DE2412537A1 - Verfahren zur herstellung von reliefmustern auf einem substrat - Google Patents

Verfahren zur herstellung von reliefmustern auf einem substrat

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DE2412537A1
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DE
Germany
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layer
synthetic resin
light
substrate
photosensitive
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Pending
Application number
DE19742412537
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German (de)
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Inventor
Kunio Akiyama
Tomoo Kokawa
Yoshikathu Nakao
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Kansai Paint Co Ltd
Original Assignee
Kansai Paint Co Ltd
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/161—Coating processes; Apparatus therefor using a previously coated surface, e.g. by stamping or by transfer lamination

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EP0497819B1 (fr) * 1989-10-31 1996-04-10 E.I. Du Pont De Nemours And Company Couche de degagement pour plaque d'impression flexographique pouvant etre traitee par des solutions aqueuses ou semi-aqueuses
DE4315136A1 (de) * 1993-05-07 1994-11-17 Voralp Ets Vorrichtung für die Maskierung von zu bearbeitenden Substraten

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FR2221755A1 (fr) 1974-10-11
NL7403403A (fr) 1974-09-17
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