert des Bades lag bei 13,2 bis 13,5. Das Bad wurde zur Plattierung von keramischen Schaltungsplatinen mit metallisiertem Wolfran verwendet, nachdem vorher der folgende Reinigungsprozeß vorgenommen wurde: Alkalisches Entkrustungsmittel bei 950 C. . . . . . . . 15 min Spülung mit deionisiertem Wasser............ 1 min Spülung mit 20%iger Chlorwasserstoffsäure bei 85° C .. 5 min Spülung mit deionisiertem Wasser bei 1000 C . . . . . . 5 min Die Schaltungsplatinen wurden dann in einen Kochbecher mit der Plattierungslösung eingetaucht und blieben dort während 30 min in bei 100° C. Nach dem Entfernen der Schaltungsplatinen aus dem Bad und dem nachfolgenden Spülen und Trocknen betrug die Stärke der abgelagerten Goldschicht, bestimmt durch das Gewichts/Flächenverfahren, etwa 3 y.
  • Beispiel 2 g/l Kaliumgoldzyanid .................... 4 Tetranatriumäthylendiamintetraazetat-Tetrahydrat . . . . 20 Natriumkaliumtartrat . . . . . . . . . . . . . . . . . . 58 Natriumhydroxid . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 30 Deionisiertes Wasser ..................Rest Der pH-Wert des Bades betrug 13,4 bis 13,7. Das Bad wurde zum Plattieren von keramischen Schaltungsplatinen mit metallisiertem Wo]:fram verwendet, die einen nicht-elektrischen Kobaltüberzug von näherungsweise 1 lu Stärke erhalten hatten.
  • Nachdem die Schaltungsplatinen aus dem Kobaltplattierungsbad entfernt worden waren, wurden sie entsprechend dem Beispiel 1 gereinigt- und dem vorgenannten Goldplattierungsbad zugeführt.
  • Die Schaltungsplatinen blieben in dem Bad etwa 45 min bei 1000 C. Nach der Entnahme der Schaltungsplatinen aus dem Bad und dem nachfolgenden Spülen und Trocknen wurde eine Stärke der Goldablagerung von ungefähr 2,5 P nach dem Gewichts/ Flächenverfahren festgestellt.
  • Beispiel 3 g/l Kaliumgoldzyanid .................... 2 Tetranatriumäthylendiamintetraazetat-Tetrahydrat . . . . 20 Natriumkaliumtartrat .................. 70 Natriumhydroxid. . . . . . . . . . . . . . . * . . . . . 8 Deionisiertes Wasser . . . . . . . . . . . . . . . . . .Rest Der pH-Wert des Bades betrug 13,0 bis 13,2. Das Bad wurde zur Plattierung von Metallplatten aus Niob verwendet, nachdem zuerst der Reinigungsvorgang gemäß dem Beispiel 1 ausgeführt wurde.
  • Die Niobplatten blieben 15 min in der Lösung'bei 1000 C.
  • Nach der Entnahme aus dem Bad und dem anschließenden Spülen und Trocknen betrug die Stärke des abgelagerten Goldes näherungsweise 5 p, wobei wiederum von dem Gewichts/Flächenverhältnis ausgegangen wurde.
  • Beispiel 4 g/l Kaliumgoldzyanid. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4 Tetranatriumäthylendiamintetraazetat-Tetrahydrat. . . . 20 Natriumkaliumtartrat. . . . . . . . . . . . . . . . . . 58 Natriumhydroxid . . . . s . . . . . . . . . . . . . . . 18 Deionisiertes Wasser. . . . . . . . . . . . . . . . . . Rest Der pH-Wert des Bades betrug 13,2 bis 13,5. Das Bad wurde zur Plattierung von Metallplatten aus Molybden verwendet, nachdem zunächst der Reinigungsvorgang gemäß Beispiel 1 durchgeführt wurde. Die Molybdenplatten blieben 30 min in der Lösung bei 1000 C (Siedepunkt). Nach der Entnahme aus dem Bad und der anschließenden Spülung und Trocknung wurde eine Stärke der Goldschicht von ungefähr 1,4 u nach dem Gewichts/Flächenverfahren festgestellt.
  • Obgleich die Plattierungsbäder in den genannten Beispielen bei der Siedepunktstemperatur, d.h. etwa 100° C, betrieben wurden, führen auch Temperaturen bis herunter zu 80° C zu befriedigenden Ergebnissen. Der Betrieb am Siedepunkt hat jedoch den Vorteil, daß das Bad dauernd in Bewegung gehalten wird, wodurch die Ablagerungsgeschwindigkeit erhöht wird. Es ist daher weniger Zeit erforderlich, um die entsprechende Stärke der Ablagerung zu erhalten, wenn das Bad bei der Siedepunktstemperatur betrieben wird.
  • Die gemäß den obigen Beispielen erhaltenen Goldablagerungen hatten die reinem Gold entsprechende gelbe Farbe und eine Reinheit von 24 Karat.

Claims (6)

  1. Patentansprüche
    p Verfahren zum Plattieren von schwer schmelzbaren Metallen, bei welchem das zu plattierende Metall aktiviert wird, indem es in ein alkalisches Reinigungs- bzw. Entzunderungsmittel bei einer Temperatur im Bereich von 800 C bis 10CO C eingetaucht wird, das Metall in deionisiertem Wasser, in einer verdünnten Säure bei einer Temperatur im Bereich von 800 C bis 1000 C und in kochendem deionisiertem Wasser gespült wird und dann in ein nicht elektrisches Goldplattierungsbad eingetaucht wird, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß das Goldplattierungsbad im wesentlichen aus Wasser besteht, etwa 2 bis 10 g/l eines löslichen Goldsalzes aus der Gruppe, die Kaliumgoldzyanid und Natriumgoldzyanid aufweist, etwa 10 bis 50 g/l einer metallorganischen Verbindung, etwa 25 bis 100 g/l eines ammoniakfreien Alkalimetallsalzes einer schwachen Säure als Pufferungsmittel und Komplexbildner und ein ammoniakfreies Alkalimetallhydroxid in einer Menge aufweist, welche den pH-Wert des Goldplattierungsbades auf einen Wert zwischen 13 und 14 bringt.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß das Spülen des Metalles in einer verdünnten Säure in einer Chlorwasserstofflösung im Bereich von 20 bis 50 Volumenprozent erfolgt.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß das Metall in ein Goldplattierungsbad mit einem ammoniakfreien Alkalimetallsalz einer schwachen Säure eingetaucht wird, die aus der Gruppe ausgewählt ist, welche Natriumkaliumtartrat, Natriumzitrat und Kaliumzitrat aufweist.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß das Metall in ein Goldplattierungsbad mit einem ammoniakfreien Alkalimetallhydroxid eingetaucht wird, welches aus der Gruppe ausgewählt ist, die Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid aufweist.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch g e k e n n z e i c h n e t , daß das Metall in ein Goldplattierungsbad eingetaucht wird, welches eine metallorganische Verbindung enthält, die aus der Gruppe ausgewählt ist, welche Tetranatriumäthylendiamintetraazetat-Tetrahydrat, Äthylendiamin und Triäthanolamin aufweist.
  6. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch g e k e n n z e i c h n e t , daß das Metall in ein Goldplattierungsbad eingetaucht wird, dessen Temperatur auf der Siedepunkttemperatur des Bades gehalten wird.
DE2414471A 1973-06-08 1974-03-26 Wässriges Bad zur stromlosen Goldbeschichtung schwer schmelzbarer Metalle Expired DE2414471C3 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US368431A US3862850A (en) 1973-06-08 1973-06-08 Electroless gold plating on refractory metals
GB869174A GB1395314A (en) 1973-06-08 1974-02-26 Electroless gold plating on refractory metals
DE2414471A DE2414471C3 (de) 1973-06-08 1974-03-26 Wässriges Bad zur stromlosen Goldbeschichtung schwer schmelzbarer Metalle

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US368431A US3862850A (en) 1973-06-08 1973-06-08 Electroless gold plating on refractory metals
DE2414471A DE2414471C3 (de) 1973-06-08 1974-03-26 Wässriges Bad zur stromlosen Goldbeschichtung schwer schmelzbarer Metalle

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2414471A1 true DE2414471A1 (de) 1976-02-19
DE2414471B2 DE2414471B2 (de) 1977-04-28
DE2414471C3 DE2414471C3 (de) 1980-06-26

Family

ID=25766875

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2414471A Expired DE2414471C3 (de) 1973-06-08 1974-03-26 Wässriges Bad zur stromlosen Goldbeschichtung schwer schmelzbarer Metalle

Country Status (3)

Country Link
US (1) US3862850A (de)
DE (1) DE2414471C3 (de)
GB (1) GB1395314A (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4374876A (en) * 1981-06-02 1983-02-22 Occidental Chemical Corporation Process for the immersion deposition of gold
US4474838A (en) * 1982-12-01 1984-10-02 Omi International Corporation Electroless direct deposition of gold on metallized ceramics
US5178918A (en) * 1986-07-14 1993-01-12 Robert Duva Electroless plating process

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3032436A (en) * 1960-11-18 1962-05-01 Metal Proc Co Inc Method and composition for plating by chemical reduction
US3396042A (en) * 1961-08-28 1968-08-06 Sel Rex Corp Chemical gold plating composition
US3212918A (en) * 1962-05-28 1965-10-19 Ibm Electroless plating process
US3230098A (en) * 1962-10-09 1966-01-18 Engelhard Ind Inc Immersion plating with noble metals
US3468676A (en) * 1963-09-09 1969-09-23 Photocircuits Corp Electroless gold plating
US3589916A (en) * 1964-06-24 1971-06-29 Photocircuits Corp Autocatalytic gold plating solutions
US3627558A (en) * 1968-11-27 1971-12-14 Technograph Printed Circuits L Sensitization process for electroless plating
US3672939A (en) * 1969-06-02 1972-06-27 Ppg Industries Inc Electroless process for forming thin metal films

Also Published As

Publication number Publication date
US3862850A (en) 1975-01-28
DE2414471B2 (de) 1977-04-28
DE2414471C3 (de) 1980-06-26
GB1395314A (en) 1975-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69213360T2 (de) Verfahren zur Metallbeschichtung von Diamant
DE3002166C2 (de)
DE2920766C2 (de)
DE3219665C2 (de) Wäßriges Bad für die stromlose Abscheidung von Gold
DE2541896C3 (de) Verfahren zum Behandeln einer Substratoberfläche von polymeren! Kunststoffmaterial vor der stromlosen Metallbeschichtung und Lösung zur Durchführung des Verfahrens
DE1197720B (de) Verfahren zur Vorbehandlung von insbesondere dielektrischen Traegern vor der stromlosen Metallabscheidung
DE10054544A1 (de) Verfahren zum chemischen Metallisieren von Oberflächen
EP0815292B1 (de) Verfahren zum selektiven oder partiellen elektrolytischen metallisieren von oberflächen von substraten aus nichtleitenden materialien
DE69217183T2 (de) Verfahren zur Verlängerung der Benutzbarkeit eines Metallisierungsbades nach der Austauschmethode
DE3343052C2 (de) Verfahren zum stromlosen Vergolden eines metallisierten Keramik-Substrats
DE3320308A1 (de) Waessriges bad zur stromlosen abscheidung von gold und ein verfahren zur stromlosen abscheidung von gold unter verwendung dieses bades
DE2627941A1 (de) Aktivierungsloesung auf silberbasis fuer ein verfahren zum stromlosen verkupfern
DE69206510T2 (de) Verfahren zum Aufbringen von Metallüberzügen auf kubischem Bornitrid.
DE2414471A1 (de) Verfahren zur goldplattierung von schwer schmelzbaren metallen
CH644154A5 (de) Verfahren zum herstellen von zur chemischen metallabscheidung geeigneten metall-komplex-verbindungen.
DE1521080A1 (de) Verfahren zur Aufbringung von metallischen Oberflaechenschichten auf Werkstuecke aus Titan
DE1811607C3 (de) Verfahren zur Vorbehandlung von stromlos und gegebenenfalls elektrolytisch zu metallisierenden Kunststoffen
DE2046708A1 (de) Voraetzung von Acrylnitril Butadien Styrol Harzen fur die stromlose Metallab scheidung
DE3443471C2 (de) Verfahren zur Neuaktivierung einer wäßrigen, Edelmetallionen enthaltenden Lösung für die Initiierung der stromlosen Nickelabscheidung auf mit Kupfer beschichteten Substraten und seine Anwendung
DE2807564C2 (de) Verfahren zur stromlosen Abscheidung einer Gold-Nickel-Legierung
DE1621207B2 (de) Wäßriges Bad und Verfahren zur Bekeimung von Kunststoffoberflächen mit Palladium
DE2550597A1 (de) Verfahren zum aufbringen von festhaftenden metallschichten auf kunststoffoberflaechen
DE68902917T2 (de) Verfahren zur plattierung von titan.
DE2207425A1 (de) Verfahren zur vorbehandlung von kunststoffen fuer das metallisieren
DE1621207C3 (de) Wäßriges Bad und Verfahren zur Bekeimung von Kunststoffoberflächen mit Palladium

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
EGA New person/name/address of the applicant
8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: GOLLWITZER, W., DIPL.-ING. MOELL, F., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 6740 LANDAU

8339 Ceased/non-payment of the annual fee