DE2400863B2 - Verfahren zur Kontaktierung der Elektroden eines scheibenförmigen Halbleiterelementes - Google Patents
Verfahren zur Kontaktierung der Elektroden eines scheibenförmigen HalbleiterelementesInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Kontaktierung der Elektroden eines scheibenförmigen
Halbleiterclementes gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruch·, i. Das Verfahren dient bevorzugt der
Massenfertigung von Halbleiterbauelementen, insbesondere von steuerbaren Halbleiterbauelementen.
Bei einem derartigen bekannten Verfahren zur Herstellung von Dioden werden aus einem für die
Kontaktierung der einen Elektroden der Halbleiterelemente
dienenden Blechstreifen selbst herausgestanzte, mit einer Blei- bzw. Bleilegierungsschicht versehene
Eisenscheiben als Endkontaktscheiben, d. h. als äußere Anschlüsse für die anderen Endkontaktscheiben, d. h. als
äußere Anschlüsse für die anderen Elektroden der Halbleiterelemente verwendet (DEOS 15 64 720). Die
Halbleiterelemente werden dazu auf die Blechstreifenbereiche zwischen den durch das Ausstanzen entstandenen
Löchern aufgelegt. In einer weiteren Verfahrensphase werden die ausgestanzten Eisenscheiben als
Endkontaktscheiben auf die andere Seite bzw. Hauptoberfläche des Halbleiterplättchens gebracht. Dieses
System wird dann in einer Lötform verlötet. Danach wird der Blechstreifen aufgetrennt.
Die dabei aus dem Blech herausgetrennten Blechtcile wird man zwecks Abführung der Verlustwärme größer
als die einen metallisierten Hauptoberflächen, also z. B. die Anodenflächen, gestalten, d. h., sie dienen als
Kühlfahnen. — Die Halbleiterelemente sitzen beim Lötvorgang und danach unmittelbar auf dem mit Lot
versehenen Blechstreifen. Es müssen für diesen Lötvorgang die Kathodenseiten und die Anodenseiten
bezüglich der Endkontaktscheiben und der Kühlfahnenflächen genau ausgerichtet sein. Zur Erleichterung
dieser Arbeil ist es üblich, sogenannie »geschlagene
Bleche« zu verwenden, d. h. die Stellen für Anodenkontaktierung vorzuprägen.
Für Leistungsthyristoren und Triacs ist außer der meist anodcnseitigen Befestigung auf einem Kühlelement
bzw. einer Kühlfahne auch die direkte gleichzeitige Kontakiierung der Steuerelektrode und der Kathode
mit entsprechenden Anschlußleitiingen zu bewerkstelligen.
Verschiebungen der Halbleiterelemente aus vorbe-
stimmten Bereichen auf dem Kontaktierungsblechstreifen können zu unterschiedlichen und schlechten
Lötbedingungen, zu Schwierigkeiten beim Auftrennen in Einzelbauelemente und somit zu Exemplarstreuungen
hinsichtlich der elektrischen Eigenschaften oder zu einer bleibenden Verschlechterung derselben überhaupt
führen.
Der Erfindung liegt, ausgehend von einem Verfahren der eingangs genannten Gattung, die Aufgabe zugrunde,
trotz vereinfachter Kontaktierung der Halbleiterelemente gute elektrische und mechanische Eigenschaften
derselben zu erreichen.
Die Lösung dieser Aufgabe besteht in den Merkmalen ies Patentanspruchs 1.
Die Verwendung des Distanzplättchens, das in seinen Haupiabmessungen etwas kleiner gehalten ist als die
damit zu kontaktierende Hauptoberfläche d^s Halbleiterelementes,
in der Regel die Anodenseite, ist gegenüber dem direkten Auflöten auf die Kühlfahne im
eingangs beschriebenen bekannten Fail einmal deswegen besonders vorteilhaft, weil sie den dem Distanzplättchen
nächstliegenden PN-Übergang von Lotstellen auf der Kühlfahne distanziert Das heißt, es wird
vermieden, dieser bis zur Randfläche des Halbleiterelementes reichende PN-Übergang sich in Nachbarschaft
von Lot befindet und eine ansonsten erfolgende Ionenwanderung — selbst durch eine auf einem
Mesarand eines Thyristors befindliche Glaspassivierung im Bereich des PN-Überganges — eine Verschlechterung
der elektrischen Eigenschaften, insbesondere der Sperrfähigkeit desselben, bewirkt. Zum anderen wird
das an sich spröde Halbleitermaterial mechanisch stabilisiert. Zum dritten entsteht durch die Fixierung von
Halbleiterplättchen, Distanzplättchen und Kühlfahne eine schon vorweg fertig ausgerichtete Anordnung, so
daß der äußere Anschluß der übrigen Elektroden des Halbleiterelementes, beispielsweise der Kathode und
der Steuerelektrode eines Thyristor'., mit Hilfe eines an sich bekannten kammförmigen Anschlußbleches
(DD-PS 90 396) ohne Berücksichtigung der bereits ausgerichteten vorfixierten Seite, beispielsweise der
Anode eines Thyristors, erfolgen kann. Im letztgenannten bekannten Fall werden die Halbleiterelemente auf
einem vergoldeten Teilblechstreifen direkt aufgebracht, der in einen die anderen Anschlüsse bereitstellenden,
zur Einsparung von Gold unvergoldeten Trägerstreifen eingefügt bzw. mit diesem verschweißt wird. Dieser
Technik liegt eine andere Problemstellung zugrunde als vorliegender Erfindung, nämlich die Ermöglichung einer
Aluminiumdrahtkontaktierung auf der unveredelten Oberfläche des Trägerstreifens. Der vergoldete Teilblechstreifen
ist mit den Distanzplättchen vorliegender Erfindung nur hinsichtlich der Vorfixierung und
mechanischen Stabilität, nicht jedoch hinsichtlich der
μ Distanzierungsfunktion vergleichbar.
Für die Massenfertigung ist es vorteilhaft, die Halbleiterelemente, die Distanzplättchen und den in
Form eines Kühlfahnenkammes ausgebildeten Blechstreifen zueinander ausgerichtet durch eine an sich
M) bekannte Thermokompression vorzufixieren (DD-PS
90 396).
Im bekannten Fall wird mit Thermokompression bei der Kontaktierung mit den unvergoldeten Trägerstreifenteilen
gearbeitet, z. B. bei Kontaktierung von
i)r>
Steuerelektrode und Kathode.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren erfolgt die Thermokompression zur Vorfixierung, um einen Lötvorgang
mit relativ hoher Temperatur am Halbleiter-
ilement zu vermeiden, d. h. das Halbleiterelement —
inodenseilig — und das Distanzplättchen werden auf
Jer Oberfläche des Kühlfahnenkammes in einem :inzigen Arbeitsgang fixiert. Durch Thermokompresiion
bei etwa 280°C und leichtem Druck erfolgt eine ί
Contaktverschmelzung. Nachfolgend werden die Anichlüssezu
den übrigen Elektroden angebracht.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichiungen
näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 die Fixierung von Halbleiterelement, Distanz- πι
)lättclien und Kühlfahnenkamm und
F i g. 2 ein fertig kontaktiertes Halbleiterbauelement.
Aus Fig. 1 ist die Thermokompression eines Halbeiterelementes
10 mit Mesarand 11, eines vorverbleiten
Distanzplättchens 12 und einer Kühlfahne 13, die Bestandteil eines Kühlfahnenkammes ist, mittels eines
Werkzeuges 14 ersichtlich. Die Thermokompression kann intermittierend bei durchlaufendem Kühlfahnenkamm
mit aufgelegten Halbleiterelementen 10 oder in Parallelarbeit erfolgen.
Aus F i g. 2 ist ersichtlich, daß das Distanzplättchen 12
mit einer Bleitlotschicht 15 im bis auf das Isoliergehäuse fertigen Halbleiterbauelement 16 mit Glaspassivierung
17 verbleibt. Ein unterer PN-Übergang 18 ist im Berer.h
19 des Mesarandes 11 durch eine Glaspassivierung 17 geschützt und von kritischen Lotstellen distanziert. Bei
dem dargestellten Ausführungsbeispiel ist mit 20 der Steuerelektroden- oder Gate-AnschluLS. mit 21 der
Kathodenanschluß bezeichnet, und die Kühlfahne 13 bildet den Anodenanschluß.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Verfahren zur Kontaktierung der Elektroden eines scheibenförmigen Halbleiterelementes mit
mindestens einem PN-Übergang, wobei ein anzulötender äußerer Anschluß gleichzeitig als Kühlfahne
vorgesehen ist, die insbesondere Teil eines später aufzutrennenden Blechstreifens für mehrere Halbleiterelemente
ist, dadurch gekennzeichnet, daß das Halbleiterelement (10) und die Kühlfahne (13) über ein in seinen Hauptabmessungen
kleiner als die zu kontaktierende Hauptoberfläche des Halbleiterelementes gehaltenes, vorverbleites
Distanzplättchen (12) aus elektrisch und thermisch leitfähigem Material miteinander verbunden
werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Halbleiterelement (10), das
Distanzplätichen (12) und der in Form eines
Kühlfahnenkammes ausgebildete Blechstreifen
zueinander ausgerichtet durch Thermokompression fixiert werden.
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DE2400863A Withdrawn DE2400863B2 (de) | 1974-01-09 | 1974-01-09 | Verfahren zur Kontaktierung der Elektroden eines scheibenförmigen Halbleiterelementes |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3137570A1 (de) * | 1980-09-25 | 1983-03-31 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Verfahren zum direkten verbinden von kupferteilen mit oxidkeramiksubstraten |
DE102006050291B4 (de) * | 2005-10-25 | 2015-04-02 | Infineon Technologies Ag | Elektronische Baugruppe und Verfahren, um diese zu bestücken |
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---|---|---|---|---|
DE2801287C3 (de) * | 1978-01-13 | 1981-03-26 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Lackdosiervorrichtung |
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1974
- 1974-01-09 DE DE2400863A patent/DE2400863B2/de not_active Withdrawn
- 1974-10-31 CH CH1462474A patent/CH570702A5/xx not_active IP Right Cessation
-
1975
- 1975-01-07 FR FR7500378A patent/FR2257147A1/fr active Granted
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DE3137570A1 (de) * | 1980-09-25 | 1983-03-31 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Verfahren zum direkten verbinden von kupferteilen mit oxidkeramiksubstraten |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2257147B1 (de) | 1978-07-13 |
FR2257147A1 (en) | 1975-08-01 |
CH570702A5 (de) | 1975-12-15 |
DE2400863A1 (de) | 1975-07-17 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8230 | Patent withdrawn |