DE2411061A1 - Verfahren zum herstellen einer schicht auf einer unterlage - Google Patents
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Description
BLUMBACH . WESER ■ BERGEN & KRAMER
«2 WIESBADEN · SONNENBERGER STRASSE 43 . TEL. (00121) 562943, 5619 98 MÖNCHEN
Western Electric Company Royer-1-2-23
Incorporated
New York, N.Y. 241 1061
Verfahren zum Herstellen einer Schicht auf einer Unterlage
Die Erfindung bezieht «ich auf ein Verfahren zum Herstellen
eines Körpers mit einer Zusammensetzung, die aus durch die Formeln Mo. , . cRuo un& w? 4 v,· 3 6^u? dargestellten
Zusammensetzungen ausgewählt ist, wobei die Formelindizes relative Atomzahlen darstellen. Derartige Körper dienen als
auf einer Unterlage aufgebrachte Schichten verschiedenen Zwecken, z.B. der Passivierung, dem Karosionsschutz, der
Härte usw.
In der modernen Technik finden Schichtmaterialien in extrem weitem Umfang Verwendung. Ihre Zusammensetzung reicht von
organischen Polymeren zu anorganischen oder hochschmelzenden Oxiden. Die mit derartigen Schichten versehenen Vorrichtungen
bzw. Körper haben einen ebenso weiten Anwendungsbereich, wobei ihre Verwendung von Eigenschaften, wie Passivierung,
Schmierung und Karosionsbeständigkeit abhängig ist.
Ein Katalog von Materialien und deren Verwendung wäre für diese Zwecke bei weitem zu umfangreich. Ein solcher Katalog
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würde Elementarschichten, z.B. Gold zur Verwendung als
elektrische Kontakte; Legierungsschichten, z.B. Tantalnitrid zur Verwendung als Widerstände; niedergeschlagene
Oxidschichten, z.B. Kieselerde zur Verwendung als Passivierungsschichten; in situ oxidierte Schichten, z.B.
Tantaloxid zur Verwendung als Kondensatordielektriken; polymere Schichten, z.B. aus Polytetrafluoräthylen zur
Verwendung als Schmiermittelschichten usw. umfassen.
Intermetallische Schichten aus Molybdän und Ruthenium oder Wolfram und Ruthenium, die bei niedriger Temperatur beispielsweise
durch Aufstäuben niedergeschlagen sind, zeigen eine Vielzahl von Schichteigenschaften, die für Vorrichtungen
von Interesse sind. Derartige Schichten haben die Nennzusammensetzung Mo5Ru- und W3RUp; geeignete Zusammensetzungen,
schwanken über - 20 Atomprozent um die vorgenannten Atomformelwerte, und sie können generell dargestellt werden
durch Mo4J,. qRu2 und W2 4 b's 3 6Ru2* Das erfrindun9s9emäße
Verfahren der eingangs angegebenen Art zeichnet sich dadurch aus, daß das Material zur Erzielung wählbar geänderter
Körpereigenschaften als Schicht von 300 S bis 10 Mikrometer Dicke auf einer Unterlage durch Aufstäuben niedergeschlagenxwird,
wobei die Unterlage auf einer solchen Temperatur gehalten wird, daß die Schichttemperatur während
des Niederschlagens im Bereich von 100 bis 1000 C, vorzugsweise
im Bereich von etwa 400 bis 700° C liegt. Die.Optimierung gewisser Eigenschaften bei bestimmten Anwendungsfällen
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kann ein Niederschlagen außerhalb des vorgenannten Bereichs erforderlich machen. Die interessierenden Eigenschaften umfassen
u.a. einen Härtewert nahe demjenigen von Saphir^Beständigkeit
gegenüber vielen azidischen und kaustischen Medien; Reflexionsvermögen über das sichtbare Spektrum ähnlich
demjenigen von Aluminium; und einstellbare Werte des spezifischen Widerstandes und des Widerstands-Temperaturkoeffizienten
zur Anpassung an verschiedene Schaltungsbedürfnisse.
In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 eine Frontansicht einer auf einer Unterlage niedergeschlagenen
Schicht der erfindungsgemäßen Zusammensetzung;
Fig. 2 eine perspektivische Ansicht auf einen Teil einer integrierten Schaltung mit aus dem hier beschriebenen
Schichtmaterial bestehenden Elementen;
Fig. 3 eine perspektivische, teilweise geschnittene Ansicht eines Schneidgeräts, das mit einer Schihtzusammensetzung
gemäß der Erfindung überzogen ist;
Fig. 4 eine teilweise geschnittene Frontansicht eines Lasers innerhalb eines durch reflektierende Oberflächen
definierten Resonators, von denen wenigstens eine eine erfindungsgemäß hergestellte Schicht
aufweist; .
Fig. 5 eine teilweise geschnittene perspektivische Ansicht
auf eine Vorrichtung mit einem Lager, dessen Oberfläche durch eine erfindungsgemäß hergestellte
Schicht gebildet ist;
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Fig. 6 ein Koordinatendiagramm mit auf der Ordinate aufgetragenen Knoop Härtezahlen und auf der
Abszisse aufgetragenen NiederSchlagstemperaturen,
das die Beziehung zwischen diesen beiden Parametern für Materialien aus den beiden Nennzusammensetzungen
der Erfindung zeigt;
Fig. 7 ein Koordinatendiagramm mit auf verschiedenen Ordinatenparametern aufgetragenen Werten des
spezifischen Widerstandes und des Widerstands-Temperaturkoeffizienten
und auf der Abszisse aufgetragenen Werten der Niederschlagstemperatur, das die Beziehung dieser Parameter für beide Zusammensetzungsgruppen
gemäß der Erfindung zeigt; und
Fig. 8 ein Koordinatendiagramm mit dem Reflexionsvermögen relativ zum niedergeschlagenen Aluminium auf der
Ordinate und der Wellenlänge auf der Abszisse, das diese Parameter für die beiden Schichtzusammen—
Setzungen gemäß der Erfindung zeigt.
A. Schichtzusammensetzung
Der Einfachheit halber wird die Erfindung anhand der Nennzusammensetzungen
Mo5Ru3 und W3RUp erläutert. Wenn auch die
Nennformeln die Atomverhältnisse der angegebenen Elemente angeben,
hat dies keine Bedeutung für die Eigenschaften bzw. Natur der Schichtmaterialien. So wurde beispielsweise nicht
festgestellt, daß die Zusammensetzungen echte, feste, intermetallische Verbindungen sind. Tatsächlich sind die Körpereigenschaften
für den Gesamtbereich der Zusammensetzungen von Interesse, welche durch die Formeln Mo 4V1-J3 cRu3 unc^ W2 4 bis 3
Ruρ beschrieben werden können.
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Die erfind.ungsgemäßen Schichten werden zweckmäßiger Weise
durch Zerstäuben unter Verwendung von Targets der vorgenannten Zusammensetzungen hergestellt. Derartige Targets
können Oberflächen aus Sigma—Phasen-Material haben oder beispielsweise aus feinkörnigen Mischungen der angegebenen Elemente oder einer anderen Zusammensetzung, die die Schichtmaterialien ergibt, gebildet werden.
durch Zerstäuben unter Verwendung von Targets der vorgenannten Zusammensetzungen hergestellt. Derartige Targets
können Oberflächen aus Sigma—Phasen-Material haben oder beispielsweise aus feinkörnigen Mischungen der angegebenen Elemente oder einer anderen Zusammensetzung, die die Schichtmaterialien ergibt, gebildet werden.
Zusammensetzungen der vorgenannten Art sind die "wesentlichen"
Zusammensetzungen der Erfindung. Verschiedene Anwendungsfälle
können zur Steigerung solcher Eigenschaften wie spezifische Absorptionen für besondere Wellenlängen der elektromagnetischen
Strahlung; Fluoreszenz; magnetische Eigenschaften; Adhäsion usw. Beimischungen bzw. Zusätze erforderlich machen.
B. Struktur
Die erfindungsgemäß angestrebten Eigenschaften sind mit der Schichtstruktur eng verknüpft. Die Phase der Schicht wurde
bisher nicht definitiv identifiziert; es wird jedoch angenommen, daß sie eine Niedertemperaturphase ist, welche sich von derjenigen der Sigmaphase unterscheidet, die notwendigerweise bei hohen Temperaturen hergestellten oder behandelten Grundmaterial zugeordnet ist. Die Eigenschaften gehen nicht auf die zweidimensionale Natur der Schichten zurück; und es hat sich gezeigt, daß die Eigenschaften für den gesamten
Dicken b ereich von einem Bruchteil eines Mikrometers bis zu
bisher nicht definitiv identifiziert; es wird jedoch angenommen, daß sie eine Niedertemperaturphase ist, welche sich von derjenigen der Sigmaphase unterscheidet, die notwendigerweise bei hohen Temperaturen hergestellten oder behandelten Grundmaterial zugeordnet ist. Die Eigenschaften gehen nicht auf die zweidimensionale Natur der Schichten zurück; und es hat sich gezeigt, daß die Eigenschaften für den gesamten
Dicken b ereich von einem Bruchteil eines Mikrometers bis zu
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vielen Mikrometern (z.B. von 300 A* bis 10 pm) im.wesentlichen
unverändert sind. Die Vorrich'tungseigenschaften bzw.
Körpereigenschaften hängen von der Temperatur beim Niederschlagen ab; so kann beispielsweise der Widerstands-Temperaturkoeffizient
unter gewissen Umständen durch Änderung der -Niederschlagstemperatur von einem negativen zu einem positiven
Wert geändert werden.
Massive Materialien bzw. Grundmaterialien der den erfindungsgemäßen
Schichten entsprechenden Zusammensetzung sind bereits bekannt. Verwiesen wird z.B. auf 11,A.I.M.E. Met.Soc.Conf.,
383 (1961); 45, Zeit. Metallkunde, 23 (1954). Die bekannten Eigenschaften des massiven Materials sind zwar attraktiv,
unterscheiden sich jedoch von denjenigen der Schichten und
sind letzteren generell unterlegen» So sind beispielsweise die Knoop Härtewerte für massive Proben aus MOrRu» und W3Ru7
1200 bzw. 600 im Vergleich zu den typischen Schichtwerten von 1600 bzw. 2400.
C. Schichtherstellung
Der wesentlichste Parameter ist die Niederschlagstemperatür.
In Abhängigkeit von den gewünschten Schichteigenschaften liegt die Schichttemperatur während dem Niederschlagen der Schicht
gewöhnlich im Bereich von etwa 400° C bis 700° Cj für einige Zwecke können jedoch Schichttemperaturen herunter bis zu 100 C
oder herauf bis zu 10000C geeignet sein. Obwohl andere Methoden
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zum Niederschlagen bei Temperaturen innerhalb dieses Bereiches führen können, sind wirtschaftliche Gesichtspunkte
für die Verwendung der Zerstäubungs- bzw. Aufstäubungs-.
methode ursächlich. Ein Vorteil der Aufstäubungsmethode gegenüber beispielsweise dem Niederschlagen durch Aufdampfen
besteht in der Möglichkeit, durch Verwendung eines Targets mit genau der gewünschten Schichtzusammensetzung die Zusammensetzung
unter gleichbleibenden Bedingungen aufrechtzuerhalten. Bei der Vakuum-Aufdampfmethode oder der Verwendung
von Trägersystemen können sich Komplikationen durch Änderung
der Flüchtigkeit der Komponenten der elementaren oder Verbindungs-Mutterquelle
ergeben. Methoden zur Konstanterhaltung der Zusammensetzung trotz veränderlicher Flüchtigkeit sind
jedoch bekannt. Verwiesen wird beispielsweise auf die US-PS 3,321,278.
Eine Aufstäubungsmethode, die sich zum Niederschlagen verschiedener
Schichten, einschließlich derjenigen gemäß der Erfindung, als besonders zweckmäßig erwiesen hat, ist als
Getter aufs täubung bekannt. Diese inzwischen generell gebräuchliche Methode verwendet eine Anordnung, bei der Verunreinigungen
aus der eindringenden Atmosphäre entfernt werden, be— · vor ein Kontakt mit einem der für den AufstäubungsYrgang
wesentlichen Elemente hergestellt wird. Verwiesen wird beispielsweise auf 35, Journal of Applied Physics, 554 (1964),
wo diese Methode beschrieben ist.
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Zerstäubungstargets enthalten solche Bestandteile, die
nach Eigenschaft und Menge mit den durch die allgemeinen Schichtformeln Mo, . . --Ru-, und W0 - , . - cRu„ bezeichne-
4 bis 6 3 2,4 bis 3,6 2
ten Zusammensetzungen identisch sind. In das Target können auch solche Bestandteile einbezogen werden, die zur
Änderung der Schichteigenschaften zwecks Anpassung an besondere Vorrichtungsbedürfnisse dienen. Ein hoher Reinheitsgrad
ist bei den beschriebenen Eigenschaften der wesentlichen Zusammensetzungen nicht erforderlich, und in normaler Praxis
reicht die Aufrechterhaltung eines Target-Reinheitsgrads von
99 % in Bezug auf unerwünschte Verunreinigungen aus. Targets können beispielsweise durch Lichtbogenschmelzen hergestellt
werden, wobei sich in der Regel ein Sigma-Phasen-Massivmaterial bzw. Grundmaterial ergibt. Sie können auch durch
andere Mittel, z.B. aus körnigem Material hergestellt werden, das trocken gepreßt und/oder zur Erhöhung der Homogenität
gesintert werden kann.
Die Umgebungsatmosphäre beim Zerstäuben ist ebenfalls unkritisch, und übliche Inertgase, z.B. Argon, Helium und Neon
können zu diesem Zweck verwendet werden.
Der Bereich der Niederschlagstemperatur wurde bereits angegeben. Die Zerstäubungsbedingungen sind im übrigen konventioneller
Art, und vorgegebene Bedingungen sind sowohl von der Vorrichtung als auch von anderen Arbeitsparametern abhängig.
So wurden beispielsweise beschriebene Materialien
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bei Spannungen zwischen Anode und Target in Bereichen von
1000 bis 2000 Volt niedergeschlagen; Ströme für Drücke über den Bereich von 50 bis 100 Mikrometer Quecksilber
änderten sich von 3 bis 15 Milliampere. Typische Niederschlagsgeschwindigkeiten variierten zwischen 100 und 300
A pro Minute. Die in einigen der Zeichnungsfiguren angegebenen Eigenschaften wurden an Schichten gemessen, die wie
folgt hergestellt wurden:
Mo5Ru3: 2000 Volt, 6 Milliampere, 51 Mikrometer Argondruck
ergaben eine Niederschlagsgeschwindigkeit von 260 Ä pro Minute.
W3Ru2 : 2000 Volt, 10 Milliampere, 72 Mikrometer Hg-Druck
ergaben eine Niederschlagsgeschwindig— keit von 206 A* pro Minute.
Die hergestellten Schichten hatten in typischer Ausführung eine Dicke von 0,3 bis 10 Mikrometer; sowohl dünnere als
auch dickere Schichten zeigen jedoch ähnliche Eigenschaften.
Die gemessenen Schichteigenschaften wurden mit der Niederschlagstemperatur
in Beziehung gesetzt. Diese Eigenschaften wurden an auf Substraten niedergeschlagenen Schichten gemessen,
wobei die Substrate durch Wärmeleitung von elektrisch beheizten Substratunterlagen erwärmt wurden. Temperaturen
sind diejenigen der niedergeschlagenen Schicht, bestimmt durch Pyrometermessung (im Vergleich zu den durch Thermoelementmessung
festgestellten Träger— bzw. Unterlagentempera— türen). Es wurde festgestellt, daß Temperaturgradienten
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zwischen dem erhitzten Träger und der Schicht innerhalb der Grenzen von 100° C bis 250 C liegen. Einige gemessene
Ergebnisse wurden durch Verwendung bestimmter Trägerformen verbessert, deren Auslegung so gewählt wurde, daß sich ein
Temperaturgradient innerhalb einer einzigen niedergeschlagenen Schicht ergab.
D. Unterlage
Es wurde festgestellt, daß die Schichtzusammensetzungen sehr gut haften. Geeignete Unterlagenjnaterialien sind auf die
vorgesehene Verwendung abgestellt; selbstverständlich müssen alle Unterlagenmaterialien den Niederschlagsbedingungen standhalten.
Soweit Schichten als Schaltungselemente dienen, sind die Unterlagen— bzw. Substratmaterialien notwendigerweise
isolierend. Sofern die vorgesehenen Anwendungsfälle hohe Temperaturen oder korrosive Atmosphären erwarten lassen, sollten
die Substrate geeignet gewählt sein, um diesen Bedingungen standzuhalten.
Obwohl die generelle Natur der Beschreibung teilweise auf Experimenten beruht, bei denen Substratzusammensetzungen
geändert wurden, beruhen viele der angegebenen Ergebnisse auf der Verwendung eines "Standart" Substrats bzw. einer
"Standart11 Unterlage. Für diese Zwecke wurden Schichten
auf Saphir niedergeschlagen. Diese Standartunterlage wurde auf verschiedene Weise in Abhängigkeit von den zu messenden
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Parametern feehandelt. So umfaßte die Behandlung zur Vorbereitung
von Reflexionskraftmessungen beispielsvrise ein mechanisches Polieren, um die Oberflächengüte der
Unterlage bzw. des Substrats wenigstens in die Größenordnung der vorgesehenen Schichtdicke, z.B. ein Mikrometer
oder besser zu bringen. Bei verschiedenen Reinigungsprozessen wurden die Verfahrensschritte des Waschens in
siedender Phosphorsäure, Lufttrocknens, Waschens inAlkohol usw. angewendet.
1. Härte
Härtewerte sind jene der Knoop-Härteskala. Verwiesen wird
beispielsweise auf Metals Handbook, herausgegeben von T. Lyman, ASU, Cleveland, Seite 93 (Ausgabe 1948).
Die Härtewerte sind für beide Nennzusammehsetzungen als
Funktion der Niederschlagstemperatur in Fig. 6 gezeigt. Wie aus dieser Figur zu erkennen ist, wächst die Härte mit bis
zu etwa 500° C zunehmender Niederschlagstemperatur. Höhere Temperaturen ergeben keine weitere Zunahme und u.U. eine
leichte Abnahme der Härte.
Zwar wurden verschiedene Bedingungen hergestellt, jedoch
die
beziehen sich in Fig. 6 angegebenen Werte auf Schichten
beziehen sich in Fig. 6 angegebenen Werte auf Schichten
einer Dicke von etwa 10 Mikrometern unter Verwendung von
Tiefe Meßgewichten zwischen zwei und fünfzig Gramm. Die aes durch
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den Eindringkörper hervorgerufenen Eindrucks war generell geringer als 5 % der Schichtdicke. Die angegebenen Werte
sind Mittelwerte aus fünf Messungen, deren mittlere Schwankung weitgehend auf Oberflächenunebenheiten zurückgeht und
einen Bereich von - 10 bis £ 20 % überspannt.
Der gemessene Härtewert hing in gewissem Umfang von der verwendeten
Last ab. Eine typische Lastzunahme um einen Faktor von fünf führte zu einer Verringerung der Härte von etwa
15 %. Unterlagen- bzw.' Substrateffekte sind natürlich bei schweren Lasten signifikanter, und die Tests mit geringen
Lasten sind bezeichnender für die zugehörige Schichteigenschaft. Verschiedene Härtewerte sind in Fig. 6 gezeigt. Eine
kurze Zusammenfassung ist in Tabelle I angegeben.
TABELLE I
(genaue Werte in Fig. 6 angegeben)
(genaue Werte in Fig. 6 angegeben)
600 - 700
1200 - 1500 600 - 700
1500 - 2400
2. Ätzwiderstand
Dieser Parameter ist in den Tabellen II und III angegeben. Der Ätzwiderstand wurde"durch Messung des Gewichtsverlustes
nach Eintauchen in das Ätzmittel über 15 Minuten bestimmt.
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Mo5Ru3 | 100° C |
Mo5Ru3 | 500° C |
W3Ru2 | 100° C |
W3Ru | 550° C |
Als Ätzmittel fanden verschiedene übliche Säuren und Basen Verwendung. Die Messungen wurden bei Zimmertemperatur und
,o
bei etwa'100 C ausgeführt.
Die für die angegebenen Tests verwendeten .MOc-Ru3-hatten
eine Dicke von 4000 S und wogen etwa 180 Mikrogramm. W-Ru„-Schichten waren 3000 A* und wogen etwa 200 Mikrogramm.
Die angegebenen Gewichtsverlustmessungen haben schätzungsweise eine Genauigkeit von - 5 Mikrogramm.
TABELLE II : Ätzwiderstand von W3Ru3
Schichten Ätzmittelkonz., 'Gewichtsverlust Dickenreduktion
Ausnahmen ange- (ug/sec./cm ) .(8/sec.) geben
3.000 ftdick
Gewicht'"»-
200 pg
Niederschlagstemp.*-»
200 C
kalte 3Hc£-lHN0o 0
kalte | ECl | 0 | 0 |
kalte | NH4OH | 0 | 0 |
kalte | H2O2 | 0 | 0 |
heiße | HNO3 | 0 | 0 |
heiße | H3PO4 | 0 | 0 |
heiße | HP | 0 | 0 |
heiße | H2SO4 | 0 | 0 |
heiße | NH4OH | 0,0854 | 0,52 |
heiße | IHF-IHNO-, | 0,121 | 0,73 |
409839/092 3
Schichten Ätzmittelkonz., Gewichtsverlust Dickenreduktion
Ausnahmen ange- (ug/sec./cm ) (Ä/sec.)
geben
Nxederschlc temp.->y 2OOC |
H2O2 | > > |
3 | 0,14 | 0,85 |
HC& | 2°2 | ν 0,55 - | > 3,33 | ||
3HCi-IHNO | 2°2 | >0,55 | >3,33 | ||
2NH4OH-IH | 2,07 | 12,5 | |||
Niederschli temp.~ 550c |
2NH4OH-IH | 3 | 0 | 0 | |
IHF-IHNO3 | 2° 2 | 0,012 | 0,075 | ||
3HC£-1HNO | .) | 0,126 | 0,77 | ||
2NH4OH-IH | .) | 0,33 | 2,0 | ||
NaOH (Ges.Lösg |
0,076 | 0,46 | |||
NaOH (Ges.Lösg |
>0,55 | >3,33 | |||
igs- C heiße |
|||||
heiße | |||||
heiße | |||||
heiße | |||||
JC ' kalte | |||||
heiße | |||||
heiße | |||||
heiße | |||||
60° C | |||||
100° C |
TABELLE III : Ätzwiderstand von Mo5Ru3
Schichten Ätzmittelkonz., Gewichtsverlust Dickenreduktion
A* Dicke Ausnahmen ange- (ug/sec./cm ) (ft/sec.)
Gewicht^ geben
ug
ug
Niederschlags—
temp, r- 100 C kalte 3HC£-IHNO3 . 0 0
heiße H3PO4 0 0
kalte H3O2 0 0
kalte HNO3 0 -0
kalte H3SO4 0,022 0,2
kalte HCl 0,025 0,23
kalte HF 0,028 0,25
kalte NH4OH 0,025 0,23
heiße NH4OH 0,047 0,42" 409839/0923
Schichten
4000 X Dicke
Gewichte 180 ug
Niederschlags· temp.~300 C
- 15 -
Atzmittelkonz., Ausnahmen angegeben
Gewichtsverlust (ug/sec./cm )
heiße 3HCg-IHNO.
>0,47
Dickenreduktion (A/sec.)
> 4,4
Niederschlags- heiße UCt temp.~450° C kaite 1HF-1HN0 |
0 0 |
0 0 |
kalte 2NH4OH-IH2O2 | 0 | 0 |
kalte HF | 0 | 0 |
• heiße 2NH4OH-IH2O2 | 0 | 0 |
25° C NaOH (halb ges.Lösg.) |
0 | 0 |
Niederschlags- temp .^450 C 100 C NaOH (halb ges.Lösg.) |
0 | 0 |
25°C NH4OH | 0 | 0 |
90°C NH4QH | 0 | 0 |
25°C NaOH (ges.Lösg.) |
0 | 0 |
6O0C NaOH (ges.Lösg.) |
0 | 0 |
1000C NaOH (ges.Lösg.) |
0,025 | 0,27 |
Schichten Säuren Gewichtsverlust (ug/sec./cm ) |
Dickenreduktion (Ä/sec.) |
4000 A* Dicke Gewicht λ, 180 pg
409839/0923
Schichten Säuren Gewichtsverlust Dickenreduktion
(pg/sec./cm ) (8/sec.)
Niederschlagstemp.-v 4500C
kalte | 2H2SO4-IH2O2 | 0,0055 | 0,05 |
kalte | IHF-IHCl | 0,011 | 0,1 |
heiße | H2O2 | 0,016 | 0,15 |
heiße | HNO3 | 0,033 | 0,3 |
heiße | H2SO4 | 0,033 | 0,3 |
heiße | 3HCl-IHNO3 | 0,050 | 0,45 |
Niederschlagstemp. ·* 600 C
heiße 3HCl-IHNO3 0,040 0,33
Schichten beider Zusammensetzungen, die bei verschiedenen Temperaturen niedergeschlagen wurden, zeigten bei den
meisten azidischen Medien bei Zimmertemperatur praktisch keinen Angriff. Bei 15 mimügem Eintauchen ergaben sich
keine Anzeichen eines Abblättern und kein Verlust des ursprünglich hellen metallischen Glanzes.
Der Ätzwiderstand erfuhr für eine Anzahl von Säuren auch bei Temperaturen in der Nähe der Siedepunkte der Ätzmittel
(etwa 100° C) keine Einbuße. Ähnlich der Härte wächst der Ätzwiderstand bis zu dem Temperaturbereich von 450 bis 600° C
mit der Niederschlagstemperatur. Die größte Angriffsgeschwindigkeit ergibt sich bei W3RUp (etwa 2 °v pro Sekunde)
durch heiße 2NH4OH-IHpO2 und (0,77 % pro Sekunde) durch heißes
Königswasser. 409839/0923
Der, beste Ätzwiderstand ergibt sich für Mo5Ru3 bei einer
Niederschlagstemperatur von etwa 450 C· Am stärksten wird diese Zusammensetzung durch heißes Königswasser angegriffen
(0,3 bis 0,45 8 pro Sekunde).
3. Spezifischer elektrischer Widerstand
Der spezifische elektrische Widerstand S und der Widerstands-Temperaturkoeffizient
sind beide als Funktion der Niederschlagstemperatur in Fig . 7 aufgetragen. Die Messungen wurden
mit einer Standart-Vierpunkt-Sonde unter Verwendung niedriger Wechselströme durchgeführt. Die Schichtdicken lagen im Bereich
von 1 bis 2 Mikrometern. Die aufgetragenen Kurven beziehen sich
auf Messungen bei 25° C. Zusätzliche Messungen wurden in flüssigem Stickstoff und flüssigem Helium durchgeführt. Superleitende
Übergangstemperaturen wurden ebenfalls in der weiter
unten beschriebenen Weise aufgezeichnet.
Der aufgetragene Widerstands-Temperaturkoeffiaent berücksichtigt
die Änderung über das 220° C-Intervall zwischen 25° C bis
herunter auf -195° C. Demgemäß ist diese Ordinateneinheit definiert als
-J>- 195° C
J>25°C χ 220.
Es wird postuliert, daß der fallende Wert des spezifischen
Widerstandes zwischen Niederschlagstemperaturen von 25 C und
4 0 9 8 3 9/0923
400 C auf die gleichzeitige Zunahme der Korngröße zurückgeht. Während die Messungen, wie oben angegeben, mit Proben
gleichförmiger Schichtdicke durchgeführt wurden, ergaben andere Messungen, daß der spezifische Widerstand von der
Schichtdicke über einen Bereich von 1 Mikrometer bis 10 Mikrometer unabhängig ist. Der Widerstands- Temperaturkoeffizient
ist bei dem Molybdän-enthaltenden Material nahezu Null und
leicht negativ für das Wolfram-enthaltende Material. Wie
sich aus der Figur ergibt, steigen beide Temperaturkoeffizienten
mit zunehmenden Niederschlagstemperaturen und erreichen ein Maximum von 500 bis 1000 ppm bei T =1000° C.
4. Optische Reflexionskraft
Die Reflexionskraft wurde im Wellenlängenbereich von 0,3 bis 20 Mikrometer unter Verwendung eines Doppelstrahlspektrometers
gemessen. Die in Fig. 8 als Funktion der Wellenlänge aufgetragenen Reflexionskraftwerte wurden auf Aluminium bezogen.
(Aluminium hat eine Reflexionskraft von 90 % oder mehr über den größten Teil des untersuchten Spektralbereichs.) Die
Schichtdicken betrugen etwa 2000 A1. Die Schichten wurden insgesamt
bei 100 C niedergeschlagen. Andere Beobachtungen zeigen praktisch die Unabhängigkeit der Reflexionskraft von der
NiederSchlagstemperatur. Die Reflexionskraft war über den gesamten
Spektralbereich, für den die Daten angegeben sind, gut, mit Ausnahme des Wellenlängenbereichs nahe 8000 A.
40983 9/092 3
5. Superleitfähiqkeit
Beide Zusammensetzungen wurden mit höheren Werten der Sprungtemperatur T entsprechend niedrigeren Niederschlagstemperaturen
superleitend. T für ΜΟςΚιΐ- war etwa 8 K für
C JO
OO '
T_ zwischen 70 C und 600 C. Der entsprechende T -Wert für
W-RUp war etwa 4,8 K. Bei höheren Niederschlagstemperaturen
sank T und erreichte schließlich Werte unterhalb von 4>2 K
für TD etwa 900° C.
F. Figuren
Fig. 1 zeigt.eine Unterlage 1 beispielsweise aus Saphir,
die mit einer Schicht 2 aus nominell im wesentlichen Mo5Ru-
und W3Ru2 überzogen ist.
Fig. 2 zeigt eine perspektivische Schnittansicht auf eine integrierte Schaltung 5 mit zwei Transistoren 6 und 7, die
aus einem Schichtmaterial gemäß der Erfindung gebildet sind.
Fig. 3 zeigt eine übliche Rasierklinge 10 mit Schneidkanten 11 und 12, die ebenfalls mit einer der hier beschriebenen
Zusammensetzungen beschichtet sind.
Fig. 4 zeigt schematisch einen Laser 15, der ein stimuliert emittierendes Medium 16 und Endteile 17 und 18 aufweist, von
denen wenigstens eines mit einer Innenfläche, z.B. 19, versehen ist, welche mit einem hier beschriebenen Material beschichtet
ist. Das stimuliert emittierende Medium 16 kann
4 0 9 8 3 9/0923
ein korrosives gasförmiges Material, z.B. ein Hochtemperaturgas sein. Die Anregungsvorrichtung, mögliche Zirkulationsvorrichtungen usw., welche zum Laserbetrieb notwendig sind,
sind in der Zeichnung nicht dargestellt.
Fig. 5 zeigt einen Teil eines Lagers 25, dessen Innenfläche 26 mit dem erfindungsgemäßen Material beschichtet ist. Eine
enggepaßte Welle 27 ist auf der Lageroberfläche 26 gelagert.
Fig. 6 bis 8 zeigen graphisch gewisse Schi: hteigenschaften,
die zuvor im einzelnen erörtert wurden.
409839/092
Claims (5)
- BLUMBACH ■ WESER · BERGEN & KRAMETT ' 'PATENTANWÄLTE IN WIESBADEN UND MÜNCHENDIPL-ING. P. G. BlUMBACH · D1PL.-PHYS. Dr. W. WESER · DIPL-ING. DR. JUR. P. BERGEN DIPL-ING. R. KRAMERWIESBADEN · SONNENBERGER STRASSE 43 · TEL. {06121) 562943, 561998 . MÖNCHENAnsprüche\ lJ Verfahren zum Herstellen eines Körpers mit einer Zusammensetzung, die aus durch die Formeln Mo. ,. gRu3 un(3 wo 4 bis 3 RU2 dargestellten Zusammensetzungen ausgewählt ist, wobei die Formelindizes relative Atomzahlen darstellen, dadurch gekennzeichnet, daß das Material zur Erzielung wählbar geänderter Körpereigenschaften als Schicht von 300 A bis 10 Mikrometer Dicke auf einer Unterlage durch Aufstäuben niedergeschlagen wird, wobei die Unterlage auf einer solchen Temperatur gehalten wird, daß die Schichttemperatur im Bereich von 100 bis 1000° C liegt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufstäuben von einem Target aus erfolgt, bei dem zumindest die freiliegende Oberfläche eine mit der Zusammensetzung der Schicht im wesentlichen identische Zusammensetzung hat.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des Substrats so eingestellt wird, daß die Schicht bei einer Temperatur im Bereich von 400 bis 700 C niedergeschlagen wird.4098 3 9/092 3ORiQlMAL INSPECTED
- 4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2t dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur des Substrats so eingestellt wird, daß das Niederschlagen der Schicht mit der zuerst genannten Zusammensetzung im Temperaturbereich von 100 bis 300 C und mit der zuletzt genannten Zusammensetzung im Temperaturbereich von 100 bis 500° C erfolgt.
- 5. Körper, hergestellt nach dem Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche.409839/092 3Leerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US339768A US3912611A (en) | 1973-03-12 | 1973-03-12 | Film material and devices using same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2411061A1 true DE2411061A1 (de) | 1974-09-26 |
Family
ID=23330491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2411061A Withdrawn DE2411061A1 (de) | 1973-03-12 | 1974-03-08 | Verfahren zum herstellen einer schicht auf einer unterlage |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3912611A (de) |
JP (1) | JPS49122484A (de) |
BE (1) | BE808765A (de) |
CA (1) | CA1004628A (de) |
CH (1) | CH598359A5 (de) |
DE (1) | DE2411061A1 (de) |
FR (1) | FR2221537B1 (de) |
GB (1) | GB1436822A (de) |
IT (1) | IT1011557B (de) |
NL (1) | NL7403031A (de) |
SU (1) | SU625625A3 (de) |
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- 1973-12-18 BE BE138982A patent/BE808765A/xx unknown
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- 1974-03-04 FR FR7407318A patent/FR2221537B1/fr not_active Expired
- 1974-03-06 NL NL7403031A patent/NL7403031A/xx not_active Application Discontinuation
- 1974-03-08 DE DE2411061A patent/DE2411061A1/de not_active Withdrawn
- 1974-03-11 SU SU742006589A patent/SU625625A3/ru active
- 1974-03-11 CH CH336574A patent/CH598359A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-03-11 JP JP49027287A patent/JPS49122484A/ja active Pending
- 1974-03-11 IT IT67685/74A patent/IT1011557B/it active
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Publication number | Publication date |
---|---|
GB1436822A (en) | 1976-05-26 |
SU625625A3 (ru) | 1978-09-01 |
NL7403031A (de) | 1974-09-16 |
FR2221537A1 (de) | 1974-10-11 |
FR2221537B1 (de) | 1976-12-10 |
IT1011557B (it) | 1977-02-10 |
JPS49122484A (de) | 1974-11-22 |
CH598359A5 (de) | 1978-04-28 |
BE808765A (fr) | 1974-04-16 |
CA1004628A (en) | 1977-02-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
8125 | Change of the main classification | ||
8130 | Withdrawal |